JP2000225780A

JP2000225780A - 印刷版用支持体及び印刷版並びに画像形成方法

Info

Publication number: JP2000225780A
Application number: JP33778399A
Authority: JP
Inventors: Takahiro Mori; 孝博森
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1998-12-04
Filing date: 1999-11-29
Publication date: 2000-08-15
Anticipated expiration: 2019-11-29
Also published as: JP3626380B2

Abstract

(57)【要約】【課題】印刷版用支持体の親水性表面加工を安価な塗布
により行うことができ、かつ、印刷版としての性能がア
ルミ砂目同等以上であり、かつ、十分な耐刷性を有する
印刷版用支持体、及び完全に明室での取り扱いが可能
で、アブレーションを必要とせずに画像形成可能で露光
機汚染の懸念がなく、特別な現像処理が不要であり、印
刷機上で現像される場合でも印刷機汚染の懸念がない、
可視画性に優れた印刷版及び画像形成方法を提供する。【解決手段】（１）基板上に多孔質無機粒子を含有する
層を有し、かつ該層が光熱変換機能を有する素材を含有
する印刷版用支持体、（２）該支持体上に熱により溶解
性や物理的強度や支持体との接着性が変化することで画
像形成可能な画像層を設けた印刷版又は該支持体上に熱
により溶融する素材を含有する層を設けた印刷版であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、印刷版用支持体及
び印刷版並びに画像形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＰＳ版のような平版印刷版の支持
体表面は、保水性・耐刷性を付与するために粗面加工さ
れ、さらに親水性・耐摩耗性を付与するために陽極酸化
による酸化物皮膜層形成処理が行われきた。

【０００３】粗面加工の方法としては、一般的には化学
的（アルカリ・酸溶解等）、機械的（研磨剤を用いたブ
ラシ研磨、サンドブラスト、液体ホーニング、粗さ転写
ロールでの圧延等）、電気化学的（酸性溶液中での交流
又は直流の電解処理）な粗面化が知られており、支持体
表面の加工にはこれらの方法のいくつかを適宜組み合わ
せて行われている。

【０００４】特に保水性を良好にする０．１〜数μｍ径
のピットを形成するには電気化学的粗面化が必須である
が、均一な粗面を安定して形成するためには電解液の酸
の濃度、電解液中に溶け込むアルミの濃度、前処理の影
響で混入する不純物濃度、電解液温度等を厳密にコント
ロールする必要があり、また、使用可能なアルミ原反の
組成範囲も狭く、組織の均一性も良好であることを必要
とする等、制限が多い。

【０００５】また、陽極酸化処理には、一般に２０〜４
０％の高濃度の硫酸水溶液が使用され、安全性の問題
や、廃液処理等の環境面も問題もの有している。

【０００６】一方で、電気化学的粗面化や陽極酸化処理
を必ずしも必要としない印刷版用支持体の表面加工方法
として、特表平９−５０４２４１号（ＷＯ９５／１８０
１９）のような、機械的粗面化で基材のＲａを０．３〜
１．５μｍに加工した後、酸化物粒子を熱噴霧（プラズ
マ溶射）処理で表面に親水性層として形成させる印刷版
の製造方法や、ＷＯ９６／０６２００のような、特定の
物質をプラズマ法により１．９９８４×１０４Ｐａ（１
５０ｔｏｒｒ）以下の低圧下で支持体表面に層として形
成することを特徴とする印刷版用支持体の製造方法が提
案されている。しかし、このようなプラズマ溶射法によ
る粗面化では保水性を良好にする０．１〜数μｍ径のピ
ットを形成することができず、印刷性能も不充分であ
り、かつ、連続処理時の幅方向及び長手方向の処理安定
性に欠け、コスト的にも満足のいくものではない。

【０００７】また、ＷＯ９７／１９８７では、基材上に
無機粒子が分散させたシリケート水溶液を塗布して親水
性層を形成することを特徴とする印刷版用支持体の製造
方法が提案されているが、この方法ではコスト低減を達
成することは可能であるが、表面に多重的な粗さ構造を
付与することができず印刷時の水量ラチチュードが不充
分であり、また、結合剤は単なる水ガラスであるため柔
軟性に欠け、クラックが入りやすく剥離しやすい欠点が
あり、耐刷性も満足のいくものではない。

【０００８】また、特開平９−９９６６２号では、支持
体上に設けられた画像受容層が空隙率３０〜８０％を有
する三次元網目構造を有し、該層の構造が平均１次粒子
径が１００ｎｍ以下の無機微粒子と水溶性樹脂から形成
されていることを特徴とするオフセット印刷版用基板が
提案されているが、現行ＰＳ版のアルミ砂目に比較し
て、印刷時の非画線部汚れや水量ラチチュード及び耐刷
性ともに大きく劣った性能しか得ることができていな
い。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
第一の目的は、印刷版用支持体の親水性表面加工を安価
な塗布により行うことができ、かつ、印刷版としての性
能（水量ラチチュード、非画線部の汚れにくさ、ブラン
ケット汚れのしにくさ等）がアルミ砂目同等以上であ
り、かつ、十分な耐刷性を有する印刷版用支持体を提供
することにある。

【００１０】また、印刷データのデジタル化に伴い、安
価で取り扱いが容易でＰＳ版と同等の印刷適性を有した
ＣＴＰが求められている。特に近年、赤外線レーザー記
録による種々の方式のＣＴＰが提案されている。

【００１１】それらの中でも特別な現像処理を必要とし
ない、いわゆるドライＣＴＰ（印刷機上での現像を含
む）が注目されている。例えば、特開平８−５０７７２
７号、同６−１８６７５０号、同６−１９９０６４号、
同７−３１４９３４号に記載されているものが挙げられ
る。しかし、いずれの方式も基体上に形成したいずれか
の層をレーザーでアブレーションさせて除去するもので
あり、露光機内の汚染が問題となる。汚染を防止するに
は露光機内に専用の吸引式クリーナーを設置する等の方
式が考えられるが、アブレーションした物質を完全に除
去することは難しい。また、全体をカバーシート等で覆
ってアブレーションした物質を飛散させない方法も考え
られるが、カバーシート貼り合わせ／剥離等の手間及び
剥離した廃材の発生が問題となる。

【００１２】また、水を使用する印刷の場合、非画像部
をなし、水を保持する機能を有する層の親水性が不充分
であり、印刷時の汚れが問題となる。

【００１３】したがって、本発明の第二の目的は、完全
に明室での取り扱いが可能で、アブレーションを必要と
せずに画像形成可能で露光機汚染の懸念がなく、特別な
現像処理が不要であり、印刷機上で現像される場合でも
印刷機汚染の懸念がない、可視画性に優れた印刷版及び
画像形成方法を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、１．基板上に多孔質無機粒子を含有する層を有し、かつ
該層が光熱変換機能を有する素材を含有することを特徴
とする印刷版用支持体、

【００１５】２．光熱変換機能を有する素材が赤外線を
吸収し、熱に変換することを特徴とする上記１に記載の
印刷版用支持体、

【００１６】３．光熱変換機能を有する素材が導電性を
有することを特徴とする上記１又は２に記載の印刷版用
支持体、

【００１７】４．光熱変換機能素材が導電性を有する金
属酸化物であることを特徴とする上記３に記載の印刷版
用支持体、

【００１８】５．金属酸化物が層形成時に実質的に無色
又は白色を呈することを特徴とする上記４に記載の印刷
版用支持体、

【００１９】６．光熱変換機能を有する素材が平均径
０．５μｍ以下の粒子であるかもしくは平均径０．５μ
ｍ以下の粒子の表面にコーティングされていることを特
徴とする上記１〜５のいずれかに記載に印刷版用支持
体、

【００２０】７．多孔質粒子径が１μｍ以下であること
を特徴とする上記１〜６のいずれかに記載の印刷版用支
持体、

【００２１】８．多孔質無機粒子が多孔質シリカ及び／
又は多孔質アルミノシリケート及び／又はゼオライトを
含むことを特徴とする上記１〜７のいずれかに記載の印
刷版用支持体、

【００２２】９．多孔質無機粒子を含有する層が薄層状
無機粒子を含有することを特徴とする上記１〜８のいず
れかに記載の印刷版用支持体、

【００２３】１０．粒子が層状鉱物であることを特徴と
する上記９に記載の印刷版用支持体、

【００２４】１１．粒子が膨潤性層状鉱物であることを
特徴とする上記１０に記載の印刷版用支持体、

【００２５】１２．多孔質無機粒子を含有する層が１０
０ｎｍ以下の金属酸化物微粒子を含有することを特徴と
する上記１〜１１のいずれかに記載の印刷版用支持体、

【００２６】１３．金属酸化物微粒子がコロイダルシリ
カであることを特徴とする上記１２記載の印刷版用支持
体、

【００２７】１４．多孔質無機粒子を含有する層が新モ
ース硬度５以上の無機粒子を含有することを特徴とする
上記１〜１３のいずれかに記載の印刷版用支持体、

【００２８】１５．多孔質無機粒子を含有する層に含ま
れる有機成分が層全体の０〜３０ｗｔ％であることを特
徴とする上記１〜１４のいずれかに記載の印刷版用支持
体、

【００２９】１６．上記１〜１５のいずれかに記載の支
持体上に熱により溶解性や物理的強度や支持体との接着
性が変化することで画像形成可能な画像層を設けたこと
を特徴とする印刷版、

【００３０】１７．上記１〜１５のいずれかに記載の支
持体上に熱により溶融する素材を含有する層を設けたこ
とを特徴とする印刷版、

【００３１】１８．熱により溶融する素材が印刷インク
受容性であることを特徴とする上記１７に記載の印刷
版、

【００３２】１９．熱により溶融する素材が軟化点４０
℃以上１５０℃以下、融点５０℃以上２００℃以下であ
るか、又は、軟化点が１５０℃以下、融点が２００℃以
下であり、かつ、軟化点が４０℃以上、融点が５０℃以
上の素材で被覆されていることを特徴とする上記１７又
は１８に記載の印刷版、

【００３３】２０．熱により溶融する素材の１４０℃で
の溶融粘度が５００ｃｐｓ以下であることを特徴とする
上記１７〜１９のいずれかに記載の印刷版、

【００３４】２１．熱により溶融する素材が粒径０．０
５μｍ〜１０μｍの粒子状であることを特徴とする上記
１７〜２０のいずれかに記載の印刷版、

【００３５】２２．熱により溶融する素材を含有する層
が水溶性樹脂及び／又は１００ｎｍ以下の金属酸化物微
粒子を含有することを特徴とする上記１７〜２１のいず
れかに記載の印刷版、

【００３６】２３．熱により溶融する素材を含有する層
が光熱変換機能を有する素材を含有することを特徴とす
る上記１７〜２２のいずれかに記載の印刷版、

【００３７】２４．光熱変換機能を有する素材が金属酸
化物であることを特徴とする上記２３に記載の印刷版、

【００３８】２５．基材上に形成されたいずれかの層が
マット剤を含有することを特徴とする上記１７〜２４の
いずれかに記載の印刷版、

【００３９】２６．基材上に形成されたいずれかの層が
熱により発色又は消色又は色相が変化する機能を有する
素材を含有することを特徴とする上記１７〜２５のいず
れかに記載の印刷版、

【００４０】２７．上記１〜１５のいずれかに記載の支
持体上に画像形成機能を有する層を含む１層以上の層を
形成した印刷版において、該画像形成機能を有する層を
含む１層以上の層が実質的に無色又は白色を呈すること
を特徴とする印刷版、

【００４１】２８．上記１７〜２７のいずれかに記載の
印刷版を画像様に加熱し熱溶融素材を溶融させ、少なく
ともその一部を多孔質層に浸透させることで画像部と
し、さらに非画像部の熱溶融素材を除去することで画像
を形成することを特徴とする印刷版の画像形成方法、

【００４２】２９．画像様の加熱を赤外線レーザー光で
行うことを特徴とする上記２８に記載の印刷版の画像形
成方法、

【００４３】３０．非画像部の熱溶融素材の除去を物理
的な力で行うことを特徴とする上記２８又は２９に記載
の印刷版の画像形成方法、

【００４４】３１．非画像部の熱溶融素材の除去を水に
よる水溶性樹脂の溶解で行うことを特徴とする上記２８
又は２９に記載の印刷版の画像形成方法、

【００４５】３２．非画像部の熱溶融素材の除去を印刷
機上で行うことを特徴とする上記２８〜３１のいずれか
に記載の印刷版の画像形成方法、

【００４６】３３．非画像部の熱溶融素材の除去を版胴
を回転させながら、湿し水供給ロール及び／又はインク
供給ロール及び／又はブランケット胴を接触させるか、
及び／又は印刷機に付加した非画像部の熱溶融素材を除
去可能な専用装置を用いて行うことを特徴とする上記３
２に記載の印刷版の画像形成方法、の各々により達成さ
れる。

【００４７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細について説明
する。＜光熱変換材＞光熱変換機能を有する素材としては赤外
線を熱に変換する機能、すなわち赤外部に吸収のある素
材を使用することができる。そのひとつとして、一般的
な赤外吸収色素（シアニン、フタロシアニン）が挙げら
れる。ただし、水溶性の色素を多孔質層中に添加すると
層の耐水性、耐久性が低下する、水不溶性の色素を添加
する場合は水系分散液中に固体色素を極微粒子状に均一
に分散させることが困難であり、凝集した状態の色素で
は光熱変換効率が悪い。また、印刷時の汚れ原因とな
る。

【００４８】赤外部に吸収を有する光熱変換材の中で
も、素材自体が導電性を有する素材であることが好まし
い。半導体であっても良い。理由は明らかではないが、
導電性を有する光熱変換材を層中に添加した場合、特に
湿し水を使用した印刷において非画線部へのインクの付
着性が著しく改善され、汚し回復性が大きく改善する結
果となった。このような素材としては、金属、導電性カ
ーボン、グラフィト、導電性金属酸化物等が挙げられ
る。これらの中でも特に導電性金属酸化物が好ましい。

【００４９】金属としては、粒径が０．５μｍ以下、好
ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以
下の微粒子であれば、いずれの金属であっても使用する
ことができる。形状としては、球状、片状、針状等いず
れの形状でも良い。特にコロイド状金属微粒子（Ａｇ、
Ａｕ等）が好ましい。

【００５０】導電性カーボンとしては特にファーネスブ
ラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度
（ｄ_５０）は１００ｎｍ以下であることが好ましく、５
０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下式で
示される導電性指標が３０以上であることが好ましく、
５０以上であることがさらに好ましい。導電性指標＝（比表面積［ｍ^２／ｇ］×ＤＢＰ吸油量
［ｍｌ／１００ｇ］^１ ^／２／（１＋揮発分）

【００５１】グラファイトとしては、粒径が０．５μｍ
以下、好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５
０ｎｍ以下の微粒子を使用することができる。

【００５２】導電性（もしくは半導体）金属酸化物とし
ては、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓ
ｂをドープしたＳｎＯ_２（ＡＴＯ）、Ｓｎを添加したＩ
ｎ_２Ｏ_３（ＩＴＯ）、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_２を還元したＴ
ｉＯ（酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック）等
が挙げられる。また、これらの金属酸化物で心材（Ｂａ
ＳＯ_４、ＴｉＯ_２、９Ａｌ_２Ｏ_３・２Ｂ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ・
ｎＴｉＯ_２等）を被覆したものも使用することができ
る。これらの粒径は、０．５μｍ以下、好ましくは１０
０ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下である。

【００５３】また、上記導電性金属酸化物の中でも塗膜
中に分散させた際に実質的に着色しない（無色もしくは
白色を呈する）ものが好ましい。このような素材として
は、透明導電膜として利用されるＡＴＯやＩＴＯが挙げ
られ、また無色もしくは白色の心材をＡＴＯやＩＴＯで
被覆した素材も挙げられる。

【００５４】これらの光熱変換材は塗膜中に均一に分散
させることが重要であり、単独で、あるいは他の塗膜組
成成分のいずれかと同時に機械的に分散させて塗布液と
することが好ましい。その際に分散剤を使用しても良
い。

【００５５】＜多孔質シリカ又は多孔質アルミノシリケ
ート粒子＞多孔質シリカ粒子は一般に湿式法又は乾式法
により製造される。湿式法ではケイ酸塩水溶液を中和し
て得られるゲルを乾燥、粉砕するか、中和して析出した
沈降物を粉砕することで得ることができる。乾式法では
四塩化珪素を水素と酸素とともに燃焼し、シリカを析出
することで得られる。これらの粒子は製造条件の調整に
より多孔性や粒径を制御することが可能である。

【００５６】多孔質シリカ粒子としては、湿式法のゲル
から得られるものが特に好ましい。多孔質アルミノシリ
ケート粒子は例えば特開平１０−７１７６４号に記載さ
れている方法により製造される。すなわち、アルミニウ
ムアルコキシドと珪素アルコキシドを主成分として加水
分解法により合成された非晶質な複合体粒子である。ま
た、製造時にその他の金属のアルコキシドを添加して３
成分以上の複合体粒子として製造したものを本発明に使
用できる。これらの複合体粒子も製造条件の調整により
多孔性や粒径を制御することが可能である。

【００５７】粒子の多孔性としては、分散前の状態で、
細孔容積で０．５ｍｌ／ｇ以上であることが好ましく、
０．８ｍｌ／ｇ以上であることがより好ましく、１．０
ｍｌ／ｇ以上２．５ｍｌ／ｇ以下であることがさらに好
ましい。細孔容積は塗膜の保水性と密接に関連してお
り、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって印刷時
に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなるが、２．５
ｍｌ／ｇよりも大きくなると粒子自体が非常に脆くなる
ため塗膜の耐久性が低下する。細孔容積が０．５ｍｌ／
ｇ未満の場合には、印刷時の汚れにくさ、水量ラチチュ
ードの広さが不充分となる。

【００５８】粒径としては、親水性層に含有されている
状態で（分散破砕工程を経た場合も含めて）、実質的に
１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であ
ることがさらに好ましい。粗大な粒子が存在すると親水
性層表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲に
インクが残りやすくなって非画線部汚れが劣化する。

【００５９】＜ゼオライト粒子＞ゼオライトは結晶性の
アルミノケイ酸塩であり、細孔径が０．３〜１ｎｍの規
則正しい三次元網目構造の空隙を有する多孔質体であ
る。天然及び合成ゼオライトを合わせた一般式は、次の
ように表される。（Ｍ^Ｉ，Ｍ^ＩＩ _１／２）_ｍ（Ａｌ_ｍＳｉ_ｎＯ
_{２（ｍ＋ｎ）}）・ｘＨ_２Ｏここで、Ｍ^Ｉ，Ｍ^ＩＩは交換性のカチオンであって、Ｍ
^ＩはＬｉ^＋，Ｎａ^＋，Ｋ^＋，Ｔｉ^＋，Ｍｅ_４Ｎ^＋（ＴＭ
Ａ），Ｅｔ_４Ｎ^＋（ＴＥＡ），Ｐｒ_４Ｎ^＋（ＴＰＡ），
Ｃ_７Ｈ_１５Ｎ_２ ^＋，Ｃ_８Ｈ_１６Ｎ^＋等であり、Ｍ^ＩＩは
Ｃａ^２＋，Ｍｇ ^２＋，Ｂａ^２＋，Ｓｒ^２＋，Ｃ_８Ｈ_１８
Ｎ_２ ^２＋等である。

【００６０】また、ｎ≧ｍであり、ｍ／ｎの値つまりＡ
ｌ／Ｓｉ比率は１以下となる。Ａｌ／Ｓｉ比率が高いほ
ど交換性カチオンの量が多く含まれるため極性が高く、
したがって親水性も高い。好ましいＡｌ／Ｓｉ比率は
０．４〜１．０であり、さらに好ましくは０．８〜１．
０である。

【００６１】本発明で使用するゼオライト粒子として
は、Ａｌ／Ｓｉ比率が安定しており、また粒径分布も比
較的シャープである合成ゼオライトが好ましく、例え
ば、ゼオライトＡ：Ｎａ_１２（Ａｌ_１２Ｓｉ
_１２Ｏ_４８）・２７Ｈ_２Ｏ；Ａｌ／Ｓｉ比率１．０、ゼ
オライトＸ：Ｎａ_８６（Ａｌ_８６Ｓｉ_１０６Ｏ_３８４）
・２６４Ｈ_２Ｏ；Ａｌ／Ｓｉ比率０．８１１、ゼオライ
トＹ：Ｎａ_５６（Ａｌ_５６Ｓｉ_１３６Ｏ_３８４）・２５
０Ｈ_２Ｏ；Ａｌ／Ｓｉ比率０．４１２等が挙げられる。

【００６２】Ａｌ／Ｓｉ比率が０．４〜１．０である親
水性の高い多孔質粒子を含有することで親水性層自体の
親水性も大きく向上し、印刷時に汚れにくく、水量ラチ
チュードも広くなる。また、指紋跡の汚れも大きく改善
される。Ａｌ／Ｓｉ比率が０．４未満では親水性が不充
分であり、上記性能の改善効果が小さくなる。

【００６３】粒径としては、親水性層に含有されている
状態で（分散破壊工程を経た場合も含めて）、実質的に
１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であ
ることがさらに好ましい。粗大な粒子が存在すると親水
性層表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲に
インクが残りやすくなって非画線部汚れが劣化する。

【００６４】＜多孔質粒子の含有量＞多孔質粒子は塗布
層全体の２０〜９５ｗｔ％であることが好ましく、３０
〜８０ｗｔ％であることがより好ましい。

【００６５】＜平均粒径１００ｎｍ以下の金属酸化物微
粒子＞平均粒径１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子とし
ては、コロイダルシリカ、アルミナゾル、チタニアゾ
ル、その他の金属酸化物のゾルが挙げられる。金属酸化
物微粒子の形態としては、球状、針状、羽毛状、その他
のいずれの形態でも良い。平均粒径としては、３〜１０
０ｎｍであることが好ましく、平均粒径が異なる数種の
金属酸化物微粒子を併用することもできる。また、粒子
表面に表面処理がなされていても良い。

【００６６】金属酸化物微粒子はその造膜性を利用し
て、結合剤としての使用が可能である。有機の結合剤を
用いるよりも親水性の低下が少なく、親水性層への使用
に適している。上記の中でも特にコロイダルシリカが比
較的低温の乾燥条件であっても造膜性が高く好ましい。

【００６７】コロイダルシリカの場合、粒子径は小さい
ほど結合力が強くなる。粒子径が１００ｎｍよりも大き
くなると結合力は大きく低下し、結合剤として使用した
場合には強度が不足する。

【００６８】これらの金属酸化物微粒子を多孔質シリカ
粒子とともに使用する場合は、微粒子自体が陽電荷を帯
びている状態で使用することが好ましく、例えば、アル
ミナゾルや酸性コロイダルシリカを使用することが好ま
しい。また、これらの金属酸化物微粒子を多孔質アルミ
ノシリケート粒子及び／又はゼオライト粒子とともに使
用する場合は、微粒子自体が陰電荷を帯びている状態で
使用することが好ましく、例えば、アルカリコロイダル
シリカを使用することが好ましい。多孔質シリカ粒子と
多孔質アルミノシリケート粒子及び／又はゼオライト粒
子とともに使用する場合は、例えば、表面をＡｌで処理
して広いｐＨ範囲での安定性を付与したコロイダルシリ
カを使用することが好ましい。

【００６９】＜新モース硬度５以上の無機粒子＞多孔質
ではない金属酸化物粒子（シリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニア、酸化鉄、酸化クロム等）や金属炭化物
粒子（炭化珪素等）、窒化ホウ素粒子、ダイアモンド粒
子等が挙げられる。粒子は鋭角な角を有していない方が
好ましく、例えば溶融シリカ粒子、シラスバルーン粒子
等球形に近い粒子が好ましい。多孔質でないことの指標
としては、比表面積がＢＥＴ値で５０ｍ^２／ｇ以下であ
ることが好ましく、１０ｍ^２／ｇ以下であることがさら
に好ましい。

【００７０】また、平均粒径は親水性層の層厚の１〜２
倍であることが好ましく、１．１〜１．５倍であること
がさらに好ましい。また粒度分布がシャープであること
が好ましく、平均粒径の０．８〜１．２倍の範囲に全体
の６０％以上が含まれることが好ましく、さらに、平均
粒径の２倍以上の粒子が５％以下であることが好まし
い。

【００７１】親水性層の厚さとしては、０．２〜１０μ
ｍが好ましく、０．５〜５μｍがさらに好ましい。した
がって平均粒径は０．２〜２０μｍであることが好まし
く、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。新
モース硬度５以上の無機粒子の含有量としては、塗布層
全体の１〜５０ｗｔ％であることが好ましく、３〜３０
ｗｔ％であることがより好ましい。

【００７２】＜層状鉱物粒子＞層状鉱物粒子としては、
カオリナイト、ハロイサイト、クリソタイル、タルク、
スメクタイト（モンモリロナイト、バイデライト、ヘク
トライト、サボナイト等）、バーミキュライト、マイカ
（雲母）、クロライトといった粘土鉱物及び、ハイドロ
タルサイト、層状ポリケイ酸塩（カネマイト、マカタイ
ト、アイアライト、マガディアイト、ケニヤアイト等）
等が挙げられる。

【００７３】中でも、単位層（ユニットレイヤー）の電
荷密度が高いほど極性が高く、親水性も高いと考えられ
る。好ましい電荷密度としては０．２５以上、さらに好
ましくは０．６以上である。このような電荷密度を有す
る層状鉱物としては、スメクタイト（電荷密度０．２５
〜０．６；陰電荷）、バーミキュライト（電荷密度０．
６〜０．９；陰電荷）、マイカ（〜１；陰電荷）、ハイ
ドロタルサイト（〜２；陽電荷）、マガディアイト（〜
１；陰電荷）等が挙げられる。

【００７４】特に、合成フッ素雲母は粒径等安定した品
質のものを入手することができ好ましい。また、合成フ
ッ素雲母の中でも、膨潤性であるものが好ましく、自由
膨潤であるものがさらに好ましい。

【００７５】また、上記の層状鉱物のインターカレーシ
ョン化合物（ピラードクリスタル等）や、イオン交換処
理を施したもの、表面処理（シランカップリング剤等）
を施したものも使用することができる。

【００７６】平板状層状鉱物粒子のサイズとしては、親
水性層中に含有されている状態で（膨潤工程、分離剥離
工程を経た場合も含めて）、平均粒径（粒子の最大長）
が２０μｍ以下であり、また平均アスペクト比（粒子の
最大長／粒子の厚さ）が２０以上の薄層状であることが
好ましく、平均粒径が１０μｍ以下であり、平均アスペ
クト比が５０以上であることがさらに好ましい。

【００７７】粒子サイズが上記範囲にある場合、薄層状
粒子の特徴である平面方向の連続性及び柔軟性が塗膜に
付与され、クラックが入りにくく強靭な塗膜とすること
ができる。粒子径が上記範囲をはずれると、不必要な表
面粗さの増加を伴って、非画線部の汚れやブランケット
汚れが劣化する場合がある。また、アスペクト比が上記
範囲以下である場合、柔軟性が不充分となり、塗膜のク
ラック抑制効果が低減する。層状鉱物粒子の含有量とし
ては、塗布層全体の１〜５０ｗｔ％であることが好まし
く、３〜３０ｗｔ％であることがより好ましい。

【００７８】＜薄層状粒子の基材面に対する配向度＞薄
層状粒子は親水性層内で基材面に対して粒子面がより平
行に配向して存在することで最も効率良く塗膜強化の効
果を発揮することができる。薄層状粒子の配向度は、親
水性層塗布時に塗布長手方向に剪断力がかかるような塗
布方法を用い、その剪断力を調整することでコントロー
ルすることが可能である。例えばリバースロールコータ
ーや押し出しコーターを用い、塗布後の固形分濃度、ウ
エット膜厚、塗布速度等を調整して配向度を調整する。
また、塗布乾燥後にカレンダー処理して塗膜を圧縮する
ことでも配向度を向上させることが可能であるが、カレ
ンダー処理は印刷版として必要な機能を損なわない範囲
で行うことが必要である。

【００７９】配向度は支持体断面のＳＥＭ観察より求め
る。支持体断面の基材面の線と親水性層断面に観察され
る薄層状粒子断面の線とがなす角度θを計測し（線が曲
線である場合は１次式による近似直線とのなす角度を計
測する）、ｃｏｓθを求める。断面に見られる１μｍ以
上の長さの薄層状断面の線について同様の計測を行っ
て、ｃｏｓθの平均値を求めて、これを配向度とする。
配向度は０．７以上が好ましく、０．８以上がさらに好
ましい。配向度が０．７よりも小さいと塗膜の強化効果
が不充分であったり、不必要な表面粗さの増加を伴っ
て、非画線部の汚れやブランケット汚れが劣化する場合
がある。

【００８０】＜多孔質粒子の分散粉砕又は層状鉱物粒子
の分離剥離工程＞粒子の分散破砕又は層剥離に大きく乾
式と湿式とに分けることができる。乾式の分散破砕では
乾燥工程が不要であるため工程は比較的シンプルとなる
が、サブミクロオーダーまでの分散破砕及び１００ｎｍ
以下の層厚までの層剥離には通常湿式の方が有利であ
る。

【００８１】乾式の分散破砕装置としては、高速回転衝
撃剪断式ミル（例えばアニュラータイプのイノマイ
ザ）、気流式粉砕機（ジェットミル）、ロール式ミル、
乾式の媒体攪拌ミル（例えばボールミル）、圧縮剪断型
粉砕機（例えばオングミル）等が使用できる。湿式の分
散破砕装置としては、湿式の媒体攪拌ミル（例えばボー
ルミル、アクアマイザ）、高速回転式剪断摩擦式ミル
（例えばコロイドミル）等が使用できる。

【００８２】分散破砕後の多孔質粒子の粒径は実質的に
１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であ
ることがさらに好ましい。また、粗大粒子が残存した場
合には分級もしくはろ過により除去しても良い。また、
分散破砕後の層状鉱物粒子は平均粒径（粒子の最大長）
が２０μｍ以下であり、また平均アスペクト比（粒子の
最大長／粒子の厚さ）が２０以上の薄層状であることが
好ましく、平均粒径が１０μｍ以下であり、平均アスペ
クト比が５０以上であることがさらに好ましい。また、
層状鉱物粒子の分散破砕の前に後述する膨潤工程を行っ
ても良い。

【００８３】特に湿式分散を行った場合は、多孔質粒
子、層状鉱物粒子ともに乾燥させることなく塗布液を調
整することが好ましい。分散破砕又は分散剥離を行った
粒子を乾燥させると再凝集を生じる場合があるためであ
る。塗布液の固形分濃度を調整するために濃縮又は希釈
することは行っても良い。

【００８４】さらに、上記分散破砕又は分散層剥離工程
において、表面処理剤を添加することで粒子に表面処理
を行うこともできる。また、上記分散破砕又は分散層剥
離工程において、塗布液を添加する他の成分を添加して
同時に分散しても良く、あるいは上記分散破砕又は分散
層剥離工程の後で、塗布液に添加する他の成分を添加し
て再度分散を行っても良い。分散破砕又は分散層剥離工
程においては、メカノケミカルな反応が同時に起ってい
ると考えられ、塗布液に添加する他の成分と同時に分散
した場合、塗膜となった際の強度向上効果が得られる場
合がある。

【００８５】＜層状鉱物粒子の膨潤工程＞自由膨潤であ
る膨潤性合成フッ素雲母は水と混合・攪拌するだけでも
十分に膨潤し、平均厚さで１０ｎｍ以下の薄層に分断し
て安定した分散液となる。

【００８６】Ｍｇ−バーミキュライトは、例えば下記の
ようなイオン交換処理を行うことで膨潤性を示すように
なる。Ｍｇ−バーミキュライト＋クエン酸リチウムａｑ．→Ｌ
ｉ−バーミキュライト＋クエン酸マグネシウムａｑ．．さらに浸透圧で限定膨潤したＬｉ−バーミキュライトを
機械的に分散・層剥離することで平均厚さ１０ｎｍ以下
の薄層にまで分断することが可能となる。

【００８７】＜有機の結合剤又は有機の添加剤＞上記成
分以外にも親水性層中には有機の結合剤又は添加剤を含
有させることができる。有機の結合剤としては親水性を
有するものが好ましい。例えば、カゼイン、大豆タンパ
ク、合成タンパク等のタンパク質類、キチン類、澱粉
類、ゼラチン類、ポリビニルアルコール、シリル変性ポ
リビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコー
ル、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースや
ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース誘導体、ポ
リエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポ
リエチレングリコール、ポリビニルエーテル、スチレン
−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジ
エン共重合体の共役ジエン系重合体ラテックス、アクリ
ル系重合体ラテックス、ビニル系重合体ラテックス、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルピロリドン等が挙げられ
る。

【００８８】また、親水性層中にはカチオン性樹脂を含
有しても良い。カチオン性樹脂としては、ポリエチレン
アミン、ポリプロピレンポリアミン等のようなポリアル
キレンポリアミン等又はその誘導体、第３級アミノ基や
第４級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアクリ
ルアミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は微粒子状の
形態で添加しても良い。これは、例えば特開平６−１６
１１０１号に記載のカチオン性マイクロゲルが挙げられ
る。

【００８９】さらに、親水性層中には架橋剤を添加して
も良い。架橋剤としては、例えば、メラミン樹脂、イソ
シアネート化合物、イソオキサゾール類、アルデヒド
類、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物、活性ハロゲン化合物等を挙げることができ
る。

【００９０】＜ケイ酸塩水溶液の結合剤＞親水性層に添
加する結合剤としては、ケイ酸塩水溶液も使用すること
ができる。ケイ酸Ｎａ、ケイ酸Ｋ、ケイ酸Ｌｉといった
アルカリ金属ケイ酸塩が好ましく、そのＳｉＯ_２／Ｍ_２
Ｏ比率はケイ酸塩を添加した際の塗布液全体のｐＨが１
３を超えない範囲となるように選択することが好ましい
（無機粒子の溶解を防止）。

【００９１】＜ゾル−ゲル法による無機又は有機−無機
ハイブリッドの結合剤＞親水性層に添加する結合剤とし
ては、いわゆるゾル−ゲル法による無機ポリマーもしく
は有機−無機ハイブリッドポリマーを使用することがで
きる。ゾル−ゲル法による無機ポリマーもしくは有機−
無機ハイブリッドポリマーの形成については、例えば
「ゾル−ゲル法の応用」（作花済夫著／アグネ承風社発
行）に記載されているか、または本書に引用されている
文献に記載されている公知の方法を使用することができ
る。

【００９２】＜有機成分の含有量＞親水性層中に含有す
る上記のような有機成分は、たとえ親水性の樹脂であっ
ても耐久性、耐水性等を向上させるために架橋させた場
合は親水性が大きく低下し、印刷時の汚れ原因となる。
また、有機成分は多孔質粒子の開口部を塞いだり、孔中
に浸透することで親水性層の多孔性を損なって保水性を
低下させる可能性もある。以上の理由から有機成分の添
加量は少ない方が好ましい。具体的には、好ましくは、
親水性層全体に対する有機成分の量が重量比で０〜３０
％であり、より好ましくは０〜１０％であり、さらに好
ましくは０〜５％である。

【００９３】＜基材＞基材としては、印刷版の基板とし
て使用される公知の材料を使用することができる。例え
ば、金属板、プラスチックフィルム、ポリオレフィン等
で処理された紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材
等が挙げられる。基材の厚さとしては、印刷機に取り付
け可能であれば特に制限されるものではないが、５０〜
５００μｍのものが一般的に取り扱い易い。

【００９４】金属板としては、鉄、ステンレス、アルミ
ニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特に
アルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常その
表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除
去するためにアルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用
される。脱脂処理としては特にアルカリ水溶液による脱
脂が好ましい。また、塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行うことが
好ましい。例えば、ケイ酸塩やシランカップリング剤等
のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布
した後、十分な乾燥を行う方法が挙げられる。陽極酸化
処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することがで
きる。また、陽極酸化処理と上記浸漬又は塗布処理を組
み合わせて使用することもできる。また、脱脂した表面
もしくは陽極酸化処理を施した表面に、特開平８−２４
０９１４号に示された方法による有機−無機ゾルゲル皮
膜を形成してもよい。また、公知の方法で粗面化された
アルミニウム板を使用することもできる。

【００９５】プラスチックフィルムとしては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類
等を挙げることができる。特にポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらプ
ラスチックフィルムは塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行うことが
好ましい。易接着処理としては、コロナ放電処理や火炎
処理、紫外線照射処理等が挙げられる。また、下塗り層
としては、ゼラチンやラテックスを含む層等が挙げられ
る。

【００９６】また、複合基材としては、上記材料を適宜
貼り合わせて使用するが、親水性層を形成する前に貼り
合わせても良く、また、親水性層を形成した後に貼り合
わせても良く、印刷機に取り付ける直前に貼り合わせて
も良い。

【００９７】＜画像形成層：本発明＞本発明の画像形成
層は後述する「熱により溶融する素材」を、後述する方
法で多孔質粒子と光熱変換材とを含む層の上に固定する
ことで得られる。画像形成層自体に光熱変換材を含有し
ても良く、画像形成層の上にさらに光熱変換材を含有す
る層を設けても良い。

【００９８】また、画像形成層自体にマット材を含有し
ても良く、画像形成層の上にさらにマット材を含有する
層を設けても良い。さらに、画像形成層の上にアブレー
ション防止等の目的の保護層やカバーシートを設けても
良い。

【００９９】＜熱により溶融する素材＞本発明に使用さ
れる熱により溶融する素材としては、インク受容性であ
ることが好ましい。また、軟化点４０℃以上１５０℃以
下、融点５０℃以上２００℃以下であることが好まし
く、軟化点６０℃以上１００℃以下、融点８０℃以上１
５０℃以下であることがさらに好ましい。軟化点が４０
℃未満、又は融点が５０℃未満では保存性が問題であ
り、軟化点が１５０℃よりも高い、又は融点２００℃よ
りも高い場合では感度が低下する。

【０１００】本発明に使用する熱により溶融する素材と
しては、５０〜２００℃の温度範囲で溶融し流動性を示
すものであればどのようなものを用いても構わない。例
えば、パラフィン、ポリオレフィン、マイクロワック
ス、脂肪酸系ワックス及び酸化ポリエチレンワックス等
が挙げられる。これらは分子量８００〜１００００程度
のものであり、通常高圧及び低圧重合法により低密度及
び高密度ポリエチレンとして、また高分子ポリオレフィ
ンの熱分解により得られる。また、乳化しやすくするた
めにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、
カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基等の極
性基を導入することもできる。また、軟化点を下げたり
作業性を向上させるためにこれらのワックスを併用する
ことも可能である。後者としては、ステアロミド、リノ
レンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化
牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、
米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミド又はこれらの脂肪
酸アミドのメチロール化物、メチレンビススステラロア
ミド、エチレンビスステラロアミド等が挙げられ、これ
らの併用も可能である。また、クマロン−インデン樹
脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノー
ル樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ア
イオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することが
できる。

【０１０１】さらに、本発明に使用する熱により溶融す
る素材としては、１４０℃での溶融粘度が５００ｃｐｓ
以下であることが好ましく、２００ｃｐｓ以下であるこ
とがより好ましい。１４０℃での溶融粘度が５００ｃｐ
ｓ以下であることにより、溶融時の多孔質層への浸透が
促進され、画像部が多孔質層と一体となることで画像強
度が向上する。

【０１０２】または、インク受容性素材の軟化点が１５
０℃以下、融点が２００℃以下であり、かつ、インク受
容性素材が、軟化点が４０℃以上、融点が５０℃以上の
素材で被覆されていても良い。被覆素材は多孔性であっ
てもなくても良く、多孔性でない場合は心材のインク受
容性素材は室温で液体であって良い（上記素材の比較的
低分子量のものも使用可能）。また、被覆材は２００℃
以下で溶融しなくても、加熱により孔及び／又は亀裂を
生じて、また、被覆材が多孔性であれば加熱による変化
を生じなくとも、溶融した心材が被覆材の外に染み出せ
ば良い。

【０１０３】被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方
法、例えば「マイクロカプセル−その機能と応用−」
（近藤保編集、日本規格協会、１９９１年）等に記載さ
れている種々の方法で行うことができる。

【０１０４】また、熱により溶融する素材又は他の素材
により被覆された熱により溶融する素材の形態として
は、０．０５μｍ〜１０μｍの粒子状であることが好ま
しい。さらに好ましくは、０．１μｍ〜５μｍである。
粒子状であることで、多孔質粒子と光熱変換材を含有す
る層の上に均等に配置することが可能となる。０．０５
μｍ未満だと、層に形成された細孔中に侵入する可能性
が高くなり、非画線部汚れ原因となる懸念が生じる。１
０μｍよりも大きい場合は露光装置のレーザービームス
ポットよりも大きくなって、解像度が低下する。

【０１０５】＜熱により溶融する素材の固定方法＞熱に
より溶融する素材は、露光されなかった非画線部の熱に
より溶融する素材が、露光後になんらかの物理的な力及
び／又は溶液による溶解によってそのほとんどが除去可
能であるような形態で多孔質層表面に固定される。

【０１０６】例えば、粉体のまま、公知の粉体塗装法
（静電塗装等）によって多孔層表面に付着させ、適当量
の加熱により層表面に融着させても良い。この際、あら
かじめ層表面の温度を上げておいて、粉体が付着すると
同時に融着させても良い。ただし、このような熱融着を
使用する場合は層細孔中への浸透を極力抑える必要があ
る。これは、融着時に層に含有されている空気自体も加
熱して体積を膨張させ、熱溶融物の細孔への浸透を防止
する等の方法で行うことができる。また、加熱の代わり
に超音波の印加によって融着させることもできる。ある
いは、融着せずにファンデルワールス力や静電力のみで
付着させておいても良い。このようにして固定した非画
線部の溶融素材は、露光後に何らかの物理的な力によ
り、そのほとんどが除去される。

【０１０７】また、固定方法としては、有機及び／又は
無機のバインダにより固定しても良い。これは、バイン
ダを溶解した溶液中（熱溶融素材は溶解しない）に熱溶
融素材を分散した塗布液を多孔質層上に塗布するか、バ
インダを溶解した溶液を多孔質層上に塗布し、バインダ
が粘着性を呈しているうちに上記の粉体塗装法によって
熱溶融素材を付着させる等の方法で行うことができる。
ただし、この場合はバインダ成分が多孔質層細孔に浸透
するため、細孔を完全に塞ぐことがないように塗布液の
バインダ濃度を制御する必要がある。また、塗布時に、
多孔質層を加熱して、層に含有されている空気自体も加
熱して体積を膨張させ、塗布液の細孔への浸透を抑制す
ることもできる。

【０１０８】このようにして固定した非画線部の溶融素
材は、露光後にバインダ成分を溶解しうる溶剤によって
バインダを溶解して多孔質表面から遊離させてそのほと
んどが除去されるか、及び／又は物理的な力によりその
ほとんどが除去される。

【０１０９】湿し水を使用した印刷機上で非画線部の熱
溶融素材を除去可能とするためにはバインダが水溶性で
あることが好ましい。水溶性バインダとしては、前述の
親水性の結合剤が使用可能であるが、特にメチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロースやヒドロキシエチル
セルロース等のセルロース誘導体やポリビニルアルコー
ルが好ましい。無機バインダとして金属ケイ酸塩を添加
しても良い。

【０１１０】また、バインダとしては、１００ｎｍ以下
の金属酸化物微粒子を使用することができる。特に、比
較的結合力が弱く、物理的な力による現像性を妨げない
３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子が好ま
しく、この粒径範囲のコロイダルシリカが特に好まし
い。また、水溶性バインダと１００ｎｍ以下の金属酸化
物微粒子を併用することもできる。さらに、取り扱い性
向上のために、熱により溶融する素材を含有する層にマ
ット剤を含有させることができる。マット剤の粒子径と
しては熱により溶融する素材粒子の径よりも大きいこと
が好ましい。マット剤としては塗料中の沈降の問題がな
いといった点から有機粒子であることが好ましく、例え
ばＰＭＭＡやシリコーン、ＰＴＦＥの粒子が挙げられ
る。これらの粒子は表面処理や表面被覆がなされていて
もよい。

【０１１１】＜画像形成方法：その他＞本発明の多孔質
粒子と光熱変換材を含有した層上には、本発明の画像形
成層以外にも、以下のような公知の方法により画像を形
成することができるが、これに限るものではない。

【０１１２】公知のインクジェット法により画像様にイ
ンキ受容素材を付着させて画像層を形成する。インキ受
容素材は耐水性を有する。ホットメルトや画像形成後に
熱又は光で硬化する熱硬化性物質又は光硬化性物質でも
良い。熱硬化性物質、光硬化性物質については特開平９
−９９６６２号参照。

【０１１３】公知の感熱転写法によりインク受容性の感
熱転写層を有したシートの感熱転写層を親水性層表面に
密着させ、シート側からサーマルヘッドもしくはレーザ
ー光によって画像様に加熱して、加熱部分の感熱転写層
をシートから親水性層表面に転写した後、シートを取り
去ることで画像層を形成する。

【０１１４】公知の光硬化性又は光可溶性の感光層を親
水性層上に塗設し、露光後、可溶部分を現像により除去
して画像層を形成する。公知の熱（赤外線）硬化性又は
熱（赤外線）可溶性の感光層を親水性層上に塗設し、レ
ーザー露光後、可溶部分を現像により除去して画像層を
形成する。上記感光層としては、例えば、次のような感
光層が挙げられる。

【０１１５】ポリヒドロキシフェノールとケトン又はア
ルデヒドとの重縮合樹脂のｏ−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステルと、アルカリ可溶性樹脂を含有する感
光性組成物の層；ヒドロキシフェニルメタクリルアミド
を分子構造中に有する高分子化合物と、ｏ−キノンジア
ジド化合物を含有する感光性組成物の層；フェノール及
びｍ−，ｐ−混合クレゾールとアルデヒドを共縮重合さ
せた樹脂と、ｏ−キノンジアジド化合物を含有する感光
性組成物の層；ｏ−キノンジアジド化合物、ｓ−トリア
ジン化合物、該ｓ−トリアジン化合物の光分解生成物と
の相互作用により色調を変える色素、アルカリ可溶性樹
脂を含有する感光性組成物の層；付加重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物、芳
香属性水酸基を側鎖に有する化合物及び／又は脂肪族水
酸基を側鎖に有する化合物を構成単位として分子中に含
有する、アルカリ水に可溶性又は膨潤性の酸性ビニル共
重合体、光重合開始剤、ジアゾ樹脂を含有する感光性組
成物の層；酸発生剤、酸分解化合物、赤外線吸収剤を含
有する感光性組成物の層；酸発生剤、酸で不溶化する化
合物、赤外線吸収剤を含有する感光性組成物の層等であ
る。

【０１１６】＜可視画性の付与方法＞例えば、感熱紙に
使用されている公知の技術を適用することができる。例
えば、ロイコ染料のような電子供与性染料と電子受容性
顕色剤とを熱により反応させて発色させる方法や、ジア
ゾニウム塩とカプラー（フェノール誘導体や活性メチレ
ン基を有する化合物等）とを熱で反応させて発色させた
後、光照射して定着させる方法等が挙げられる。これら
の発色剤は過熱しない状態では実質的に無色であること
が好ましい。また、これらの素材はマイクロカプセル化
して使用することもできる。

【０１１７】また、光熱変換材として、チタンブラック
等の一部の酸素を除去することで導電性を付与し、か
つ、着色した素材を用いた場合、露光加熱によって、酸
化を進行させて脱色させることが原理的には可能であ
る。例えば黒色のチタンブラックは酸化して白色の二酸
化チタンへと変化する。これにより露光部の可視画を得
ることができる。

【０１１８】＜露光方法＞赤外線レーザーによる露光が
好ましい。ＣＴＰ用の一般的な露光機が使用できる。露
光エネルギーは１００〜５００ｍＪ／ｃｍ^２が好まし
い。

【０１１９】＜現像方法＞物理的な力による：ブラシ、
スポンジ等でこすり取る。粘着シート、粘着ロール等の
粘着物を表面に押し当ててはがし取る。熱溶融素材を固
定しているバインダの溶解（及び物理的な力）による：
バインダを溶解可能な溶液に浸漬する。溶液をかけ流
す。同時にブラシ、スポンジ等でこすり取る。溶液を含
ませたスポンジでこすり取る。

【０１２０】＜現像方法：印刷機上＞版胴に印刷版を取
り付け、版胴を回転させながら、湿し水供給ローラー、
インキ供給ローラー、ブランケット胴の少なくともひと
つを版胴に接触させて、湿し水もしくはインキ溶剤によ
るバインダ溶解効果と各ローラーとの接触剥離効果のい
ずれか又は複合によって非画線部の熱溶融素材を除去す
る。または、印刷機上に専用の現像装置（非画線部の熱
溶融素材を除去可能であればどのような機構でも良い）
を設置して、それにより非画線部の熱溶融素材を除去す
る。印刷版表面から印刷機上で除去される物質は実質的
に無色もしくは白色であることが好ましい。これらの物
質の可視光での着色が強い場合、印刷機汚染や印刷物の
色濁りが問題となる。

【０１２１】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。＜多孔質粒子、層状鉱物粒子の分散液の作成＞分散液〔１〕：多孔質シリカサイクロジェットＰ−４
０３（ＧＲＡＣＥＤａｖｉｓｏｎ社製、細孔容積２．
０５ｍｌ／ｇ、平均粒径３μｍ）を純水中に攪拌を行い
ながら徐々に添加し、固形分２０ｗｔ％の分散液を得
た。

【０１２２】分散液〔２〕：合成Ａ型ゼオライトシル
トンＢ（水澤化学社製、Ａｌ／Ｓｉ比率＝１．０、平均
粒径１．５μｍ）を純水中に攪拌を行いながら徐々に添
加し、固形分２０ｗｔ％の分散液を得た。

【０１２３】分散液〔３〕：膨潤性合成雲母ソマシフ
ＭＥ−１００（コープケミカル社製、平均粒径１〜５μ
ｍ、アスペクト比２０以上）を純水中に攪拌を行いなが
ら徐々に添加し、固形分５ｗｔ％の分散液（コロイド溶
液）を得た。ほぼ完全に膨潤していると考えられ、粒子
の平均厚さは１００ｎｍ以下、アスペクト比は５０以上
である。

【０１２４】分散液〔４〕：多孔質アルミノシリケート
ＡＭＴシリカ＃１００Ｂ（水澤化学社製、細孔容積
０．５ｍｌ／ｇ以上（吸油量として７０ｍｌ／１００
ｇ）、平均粒径１．０μｍ）を純水中に攪拌を行いなが
ら徐々に添加し、固形分２０ｗｔ％の分散液を得た。

【０１２５】＜親水性層用塗布液の調整＞表１〜３、表
４に示したような組成、分散条件で親水性層用塗布液を
調整し、ろ過して塗布液を得た。表１の塗布液は、ＰＥ
Ｔフィルム上に薄く塗布、乾燥した後、ＳＥＭ観察を行
い、多孔質粒子や層状鉱物粒子の形状を確認して、その
結果を表１に示した。

【０１２６】＜印刷版用支持体の作製＞表５〜表７に示
したような塗布液、基材、塗布厚の組合わせで印刷版用
支持体を作製した。表中の各基材の条件は下記の通りで
ある。親水性層の塗布はワイヤーバーにより行った。設
定膜厚を得るため、塗布液組成、固形分濃度等に応じて
適宜ワイヤーバーの番手は変更した。塗布後は８０℃で
２分間乾燥した。

【０１２７】〔ＰＥＴ基材１〕厚さ０．１８ｍｍのＰＥ
Ｔフィルムに以下の方法により二層からなる下塗り層を
形成した。１）第一下塗り層ＰＥＴ基材の塗布面にコロナ放電処理を施した後、下記
組成の塗布液を、２０℃、相対湿度５５％の雰囲気下で
ワイヤーバーにより乾燥後の膜厚が０．４μｍとなるよ
うに塗布した。その後、１４０℃で２分間乾燥を行っ
た。＜第一下塗り層組成＞アクリルラテックス粒子：ｎ−ブチルアクリレート／ｔ−ブチルアクリレート／スチレン／ヒドロキシエチルメタクリレート＝２８／２２／２５／２５３６．９ｇ界面活性剤（Ａ）０．３６ｇ硬膜剤（ａ）０．９８ｇ以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とし
た。

【０１２８】２）第二下塗り層上記フィルムの第一下塗り層を形成した面にコロナ放電
処理を施した後、下記組成の塗布液を、３５℃、相対湿
度２２％の雰囲気下でエアーナイフ方式により乾燥後の
膜厚が０．１μｍとなるように塗布した。その後、１４
０℃で２分間乾燥を行った。＜第二下塗り層組成＞ゼラチン９．６ｇ界面活性剤（Ａ）０．４ｇ硬膜剤（ｂ）０．１ｇ以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とし
た。

【０１２９】

【化１】

【０１３０】〔Ａｌ基材１〕厚さ０．２４μｍの１０５
０材アルミニウム基材を、２ｗｔ％水酸化Ｎａ水溶液を
用い、５０℃で３０秒間浸漬して脱脂した。十分に水洗
した後、２ｗｔ％３号ケイ酸Ｎａ水溶液に７０℃で３０
秒間浸漬処理し、水洗した後、十分に乾燥した。

【０１３１】〔Ａｌ基材２〕Ａｌ基材１と同様にして脱
脂したアルミニウム基材を、２０ｗｔ％硫酸水溶液を用
い、２５℃で２０Ｖの電圧で陽極酸化処理して、０．５
ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を形成した。水洗した後、Ａｌ
基材１と同様にしてケイ酸Ｎａ処理を行った。

【０１３２】〔Ａｌ基材３〕Ａｌ基材１と同様にして脱
脂したアルミニウム基材を、２０ｗｔ％硝酸水溶液に１
０秒間浸漬・中和し、３０℃、２．０ｗｔ％硝酸水溶液
を用いて、ピークの電流密度が６０Ａ／ｄｍ^２の正弦波
で正の電気量が５００Ｃ／ｄｍ^２となるように電解粗面
化処理を行った。次いで１ｗｔ％水酸化Ｎａ水溶液を用
い、３０℃で２０秒間浸漬し、水洗した後、Ａｌ基材２
と同様にして陽極酸化処理とケイ酸Ｎａ処理を行った。

【０１３３】〔Ａｌ基材４〕Ａｌ基材２と同様にして陽
極酸化皮膜を形成したアルミニウム基材表面に、特開平
８−２４０９１４号の実施例１に記載されているものと
同一の方法により有機−無機ゾルゲル皮膜を形成した。

【０１３４】＜表５：支持体（親水性層）の印刷評価＞〔画像形成・印刷版の作製〕インクとして下記組成のも
のを使用し、インクジェット方式により画像を形成し
た。その後、１００℃で２分間乾燥して印刷版とした。
インクジェット方式による画像形成は、版面上で１ドッ
トが約４０μｍ径となるようなインク吐出量とし、７２
０ｄｐｉの解像度で行った。

【０１３５】〔インク組成〕ラテックス粒子：ヨドゾールＧＤ８７Ｂ水分散液（カネボウＮＳＣ社製、平均粒径９０ｎｍ、Ｔｇ６０℃、固形分５０ｗｔ％）１７０重量部カルボキシメチルセルロースＣＭＣ−１２２０（ダイセル化学工業社製）５重量部カーボンブラック水分散液（分散剤含有）ＳＤ９０２０（大日本インキ社製、１次粒径１００ｎｍ以下、固形分３０ｗｔ％）３３重量部上記に純水を加えて固形分濃度を７．０ｗｔ％とした。

【０１３６】〔印刷評価条件〕印刷機：ハイデルＧＴＯを用い、コート紙、湿し水（東
京インキ社製、Ｈ液ＳＧ−５１、濃度１．５％）、イン
キ（東洋インキ社製、トーヨーキングハイエコーＭ紅）
を使用して印刷を行った。

【０１３７】〔非画線部の汚れにくさ〕１０００枚印刷
した時点でのシャドウ部（画像として１２０線での７０
％の網点部）の目開きの程度を目視で判断した。

【０１３８】〔シャドウ部の目開き〕１０００枚印刷し
た時点でのシャドウ部（画像として、マイクロソフトオ
フィス９７の「オートシェイプ機能の塗りつぶしパター
ン：７０％」を用いた部分）の目開きの程度を目視で判
断した。

【０１３９】〔指紋跡汚れ〕印刷前にあらかじめ非画線
部に指紋跡をつけておいた部分の、１０００枚印刷した
時点での汚れの程度を目視で判断した。

【０１４０】〔汚し回復性〕１０００枚印刷後、湿し水
の供給を切り、インクのみを印刷版全体に付けた後、再
度湿し水を供給して、印刷を再開した。紙面非画線部の
汚れの程度が１０００枚印刷時点と同等になった印刷枚
数で汚し回復性を評価した（枚数が多いほど不良）。

【０１４１】＜表６：支持体（親水性層）の印刷評価＞〔画像形成・印刷版の作製〕同様にして作成した表６に
示した各支持体の上に下記組成の画像形成層を乾燥後重
量で１．２ｇ／ｍ^２となるように塗布し、５０℃で３分
間乾燥して印刷版とした。得られた印刷版をレーザー露
光機のドラムに巻きつけ、８３０ｎｍの赤外線レーザー
で露光エネルギー量を表６に示したように変化させて画
像様に露光した。露光後の版を自動現像機で現像液とし
て水のみを用いて現像し、乾燥して印刷版とした。変化
させた露光エネルギーに対する画像形成の程度を同様に
表６に示した。

【０１４２】〔画像層１組成〕ラテックス粒子：ヨドゾールＧＤ８７Ｂ水分散液（カネボウＮＳＣ社製、平均粒径９０ｎｍ、Ｔｇ６０℃、固形分５０ｗｔ％）１９０重量部カルボキシメチルセルロースＣＭＣ−１２２０（ダイセル化学工業社製）５重量部上記に純水を加えて固形分濃度を１１．０ｗｔ％とし
た。

【０１４３】〔印刷評価条件〕印刷機：ハイデルＧＴＯを用い、コート紙、湿し水（東
京インキ社製、Ｈ液ＳＧ−５１、濃度１．５％）、イン
キ（東洋インキ社製、トーヨーキングハイエコーＭ紅）
を使用して印刷を行った。

【０１４４】〔耐刷性〕印刷物の画像部にインキ着肉不
良が現れるまでの印刷枚数を耐刷性とした。その時の印
刷枚数を各露光エネルギー量に対応した画像部ごとに求
め、それぞれの耐刷性を評価した。

【０１４５】＜表７：支持体（親水性層）の印刷評価＞〔画像形成・印刷版の作製〕同様にして作成した表７に
示した各支持体の上に下記のいずれかの組成の画像形成
層を塗布し、７０℃で３分間乾燥して印刷版とした。塗
布量は乾燥後の重量として表中に示した。得られた印刷
版をレーザー露光機のドラムに巻きつけ、８３０ｎｍの
赤外線レーザーで画像様に４０００ｄｐｉで露光して印
刷版とした。露光エネルギー量は表７に示した。

【０１４６】〔画像層２組成〕インク受容性熱溶融素材粒子：ポリエチレンワックスエマルジョンＡ１０１（岐阜セラック社製、平均粒子径１．５μｍ、軟化点８５℃、融点１２２℃、１４０℃での溶融粘度１５０ｃｐｓ、固形分４０ｗｔ％）１００重量部カルボキシメチルセルロースＣＭＣ−１２２０（ダイセル化学工業社製）５重量部上記に純水を加えて固形分濃度を１０．０ｗｔ％とし
た。

【０１４７】〔画像層３組成〕インク受容性熱溶融素
材粒子：マイクロクリスタリンワックスエマルジョンＡ
２０６（岐阜セラック社製、平均粒子径０．５μｍ、軟
化点６５℃、融点１０８℃、１４０℃での溶融粘度８ｃ
ｐｓ、固形分４０ｗｔ％）１００重量部コロイダルシリ
カスノーテックス２０Ｌ（日産化学社製、平均粒径４
５ｎｍ、固形分２０ｗｔ％）
５０重量部上記に純水を加えて固形分濃度を１
０．０ｗｔ％とした。

【０１４８】〔画像層４組成〕インク受容性熱溶融素材粒子：マイクロクリスタリンワックスエマルジョンＡ２０６（岐阜セラック社製、平均粒子径０．５μｍ、軟化点６５℃、融点１０８ ℃、１４０℃での溶融粘度８ｃｐｓ、固形分４０ｗｔ％）１００重量部コロイダルシリカスノーテックス２０Ｌ（日産化学社製、平均粒径４５ｎｍ、固形分２０ｗｔ％）５０重量部マット材：ＰＭＭＡ粒子ＭＸ２２０（綜研化学社製、平均粒子径２μｍ）１０重量部上記に純水を加えて固形分濃度を１２．０ｗｔ％とし
た。

【０１４９】〔画像層５組成〕インク受容性熱溶融素材粒子：マイクロクリスタリンワックスエマルジョンＡ２１３（岐阜セラック社製、平均粒子径１．０μｍ、軟化点６５℃、融点１０８ ℃、１４０℃での溶融粘度８ｃｐｓ、固形分３０ｗｔ％）１３５重量部コロイダルシリカスノーテックス２０Ｌ（日産化学社製、平均粒径４５ｎｍ、固形分２０ｗｔ％）５０重量部光熱変換剤：カーボンブラック水分散液（分散液含有）ＳＤ９０２０（大日本インキ社製、１次粒径１００ｎｍ以下、固形分３０ｗｔ％）２０重量部上記に純水を加えて固形分濃度を１１．０ｗｔ％とし
た。

【０１５０】〔画像層６組成〕インク受容性熱溶融素材粒子：マイクロクリスタリンワックスエマルジョンＡ２０６（岐阜セラック社製、平均粒子径０．５μｍ、軟化点６５℃、融点１０８ ℃、１４０℃での溶融粘度８ｃｐｓ、固形分４０ｗｔ％）１００重量部コロイダルシリカスノーテックス２０Ｌ（日産化学社製、平均粒径４５ｎｍ、固形分２０ｗｔ％）４０重量部カルボキシメチルセルロースＣＭＣ−１２２０（ダイセル化学工業社製）２重量部光熱変換剤：酸化スズドープ酸化インジウムＴ−１（三菱マテリアル社製、１次粒子径２０ｎｍ、粉体）５重量部上記に純水を加えて固形分濃度を１１．０ｗｔ％とし
た。

【０１５１】〔画像層７組成〕インク受容性熱溶融素材粒子：マイクロクリスタリンワックスエマルジョンＡ２０６（岐阜セラック社製、平均粒子径０．５μｍ、軟化点６５℃、融点１０８ ℃、１４０℃での溶融粘度８ｃｐｓ、固形分４０ｗｔ％）１００重量部コロイダルシリカスノーテックス２０Ｌ（日産化学社製、平均粒径４５ｎｍ、固形分２０ｗｔ％）５０重量部マット材：ＰＭＭＡ粒子ＭＸ４４０（綜研化学社製、平均粒子径４μｍ）１０重量部可視画剤：特開平９−２８６１７７号に記載の実施例１・発色マイクロカプセル１と同様の方法で作成したロイコ染料と顕色剤とを含有した体積平均粒子径３．３μｍのマイクロカプセル（固形分として）５重量部上記に純水を加えて固形分濃度を１２．０ｗｔ％とし
た。

【０１５２】〔印刷評価条件〕印刷機：三菱重工業社製ＤＡＩＹＡＩＦ−１を用い、コ
ート紙、湿し水（東京インキ社製、Ｈ液ＳＧ−５１、濃
度１．５％）、インキ（東洋インキ社製、トーヨーキン
グハイエコーＭ紅）を使用して印刷を行った。

【０１５３】〔水量低減での汚れにくさ〕湿し水供給量
（設定値）を下げていった際の汚れにくさ（網点部のカ
ラミ、非画線部の汚れ）を比較した。

【０１５４】〔水量ラチチュード〕湿し水供給量（設定
値）を変化させた際に良好な印刷品質が得られる設定値
の変化幅を求め比較した。

【０１５５】〔小点再現性〕１００枚印刷した時点で、
印刷版上に２５μｍ径で形成したドットが紙面上で確認
できるかどうか比較した。

【０１５６】〔ブランケット汚れ〕２０００枚印刷した
時点で、ブランケット上に堆積した汚れを粘着テープで
はがし取り、そのテープを白紙上に貼って、汚れの程度
を比較した。

【０１５７】〔耐刷性〕印刷物の画像部にインキ着肉不
良が現れるまで印刷を行い、その時の印刷枚数を求め、
耐刷性を評価した。

【０１５８】〔露光後可視画性評価〕レーザー露光後の
印刷版の画像部／非画像部の可視画性の有無を目視で判
断した。

【０１５９】

【表１】

【０１６０】

【表２】

【０１６１】

【表３】

【０１６２】

【表４】

【０１６３】

【表５】

【０１６４】

【表６】

【０１６５】

【表７】

【０１６６】

【発明の効果】本発明によれば、印刷版用支持体の親水
性表面加工を安価な塗布により行うことができ、かつ、
印刷版としての性能（水量ラチチュード、非画線部の汚
れにくさ、ブランケット汚れのしにくさ等）がアルミ砂
目同等以上であり、かつ、十分な耐刷性を有する印刷版
用支持体を提供することができる。

【０１６７】また本発明によれば、完全に明室での取り
扱いが可能で、アブレーションを必要とせずに画像形成
可能で露光機汚染の懸念がなく、特別な現像処理が不要
であり、印刷機上で現像される場合でも印刷機汚染の懸
念がない、可視画性に優れた印刷版及び画像形成方法を
提供することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に多孔質無機粒子を含有する層を有
し、かつ該層が光熱変換機能を有する素材を含有するこ
とを特徴とする印刷版用支持体。
【請求項２】光熱変換機能を有する素材が赤外線を吸収
し、熱に変換することを特徴とする請求項１に記載の印
刷版用支持体。
【請求項３】光熱変換機能を有する素材が導電性を有す
ることを特徴とする請求項１又は２に記載の印刷版用支
持体。
【請求項４】光熱変換機能素材が導電性を有する金属酸
化物であることを特徴とする請求項３に記載の印刷版用
支持体。
【請求項５】金属酸化物が層形成時に実質的に無色又は
白色を呈することを特徴とする請求項４に記載の印刷版
用支持体。
【請求項６】光熱変換機能を有する素材が平均径０．５
μｍ以下の粒子であるかもしくは平均径０．５μｍ以下
の粒子の表面にコーティングされていることを特徴とす
る請求項１〜５のいずれかに記載に印刷版用支持体。
【請求項７】多孔質粒子径が１μｍ以下であることを特
徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の印刷版用支持
体。
【請求項８】多孔質無機粒子が多孔質シリカ及び／又は
多孔質アルミノシリケート及び／又はゼオライトを含む
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の印刷
版用支持体。
【請求項９】多孔質無機粒子を含有する層が薄層状無機
粒子を含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれ
かに記載の印刷版用支持体。
【請求項１０】粒子が層状鉱物であることを特徴とする
請求項９に記載の印刷版用支持体。
【請求項１１】粒子が膨潤性層状鉱物であることを特徴
とする請求項１０に記載の印刷版用支持体。
【請求項１２】多孔質無機粒子を含有する層が１００ｎ
ｍ以下の金属酸化物微粒子を含有することを特徴とする
請求項１〜１１のいずれかに記載の印刷版用支持体。
【請求項１３】金属酸化物微粒子がコロイダルシリカで
あることを特徴とする請求項１２記載の印刷版用支持
体。
【請求項１４】多孔質無機粒子を含有する層が新モース
硬度５以上の無機粒子を含有することを特徴とする請求
項１〜１３のいずれかに記載の印刷版用支持体。
【請求項１５】多孔質無機粒子を含有する層に含まれる
有機成分が層全体の０〜３０ｗｔ％であることを特徴と
する請求項１〜１４のいずれかに記載の印刷版用支持
体。
【請求項１６】請求項１〜１５のいずれかに記載の支持
体上に熱により溶解性や物理的強度や支持体との接着性
が変化することで画像形成可能な画像層を設けたことを
特徴とする印刷版。
【請求項１７】請求項１〜１５のいずれかに記載の支持
体上に熱により溶融する素材を含有する層を設けたこと
を特徴とする印刷版。
【請求項１８】熱により溶融する素材が印刷インク受容
性であることを特徴とする請求項１７に記載の印刷版。
【請求項１９】熱により溶融する素材が軟化点４０℃以
上１５０℃以下、融点５０℃以上２００℃以下である
か、又は、軟化点が１５０℃以下、融点が２００℃以下
であり、かつ、軟化点が４０℃以上、融点が５０℃以上
の素材で被覆されていることを特徴とする請求項１７又
は１８に記載の印刷版。
【請求項２０】熱により溶融する素材の１４０℃での溶
融粘度が５００ｃｐｓ以下であることを特徴とする請求
項１７〜１９のいずれかに記載の印刷版。
【請求項２１】熱により溶融する素材が粒径０．０５μ
ｍ〜１０μｍの粒子状であることを特徴とする請求項１
７〜２０のいずれかに記載の印刷版。
【請求項２２】熱により溶融する素材を含有する層が水
溶性樹脂及び／又は１００ｎｍ以下の金属酸化物微粒子
を含有することを特徴とする請求項１７〜２１のいずれ
かに記載の印刷版。
【請求項２３】熱により溶融する素材を含有する層が光
熱変換機能を有する素材を含有することを特徴とする請
求項１７〜２２のいずれかに記載の印刷版。
【請求項２４】光熱変換機能を有する素材が金属酸化物
であることを特徴とする請求項２３に記載の印刷版。
【請求項２５】基材上に形成されたいずれかの層がマッ
ト剤を含有することを特徴とする請求項１７〜２４のい
ずれかに記載の印刷版。
【請求項２６】基材上に形成されたいずれかの層が熱に
より発色又は消色又は色相が変化する機能を有する素材
を含有することを特徴とする請求項１７〜２５のいずれ
かに記載の印刷版。
【請求項２７】請求項１〜１５のいずれかに記載の支持
体上に画像形成機能を有する層を含む１層以上の層を形
成した印刷版において、該画像形成機能を有する層を含
む１層以上の層が実質的に無色又は白色を呈することを
特徴とする印刷版。
【請求項２８】請求項１７〜２７のいずれかに記載の印
刷版を画像様に加熱し熱溶融素材を溶融させ、少なくと
もその一部を多孔質層に浸透させることで画像部とし、
さらに非画像部の熱溶融素材を除去することで画像を形
成することを特徴とする印刷版の画像形成方法。
【請求項２９】画像様の加熱を赤外線レーザー光で行う
ことを特徴とする請求項２８に記載の印刷版の画像形成
方法。
【請求項３０】非画像部の熱溶融素材の除去を物理的な
力で行うことを特徴とする請求項２８又は２９に記載の
印刷版の画像形成方法。
【請求項３１】非画像部の熱溶融素材の除去を水による
水溶性樹脂の溶解で行うことを特徴とする請求項２８又
は２９に記載の印刷版の画像形成方法。
【請求項３２】非画像部の熱溶融素材の除去を印刷機上
で行うことを特徴とする請求項２８〜３１のいずれかに
記載の印刷版の画像形成方法。
【請求項３３】非画像部の熱溶融素材の除去を版胴を回
転させながら、湿し水供給ロール及び／又はインク供給
ロール及び／又はブランケット胴を接触させるか、及び
／又は印刷機に付加した非画像部の熱溶融素材を除去可
能な専用装置を用いて行うことを特徴とする請求項３２
に記載の印刷版の画像形成方法。