JP2001203428A - サージ保護回路 - Google Patents

サージ保護回路

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JP2001203428A
JP2001203428A JP2000008829A JP2000008829A JP2001203428A JP 2001203428 A JP2001203428 A JP 2001203428A JP 2000008829 A JP2000008829 A JP 2000008829A JP 2000008829 A JP2000008829 A JP 2000008829A JP 2001203428 A JP2001203428 A JP 2001203428A
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wiring
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ground
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Kenji Kono
憲司 河野
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 保護素子に接続される配線の寄生インダクタ
ンスを極力小さくして、必要なサージ耐量を十分確保す
る。 【解決手段】 本発明のサージ保護回路は、半導体素子
の出力配線19を設けた出力配線層12と、この出力配
線層12と異なる配線層であってグランド配線23を設
けたグランド配線層13とを備えると共に、出力配線層
12及びグランド配線層13と異なる配線層15に保護
コンデンサ25を設け、そして、保護コンデンサ25と
出力配線層12との間及び保護コンデンサ25とグラン
ド配線層13との間をそれぞれビアホール30で接続す
るように構成したものである。この構成の場合、保護コ
ンデンサ25の出力配線層側の端子に配線の寄生インダ
クタンスがほとんど入らなくなると共に、保護コンデン
サ25のグランド配線層側の端子にも配線の寄生インダ
クタンスがほとんど入らなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば自動車用の
複合ICに集積されたパワー素子の出力端子にESD
(Electric Static Discharge )サージ等が印加された
ときに、上記パワー素子を十分に保護することができる
サージ保護回路に関する。
【0002】
【従来の技術】一般的に、複合ICに搭載されるパワー
IC(例えば縦型MOS或いは横型MOSなどパワー素
子)のサイズは、ディスクリートのパワーICのサイズ
に比べてかなり小さく、具体的には、100分の1から
10分の1程度である。このため、複合ICのパワーI
Cの出力端子にESDサージが印加したとき、電流密度
が高くなり、壊れ易いという問題点があった。特に、パ
ワーICの出力端子が、負荷駆動用の出力端子としてE
CU(Electric Contorol Unit)の外部に直接出るよう
な構成の場合、ESDサージに対してパワーICが壊れ
易かった。
【0003】この問題点を解消する対策として、従来よ
り、上記パワーICの出力端子側にサージ保護用の特別
な回路を設けていた。このサージ保護回路は、例えば、
パワーICの出力端子とグランドとの間に接続した保護
素子である例えばコンデンサ(キャパシタ)や、低電圧
のパワーツェナーダイオードなどから構成されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した構成
のサージ保護回路を設けても、必要なサージ耐量を確保
できないことがあった。というのは、例えばプリント配
線基板上に、上記複合ICと上記サージ保護回路のコン
デンサを配設した場合、コンデンサの端子に接続される
配線の寄生インダクタンスの影響で実際の保護回路のイ
ンピーダンスが増加し、コンデンサの保護効果、即ち、
サージをバイパスする作用が十分に発揮されなくなるた
めであった。
【0005】このような構成のサージ保護回路の一例
を、図13に示す。この図13に示すように、例えばE
CUのプリント配線基板1上には、複合ICであるモー
ルドIC2と、サージ保護回路の例えば2端子型の保護
コンデンサ3と、外部接続用のコネクタ4とが配設され
ている。そして、プリント配線基板1上には、幅広の導
体パターンからなる出力配線5と、幅広の導体パターン
からなるグランド配線6と、それ以外の種々の配線7と
が設けられている。
【0006】この構成の場合、出力配線5には、モール
ドIC2の出力端子2aが半田付けされていると共に、
コネクタ4の出力端子用のピン4aが半田付けされ、更
に、保護コンデンサ3の一方の端子3aが半田付けされ
ている。また、グランド配線6には、保護コンデンサ3
の他方の端子3bが半田付けされている。尚、グランド
配線6は、ねじ8によりECUの金属製のケース(グラ
ンド)に接続されている。
【0007】しかし、上記構成の場合、出力配線5のパ
ターン幅が大きいため、配線の寄生のインダクタンスL
s1が保護コンデンサ3の入力端子3aに直列に入り込
む構成となる。また、同様にして、グランド配線6のパ
ターン幅が大きいため、配線の寄生のインダクタンスL
s2及びLs3が保護コンデンサ3のグランド端子3b
に直列に入り込む構成となる。このため、配線の寄生イ
ンダクタンスLs1、Ls2、Ls3の影響により保護
回路のインピーダンスが高くなり、保護コンデンサ3の
サージ吸収効果が減少してしまうという問題点があっ
た。
【0008】また、上記2端子型の保護コンデンサ3の
代わりに、3端子型(或いは貫通型)の保護コンデンサ
9を用いた例を、図14に示す。この3端子型の保護コ
ンデンサ9を用いた構成では、保護コンデンサ9の入力
端子には、配線の寄生インダクタンスが入ることはなく
なる。しかし、保護コンデンサ9のグランド端子側に
は、配線の寄生インダクタンスLs2及びLs3が存在
してしまう。更に、3端子型(或いは貫通型)の保護コ
ンデンサ9には、その構造上、寄生の直列抵抗が存在す
るため、流せる電流容量に制約がある。このため、パワ
ーICで駆動する外部負荷に流す電流の大きさに応じ
て、保護コンデンサ9の個数を増やす、或いは、サイズ
(容量)を大きくする必要があった。従って、製造コス
トが高くなると共に、プリント配線基板1上で部品や配
線をレイアウトする際の設計が困難になるという欠点も
あった。
【0009】そこで、本発明の目的は、保護素子に接続
される配線の寄生インダクタンスを極力小さくすること
ができ、必要なサージ耐量を十分確保することができる
サージ保護回路を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明において
は、半導体素子の出力配線を設けた出力配線層と、この
出力配線層と異なる配線層であってグランド配線を設け
たグランド配線層とを備えると共に、出力配線層及びグ
ランド配線層と異なる配線層に保護素子を設け、そし
て、保護素子と出力配線層との間及び保護素子とグラン
ド配線層との間をそれぞれスルーホールで接続するよう
に構成した。この構成の場合、保護素子の出力配線層側
の端子に配線の寄生インダクタンスがほとんど入らなく
なると共に、保護素子のグランド配線層側の端子にも配
線の寄生インダクタンスがほとんど入らなくなる。この
ため、配線の寄生インダクタンスを極力小さくすること
ができ、必要なサージ耐量を十分確保できる。
【0011】請求項2の発明によれば、前記保護素子と
前記出力配線層との間を接続するスルーホール及び前記
保護素子と前記グランド配線層との間を接続するスルー
ホールを、それぞれ複数設ける構成としたので、配線の
寄生インダクタンスをより一層小さくすることができ
る。
【0012】請求項3の発明では、半導体素子の出力配
線を設けた出力配線層と、この出力配線層と異なる配線
層であってグランド配線を設けたグランド配線層とを備
えると共に、前記出力配線層と前記グランド配線層の層
間に、前記グランド配線層に直接接続された保護素子を
設け、そして、保護素子と出力配線層との間をスルーホ
ールで接続するように構成した。この構成によれば、請
求項1の発明とほぼ同じ作用効果を得ることができ、配
線の寄生インダクタンスをより一層小さくできる。
【0013】請求項4の発明によれば、出力配線層とグ
ランド配線層の層間に、出力配線層に直接接続された保
護素子を設け、前記保護素子と前記グランド配線層との
間をスルーホールで接続するように構成したので、請求
項3の発明とほぼ同じ作用効果を得ることができる。
【0014】請求項5の発明では、配線基板の上にグラ
ンド配線を設け、このグランド配線の上面の所定部分に
保護コンデンサ用の誘電体膜を設け、前記グランド配線
の上面を覆うと共に前記誘電体膜の上面を露出させるよ
うに絶縁層を設け、前記誘電体膜の上面及び前記絶縁層
の上面に半導体素子の出力配線を設け、そして、前記グ
ランド配線と前記誘電体膜と前記出力配線とにより前記
保護コンデンサを構成した。この構成によっても、請求
項1の発明とほぼ同じ作用効果を得ることができ、ま
た、実装部品数及び実装面積をより一層削減することが
できる。
【0015】請求項6の発明では、前記保護素子を、保
護コンデンサ、ツェナーダイオード、または、保護コン
デンサとツェナーダイオードの並列回路で構成したの
で、請求項1ないし4記載のサージ保護回路を、種々の
実施態様で実現することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第1の実施例につ
いて、図1ないし図4を参照しながら説明する。まず、
プリント配線基板11は、ECU(Electric Contorol
Unit)のプリント配線基板であり、図1に示すように、
例えば3枚のプリント配線基板11a、11b、11c
を積層して構成されている。このプリント配線基板11
は、例えば4層の配線層12、13、14、15を備え
た多層基板である。上記プリント配線基板11の全体の
厚み寸法は、例えば約1mm程度である。
【0017】上記4層の配線層12、13、14、15
の層間は、例えば樹脂製の絶縁体(絶縁層)となってい
る。この場合、1層目の配線層12は、プリント配線基
板11の上面に配設されており、2層目及び3層目の配
線層13及び14は、プリント配線基板11の内部に配
設されており、4層目の配線層15は、プリント配線基
板11の下面に配設されている。
【0018】そして、プリント配線基板11の上面に
は、図2に示すように、複合ICである例えばモールド
IC17と、外部接続用のコネクタ18と、図示しない
各種の電子部品とが配設されている。上記モールドIC
17の内部には、例えば縦型MOS(VDMOS)或い
は横型MOS(LDMOS)などからなる図示しないパ
ワーIC(パワー素子)が設けられている。また、プリ
ント配線基板11上の1層目の配線層12には、幅広の
導体パターンからなる出力配線19と、幅狭の導体パタ
ーンからなるそれ以外の種々の配線20とが設けられて
いる。この場合、1層目の配線層12が出力配線層を構
成している。
【0019】上記出力配線19の図2中の左端部には、
モールドIC17(のパワーIC)の例えば3個の出力
端子21が半田付けされている。出力配線19の図2中
の右端部には、コネクタ18の出力端子用のピン22が
半田付けされている。尚、モールドIC17の他の端子
や、コネクタ18の他のピン等は、種々の配線20に半
田付けされている。
【0020】また、プリント配線基板11の内部の2層
目の配線層13には、図3に示すように、例えばべたパ
ターンからなるグランド配線23が設けられている。こ
の場合、2層目の配線層13がグランド配線層を構成し
ている。そして、このグランド配線層13は、上記出力
配線層12と異なる配線層である。尚、グランド配線2
3は、ねじ24(図2参照)を介してECUの例えば金
属製のケース(グランド)に接続されている。
【0021】更に、プリント配線基板11(のプリント
配線基板11c)の下面には、図1及び図4に示すよう
に、保護素子として例えば2端子型の保護コンデンサ2
5が実装されている。そして、プリント配線基板11の
下面の4層目の配線層15には、図4に示すように、矩
形状の導体パターンからなる2個のパッド26及び27
が設けられている。これらパッド26及び27に、保護
コンデンサ25の両端子28及び29が半田付けされて
いる。この構成の場合、上記保護コンデンサ25は、出
力配線層12及びグランド配線層13と異なる配線層1
5に設けられるように構成されている。
【0022】そして、保護コンデンサ25の一方の端子
28に接続されたパッド26と、出力配線19(即ち、
出力配線層12)との間は、例えば5個のビアホール
(即ち、スルーホール)30により接続されている。こ
の場合、グランド配線23(グランド配線層13)にお
けるパッド26に対応する部分には、パッド26とほぼ
同じ大きさの矩形状の開口部23a(図1及び図3参
照)が形成されており、これにより、上記ビアホール3
0がグランド配線23に接続しないように構成されてい
る。
【0023】また、保護コンデンサ25の他方の端子2
9に接続されたパッド27とグランド配線23(グラン
ド配線層13)との間は、例えば5個のビアホール(即
ち、スルーホール)31により接続されている。このよ
うに構成することにより、出力配線19とグランド配線
23との間に保護コンデンサ25が接続され、もって、
この回路構成部分がモールドIC17(のパワーIC)
のサージ保護回路32を構成している。
【0024】そして、上記サージ保護回路32の場合、
保護コンデンサ25の出力配線19側(パッド26側)
の端子28及びグランド配線23側(パッド27側)の
端子29には、配線の寄生インダクタンスがほとんど入
らない、即ち、実質的に入ることがない構成となってい
る。
【0025】上記した構成のECUのプリント配線基板
11においては、ESDサージは、ECUのコネクタ1
8と外部負荷(図示しない)を接続するワイヤーハーネ
ス(図示しない)に、または、外部負荷自身に、また
は、ECUのコネクタ18のピンに直接印加する構成と
なっている。そして、このように印加されたESDサー
ジは、モールドIC17のパワーICの出力配線19に
入り込む。このとき、本実施例では、サージ保護回路3
2の保護コンデンサ25の出力配線19側の端子28及
びグランド配線23側の端子29に、配線の寄生インダ
クタンスが実質的に入ることがない構成となっているの
で、上記ESDサージは保護コンデンサ25によりほぼ
吸収されるようになる。
【0026】この結果、モールドIC17に内蔵された
パワーICのサージ破壊を確実に防止することができ
る。そして、この構成の場合、保護コンデンサ25とし
て必要最小限の容量のコンデンサを使用しながら、必要
なサージ耐量を十分確保することが可能となる。
【0027】尚、上記実施例では、グランド配線23を
ねじ24によりECUの金属ケースに接続するように構
成したが、これに限られるものではなく、グランド配線
23をコネクタ18のグランド接続用のピンに接続する
ように構成しても良い。このように構成した場合、グラ
ンド配線23はECUの外部のグランド電位に接続され
る構成となる。
【0028】また、上記実施例では、4層の配線層12
〜15を有するプリント配線基板11に適用したが、こ
れに限られるものではなく、2層、3層または5層以上
の配線層を有するプリント配線基板や他の多層基板等に
適用しても良い。更に、上記実施例では、保護コンデン
サ25のパッド26、27と配線19、23とを、それ
ぞれ5個のビアホール30、31により接続するように
構成したが、これに代えて、1、2、3、4または6個
以上のビアホールにより接続するように構成しても良
い。
【0029】図5ないし図8は、本発明の第2の実施例
を示すものであり、第1の実施例と異なるところを説明
する。尚、第1の実施例と同一部分には、同一符号を付
している。第2の実施例では、図5に示すように、保護
素子として例えばチップコンデンサからなる保護コンデ
ンサ33を出力配線層34とグランド配線層35との層
間に設けると共に、保護コンデンサ33をグランド配線
層35に直接接続し、保護コンデンサ33と出力配線層
34との間をビアホール(スルーホール)36で接続す
るように構成した。この構成について、以下、具体的に
説明する。
【0030】まず、出力配線層34は、プリント配線基
板11の上面に設けられた1層目の配線層であり、グラ
ンド配線層35は、プリント配線基板11の内部に設け
られた2層目の配線層である。尚、プリント配線基板1
1の下面には、3層目の配線層37(図5及び図8参
照)が設けられている。上記出力配線層34には、図6
に示すように、出力配線19と、それ以外の種々の配線
20とが設けられている。そして、プリント配線基板1
1の上面には、モールドIC17、コネクタ18及び図
示しない各種の電子部品が配設されている。
【0031】また、グランド配線層35には、図7に示
すように、例えばべたパターンからなるグランド配線2
3が設けられている。このグランド配線23には、保護
コンデンサ33とほぼ同じ大きさの(少し小さい)矩形
状の開口部23bが形成されている。そして、プリント
配線基板11の内部には、保護コンデンサ33が出力配
線層34とグランド配線層35との層間に配置されるよ
うに埋設されている。更に、保護コンデンサ33の下面
の右端部及び右端面部に設けられたグランド側の端子
は、上記グランド配線23(グランド配線層35)に直
接半田付けされている。
【0032】更にまた、保護コンデンサ33の上面の左
端部に設けられた入力側の端子は、前記出力配線19に
例えば3個のビアホール(即ち、スルーホール)36を
介して接続されている。この場合、ビアホール36の内
周面と保護コンデンサ33の入力端子との間は、半田付
けされている。
【0033】次に、上記第2の実施例のプリント配線基
板11の製造方法について、簡単に説明する。まず、例
えばCu配線をパターニングすることにより両面に2層
目及び3層目の配線層35及び37を予め形成しておい
たプリント配線基板11eを用意し、このプリント配線
基板11eの上面(配線層35側の面)に、保護コンデ
ンサ33を半田付けする。続いて、プリント配線基板1
1eの上面に、絶縁樹脂をコーティングする。そして、
上記絶縁樹脂膜のうちの、保護コンデンサ33の入力側
の端子に接続するビアホール36に対応する部分だけ
を、エッチングにより孔あけする。
【0034】また、例えばCu配線をパターニングする
ことにより上面に1層目の配線層34を予め形成してお
いたプリント配線基板11fを用意し、このプリント配
線基板11fに3個のビアホール36を形成する。そし
て、このプリント配線基板11fを上記プリント配線基
板11eの上面に載せて貼り合わせる。更に、上記ビア
ホール36の内部へ半田を流し込むことにより、保護コ
ンデンサ33の入力側の端子とビアホール36との間を
半田付けして両者を接続する。これにより、図5に示す
プリント配線基板11の製造が完了する。
【0035】尚、上述した以外の第2の実施例の構成
は、第1の実施例の構成と同じ構成となっている。従っ
て、第2の実施例においても、第1の実施例とほぼ同じ
作用効果を得ることができる。特に、第2の実施例で
は、保護コンデンサ33を出力配線層34とグランド配
線層35との層間に設け、保護コンデンサ33をグラン
ド配線層35に直接接続し、保護コンデンサ33と出力
配線層34との間をビアホール36で接続したので、配
線の寄生インダクタンスをより一層小さく、即ち、より
一層無くすことができる。また、プリント配線基板11
に実装する部品の集積密度を高くすることができ、実装
面積を小さくし得ることから、プリント配線基板11を
より一層小形化することができる。
【0036】尚、上記第2の実施例では、保護コンデン
サ33をグランド配線23に直接半田付けするように構
成したが、反対に、保護コンデンサ33を出力配線19
(出力配線層34)に直接半田付けするように構成して
も良い。この構成の場合、出力配線層34をプリント配
線基板11の2層目の配線層とすると共に、グランド配
線層35をプリント配線基板11の1層目の配線層とす
ることが好ましい。そして、保護コンデンサ33をグラ
ンド配線23にビアホール(スルーホール)により接続
するように構成することが好ましい。
【0037】また、上記第1または第2の実施例におい
て、保護コンデンサ25、33の代わりに、ツェナーダ
イオードを用いるように構成しても良いし、更に、保護
コンデンサ25、33の代わりに、保護コンデンサとツ
ェナーダイオードの並列回路を用いるように構成しても
良い。このように構成した場合も、第1または第2の実
施例とほぼ同じ作用効果を得ることができる。
【0038】図9ないし図12は、本発明の第3の実施
例を示すものであり、第2の実施例と異なるところを説
明する。尚、第2の実施例と同一部分には、同一符号を
付している。この第3の実施例では、図9に示すよう
に、出力配線19とグランド配線23との間に保護コン
デンサ用の誘電体膜38を設けることにより、グランド
配線23と誘電体膜38と出力配線19とから保護コン
デンサ39を構成し、プリント配線基板11の内部に保
護コンデンサ39を埋設して作り込むように構成したも
のである。
【0039】以下、上記第3の実施例のプリント配線基
板11を製造する方法について、簡単に説明する。ま
ず、例えばCu配線をパターニングすることにより両面
に2層目及び3層目の配線層35及び37を予め形成し
ておいたプリント配線基板11gを用意し、このプリン
ト配線基板11gの上面(配線層35側の面)に、保護
コンデンサ39用の誘電体膜38を例えばスパッタによ
り形成する。この誘電体膜38は、例えば(Ba,S
r)TiOなどの高誘電体の膜である。そして、上記
誘電体膜38を例えばエッチングによりパターニングし
て、図9及び図11に示すような矩形状の誘電体膜38
とする。
【0040】続いて、プリント配線基板11gの上面
に、絶縁樹脂40をコーティングする。そして、上記絶
縁樹脂膜40のうちの、上記矩形状の誘電体膜38に対
応する部分、即ち、保護コンデンサ39の表面部分だけ
を孔あけする(図9参照)。この後、上記絶縁樹脂膜4
0及び上記誘電体膜38の上にCu配線(1層目の配線
層34)を例えばスパッタ成膜により形成する。そし
て、このCu配線をパターニングすることにより、出力
配線19及び他の配線20等(即ち、出力配線層34)
を形成する。更に、上記Cu配線の上に絶縁樹脂(図示
しない)を塗布した後、実装半田箇所の孔あけを実行す
る。これにより、図9に示すプリント配線基板11の製
造が完了する。
【0041】尚、上述した以外の第3の実施例の構成
は、第2の実施例の構成と同じ構成となっている。従っ
て、第3の実施例においても、第1及び第2の実施例と
ほぼ同じ作用効果を得ることができる。特に、第3の実
施例では、保護コンデンサ39用の誘電体膜38を出力
配線19とグランド配線23との間に設けることによ
り、グランド配線23と誘電体膜38と出力配線19と
から保護コンデンサ39を構成したので、配線の寄生イ
ンダクタンスをより一層小さく、即ち、より一層無くす
ことができる。
【0042】また、上記第3の実施例では、プリント配
線基板11に実装する部品の個数を削減することがで
き、実装面積を小さくし得ることから、プリント配線基
板11をより一層小形化することができる。
【0043】尚、上記第3の実施例においては、スパッ
タにより誘電体膜38を出力配線19とグランド配線2
3との間に設けてグランド配線23と誘電体膜38と出
力配線19とから保護コンデンサ39を構成するように
したが、これに加えて、スパッタにより抵抗膜(例えば
CrSi等からなる膜)を1層目の配線と2層目の配線
との間に設けてチップ抵抗を構成するようにしても良
い。
【0044】また、上記第3の実施例では、プリント配
線基板11の内部に保護コンデンサ39を埋設して作り
込むように構成したが、これに代えて、ツェナーダイオ
ードを埋設して作り込むように構成しても良い。この構
成の場合、誘電体膜38の代わりに、P型及びN型のポ
リシリコンを積層したポリシリコン膜(ツェナーダイオ
ードを構成する膜)を設けるように構成すれば良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示すプリント配線基板
の保護回路部分の縦断面図
【図2】プリント配線基板の上面の部分斜視図
【図3】プリント配線基板の内部の2層目の配線層を示
す部分上面図
【図4】プリント配線基板の下面の4層目の配線層を透
視的に示す部分上面図
【図5】本発明の第2の実施例を示す図1相当図
【図6】図2相当図
【図7】図3相当図
【図8】図4相当図
【図9】本発明の第3の実施例を示す図1相当図
【図10】図2相当図
【図11】図3相当図
【図12】図4相当図
【図13】従来構成を示す図2相当図
【図14】他の従来構成を示す図2相当図
【符号の説明】
11はプリント配線基板、12は配線層(出力配線
層)、13は配線層(グランド配線層)、14は配線
層、15は配線層、16は絶縁体、17はモールドI
C、18はコネクタ、19は出力配線、21は出力端
子、22はピン、23はグランド配線、25は保護コン
デンサ(保護素子)、26はパッド、27はパッド、2
8は端子、29は端子、30はビアホール(スルーホー
ル)、31はビアホール(スルーホール)、32はサー
ジ保護回路、33は保護コンデンサ(保護素子)、34
は出力配線層、35はグランド配線層、36はビアホー
ル(スルーホール)、37は配線層、38は誘電体膜、
39は保護コンデンサ、40は絶縁樹脂膜を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4E351 AA00 BB03 BB49 DD41 GG06 5E338 AA03 BB02 BB13 BB25 BB75 CC01 CC04 CC06 CD01 EE12 5E346 AA12 AA13 AA15 AA22 AA33 AA36 AA42 AA43 BB03 BB04 BB06 BB20 FF01 FF45 HH01 5G013 AA02 AA16 BA02 CB03 CB30 DA10 DA11

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の配線層を備えた配線基板と、 前記複数の配線層のうちの1つであって、半導体素子の
    出力配線を設けた出力配線層と、 前記複数の配線層のうちの1つであり且つ前記出力配線
    層と異なる配線層であって、グランド配線を設けたグラ
    ンド配線層と、 前記出力配線層及び前記グランド配線層と異なる配線層
    に設けられた保護素子とを備え、 前記保護素子と前記出力配線層との間及び前記保護素子
    と前記グランド配線層との間をそれぞれスルーホールで
    接続するように構成したことを特徴とするサージ保護回
    路。
  2. 【請求項2】 前記保護素子と前記出力配線層との間を
    接続するスルーホール及び前記保護素子と前記グランド
    配線層との間を接続するスルーホールは、それぞれ複数
    設けられていることを特徴とする請求項1記載のサージ
    保護回路。
  3. 【請求項3】 複数の配線層を備えた配線基板と、 前記複数の配線層のうちの1つであって、半導体素子の
    出力配線を設けた出力配線層と、 前記複数の配線層のうちの1つであり且つ前記出力配線
    層と異なる配線層であって、グランド配線を設けたグラ
    ンド配線層と、 前記出力配線層と前記グランド配線層の層間に設けら
    れ、前記グランド配線層に直接接続された保護素子とを
    備え、 前記保護素子と前記出力配線層との間をスルーホールで
    接続するように構成したことを特徴とするサージ保護回
    路。
  4. 【請求項4】 複数の配線層を備えた配線基板と、 前記複数の配線層のうちの1つであって、半導体素子の
    出力配線を設けた出力配線層と、 前記複数の配線層のうちの1つであり且つ前記出力配線
    層と異なる配線層であって、グランド配線を設けたグラ
    ンド配線層と、 前記出力配線層と前記グランド配線層の層間に設けら
    れ、前記出力配線層に直接接続された保護素子とを備
    え、 前記保護素子と前記グランド配線層との間をスルーホー
    ルで接続するように構成したことを特徴とするサージ保
    護回路。
  5. 【請求項5】 配線基板と、 この配線基板の上に設けられたグランド配線と、 このグランド配線の上面の所定部分に設けられた保護コ
    ンデンサ用の誘電体膜と、 前記グランド配線の上面を覆うと共に、前記誘電体膜の
    上面を露出させるように設けられた絶縁層と、 前記誘電体膜の上面及び前記絶縁層の上面に設けられた
    半導体素子の出力配線とを備え、 前記グランド配線と前記誘電体膜と前記出力配線とによ
    り前記保護コンデンサを構成したことを特徴とするサー
    ジ保護回路。
  6. 【請求項6】 前記保護素子を、保護コンデンサ、ツェ
    ナーダイオード、または、保護コンデンサとツェナーダ
    イオードの並列回路で構成したことを特徴とする請求項
    1ないし4のいずれかに記載のサージ保護回路。
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