JP2001201464A - エックス線可変斜視角透視装置 - Google Patents
エックス線可変斜視角透視装置Info
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- JP2001201464A JP2001201464A JP2000010764A JP2000010764A JP2001201464A JP 2001201464 A JP2001201464 A JP 2001201464A JP 2000010764 A JP2000010764 A JP 2000010764A JP 2000010764 A JP2000010764 A JP 2000010764A JP 2001201464 A JP2001201464 A JP 2001201464A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エックス線透視観察装置において、拡大倍率
を固定したまま、視角を変更し、透視方向を所望の方向
に変更できる。更に、反対に、透視方向を固定した状態
で、所望に拡大倍率に変更可能で、しかも大きな拡大倍
率を得ること。またこれを小形、低コストで実現するこ
とを目的とする。 【解決手段】 透過形エックス線源と、このエックス線
源の下部に被測定物を水平方向に位置決めするＸＹステ
ージと、このＸＹステージを倍率方向である鉛直方向に
位置決めするＺステージを設け、このＸＹステージの下
部にエックス線撮像部とこの撮像部を水平方向に直線移
動させる撮像部直線移動ステージと、この直線移動ステ
ージの動作に伴ってエックス線検出面が常にエックス線
出射点に向かせる撮像部傾斜機構と、撮像部を回転させ
る撮像部回転機構とでエックス線可変斜視角透視装置を
構成する。
を固定したまま、視角を変更し、透視方向を所望の方向
に変更できる。更に、反対に、透視方向を固定した状態
で、所望に拡大倍率に変更可能で、しかも大きな拡大倍
率を得ること。またこれを小形、低コストで実現するこ
とを目的とする。 【解決手段】 透過形エックス線源と、このエックス線
源の下部に被測定物を水平方向に位置決めするＸＹステ
ージと、このＸＹステージを倍率方向である鉛直方向に
位置決めするＺステージを設け、このＸＹステージの下
部にエックス線撮像部とこの撮像部を水平方向に直線移
動させる撮像部直線移動ステージと、この直線移動ステ
ージの動作に伴ってエックス線検出面が常にエックス線
出射点に向かせる撮像部傾斜機構と、撮像部を回転させ
る撮像部回転機構とでエックス線可変斜視角透視装置を
構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はエックス線による透
視撮像装置に関するものである。
視撮像装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】最近電子回路の小形、高密度化に伴っ
て、電子部品、ＬＳＩチップの接合部の不良解析等に不
良と思われる特定点を方向を変えて透視観察したいとい
う要求が高まっている。特定点を多方向から透視するに
は従来例えば図８に示すようにエックス線源１とエック
ス線撮像部７とを一体のＣ形フレーム３０に取付けＣ形
フレーム３０を測定点Ｐを通る軸２１を中心にして参照
符号Ｅの方向に傾斜回転させる方法が知られてい。とこ
ろが、この方法では斜視角が大きくなるとエックス線源
１の下端角部３１が被測定物２と干渉（接触）する為、
エックス線出射点と被測定部を近づけることができず、
高倍率観察ができない（倍率はエックス線射出点と被測
定物とエックス線撮像部との比で決まる）という重大な
欠点がある。また、装置が大がかりになるという問題も
あった。従来の他の方法として図９に示すようにエック
ス線源１にエックス線出射角の大きい透過形エックス線
を用い、エックス線撮像部７のみをエックス線出射点を
中心とする半径上を移動（エックス線撮像部７の移動状
態は点線で示す）させ、被測定点Ｐをエックス線出射点
４０とエックス線撮像部７とを結ぶ線上に位置決めし
て、所望の傾斜方向から観察する方法があった。この方
法は、エックス線源１と被測定物２とを近づけ、高倍率
が得られる特長があるが、一方エックス線撮像部の傾斜
角を変えることにより、エックス線倍率が変ってしまう
という重大な欠点があった。
て、電子部品、ＬＳＩチップの接合部の不良解析等に不
良と思われる特定点を方向を変えて透視観察したいとい
う要求が高まっている。特定点を多方向から透視するに
は従来例えば図８に示すようにエックス線源１とエック
ス線撮像部７とを一体のＣ形フレーム３０に取付けＣ形
フレーム３０を測定点Ｐを通る軸２１を中心にして参照
符号Ｅの方向に傾斜回転させる方法が知られてい。とこ
ろが、この方法では斜視角が大きくなるとエックス線源
１の下端角部３１が被測定物２と干渉（接触）する為、
エックス線出射点と被測定部を近づけることができず、
高倍率観察ができない（倍率はエックス線射出点と被測
定物とエックス線撮像部との比で決まる）という重大な
欠点がある。また、装置が大がかりになるという問題も
あった。従来の他の方法として図９に示すようにエック
ス線源１にエックス線出射角の大きい透過形エックス線
を用い、エックス線撮像部７のみをエックス線出射点を
中心とする半径上を移動（エックス線撮像部７の移動状
態は点線で示す）させ、被測定点Ｐをエックス線出射点
４０とエックス線撮像部７とを結ぶ線上に位置決めし
て、所望の傾斜方向から観察する方法があった。この方
法は、エックス線源１と被測定物２とを近づけ、高倍率
が得られる特長があるが、一方エックス線撮像部の傾斜
角を変えることにより、エックス線倍率が変ってしまう
という重大な欠点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の技
術には、被測定点を斜視角を変えて透視観察する場合に
大きな拡大率が得られないか、または、一定の拡大倍率
を保ったまま斜視角を変えることができない欠点があ
る。本発明はこれらの欠点を除去し、大きな拡大倍率が
得られ、しかも、斜視角を変えても倍率が変わらず、更
に、これを簡素な機構で実施しようとすることを目的と
する。
術には、被測定点を斜視角を変えて透視観察する場合に
大きな拡大率が得られないか、または、一定の拡大倍率
を保ったまま斜視角を変えることができない欠点があ
る。本発明はこれらの欠点を除去し、大きな拡大倍率が
得られ、しかも、斜視角を変えても倍率が変わらず、更
に、これを簡素な機構で実施しようとすることを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成する為に、透過形エックス線源と、このエックス線源
の下部に被測定物を水平方向に位置決めするＸＹステー
ジと、ＸＹステージを倍率方向である鉛直方向に位置決
めするＺステージを設け、このＸＹステージの下部にエ
ックス線撮像部と、この撮像部を水平方向に直線移動さ
せる撮像部直線移動ステージと、この直線移動ステージ
の動作に伴ってエックス線検出面が常にエックス線出射
点を向くよう、エックス線撮像部を傾斜させる撮像部傾
斜機構と、エックス線出射点を通る鉛直線を中心に撮像
部を回転させる撮像部回転機構で可変斜視角透視撮像装
置を構成したものである。より具体的にこの動作を図
1、図2を用い説明する。両図において、１はエックス線
源、２は被検査対象物（例えば高密度実装プリント基
板）、７はエックス線撮像部である。鉛直線（Ｚ軸）に
対して傾斜角αを変えて観察する場合（つまり、Ｘ軸−
Ｚ軸またはＹ軸−Ｚ軸平面内での視角の変更）について
図1を参照して説明する。被測定対象物２の被測定点Ｐ
をＸＹステージでエックス線源１のエックス線出射点か
ら所望の傾斜α方向に対応した位置に位置決めし、この
出射方向にエックス線撮像部７を位置決めする。更にこ
の位置に応じてエックス線撮像部７のエックス線検出面
１９をエックス線が垂直に入射するように傾斜（角度
β）させる。このようにして、透視観察を行う。次に図
2を用いて、Ｘ軸に対する角度θを変えて観察する場合
について説明する。この場合にはＸＹステージで被測定
物2の被測定点ＰをＸ軸に対して所望の位置（ｘ１、ｙ
１）に位置決めし、この位置と、エックス線出射点Ｏを
結ぶ直線上にエックス線撮像部７の直線移動機構と撮像
部回転機構（共に図示せず）でエックス線撮像部７を位
置決めし、この位置に応じて撮像部傾斜機構でエックス
線検出１９を傾斜させ、所望の角度から透視観察を行う
ようにしたものである。
成する為に、透過形エックス線源と、このエックス線源
の下部に被測定物を水平方向に位置決めするＸＹステー
ジと、ＸＹステージを倍率方向である鉛直方向に位置決
めするＺステージを設け、このＸＹステージの下部にエ
ックス線撮像部と、この撮像部を水平方向に直線移動さ
せる撮像部直線移動ステージと、この直線移動ステージ
の動作に伴ってエックス線検出面が常にエックス線出射
点を向くよう、エックス線撮像部を傾斜させる撮像部傾
斜機構と、エックス線出射点を通る鉛直線を中心に撮像
部を回転させる撮像部回転機構で可変斜視角透視撮像装
置を構成したものである。より具体的にこの動作を図
1、図2を用い説明する。両図において、１はエックス線
源、２は被検査対象物（例えば高密度実装プリント基
板）、７はエックス線撮像部である。鉛直線（Ｚ軸）に
対して傾斜角αを変えて観察する場合（つまり、Ｘ軸−
Ｚ軸またはＹ軸−Ｚ軸平面内での視角の変更）について
図1を参照して説明する。被測定対象物２の被測定点Ｐ
をＸＹステージでエックス線源１のエックス線出射点か
ら所望の傾斜α方向に対応した位置に位置決めし、この
出射方向にエックス線撮像部７を位置決めする。更にこ
の位置に応じてエックス線撮像部７のエックス線検出面
１９をエックス線が垂直に入射するように傾斜（角度
β）させる。このようにして、透視観察を行う。次に図
2を用いて、Ｘ軸に対する角度θを変えて観察する場合
について説明する。この場合にはＸＹステージで被測定
物2の被測定点ＰをＸ軸に対して所望の位置（ｘ１、ｙ
１）に位置決めし、この位置と、エックス線出射点Ｏを
結ぶ直線上にエックス線撮像部７の直線移動機構と撮像
部回転機構（共に図示せず）でエックス線撮像部７を位
置決めし、この位置に応じて撮像部傾斜機構でエックス
線検出１９を傾斜させ、所望の角度から透視観察を行う
ようにしたものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下本発明の一実施例を図１〜図
７によって説明する。図３は本発明の実施例の正面図、
図４は同じく側面図、図５はエックス線撮像部７と撮像
部直線移動ステージ１３の平面図である。両図におい
て、点線で示した撮像部は夫々移動したときの状態を示
している。１は透過形エックス線源であり、１３０度の
照射角を有する。このエックス線源１の下部にはＸＹス
テージがあり、被測定物２である高密度実装基板がこの
ＸＹステージ３に固定されている。このＸＹステージ３
は鉛直（Ｚ軸）方向に位置決めするＺステージ４に組付
けられている。このＺ軸ステージはＸＹステージの四隅
に配置される。このＺ軸の作用により、エックス線源１
と被測定物が２最も接近したときはその間隔は０．５ｍ
ｍ、最も離れたときで、１５０ｍｍとなる。最も近づけ
たときに拡大倍率は最大となり、最も離したときに最小
となる。現状のエックス線源の場合、拡大倍率としては
数倍から1000倍まで可能である。４１はエックス線防護
キャビネットである。図６、図７は各ステージの動きを
模式的に示したものである。両図においては本実施例の
装置のうちの稼動部分のみを示しており、他の構造物は
省略している。
７によって説明する。図３は本発明の実施例の正面図、
図４は同じく側面図、図５はエックス線撮像部７と撮像
部直線移動ステージ１３の平面図である。両図におい
て、点線で示した撮像部は夫々移動したときの状態を示
している。１は透過形エックス線源であり、１３０度の
照射角を有する。このエックス線源１の下部にはＸＹス
テージがあり、被測定物２である高密度実装基板がこの
ＸＹステージ３に固定されている。このＸＹステージ３
は鉛直（Ｚ軸）方向に位置決めするＺステージ４に組付
けられている。このＺ軸ステージはＸＹステージの四隅
に配置される。このＺ軸の作用により、エックス線源１
と被測定物が２最も接近したときはその間隔は０．５ｍ
ｍ、最も離れたときで、１５０ｍｍとなる。最も近づけ
たときに拡大倍率は最大となり、最も離したときに最小
となる。現状のエックス線源の場合、拡大倍率としては
数倍から1000倍まで可能である。４１はエックス線防護
キャビネットである。図６、図７は各ステージの動きを
模式的に示したものである。両図においては本実施例の
装置のうちの稼動部分のみを示しており、他の構造物は
省略している。
【０００６】以下図１から図７を用い詳細に説明する。
ＸＹステージ３の下方にはエックス線像を光の画像に変
換するエックス線イメージインテンシファイア（以下Ｉ
Ｉ管と称する）５及びそれを電気信号に変換するテレビ
カメラ６とで構成されるエックス線撮像部７が配設され
ている。エックス線撮像部７は回転支持部９によって枠
１０に回転自在（回転方向を図６と図７の参照符号Ｄと
して示す）に組付けられており、図4に示すように、回
転支持部９はモータ１１に駆動されるウォーム歯車１２
に固定されている。図5に示すように、枠１０は撮像部
直線移動ステージ１３のテーブル１４に取付けられ、参
照符号Ｂの方向に移動する。図４に示すように、撮像部
直線移動ステージ１３は、モータ１５に駆動されるウォ
ーム歯車１６が組付けられた回転軸１７に固定されてい
る。図６、図７に示すように、撮像部直線移動ステージ
１３はこの回転軸１７を中心に参照符号Ｃの方向に回転
する。次にエックス線出射点Ｏと被測定点Ｐとエックス
線ＩＩ５と傾斜角αと回転角θの関係を主要部の縦断面
である図１と主要部の平面である図２によって説明す
る。被測定点Ｐを倍率Ａでα，θの方向から観察する場
合には、先ず被測定点ＰがＡ＝Ｌ／ＺとなるＴを含む面
上に来るようＺステージ４（図６、図７参照）で位置決
めする。次に被測定点Ｐがエックス線出射点Ｏを通る垂
線に対して角度αの方向を成し、かつＸ軸に対しθの角
を成す点（ｘ１ｙ１）に来るようＸＹステージで位置決
めする。 このとき、 ｒ＝√ｘ１２＋ｙ１２ …（１） Ａ＝Ｌ／Ｚ …（２） ｔａｎα＝ｒ／Ｚ＝Ａ√ｘ１２＋ｙ１２／Ｌ …（３） ｔａｎθ＝ｙ１／ｘ１ …（４） を満足させる。次に、 ｒ／Ｚ＝Ｒ／Ｌ …（５） 及θを満足する点Ｑにエックス線ＩＩ５を位置決めし、
この位置に応じてウォーム歯車１２とモータ１１、回転
支持部９で構成されるＩＩ管傾斜機構１８によってＩＩ
管５のエックス線検出面１９がエックス線出射点Ｏを向
くよう位置決めする。
ＸＹステージ３の下方にはエックス線像を光の画像に変
換するエックス線イメージインテンシファイア（以下Ｉ
Ｉ管と称する）５及びそれを電気信号に変換するテレビ
カメラ６とで構成されるエックス線撮像部７が配設され
ている。エックス線撮像部７は回転支持部９によって枠
１０に回転自在（回転方向を図６と図７の参照符号Ｄと
して示す）に組付けられており、図4に示すように、回
転支持部９はモータ１１に駆動されるウォーム歯車１２
に固定されている。図5に示すように、枠１０は撮像部
直線移動ステージ１３のテーブル１４に取付けられ、参
照符号Ｂの方向に移動する。図４に示すように、撮像部
直線移動ステージ１３は、モータ１５に駆動されるウォ
ーム歯車１６が組付けられた回転軸１７に固定されてい
る。図６、図７に示すように、撮像部直線移動ステージ
１３はこの回転軸１７を中心に参照符号Ｃの方向に回転
する。次にエックス線出射点Ｏと被測定点Ｐとエックス
線ＩＩ５と傾斜角αと回転角θの関係を主要部の縦断面
である図１と主要部の平面である図２によって説明す
る。被測定点Ｐを倍率Ａでα，θの方向から観察する場
合には、先ず被測定点ＰがＡ＝Ｌ／ＺとなるＴを含む面
上に来るようＺステージ４（図６、図７参照）で位置決
めする。次に被測定点Ｐがエックス線出射点Ｏを通る垂
線に対して角度αの方向を成し、かつＸ軸に対しθの角
を成す点（ｘ１ｙ１）に来るようＸＹステージで位置決
めする。 このとき、 ｒ＝√ｘ１２＋ｙ１２ …（１） Ａ＝Ｌ／Ｚ …（２） ｔａｎα＝ｒ／Ｚ＝Ａ√ｘ１２＋ｙ１２／Ｌ …（３） ｔａｎθ＝ｙ１／ｘ１ …（４） を満足させる。次に、 ｒ／Ｚ＝Ｒ／Ｌ …（５） 及θを満足する点Ｑにエックス線ＩＩ５を位置決めし、
この位置に応じてウォーム歯車１２とモータ１１、回転
支持部９で構成されるＩＩ管傾斜機構１８によってＩＩ
管５のエックス線検出面１９がエックス線出射点Ｏを向
くよう位置決めする。
【０００７】以上の説明では拡大倍率Ａを決めた後、傾
斜角αと回転角θとを同時に決定するよう各位置決め機
構を動作させる方法について述べたが、拡大倍率Ａを決
めた後、回転角θを決め傾斜方向αを次々に変えて観察
し、この観察が終った後、傾斜角αを決め回転方向θを
次々に変えて観察することももちろん出来る。更に観察
方向α及びθを決定しておき、拡大倍率のみを変えて、
不良箇所をだんだん拡大して観察することによって不良
解析を行うことができる。この場合にも（１）〜（５）
式に示した各位置の関係を守れば良い。この各位置の計
算及動作指令は図示しないコンピュータ、制御装置によ
るが、これは衆知のパーソナルコンピュータ及数値制御
ボードで構成できる。
斜角αと回転角θとを同時に決定するよう各位置決め機
構を動作させる方法について述べたが、拡大倍率Ａを決
めた後、回転角θを決め傾斜方向αを次々に変えて観察
し、この観察が終った後、傾斜角αを決め回転方向θを
次々に変えて観察することももちろん出来る。更に観察
方向α及びθを決定しておき、拡大倍率のみを変えて、
不良箇所をだんだん拡大して観察することによって不良
解析を行うことができる。この場合にも（１）〜（５）
式に示した各位置の関係を守れば良い。この各位置の計
算及動作指令は図示しないコンピュータ、制御装置によ
るが、これは衆知のパーソナルコンピュータ及数値制御
ボードで構成できる。
【０００８】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、従来の
エックス線検査装置にエックス線撮像部を水平に移動さ
せ、これに伴ってエックス線検出面を傾斜させ、エック
ス線撮像部を水平移動機構ごと回転させる機構を付加す
るのみで被測定点を傾斜方向からも水平回転方向からも
拡大倍率の変化することなく所望の方向から被測定点の
検査ができ、高密度実装基板の接合不良解析に威力を発
する。またこの機能は従来のエックス線源、エックス線
撮像部、被測定物位置決めＸＹＺステージにエックス線
撮像部直線移動機構、傾斜機構回転機構を追加し、それ
等を一定の幾何学的位置関係下に位置決めするのみであ
るから、比較的低小形で簡素低コストで実現できる。
エックス線検査装置にエックス線撮像部を水平に移動さ
せ、これに伴ってエックス線検出面を傾斜させ、エック
ス線撮像部を水平移動機構ごと回転させる機構を付加す
るのみで被測定点を傾斜方向からも水平回転方向からも
拡大倍率の変化することなく所望の方向から被測定点の
検査ができ、高密度実装基板の接合不良解析に威力を発
する。またこの機能は従来のエックス線源、エックス線
撮像部、被測定物位置決めＸＹＺステージにエックス線
撮像部直線移動機構、傾斜機構回転機構を追加し、それ
等を一定の幾何学的位置関係下に位置決めするのみであ
るから、比較的低小形で簡素低コストで実現できる。
【図１】 本発明の実施例の基本構成を示す正面図
【図２】 本発明の実施例の基本構成を示す側断面図
【図３】 本発明の一実施例を示す正面図
【図４】 本発明の一実施例を示す側断面図
【図５】 本発明の一実施例を示す平面図
【図６】 本発明の実施例の模式説明図
【図７】 本発明の実施例の模式説明図
【図８】 従来例の説明図
【図９】 従来例の説明図
１：エックス線源、２：被測定部、３：ＸＹステージ、
４：Ｚステージ、５：エックス線イメージインテンシフ
ァイア、６：テレビカメラ、１３：撮像部直線移動機
構、１８：撮像部傾斜機構、１９：撮像部回転機構
４：Ｚステージ、５：エックス線イメージインテンシフ
ァイア、６：テレビカメラ、１３：撮像部直線移動機
構、１８：撮像部傾斜機構、１９：撮像部回転機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G001 AA01 BA11 CA01 DA02 DA09 GA06 GA13 HA13 JA06 KA03 LA11 MA05 PA11
Claims (2)
- 【請求項１】 エックス線を発生するエックス線源と、
該エックス線源の下部に被測定物を水平方向に位置決め
するＸＹステージと、該ＸＹステージを鉛直方向に位置
決めするＺステージと、前記ＸＹステージの下部に設け
たエックス線撮像部と、該撮像部を水平方向に直線移動
させる撮像部直線移動ステージと、該直線移動ステージ
の動作に伴って前記撮像部のエックス線検出面が常に前
記エックス線源のエックス線出射点に向くように傾斜さ
せる撮像部傾斜機構と、前記エックス線撮像部を前記エ
ックス線源のエックス線放射中心軸上を中心に回転させ
る撮像部回転機構とを有することを特徴とするエックス
線可変斜視角透視装置。 - 【請求項２】エックス線を放射する透過形エックス線源
と、このエックス線源の下方に配され、被測定物水平方
向に位置決めするＸＹ位置決め手段と、このＸＹ位置決
め手段を上下方向に位置決めするＺ位置決め手段と、Ｘ
Ｙ位置決め手段の下方に配設されて、エックス線像を撮
像するエックス線撮像手段と、このエックス線撮像手段
を水平方向に直線移動させる撮像部直線移動手段と、こ
の撮像部直線移動に伴って前記エックス線撮像手段のエ
ックス線検出面をエックス線源の方向に向ける撮像部傾
斜手段と、この撮像部直線移動手段、撮像部傾斜手段及
エックス線撮像手段を前記エックス線源のエックス線出
射点を通る鉛直線を中心に回転させる撮像部回転手段を
備えたことを特徴とするエックス線可変斜視角透視撮像
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000010764A JP3693318B2 (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | エックス線可変斜視角透視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000010764A JP3693318B2 (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | エックス線可変斜視角透視装置 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005080142A Division JP3784062B2 (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | エックス線透視撮像装置 |
| JP2005080141A Division JP2005233970A (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | エックス線透視撮像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001201464A true JP2001201464A (ja) | 2001-07-27 |
| JP3693318B2 JP3693318B2 (ja) | 2005-09-07 |
Family
ID=18538744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000010764A Expired - Fee Related JP3693318B2 (ja) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | エックス線可変斜視角透視装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3693318B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006162335A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Nagoya Electric Works Co Ltd | Ｘ線検査装置、ｘ線検査方法およびｘ線検査プログラム |
| JP2006184267A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-07-13 | Nagoya Electric Works Co Ltd | Ｘ線検査装置、ｘ線検査方法およびｘ線検査プログラム |
| JP2008505340A (ja) * | 2004-07-05 | 2008-02-21 | デイジ プレシジョン インダストリーズ リミテッド | Ｘ線操作装置 |
| JP2009121961A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Shonai Create Kogyo:Kk | Ｘ線検査装置 |
| JP2015502555A (ja) * | 2011-12-22 | 2015-01-22 | セック カンパニー リミテッドＳｅｃ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | Ｓｍｔインライン用の自動ｘ線検査装置 |
-
2000
- 2000-01-19 JP JP2000010764A patent/JP3693318B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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