JP2001189282A - レーザアニール方法及び装置 - Google Patents
レーザアニール方法及び装置Info
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- JP2001189282A JP2001189282A JP37380299A JP37380299A JP2001189282A JP 2001189282 A JP2001189282 A JP 2001189282A JP 37380299 A JP37380299 A JP 37380299A JP 37380299 A JP37380299 A JP 37380299A JP 2001189282 A JP2001189282 A JP 2001189282A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、基板上に載置するパネルのサイズ
を複数とすると共に、基板を９０゜回転させてパネルに
対するレーザ照射方向を変えて、基板上の空白をなくす
ことを目的とする。 【解決手段】 本発明によるレーザアニール方法及び装
置は、パネルとしてサイズの異なる第１、第２パネル
(2,2a)を用い、パネル(2,2a)を載置する基板(1)を回転
するステージ(13)上に設け、第１パネル(2)に第１レー
ザ照射方向(A)のレーザ照射を行い、次に、基板(1)をス
テージ(13)と共に回転させ、第２パネル(2a)に第２レー
ザ照射方向(B)のレーザ照射を行うことにより、基板(1)
上の空白をなくす構成である。
を複数とすると共に、基板を９０゜回転させてパネルに
対するレーザ照射方向を変えて、基板上の空白をなくす
ことを目的とする。 【解決手段】 本発明によるレーザアニール方法及び装
置は、パネルとしてサイズの異なる第１、第２パネル
(2,2a)を用い、パネル(2,2a)を載置する基板(1)を回転
するステージ(13)上に設け、第１パネル(2)に第１レー
ザ照射方向(A)のレーザ照射を行い、次に、基板(1)をス
テージ(13)と共に回転させ、第２パネル(2a)に第２レー
ザ照射方向(B)のレーザ照射を行うことにより、基板(1)
上の空白をなくす構成である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザアニール方
法及び装置に関し、特に、互いにサイズが異なる複数の
パネルをステージの基板上に載置し、ステージを９０゜
回転させることにより、パネル面に異なる方向のレーザ
照射をし、かつ、基板上におけるパネル載置のスペース
効率向上を得るための新規な改良に関する。
法及び装置に関し、特に、互いにサイズが異なる複数の
パネルをステージの基板上に載置し、ステージを９０゜
回転させることにより、パネル面に異なる方向のレーザ
照射をし、かつ、基板上におけるパネル載置のスペース
効率向上を得るための新規な改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、用いられていたこの種のレーザア
ニール方法としては、図３に示されるパネルの配置で行
われていた。すなわち、図３において符号１で示される
ものは、後述のステージ上に設けられたマザーガラスか
らなる基板であり、この基板１上には複数の同一サイズ
のパネル２（液晶用のパネル又は半導体のウェハよりな
る）が整列して配設され、図示しないレーザ装置のレー
ザ光により、第１回レーザ照射Ｌ1、第２回レーザ照射
Ｌ2、第３回レーザ照射Ｌ3によって各パネル２に対して
レーザ照射を行ってアニール処理を行っていた。
ニール方法としては、図３に示されるパネルの配置で行
われていた。すなわち、図３において符号１で示される
ものは、後述のステージ上に設けられたマザーガラスか
らなる基板であり、この基板１上には複数の同一サイズ
のパネル２（液晶用のパネル又は半導体のウェハよりな
る）が整列して配設され、図示しないレーザ装置のレー
ザ光により、第１回レーザ照射Ｌ1、第２回レーザ照射
Ｌ2、第３回レーザ照射Ｌ3によって各パネル２に対して
レーザ照射を行ってアニール処理を行っていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザアニール
方法は、以上のように構成されていたため、次のような
課題が存在していた。すなわち、基板上に複数のパネル
を配設する場合、基板の面積に対して各パネルを有効に
スペース効率良く配設することが必要であるが、全て同
一サイズのパネルの場合には、基板の広さに対して必ず
しも同一面積とはならず、図３のように右側の一部が空
白として残ることもあり、このような場合には、アニー
ル処理全体としては、スペース効率が悪く、アニール処
理の効率が低下することになっていた。
方法は、以上のように構成されていたため、次のような
課題が存在していた。すなわち、基板上に複数のパネル
を配設する場合、基板の面積に対して各パネルを有効に
スペース効率良く配設することが必要であるが、全て同
一サイズのパネルの場合には、基板の広さに対して必ず
しも同一面積とはならず、図３のように右側の一部が空
白として残ることもあり、このような場合には、アニー
ル処理全体としては、スペース効率が悪く、アニール処
理の効率が低下することになっていた。
【０００４】本発明は、以上のような課題を解決するた
めになされたもので、特に、互いにサイズが異なる複数
のパネルをステージの基板上に載置し、ステージを９０
゜回転させることにより、パネルに対して異なる方向の
レーザ照射をし、かつ、基板上におけるパネル載置のス
ペース効率向上を得るようにしたレーザアニール方法及
び装置を提供することを目的とする。
めになされたもので、特に、互いにサイズが異なる複数
のパネルをステージの基板上に載置し、ステージを９０
゜回転させることにより、パネルに対して異なる方向の
レーザ照射をし、かつ、基板上におけるパネル載置のス
ペース効率向上を得るようにしたレーザアニール方法及
び装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によるレーザアニ
ール方法は、基板上に設けられた複数のパネルにレーザ
光を照射し、前記パネルに対してアニール処理を行うよ
うにしたレーザアニール方法において、前記パネルとし
て異なるサイズの第１、第２パネルを用い、前記各パネ
ルの中の一部の第１パネルに対して第１レーザ照射方向
のレーザ照射を行い、次に、前記基板を回転させ前記一
部とはサイズが異なる残りの前記第２パネル上に前記第
１レーザ照射方向とは異なる方向の第２レーザ照射方向
のレーザ照射を行う方法であり、また、基板上に設けら
れた複数のパネルにレーザ光を照射し、前記パネルに対
してアニール処理を行うようにしたレーザアニール装置
において、前記基板を支持するステージと、前記ステー
ジに設けらればねにより常時下方へ付勢された位置決め
体と、前記ステージの下方に設けられ軸受を介して前記
ステージを回転自在に有すると共に、レールを介して一
方向に直動可能な直動体と、前記位置決め体に設けられ
前記直動体の位置決め穴と係合可能な位置決めピンと、
前記直動体及びレールを支持するチャンバ底板と、前記
チャンバ底板の下部に設けられ昇降シリンダを有するシ
リンダ支持部材と、前記シリンダ支持部材に昇降自在に
設けられ前記昇降シリンダによって昇降する昇降体と、
前記昇降体に設けられ回転駆動用モータにより回転自在
でかつ上端に係合ピンを有すると共に前記チャンバ底板
を貫通して突出する回転軸と、前記チャンバ底板と前記
昇降体とを接続し前記回転軸の外周に位置するベローズ
と、前記ステージの下部に設けられ前記係合ピンと係合
する係合穴と、前記回転軸の上端に形成され前記ステー
ジの下部に形成された貫通孔を貫通すると共に前記位置
決め体の突出部の下面に当接する突起と、を備え、前記
昇降体の上昇により前記突起が前記突出部を押し上げて
位置決め体が上昇し、前記位置決めピンと位置決め穴と
の係合が解除されると共に前記係合ピンと係合穴とが係
合し、前記回転軸を回転させることにより前記ステージ
を前記直動体に対して回転させる構成であり、また、前
記ステージは、柱を介して互いに離間して形成された第
１、第２ステージ板よりなり、前記位置決め体は、前記
各ステージ板間に位置している構成であり、ならびに、
前記位置決めピンと位置決め穴はテーパ形状よりなる構
成である。
ール方法は、基板上に設けられた複数のパネルにレーザ
光を照射し、前記パネルに対してアニール処理を行うよ
うにしたレーザアニール方法において、前記パネルとし
て異なるサイズの第１、第２パネルを用い、前記各パネ
ルの中の一部の第１パネルに対して第１レーザ照射方向
のレーザ照射を行い、次に、前記基板を回転させ前記一
部とはサイズが異なる残りの前記第２パネル上に前記第
１レーザ照射方向とは異なる方向の第２レーザ照射方向
のレーザ照射を行う方法であり、また、基板上に設けら
れた複数のパネルにレーザ光を照射し、前記パネルに対
してアニール処理を行うようにしたレーザアニール装置
において、前記基板を支持するステージと、前記ステー
ジに設けらればねにより常時下方へ付勢された位置決め
体と、前記ステージの下方に設けられ軸受を介して前記
ステージを回転自在に有すると共に、レールを介して一
方向に直動可能な直動体と、前記位置決め体に設けられ
前記直動体の位置決め穴と係合可能な位置決めピンと、
前記直動体及びレールを支持するチャンバ底板と、前記
チャンバ底板の下部に設けられ昇降シリンダを有するシ
リンダ支持部材と、前記シリンダ支持部材に昇降自在に
設けられ前記昇降シリンダによって昇降する昇降体と、
前記昇降体に設けられ回転駆動用モータにより回転自在
でかつ上端に係合ピンを有すると共に前記チャンバ底板
を貫通して突出する回転軸と、前記チャンバ底板と前記
昇降体とを接続し前記回転軸の外周に位置するベローズ
と、前記ステージの下部に設けられ前記係合ピンと係合
する係合穴と、前記回転軸の上端に形成され前記ステー
ジの下部に形成された貫通孔を貫通すると共に前記位置
決め体の突出部の下面に当接する突起と、を備え、前記
昇降体の上昇により前記突起が前記突出部を押し上げて
位置決め体が上昇し、前記位置決めピンと位置決め穴と
の係合が解除されると共に前記係合ピンと係合穴とが係
合し、前記回転軸を回転させることにより前記ステージ
を前記直動体に対して回転させる構成であり、また、前
記ステージは、柱を介して互いに離間して形成された第
１、第２ステージ板よりなり、前記位置決め体は、前記
各ステージ板間に位置している構成であり、ならびに、
前記位置決めピンと位置決め穴はテーパ形状よりなる構
成である。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明によるレ
ーザアニール方法及び装置の好適な実施の形態について
説明する。なお、従来例と同一又は同等部分については
同一符号を用いて説明する。図１において符号１で示さ
れるものは、マザーガラス等からなる基板であり、この
基板１上には互いにサイズが異なる第１、第２パネル
２，２ａが載置され、各パネル２，２ａにより基板１上
の空間が埋められるように、すなわち従来のように空白
が残らないように組合せられている。前述の配置構成に
おいて各パネル２，２ａにレーザ光線を照射してアニー
ル処理を行う場合、各第１パネル２に対しては、第１レ
ーザ照射方向Ａの第１回レーザ照射Ｌ1及び第２回レー
ザ照射Ｌ2を行い、アニール処理を完了し、次に、基板
１を９０゜回転させ第２レーザ照射方向Ｂの第３、第
４、第５回レーザ照射Ｌ3，Ｌ4，Ｌ５を行うことによ
り、全ての第１、第２パネル２，２ａの中の一部のパネ
ル２には第１レーザ照射方向Ａでレーザ照射（Ｌ1，
Ｌ2）し、他の残りの第２パネル２ａには、前記一部と
は異なる直交した方向の第２レーザ照射方向Ｂのレーザ
照射Ｌ3〜Ｌ5を行っている。
ーザアニール方法及び装置の好適な実施の形態について
説明する。なお、従来例と同一又は同等部分については
同一符号を用いて説明する。図１において符号１で示さ
れるものは、マザーガラス等からなる基板であり、この
基板１上には互いにサイズが異なる第１、第２パネル
２，２ａが載置され、各パネル２，２ａにより基板１上
の空間が埋められるように、すなわち従来のように空白
が残らないように組合せられている。前述の配置構成に
おいて各パネル２，２ａにレーザ光線を照射してアニー
ル処理を行う場合、各第１パネル２に対しては、第１レ
ーザ照射方向Ａの第１回レーザ照射Ｌ1及び第２回レー
ザ照射Ｌ2を行い、アニール処理を完了し、次に、基板
１を９０゜回転させ第２レーザ照射方向Ｂの第３、第
４、第５回レーザ照射Ｌ3，Ｌ4，Ｌ５を行うことによ
り、全ての第１、第２パネル２，２ａの中の一部のパネ
ル２には第１レーザ照射方向Ａでレーザ照射（Ｌ1，
Ｌ2）し、他の残りの第２パネル２ａには、前記一部と
は異なる直交した方向の第２レーザ照射方向Ｂのレーザ
照射Ｌ3〜Ｌ5を行っている。
【０００７】前記図１の各第１、第２パネル２，２ａの
配列構成とは別に、図２で示される配列構成の場合、図
１のパネルよりも小型化された第１、第２パネル２，２
ａを配列し、基板１に対してムダな空白のないように構
成し、前述と同様のアニール処理を行っている。なお、
同一部分には同一符号を付しその説明は省略している。
配列構成とは別に、図２で示される配列構成の場合、図
１のパネルよりも小型化された第１、第２パネル２，２
ａを配列し、基板１に対してムダな空白のないように構
成し、前述と同様のアニール処理を行っている。なお、
同一部分には同一符号を付しその説明は省略している。
【０００８】次に、前述の基板１を９０゜（９０゜以外
も可）回転させる機構について図４及び図５と共に説明
する。図４、図５において符号１で示されるものは、マ
ザーグラス等よりなる基板であり、この基板１は柱１３
ａを介して互いに離間して形成された一対の第１、第２
ステージ板１１，１２からなるステージ１３上に載置し
て設けられており、この第２ステージ板１２の中央の下
部１４は下方に突出して垂下している。
も可）回転させる機構について図４及び図５と共に説明
する。図４、図５において符号１で示されるものは、マ
ザーグラス等よりなる基板であり、この基板１は柱１３
ａを介して互いに離間して形成された一対の第１、第２
ステージ板１１，１２からなるステージ１３上に載置し
て設けられており、この第２ステージ板１２の中央の下
部１４は下方に突出して垂下している。
【０００９】前記第２ステージ板１２には、その中央に
凹部１５が形成され、この凹部１５の外側位置には複数
の開口１６が形成されており、この第２ステージ板１２
上には位置決め体１７が載置されている。この位置決め
体１７の下面に形成された複数のテーパ形状の位置決め
ピン１８は前記開口１６に着脱自在に設けられており、
前記凹部１５内には、前記位置決め体１７の下部中央に
形成された突出部１９が内設され、この突出部１９の鍔
部２０と前記第２ステージ板１２との間にはばね４２が
設けられていることにより、位置決め体１７は常時前記
位置決めピン１８が前記開口１６を貫通して位置決め体
１７が第２ステージ板１２上に重合して載置されるよう
に構成されている。
凹部１５が形成され、この凹部１５の外側位置には複数
の開口１６が形成されており、この第２ステージ板１２
上には位置決め体１７が載置されている。この位置決め
体１７の下面に形成された複数のテーパ形状の位置決め
ピン１８は前記開口１６に着脱自在に設けられており、
前記凹部１５内には、前記位置決め体１７の下部中央に
形成された突出部１９が内設され、この突出部１９の鍔
部２０と前記第２ステージ板１２との間にはばね４２が
設けられていることにより、位置決め体１７は常時前記
位置決めピン１８が前記開口１６を貫通して位置決め体
１７が第２ステージ板１２上に重合して載置されるよう
に構成されている。
【００１０】前記第２ステージ板１２の下部１４の外周
位置には、軸受２１ａを介して直動体２１が設けられ、
この直動体２１はチャンバ底板２２上にチャンバ内２３
に位置するレール４１上に直動可能に設けられ、前記ス
テージ１３はこの軸受２１ａを介してこの直動体２１に
対して回転自在に設けられている。また、この直動体２
１の上部にはテーパ形状をなす複数の位置決め穴２１ｂ
が形成され、位置決めピン１８が着脱自在に設けられて
いる。従って、このテーパ形状により、ステージ１３は
直動体２１に対して高精度に位置決めされる。
位置には、軸受２１ａを介して直動体２１が設けられ、
この直動体２１はチャンバ底板２２上にチャンバ内２３
に位置するレール４１上に直動可能に設けられ、前記ス
テージ１３はこの軸受２１ａを介してこの直動体２１に
対して回転自在に設けられている。また、この直動体２
１の上部にはテーパ形状をなす複数の位置決め穴２１ｂ
が形成され、位置決めピン１８が着脱自在に設けられて
いる。従って、このテーパ形状により、ステージ１３は
直動体２１に対して高精度に位置決めされる。
【００１１】前記チャンバ底板２２の下面には、リニア
ガイド２４及び昇降シリンダ２６を有するシリンダ支持
部材２５が設けられ、このリニアガイド２４を介して昇
降自在に設けられた昇降体２７には回転駆動用モータ２
８が設けられていると共に、この昇降シリンダ２６の作
動によって昇降体２７が実線及び点線で示す位置に昇降
できるように構成されている。
ガイド２４及び昇降シリンダ２６を有するシリンダ支持
部材２５が設けられ、このリニアガイド２４を介して昇
降自在に設けられた昇降体２７には回転駆動用モータ２
８が設けられていると共に、この昇降シリンダ２６の作
動によって昇降体２７が実線及び点線で示す位置に昇降
できるように構成されている。
【００１２】前記昇降体２７には、前記回転駆動用モー
タ２８によって回転する回転軸２９が軸受３０を介して
回転自在に設けられ、この回転軸２９の上端には、１個
の突起３１とこの突起３１の外側に位置して設けられた
複数の係合ピン３２とが設けられている。この各係合ピ
ン３２は前記下部１４の下面に形成された複数の係合穴
３３と係合自在に設けられている。前記各係合穴３３の
内側すなわち下部１４の下面中心位置には、前記凹部１
５と連通する貫通孔３４が形成され、前記突起３１は貫
通孔３４を経て前記突出部１９の下面１９ａに当接可能
に構成されている。
タ２８によって回転する回転軸２９が軸受３０を介して
回転自在に設けられ、この回転軸２９の上端には、１個
の突起３１とこの突起３１の外側に位置して設けられた
複数の係合ピン３２とが設けられている。この各係合ピ
ン３２は前記下部１４の下面に形成された複数の係合穴
３３と係合自在に設けられている。前記各係合穴３３の
内側すなわち下部１４の下面中心位置には、前記凹部１
５と連通する貫通孔３４が形成され、前記突起３１は貫
通孔３４を経て前記突出部１９の下面１９ａに当接可能
に構成されている。
【００１３】前記回転軸２９は前記チャンバ底板２２に
形成された貫通孔２２ａを貫通していると共に、このチ
ャンバ底板２２の下面２２ｂと前記昇降体２７の上面２
７ａちの間にはアルミ等で形成された伸縮自在なベロー
ズ４０が設けられ、貫通孔２２ａを外気と遮断し、真空
が保持されるように構成されている。
形成された貫通孔２２ａを貫通していると共に、このチ
ャンバ底板２２の下面２２ｂと前記昇降体２７の上面２
７ａちの間にはアルミ等で形成された伸縮自在なベロー
ズ４０が設けられ、貫通孔２２ａを外気と遮断し、真空
が保持されるように構成されている。
【００１４】従って、図４の状態で、実線で示す位置
は、位置決め体１７の位置決めピン１８が位置決め穴２
１ｂ内に係合して、位置決め体１７が位置決め状態Ｃと
なり、ステージ１３は何れかの回転状態で位置決め状態
となる。次に、図４で示す点線状態は、位置決め状態Ｃ
からステージ１３が回転可能な状態となるように変化し
た状態を示している。すなわち、前述の位置決め状態Ｃ
において、昇降シリンダ２６を作動させて昇降体２７を
上昇させると、係合ピン３２が係合穴３３内に係合する
と同時に、突出部１９が突起３１によってばね２１に抗
して押し上げられ、位置決め体１７が回転可能状態Ｄと
なる。この状態で、回転駆動用モータ２８を駆動するこ
とにより、ステージ１３が例えば９０゜回転し、その後
は、前述と逆の動作によって回転可能状態Ｄから位置決
め状態Ｃへと変更され、ステージ１３がその位置で係止
される。
は、位置決め体１７の位置決めピン１８が位置決め穴２
１ｂ内に係合して、位置決め体１７が位置決め状態Ｃと
なり、ステージ１３は何れかの回転状態で位置決め状態
となる。次に、図４で示す点線状態は、位置決め状態Ｃ
からステージ１３が回転可能な状態となるように変化し
た状態を示している。すなわち、前述の位置決め状態Ｃ
において、昇降シリンダ２６を作動させて昇降体２７を
上昇させると、係合ピン３２が係合穴３３内に係合する
と同時に、突出部１９が突起３１によってばね２１に抗
して押し上げられ、位置決め体１７が回転可能状態Ｄと
なる。この状態で、回転駆動用モータ２８を駆動するこ
とにより、ステージ１３が例えば９０゜回転し、その後
は、前述と逆の動作によって回転可能状態Ｄから位置決
め状態Ｃへと変更され、ステージ１３がその位置で係止
される。
【００１５】
【発明の効果】本発明によるレーザアニール方法及び装
置は、以上のように構成されているため、次のような効
果を得ることができる。すなわち、基板を有するステー
ジを９０゜回転させる機構が設けられているため、レー
ザ光を照射する走査方向は同一でも、基板上の各パネル
に対するレーザ照射方向は９０゜変えることができ、そ
れによって、サイズの異なる二種のパネルを自由度を伴
って基板上に設けることができ、基板上におけるパネル
が占める割合いを従来よりも高めることができ、製品の
歩留まり及び生産性の向上を達成することができる。ま
た、ステージの回転機構がチャンバ外に設けられている
ため、チャンバ内容量を小さくでき、真空到達度が早
く、駆動部からのパーティクルのチャンバ内への侵入を
防止でき、真空仕様の部品を少なくできる。また、ステ
ージの位置決めが、位置決めピンと位置決め穴のテーパ
形状により確実に行われ、高精度の位置決めができる。
置は、以上のように構成されているため、次のような効
果を得ることができる。すなわち、基板を有するステー
ジを９０゜回転させる機構が設けられているため、レー
ザ光を照射する走査方向は同一でも、基板上の各パネル
に対するレーザ照射方向は９０゜変えることができ、そ
れによって、サイズの異なる二種のパネルを自由度を伴
って基板上に設けることができ、基板上におけるパネル
が占める割合いを従来よりも高めることができ、製品の
歩留まり及び生産性の向上を達成することができる。ま
た、ステージの回転機構がチャンバ外に設けられている
ため、チャンバ内容量を小さくでき、真空到達度が早
く、駆動部からのパーティクルのチャンバ内への侵入を
防止でき、真空仕様の部品を少なくできる。また、ステ
ージの位置決めが、位置決めピンと位置決め穴のテーパ
形状により確実に行われ、高精度の位置決めができる。
【図１】本発明によるレーザアニール方法及び装置を示
す構成図である。
す構成図である。
【図２】図１の他の形態を示す構成図である。
【図３】従来のレーザアニール方法及び装置を示す構成
図である。
図である。
【図４】図１の基板を回転及び昇降させる機構の断面構
成図である。
成図である。
【図５】図４の要部の平面図である。
１ 基板 ２，２ａ 第１、第２パネル Ａ 第１レーザ照射方向 Ｂ 第２レーザ照射方向 １１，１２ 第１、第２ステージ板 １３ ステージ １３ａ 柱 １７ 位置決め体 １８ 位置決めピン １９ 突出部 ２１ 直動体 ２１ａ 軸受 ２１ｂ 位置決め穴 ２２ チャンバ底板 ２５ シリンダ支持部材 ２６ 昇降シリンダ ２７ 昇降体 ２９ 回転軸 ３１ 突起 ３２ 係合ピン ３３ 係合穴 ３４ 貫通孔 ４０ ベローズ ４１ レール ４２ ばね
Claims (4)
- 【請求項１】 基板(1)上に設けられた複数のパネル(2)
にレーザ光を照射し、前記パネル(2)に対してアニール
処理を行うようにしたレーザアニール方法において、前
記パネルとして異なるサイズの第１、第２パネル(2,2a)
を用い、前記各パネル(2,2a)の中の一部の第１パネル
(2)に対して第１レーザ照射方向(A)のレーザ照射を行
い、次に、前記基板(1)を回転させ前記一部とはサイズ
が異なる残りの前記第２パネル(2a)上に前記第１レーザ
照射方向(A)とは異なる方向の第２レーザ照射方向(B)の
レーザ照射を行うことを特徴とするレーザアニール方
法。 - 【請求項２】 基板(1)上に設けられた複数のパネル(2)
にレーザ光を照射し、前記パネル(2)に対してアニール
処理を行うようにしたレーザアニール装置において、前
記基板(1)を支持するステージ(13)と、前記ステージ(1
3)に設けらればね(42)により常時下方へ付勢された位置
決め体(17)と、前記ステージ(13)の下方に設けられ軸受
(21a)を介して前記ステージ(13)を回転自在に有すると
共に、レール(24)を介して一方向に直動可能な直動体(2
1)と、前記位置決め体(17)に設けられ前記直動体(21)の
位置決め穴(21b)と係合可能な位置決めピン(18)と、前
記直動体(21)及びレール(24)を支持するチャンバ底板(2
2)と、前記チャンバ底板(22)の下部に設けられ昇降シリ
ンダ(26)を有するシリンダ支持部材(25)と、前記シリン
ダ支持部材(25)に昇降自在に設けられ前記昇降シリンダ
(26)によって昇降する昇降体(27)と、前記昇降体(27)に
設けられ回転駆動用モータ(28)により回転自在でかつ上
端に係合ピン(32)を有すると共に前記チャンバ底板(22)
を貫通して突出する回転軸(29)と、前記チャンバ底板(2
2)と前記昇降体(27)とを接続し前記回転軸(29)の外周に
位置するベローズ(40)と、前記ステージ(13)の下部(14)
に設けられ前記係合ピン(32)と係合する係合穴(33)と、
前記回転軸(29)の上端に形成され前記ステージ(13)の下
部(14)に形成された貫通孔(34)を貫通すると共に前記位
置決め体(17)の突出部(19)の下面(19a)に当接する突起
(31)と、を備え、前記昇降体(27)の上昇により前記突起
(31)が前記突出部(19)を押し上げて位置決め体(17)が上
昇し、前記位置決めピン(18)と位置決め穴(21b)との係
合が解除されると共に前記係合ピン(32)と係合穴(33)と
が係合し、前記回転軸(29)を回転させることにより前記
ステージ(13)を前記直動体(21)に対して回転させる構成
としたことを特徴とするレーザアニール装置。 - 【請求項３】 前記ステージ(13)は、柱(13a)を介して
互いに離間して形成された第１、第２ステージ板(11,1
2)よりなり、前記位置決め体(17)は、前記各ステージ板
(11,12)間に位置していることを特徴とする請求項３記
載のレーザアニール装置。 - 【請求項４】 前記位置決めピン(18)と位置決め穴(21
b)とは、テーパ形状よりなることを特徴とする請求項２
又は３記載のレーザアニール装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP37380299A JP4531898B2 (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | レーザアニール方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37380299A JP4531898B2 (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | レーザアニール方法及び装置 |
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|---|---|
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| JP4531898B2 JP4531898B2 (ja) | 2010-08-25 |
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ID=18502787
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|---|---|---|---|
| JP37380299A Expired - Lifetime JP4531898B2 (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | レーザアニール方法及び装置 |
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