JP2001187440A - グラビア製版方法 - Google Patents
グラビア製版方法Info
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- JP2001187440A JP2001187440A JP2000000326A JP2000000326A JP2001187440A JP 2001187440 A JP2001187440 A JP 2001187440A JP 2000000326 A JP2000000326 A JP 2000000326A JP 2000000326 A JP2000000326 A JP 2000000326A JP 2001187440 A JP2001187440 A JP 2001187440A
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Abstract
必要な再使用するロールのいずれにも適用できるグラビ
ア製版方法。 【解決手段】 電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成
−洗浄−レーザアブレーション膜塗布−レーザアブレー
ション・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−ク
ロムメッキを行う。リサイクルロールのときは、落版研
磨から鏡面研磨まで全自動で精密な研磨を行う。文字及
びグラデーションを含んでいないベタ印刷部分を除外し
た残りの画像部分には、彫刻によりセルの形成を行う。
文字及びグラデーションを含んでいないベタ印刷部分
は、食刻によりセルの形成を行って、文字輪郭部が連続
状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット
状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応す
る最シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー
形のセルを得る。
Description
抽出と不適正ロールの除外が行えて、落版研磨から鏡面
研磨まで全自動で精密な研磨が行えるとともに、食刻法
によりセルを形成するときの優れた部分と彫刻法により
セルを形成するときの優れた部分をミックスした高精細
な版が得られ、又、ロール製作後初めて使用するロール
であって研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程から入
れる被製版ロールと、脱クロム処理し落版研磨して鏡面
研磨までの処理工程が必要であるリサイクルロールのい
ずれにも全自動製版が適用できる,グラビア製版方法に
関する。
を食刻により行う装置メーカー(本願出願人)と彫刻に
より行う装置メーカー(他企業)とで全く別々のコンセ
プトで開発を行ってきており、ディテクトスタンダード
が存在しない。このため、製版を行っている印刷会社及
び製版会社の殆どが、複数の企業の種々の装置をバラバ
ラに備えて、多くの工程がライン化されていない。理由
は、電子彫刻機のメーカーは、メッキ装置や研磨装置の
メーカーではないし、反対に、メッキ装置や研磨装置の
メーカーは電子彫刻機のメーカーでなかったからであ
る。製版工程には、脱クロム処理を行ってから研磨を行
い、次いでメッキを行ってから再び研磨を行い、次いで
クロムメッキを行うという複雑な工程が入る訳である
が、本願出願人のトータルライン装置を除くと、タルラ
イン装置を提供している他のメーカーが存在しなかっ
た。セルの形成を食刻により行う製版ラインについて
も、レーザー技術の進歩から、鏡面研磨−感光膜塗布−
レーザ露光・潜像形成−腐食と進む製版工程に替えて、
鏡面研磨−レーザアブレーション膜塗布−レーザアブレ
ーション・レジスト画像形成−腐食と進む製版工程とす
ることに注目が集まっている。そのメリットは、(1)
現像工程がなくなること、(2)明室での製版が可能に
なること、(3)感光膜の膜厚が1ミクロン変化すると
レーザ露光がオーバー露光になったり、少なかったりす
る微妙な相関関係を排除できること、(4)感光液と現
像液との化学的相関関係を排除できること、両液の相性
が悪いと現像残滓が残ったり、露光部分の輪郭部が現像
で大幅に後退する(溶解する)ことが挙げられる。しか
しながら、レーザアブレーション・レジスト画像形成−
腐食と進む製版工程については、レーザアブレーション
・レジスト画像形成装置が単独機として数台市販される
ようになったが、いずれも実用されておらず、膜塗布装
置と腐食装置とのライン化は全く行われていないのが現
状である。
会社及び製版会社の多くは、夕方に20本ないし40本
の被製版ロールを次々に計測して製版の方法とコンテン
ツをコントローラにデータ入力し製版室内にストックし
ておいて、夜間に無人で全自動製版を行うことができる
トータルライン装置の提供を望んでいる。ここでの問題
点は以下の通りである。 (1)感光膜コートしレーザ露光し現像してレジスト画
像を形成し食刻してセルを形成する製版方法に替えて、
ブラックコートしレーザアブレーションしてレジスト画
像を形成し食刻してセルを形成する製版方法の提供を望
んでいる企業もある。そして、ブラックコートしレーザ
アブレーションしてレジスト画像を形成し食刻してセル
を形成する製版方法と、セルの形成を彫刻により行う製
版方法は一長一短があるので、いずれでも自由に選択で
きるトータルライン装置の提供を望んでいる。特に、既
に設備してある電子彫刻機やメッキ装置を加えたトータ
ルライン装置の提供を望んでいる。ブラックコートしレ
ーザアブレーションしてレジスト画像を形成し食刻して
セルを形成する製版方法は、感光膜コートしレーザ露光
し現像してレジスト画像を形成し食刻してセルを形成す
る製版方法と全く同じ特長があり、スクリン線の交点を
切ることができるフリーフローセルが実現できること、
及び文字輪郭部をインキが流れない連続する溝に形成で
きることから、ベタ画像と文字だけの版については、セ
ルの形成を彫刻により行う製版方法よりもセルの形成を
食刻により行う製版方法の方が優れている。又、ハイラ
イト部分のグラデージョンの表現は、セルの形成を食刻
により行う場合にはセルの面積でグラデージョンを表現
し、又、セルの形成を彫刻により行う場合には菱形錐の
セルでグラデージョンを表現する相違があり、ハイライ
ト部分のグラデージョンの表現の精密度は、油性インキ
を使用する場合にはセルの形成を彫刻により行う方が優
れている。上記のようなトータルライン装置が提供され
ると、版のコンテンツによって、セルの形成を食刻によ
り行う場合と、セルの形成を彫刻により行う場合とに分
けて対応することができる。 (2)ロール製作後初めて使用するロールであって鏡面
研磨が完了していて研磨が全く必要でなく直ぐにセルの
形成工程から入れる被製版ロールと、リサイクルロール
であり脱クロム処理から処理工程を開始し落版研磨して
鏡面研磨までの処理工程が必要である被製版ロールのい
ずれにも全自動製版が適用できるようにして欲しいとの
要望がある。そして、その場合にも、セルの形成を食刻
と彫刻のいずれにも適用できるようにして欲しいとの要
望がある。 (3)研磨工程が大幅に短縮できてしかも今までよりも
円筒精度が高く、バフ研磨に依らない鏡面研磨を実現し
て欲しいとの要望がある。従来の脱クロム処理の後の研
磨は、例えば、#320の研磨砥石による補正研磨−#320の
研磨砥石による落版−#500の研磨砥石による円筒研磨−
#800の研磨砥石による円筒研磨が行われていた。又は、
従来の銅メッキの後の研磨は、例えば、#800,#1000,#12
00,#1500,#1800,#2000,#2500,#3000 の各研磨砥石によ
る円筒研磨が行われ、最後にバフによる鏡面研磨が行わ
れていた。 (4)近年の銅メッキ処理においては、光沢剤や硬質化
剤に含まれる硫黄系化合物がニッケルメッキと銅メッキ
の境界膜を形成して銅メッキの付着強度が弱小化してい
るので、ニッケルメッキの上に付ける銅メッキの付着強
度を強力に確保しなければならない問題点がある。従来
の被製版ロールの製作は、鉄製のロール母材に例えば、
#320の研磨砥石で円筒研磨しさらに脱脂処理を行なって
から厚さ2〜3μmとなるようにニッケルメッキを付け
るか、又は、アルミニウム製のロール母材に例えば、#3
20の研磨砥石で円筒研磨してから厚さ2〜3μmとなる
ようにニッケルメッキを付けていた。続いて、例えば厚
さ100μmとなるように銅メッキを付けていた。従来
の銅メッキ方法は、ニッケルメッキを付けた被製版ロー
ルを回転可能に両端チャックしてメッキ浴槽に位置させ
た後、銅メッキ液をメッキ浴槽に入れて約1分かかって
被製版ロールを浸漬し、そして回転を与えてから約15
Vの電圧がかかるようにメッキ電流を流して銅メッキし
ていた。本願発明者は、時間短縮のために、対向する二
つの#320の研磨砥石で被製版ロールを挟んで研磨圧力を
従来よりも大きく加えて研磨する方法で、落版研磨を開
始したところ、銅メッキがあたかもバラードメッキであ
るかのようにニッケルメッキ面より剥がれ落ちてしまっ
た。原因を究明したところ、ニッケルメッキと銅メッキ
との間に剥離性境界膜が形成していることが分かった。
詳述すると、近年、加工性を向上するために、銅メッキ
液の中に光沢剤や硬質化剤を入れてメッキするようにな
り、上記のように、被製版ロールを銅メッキ液を浸漬し
約1分が経過してから回転を与えてメッキ電流を流す
と、ニッケルメッキ面に対して銅メッキが行なわれる前
に、ニッケルメッキ面に対して光沢剤や硬質化剤に含ま
れる硫黄系化合物(例えば、ビス.エス.プロピル.サ
ルフォネイト.ナトリウム〔Bis.S.Propyl.Sulfonate.N
a 〕や二メルカプト.一メチル.イミダゾール〔2Merc
apto1Methyl Imidazole〕)が剥離性境界膜を形成する
ことになることが判明した。
ので、ロールデータの抽出と不適正ロールの除外が行え
て、落版研磨から鏡面研磨まで全自動で精密な研磨が行
えるとともに、食刻法によりセルを形成するときの優れ
た部分と彫刻法によりセルを形成するときの優れた部分
をミックスした高精細な版が得られ、又、ロール製作後
初めて使用するロールであって研磨が必要でなく直ぐに
セルの形成工程から入れる被製版ロールと、脱クロム処
理し落版研磨して鏡面研磨までの処理工程が必要である
リサイクルロールのいずれにも全自動製版が適用でき
る,グラビア製版方法を提供することを目的としてい
る。
−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正
研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表
面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−
銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精
密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画像彫
刻・セルの形成−洗浄−レーザアブレーション膜塗布−
レーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食による
セルの形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程であ
るグラビア製版方法であって、前記の電子彫刻機による
画像彫刻・セルの形成は、グラデーションの画像部分に
対するドット状のセルを形成するものであり、前記の腐
食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状のセルで構
成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状のセルで構
成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最シャドウ
部の交差部分が断続しているフリーフロー形のセルを形
成するものであることを特徴とするグラビア製版方法を
提供することにある。
クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研
磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上
げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石によ
る鏡面研磨−レーザアブレーション膜塗布−レーザアブ
レーション・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成
−電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロ
ムメッキ−搬出からなる製版工程であるグラビア製版方
法であって、前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成は、グラデーションの画像部分に対するドット状の
セルを形成するものであり、前記の腐食によるセルの形
成は、文字輪郭部が連続状のセルで構成され文字輪郭部
で囲まれる部分がドット状のセルで構成される文字、及
びベタ印刷部分に対応する最シャドウ部の交差部分が断
続しているフリーフロー形のセルを形成するものである
ことを特徴とするグラビア製版方法を提供することにあ
る。
子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−レーザア
ブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レジスト
画像形成−腐食によるセルの形成−クロムメッキ−搬出
からなる製版工程であるグラビア製版方法であって、前
記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラデ
ーションの画像部分に対するドット状のセルを形成する
ものであり、前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭
部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分
がドット状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部分
に対応する最シャドウ部の交差部分が断続しているフリ
ーフロー形のセルを形成するものであることを特徴とす
るグラビア製版方法を提供することにある。
ーザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レ
ジスト画像形成−腐食によるセルの形成−電子彫刻機に
よる画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬出
からなる製版工程であるグラビア製版方法であって、前
記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラデ
ーションの画像部分に対するドット状のセルを形成する
ものであり、前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭
部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分
がドット状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部分
に対応する最シャドウ部の交差部分が断続しているフリ
ーフロー形のセルを形成するものであることを特徴とす
るグラビア製版方法を提供することにある。
るコントローラに、搬入−ロール計測−脱クロム処理−
粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版
−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化
処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による
表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−
レーザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・
レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−クロムメッ
キ−搬出からなる製版工程(A)と、搬入−ロール計測
−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上
げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化
研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中
仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石
による鏡面研磨−電子彫刻機による画像彫刻・セルの形
成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(B)と、搬
入−ロール計測−レーザアブレーション膜塗布−レーザ
アブレーション・レジスト画像形成−腐食によるセルの
形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(C)と、
搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(D)、搬
入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による補
正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石による
表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッキ
−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−
精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画像
彫刻・セルの形成−洗浄−レーザアブレーション膜塗布
−レーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食によ
るセルの形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
(E)、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥
石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ
砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッ
ケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微
少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レーザアブ
レーション膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画
像形成−腐食によるセルの形成−電子彫刻機による画像
彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬出からなる
製版工程(F)、搬入−ロール計測−電子彫刻機による
画像彫刻・セルの形成−洗浄−レーザアブレーション膜
塗布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食
によるセルの形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工
程(G)、搬入−ロール計測−レーザアブレーション膜
塗布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食
によるセルの形成−電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成−洗浄−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
(H)、の八種類の製版工程のプログラムを格納してお
き、最初に、製版室へ搬入する被製版ロールをロール計
測器に取り付けてロール計測を行なうように構成され、
コントローラへ製版工程(A)、(B)、(C)、
(D)、(E)、(F)、(G)、又は(H)の種類別
を入力し、製版工程(A)、(B)、(E)、(F)の
ときは、被製版ロールの全長、外径、孔径、ロール端か
ら一定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータを抽出し
てコントローラにデータ入力するとともに、不適正デー
タのロールを除外し、製版工程(C)、(D)、
(G)、(H)のときは、被製版ロールの全長、外径、
孔径のロールデータを抽出してコントローラにデータ入
力し、製版工程(E)、(F)、(G)、(H)のとき
は、前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、
グラデーションの画像部分に対するドット状のセルを形
成するものであり、前記の腐食によるセルの形成は、文
字輪郭部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれ
る部分がドット状のセルで構成される文字、及びベタ印
刷部分に対応する最シャドウ部の交差部分が断続してい
るフリーフロー形のセルを形成するものであることを特
徴とするグラビア製版方法を提供することにある。
製版方法を図面を参照して説明する。図1に示すよう
に、製版室をH1とH2の二つに分けて、製版室H1を
走行型の産業ロボット1のハンドリングエリアとし、製
版室をH2をスタッカクレーン2の搬送エリアとする。
し360度の範囲で往復旋回可能かつ上下方向に揺動か
つアーム軸の周りにひねり回転可能なロボットアーム1
aを有し、該ロボットアーム1aに備えたロボットハンド
1b(例えば特許第2136697号のロボットハン
ド)が被製版ロールRの両端面を挟持するか又は両端の
軸部を支持して他の装置との間で被製版ロールRの受渡
しを行なうハンドリング機能を有している。
置3(例えば特許第1278544号の装置)を吊り上
げて搬送し得るように構成されている。ロール脱着回転
装置3は、スリーブ形の被製版ロールRの両端面の軸孔
を対向一対の円錐チャックコーンにより嵌合挟持しかつ
円錐チャックコーンの外側を防水キャップで密封する
か、又は軸付きの被製版ロールRの両端の軸部を対向一
対のスリーブチャックに受け入れて端面を挟持しかつス
リーブチャックの外側を防水キャップで密封することが
できて、メッキ装置本体等への装着時に被製版ロールR
を回転し得えかつ必要に応じてメッキ電流を流せるよう
に構成されている。
2のスタッカクレーン2(例えば特許第2539310
号のスタッカクレーン)に吊り上げられて搬送されるロ
ール脱着回転装置3とは、隔壁に設けた開口を通して被
製版ロールRを直接授受できるように構成されている。
グエリアに、ロール搬入口に位置するロール計測装置4
と、ロール搬出口に位置するロール搬出装置5と、レー
ザアブレーション膜塗布装置6と、アブレーション用レ
ーザ装置7と、ダイヤモンドの針で画像データに応じて
深浅を付けて彫り込む電子彫刻機8(ヘリオクリッショ
グラフ、又はバルカス)、#320の粗仕上げ研磨砥石9
a、9bを対向一対に備えるとともに、#1000の中仕上げ
研磨砥石9cと#6000の精密研磨砥石9dを対向一対に備
え、粗仕上げ研磨9a、9bによる落版研磨と補正研磨と
表面粗さ微小化研磨を行うことができ、又、中仕上げ研
磨9cによる表面粗さ微小化研磨を行うことができ、さ
らに鏡面研磨9dによる表面粗さ微小化研磨と鏡面研磨
を行うことができる四ヘッド型の研磨機9と、ロールス
トック装置10を備えている。ロールストック装置10
は、レーザアブレーション膜塗布装置6とアブレーショ
ン用レーザ装置7の上に設けられる。なお、#320の粗仕
上げ研磨砥石9a、9bを対向一対に備える二ヘッド型の
研磨機と、#1000の中仕上げ研磨砥石9cと#6000の精密
研磨砥石9dを対向一対に備える二ヘッド型の研磨機の
二台を備えても良い。産業ロボット1は、被製版ロール
Rの端面を挟持でき、又、これらの装置5〜9は、スリ
ーブ形の被製版ロールRの両端面の軸孔を対向一対の円
錐チャックコーンにより嵌合挟持できるか、又は、軸付
きの被製版ロールRの両端の軸部を対向一対のスリーブ
チャックに受け入れて端面を挟持できて、産業ロボット
1は、これらの装置5〜9との間で被製版ロールRを授
受するように構成されている。ロール計測装置4は、被
製版ロールの全長、外径、孔径、ロールの一端から他端
まで一定ピッチ毎に直径を計測する直径計測を行なう。
ロール搬出装置5は、例えば特開平10−291289
号の装置であり、製版を完了した被製版ロールRの取り
出し時に産業ロボット1が数個ないし十数個備えたパレ
ットに被製版ロールRを載置と、これらパレットを70
〜80度位に傾斜させて、人手により被製版ロールRを
斜めに立てて転がして移動できるように構成されてい
る。レーザアブレーション膜塗布装置6は、レーザアブ
レーションが可能な耐エッチング性被膜を塗布形成する
装置であり、スキャンコート方式の装置とディッピング
方式の装置のいずれでも良い。例えば、可燃性物質(ニ
トロセルロース、やエチレン酢酸ビニル強重合体、不飽
和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アリル樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアセタール、天然ゴム等の何れか一種又は
複数種:75重量%)と酸化剤(硝酸アンモニウムや塩素
酸化合物:10重量%)と光吸収体(カーボンブラック:
15重量%)からなるレーザアブレーションが可能な耐エ
ッチング性を有する材料を数μmの膜厚となるようにロ
ール面に塗布する。アブレーション用レーザ装置7は、
ヤグレーザ又は波長が800nm 前後のレーザ光を放射する
半導体レーザのレーザ光をレーザアブレーション膜=耐
エッチング性の黒色の被膜へ照射して画線部に対応する
部分に照射してそこの被膜をレーザアブレイションす
る。すなわち、レーザ光を光吸収体で吸収して熱に変換
し可燃物質を酸化剤の下で瞬間に加熱蒸発させ、もっ
て、エッチングを行なうための銅メッキ面を画線部に対
応するように露出する。研磨機9は、以下の研磨作業を
行う。脱クロム処理の後に粗仕上げ研磨砥石9a、9bに
より落版研磨−補正研磨−表面粗さ微小化研磨を行う。
粗仕上げ研磨砥石9a、9bは、砥石の回転軸の延長線と
被製版ロールの回転軸線の両方を平面方向より見たとき
の交差角が90度であって、砥石の端面の研磨時接触線
が、砥石の端面の中心孔の中心を通る直径線乃至中心孔
を外れない限度の直径線に平行する弦線の範囲内にあっ
て研磨圧力を一定に保ち研磨を行う得るように構成され
ている。そして、直径計測値に基づいて直径の偏差を小
さくする補正研磨を行い、次いで被製版ロールの一端か
ら他端までの移動を繰り返して被製版ロールの刻設され
ているセルを無くす落版研磨を行い、次いで砥石と被製
版ロールの回転方向が一致する側を、砥石の被製版ロー
ルの面長方向に対する移動方向後方側にして研磨する表
面粗さ微少化研磨を行う。又、銅メッキの後に#1000の
中仕上げ研磨砥石9cにより表面粗さ微小化研磨を行
う。中仕上げ研磨砥石9cも、砥石の回転軸の延長線と
被製版ロールの回転軸線の両方を平面方向より見たとき
の交差角が90度であって、砥石の端面の研磨時接触線
が、砥石の端面の中心孔の中心を通る直径線乃至中心孔
を外れない限度の直径線に平行する弦線の範囲内にあっ
て研磨圧力を一定に保ち研磨を行う得るように構成され
ている。そして、砥石と被製版ロールの回転方向が一致
する側を、砥石の被製版ロールの面長方向に対する移動
方向後方側にして研磨する表面粗さ微少化研磨を行う。
続いて、#6000の精密研磨砥石9dにより表面粗さ微小化
研磨と鏡面研磨を行う。精密研磨砥石9dは、砥石の回
転軸の延長線と被製版ロールの回転軸線の両方を平面方
向より見たときの交差角が90度でなく微小角度傾いて
いて、砥石の端面の研磨時接触線が、砥石の端面の中心
孔の中心を通る直径線乃至中心孔を外れない限度の直径
線に平行する弦線の範囲内にあって研磨圧力を一定に保
って被製版ロールの周速と砥石の接触線上の一点におけ
る回転速度とを略一致させて該砥石を被製版ロールの面
長方向に移動しつつ研磨する。製版室H1の産業ロボッ
ト1のハンドリングエリアでは、一の装置が稼働中の時
は、その一の装置に処理される工程まで進んだ被製版ロ
ールRは、ロールストック装置10にストックされる。
搬送エリアに、脱クロム装置11と、表面活性化装置1
2と、ニッケルメッキ装置13と、銅メッキ装置14
と、クロムメッキ装置15と、腐食装置16と、ロール
脱着回転装置3をストックするストック装置17を一列
に備えている。表面活性化装置12は、アルカリ液に浸
漬して脱脂し次いで酸性液のシャワーにより酸洗いし次
いで水シャワーにより水洗する。脱クロム装置11は、
図示しない対向一対のチャック装置を備えていて、産業
ロボット1のロボットハンド1bとの間で被製版ロール
Rを授受できる。脱クロム装置11は、被製版ロールR
を塩酸に浸漬してクロムを溶解する。脱クロム装置11
はロール脱着回転装置3を載置することができて、脱ク
ロム装置11に載置されるロール脱着回転装置3は、産
業ロボット1のロボットハンド1bとの間で被製版ロー
ルRの授受できる。このとき、脱クロム装置11に備え
る上記の図示しない対向一対のチャック装置は側方に揺
動して待機するように構成されている。被製版ロールR
をチャックしたロール脱着回転装置3は、スタッカクレ
ーン2により吊り上げられて搬送される。ニッケルメッ
キ装置13は、例えば、厚さ2〜3μmとなるようにニ
ッケルメッキを付ける。被製版ロールをメッキ浴槽に位
置させた後、ニッケルメッキ液をメッキ浴槽に入れて該
メッキ液で被製版ロールを浸漬してから回転を与え15
Vの電圧を加えてメッキする。なお、アルミニウム製の
ロール母材にニッケルメッキを付けるには、前処理とし
て例えば、ジンケート処理を行なって密着性を向上する
インターフェース薄膜を形成するが、リサイクルロール
の落版研磨においてニッケルメッキが露出しないように
研磨を行うものであり、インターフェース薄膜の形成工
程はオフラインとして設備する。銅メッキ装置14は、
例えば、厚さ100μmとなるようにニッケルメッキを
付ける。被製版ロールRを両端チャックしてメッキ浴槽
内に位置させた後、電気焼けが起こらない低電圧(例え
ば1V〜5V)をかけて回転する。そして、メッキ浴槽
の銅メッキ液の液面をゆっくり上げていき、被製版ロー
ルRに銅メッキ液の液面レベルを接触させて全周面に銅
メッキを付ける。被製版ロールRに銅メッキ液が接触す
る瞬間にメッキ電流が流れるので、銅メッキの付着が瞬
間に行なわれ、光沢剤や硬質化剤に含まれる硫黄系化合
物が付着する反応速度が遅いので該硫黄系化合物がニッ
ケルメッキと銅メッキの境界膜を形成することはない。
又、低電圧なので銅メッキが電気焼けしない。その後、
銅メッキ液の液面レベルを上昇していくとともに、電圧
を漸次に上げていき、ロールが完全に浸漬した状態にな
るときにメッキ電圧が15Vになるようにして、銅メッ
キを行なう。この場合、硫黄系化合物は、銅メッキの中
に組み込まれていくが、銅メッキに剥離性を与えること
はない。クロムメッキ装置15は、例えば、厚さ8μm
となるようにクロムメッキを付ける。被製 製版室H2
のスタッカクレーン2のロール搬送エリアでは、一の装
置が稼働中の時は、その一の装置に処理される工程まで
進んだ被製版ロールRは、ロール脱着回転装置3にチャ
ックされたままでストック装置17にストックされる。
に、八種類の製版工程(A)、(B)、(C)、
(D)、(E)、(F)、(G)、及び(H)のプログ
ラムが格納されている。
(C)、(D)について、図2を参照して説明する。製
版工程(A)は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗
仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−
粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処
理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表
面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レ
ーザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レ
ジスト画像形成−腐食−クロムメッキ−搬出となる製版
工程(B)は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕
上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗
仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理
−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面
粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子
彫刻機による画像彫刻・セルの形成−クロムメッキ−搬
出となる。製版工程(C)は、搬入−ロール計測−レー
ザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レジ
スト画像形成−腐食−クロムメッキ−搬出となる。製版
工程(D)は、搬入−ロール計測−電子彫刻機による画
像彫刻・セルの形成−クロムメッキ−搬出となる。
(G)、(H)について、図3を参照して説明する。製
版工程(E)は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗
仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−
粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処
理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表
面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電
子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−レーザア
ブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レジスト
画像形成−腐食によるセルの形成−クロムメッキ−搬出
となる。製版工程(F)は、搬入−ロール計測−脱クロ
ム処理−粗仕上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨に
よる落版−粗仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表
面活性化処理−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥
石による表面粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡
面研磨−レーザアブレーション膜塗布−レーザアブレー
ション・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−電
子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメ
ッキ−搬出となる。製版工程(G)は、搬入−ロール計
測−電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−レ
ーザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レ
ジスト画像形成−腐食によるセルの形成−クロムメッキ
−搬出となる。製版工程(H)は、搬入−ロール計測−
レーザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・
レジスト画像形成−腐食によるセルの形成−電子彫刻機
による画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬
出となる。
ロム処理し落版研磨して鏡面研磨までの処理工程が必要
であるリサイクルロールであって、セルの形成を食刻に
よる場合にコントローラ18へ入力指定する。製版工程
(B)は、被製版ロールRが脱クロム処理し落版研磨し
て鏡面研磨までの処理工程が必要であるリサイクルロー
ルであって、セルの形成を彫刻による場合にコントロー
ラ18へ入力指定する。製版工程(C)は、被製版ロー
ルRがリサイクルロールではなくロール製作後初めて使
用するロールであり研磨が必要でなく直ぐにセルの形成
工程から入れる被製版ロールであって、セルの形成を食
刻による場合にコントローラ18へ入力指定する。製版
工程(D)は、被製版ロールRがリサイクルロールでは
なくロール製作後初めて使用するロールであり研磨が必
要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製版ロール
であって、セルの形成を彫刻による場合にコントローラ
18へ入力指定する。製版工程(E)は、被製版ロール
Rが脱クロム処理し落版研磨して鏡面研磨までの処理工
程が必要であるリサイクルロールであって、セルの形成
を食刻による場合にコントローラ18へ入力指定する。
製版工程(F)は、被製版ロールRが脱クロム処理し落
版研磨して鏡面研磨までの処理工程が必要であるリサイ
クルロールであって、セルの形成を彫刻による場合にコ
ントローラ18へ入力指定する。製版工程(G)は、被
製版ロールRがリサイクルロールではなくロール製作後
初めて使用するロールであり研磨が必要でなく直ぐにセ
ルの形成工程から入れる被製版ロールであって、セルの
形成を食刻による場合にコントローラ18へ入力指定す
る。製版工程(H)は、被製版ロールRがリサイクルロ
ールではなくロール製作後初めて使用するロールであり
研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製
版ロールであって、セルの形成を彫刻による場合にコン
トローラ18へ入力指定する。
における電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グ
ラデーションの画像部分に対するドット状のセルを形成
するものであり、又、腐食によるセルの形成は、文字輪
郭部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部
分がドット状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部
分に対応する最シャドウ部の交差部分が断続しているフ
リーフロー形のセルを形成するものである。コントロー
ラ18へ入力する画像データには、電子彫刻機による画
像彫刻・セルを形成する部分と腐食によるセルを形成す
る部分が指定される。製版工程(B)、(D)における
電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、文字及び全
ての画像についてドット状のセルを形成するものであ
る。製版工程(A)、(C)における腐食によるセルの
形成は、文字及び全ての画像についてドット状のセルを
形成するもので良いが、好ましくは、文字及びグラデー
ションを含んでいないベタ印刷の画像部分については、
文字輪郭部が連続状のセルで構成され文字輪郭部で囲ま
れる部分がドット状のセルで構成される文字、及びベタ
印刷部分に対応する最シャドウ部の交差部分が断続して
いるフリーフロー形のセルで形成し、その他の部分をド
ット状のセルを形成するのが良い。
リング装置19の載置板に載せて引き戸を開けて送り込
みロール計測器4に人為的に取り付けてロール計測を行
なう。上記のように、コントローラ18へ製版工程
(A)、(B)、(E)、又は(F)の種類別を入力す
るときは、被製版ロールの全長、外径、孔径、及びロー
ル端から一定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータを
抽出し、該抽出ロールデータをコントローラに入力す
る。ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径等のロール
データを抽出した結果、不適正データのロールであると
きは、人為的に除外する。又、コントローラ18へ製版
工程(C)、(D)、(G)、又は(H)を入力すると
きは、被製版ロールの全長、外径、孔径のロールデータ
を抽出し、該抽出ロールデータをコントローラに入力す
る。製版工程(C)、(D)、(G)、又は(H)を入
力するときは、被製版ロールRがリサイクルロールでは
なくロール製作後初めて使用するロールであり研磨が必
要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる被製版ロール
であるので、不適正データのロールがないという前提に
なっている。
計測器4に人為的に取り付ける場合、コントローラ18
に製版工程の種別を入力する場合、不適正データの被製
版ロールRをロール計測器4から取り除く場合、及び製
版工程を全て完了して被製版ロールRをロール搬出装置
5から取り除く場合以外は人為的な作業はない。
法は、食刻法によりセルを形成するときの優れた部分と
彫刻法によりセルを形成するときの優れた部分をミック
スした高精細な版が得られる。リサイクルロールのとき
は、被製版ロールのロールデータを抽出してコントロー
ラにデータ入力できて、ロール端から一定ピッチ離れる
毎の外径についてロールデータを抽出した結果、不適正
データのロールであれば人為的に除外でき、落版研磨か
ら鏡面研磨まで全自動で精密な研磨を行うことができ
る。又、リサイクルロールではなくて、ロール製作後初
めて使用するロールであり研磨が必要でなく直ぐにセル
の形成工程から入れる被製版ロールのときは、被製版ロ
ールのロールデータを抽出してコントローラにデータ入
力できる。そして、文字及びグラデーションを含んでい
ないベタ印刷部分を除外した残りの画像部分について彫
刻によりセルの形成を行って精巧な濃淡階調度のドット
状のセルが得られ、次いで文字及びグラデーションを含
んでいないベタ印刷部分について食刻によりセルの形成
を行って、文字輪郭部が連続状のセルで構成され文字輪
郭部で囲まれる部分がドット状のセルで構成される文
字、及びベタ印刷部分に対応する最シャドウ部の交差部
分が断続しているフリーフロー形のセルが得られる。
又、前記とは逆に、食刻によるセルの形成を彫刻による
セルの形成よりも先に行っても良い。もって、食刻法に
よりセルを形成するときの優れた部分と彫刻法によりセ
ルを形成するときの優れた部分をミックスした高精細な
版が得られる。
の効果を有する。 (1)リサイクルロールであって、セルの形成を食刻に
よる場合は製版工程(A)を、又は彫刻による場合は製
版工程(B)をそれぞれコントローラ18へ入力する
と、ロール計測の工程において被製版ロールの全長、外
径、孔径、ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径等の
ロールデータを抽出してコントローラにデータ入力でき
て、ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径についてロ
ールデータを抽出した結果、不適正データのロールであ
れば人為的に除外でき、落版研磨から鏡面研磨まで全自
動で精密な研磨を行った後に、食刻又は彫刻によりセル
の形成を行ってクロムメッキできる。又、リサイクルロ
ールではなくて、ロール製作後初めて使用するロールで
あり研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程から入れる
被製版ロールであって、セルの形成を食刻による場合は
製版工程(C)を、又は彫刻による場合は製版工程
(D)をそれぞれコントローラ18へ入力すると、ロー
ル計測の工程において被製版ロールの全長、外径、孔径
をコントローラ18にデータ入力できて、研磨を行なわ
ないで食刻又は彫刻によりセルの形成を行ってクロムメ
ッキできる。リサイクルロールについて、製版工程
(E)又は(F)をコントローラ18へ入力すると、ロ
ール計測の工程において被製版ロールの全長、外径、孔
径、ロール端から一定ピッチ離れる毎の外径を抽出して
コントローラにデータ入力できて、ロール端から一定ピ
ッチ離れる毎の外径について不適正データであればその
被製版ロールを人為的に除外でき、落版研磨から鏡面研
磨まで全自動で精密な研磨を行うことができる。又、リ
サイクルロールではなくて、ロール製作後初めて使用す
るロールであり研磨が必要でなく直ぐにセルの形成工程
から入れる被製版ロールについて、製版工程(G)又は
(H)をコントローラ18へ入力すると、ロール計測の
工程において被製版ロールの全長、外径、孔径を抽出し
てコントローラにデータ入力できて、ロール端から一定
ピッチ離れる毎の外径について不適正データであればそ
の被製版ロールを人為的に除外でき、落版研磨から鏡面
研磨まで全自動で精密な研磨を行うことができる。そし
て、製版工程(E)、(G)の場合は、文字及びグラデ
ーションを含んでいないベタ印刷部分を除外した残りの
画像部分について、彫刻によりセルの形成を行って精巧
な濃淡階調度のドット状のセルが得られ、次いで文字及
びグラデーションを含んでいないベタ印刷部分につい
て、食刻によりセルの形成を行って、文字輪郭部が連続
状のセルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット
状のセルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応す
る最シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー
形のセルが得られる。又、製版工程(F)、(H)の場
合は前記とは逆に、食刻によるセルの形成が彫刻による
セルの形成より先になる。もって、食刻法によりセルを
形成するときの優れた部分と彫刻法によりセルを形成す
るときの優れた部分をミックスした高精細な版が得られ
る。 (2)夕方に20本ないし40本の被製版ロールを次々
に計測して製版の方法とコンテンツをコントローラにデ
ータ入力して製版室内にストックしておいて、夜間に無
人で全自動製版を行うことができる。セルの形成を食刻
により行う製版方法と、セルの形成を彫刻により行う製
版方法のいずれでも自由に選択できるトータルライン装
置を提供できる。 (3)研磨工程が大幅に短縮できてしかも今までよりも
円筒精度が高く、バフ研磨に依らない鏡面研磨を実現で
きる。例えば、#320と#1000と#6000の三種類の研磨砥石
により、補正研磨−落版−表面粗さ微小化研磨―表面粗
さ微小化中仕上げ研磨−鏡面研磨ができる。 (4)なお、実施の形態は、ニッケルメッキの上に付け
る銅メッキの付着強度を強力に確保できる。
版装置の概略平面図
(D)の製版工程図
(H)の製版工程図
ボット、1a・・・ロボットアーム、1b・・・ロボット
ハンド、2・・・スタッカクレーン、R・・・被製版ロ
ール、3・・・ロール脱着回転装置、4・・・ロール計
測装置、5・・・ロール搬出装置、6・・・レーザアブ
レーション膜塗布装置、7・・・アブレーション用レー
ザ装置、8・・・彫刻機、9・・・研磨機、9a、9b・
・・粗仕上げ研磨砥石、9c・・・中仕上げ研磨砥石、
9d・・・精密研磨砥石、10・・・ロールストック装
置、11・・・脱クロム装置、12・・・表面活性化装
置、13・・・ニッケルメッキ装置、14・・・銅メッ
キ装置、15・・・クロムメッキ装置、16・・・腐食
装置、17・・・ストック装置、18・・・システム全
体を制御するコントローラ、19・・・ハンドリング装
置、
Claims (5)
- 【請求項1】 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕
上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗
仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理
−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面
粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子
彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄−レーザアブ
レーション膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画
像形成−腐食によるセルの形成−クロムメッキ−搬出か
らなる製版工程であるグラビア製版方法であって、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。 - 【請求項2】 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕
上げ砥石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗
仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理
−ニッケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面
粗さ微少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レー
ザアブレーション膜塗布−レーザアブレーション・レジ
スト画像形成−腐食によるセルの形成−電子彫刻機によ
る画像彫刻・セルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬出か
らなる製版工程であるグラビア製版方法であって、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。 - 【請求項3】 搬入−ロール計測−電子彫刻機による画
像彫刻・セルの形成−洗浄−レーザアブレーション膜塗
布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食に
よるセルの形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
であるグラビア製版方法であって、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。 - 【請求項4】 搬入−ロール計測−レーザアブレーショ
ン膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−
腐食によるセルの形成−電子彫刻機による画像彫刻・セ
ルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
であるグラビア製版方法であって、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。 - 【請求項5】 システム全体を制御するコントローラ
に、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レーザアブレーショ
ン膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−
腐食によるセルの形成−クロムメッキ−搬出からなる製
版工程(A)と、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画
像彫刻・セルの形成−クロムメッキ−搬出からなる製版
工程(B)と、 搬入−ロール計測−レーザアブレーション膜塗布−レー
ザアブレーション・レジスト画像形成−腐食によるセル
の形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(C)
と、 搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(D)、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−電子彫刻機による画
像彫刻・セルの形成−洗浄−レーザアブレーション膜塗
布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−腐食に
よるセルの形成−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
(E)、 搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥石による
補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ砥石によ
る表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッケルメッ
キ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微少化研磨
−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レーザアブレーショ
ン膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画像形成−
腐食によるセルの形成−電子彫刻機による画像彫刻・セ
ルの形成−洗浄−クロムメッキ−搬出からなる製版工程
(F)、 搬入−ロール計測−電子彫刻機による画像彫刻・セルの
形成−洗浄−レーザアブレーション膜塗布−レーザアブ
レーション・レジスト画像形成−腐食によるセルの形成
−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(G)、 搬入−ロール計測−レーザアブレーション膜塗布−レー
ザアブレーション・レジスト画像形成−腐食によるセル
の形成−電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成−洗浄
−クロムメッキ−搬出からなる製版工程(H)、 の八種類の製版工程のプログラムを格納しておき、 最初に、製版室へ搬入する被製版ロールをロール計測器
に取り付けてロール計測を行なうように構成され、コン
トローラへ製版工程(A)、(B)、(C)、(D)、
(E)、(F)、(G)、又は(H)の種類別を入力
し、製版工程(A)、(B)、(E)、(F)のとき
は、被製版ロールの全長、外径、孔径、ロール端から一
定ピッチ離れる毎の外径等のロールデータを抽出してコ
ントローラにデータ入力するとともに、不適正データの
ロールを除外し、製版工程(C)、(D)、(G)、
(H)のときは、被製版ロールの全長、外径、孔径のロ
ールデータを抽出してコントローラにデータ入力し、 製版工程(E)、(F)、(G)、(H)のときは、 前記の電子彫刻機による画像彫刻・セルの形成は、グラ
デーションの画像部分に対するドット状のセルを形成す
るものであり、 前記の腐食によるセルの形成は、文字輪郭部が連続状の
セルで構成され文字輪郭部で囲まれる部分がドット状の
セルで構成される文字、及びベタ印刷部分に対応する最
シャドウ部の交差部分が断続しているフリーフロー形の
セルを形成するものであることを特徴とするグラビア製
版方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000000326A JP2001187440A (ja) | 2000-01-05 | 2000-01-05 | グラビア製版方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Related Child Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000078848A Division JP2001191475A (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | グラビア製版方法 |
JP2002369833A Division JP4530395B2 (ja) | 2002-12-20 | 2002-12-20 | グラビア製版工場 |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001187440A true JP2001187440A (ja) | 2001-07-10 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003260774A (ja) * | 2002-12-24 | 2003-09-16 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
JP2003260771A (ja) * | 2002-12-20 | 2003-09-16 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
EP1533115A1 (en) | 2003-11-10 | 2005-05-25 | Think Laboratory Co., Ltd. | Photogravure plate making method |
EP1642713A1 (en) | 2004-09-29 | 2006-04-05 | Think Laboratory Co., Ltd. | Method for plating and grinding a roll before forming printing cells |
CN115195270A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-10-18 | 上海紫江喷铝环保材料有限公司 | 一种版辊及其制备方法和使用方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02147284A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | グラビア印刷方法 |
JPH09277144A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-10-28 | Think Lab Kk | 印刷ロールの研磨方法 |
JPH10100371A (ja) * | 1996-09-26 | 1998-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 円筒状凹版及びその整備方法 |
JPH10307404A (ja) * | 1997-05-07 | 1998-11-17 | Think Lab Kk | 製版装置 |
JPH11114800A (ja) * | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Think Lab Kk | 円筒体の鏡面研磨方法 |
WO1999033660A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Engraving system and method comprising different engraving devices |
-
2000
- 2000-01-05 JP JP2000000326A patent/JP2001187440A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02147284A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-06 | Toppan Printing Co Ltd | グラビア印刷方法 |
JPH09277144A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-10-28 | Think Lab Kk | 印刷ロールの研磨方法 |
JPH10100371A (ja) * | 1996-09-26 | 1998-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 円筒状凹版及びその整備方法 |
JPH10307404A (ja) * | 1997-05-07 | 1998-11-17 | Think Lab Kk | 製版装置 |
JPH11114800A (ja) * | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Think Lab Kk | 円筒体の鏡面研磨方法 |
WO1999033660A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Ohio Electronic Engravers, Inc. | Engraving system and method comprising different engraving devices |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003260771A (ja) * | 2002-12-20 | 2003-09-16 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
JP4530395B2 (ja) * | 2002-12-20 | 2010-08-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア製版工場 |
JP2003260774A (ja) * | 2002-12-24 | 2003-09-16 | Think Laboratory Co Ltd | グラビア製版工場 |
JP4530396B2 (ja) * | 2002-12-24 | 2010-08-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | グラビア製版工場 |
EP1533115A1 (en) | 2003-11-10 | 2005-05-25 | Think Laboratory Co., Ltd. | Photogravure plate making method |
EP1642713A1 (en) | 2004-09-29 | 2006-04-05 | Think Laboratory Co., Ltd. | Method for plating and grinding a roll before forming printing cells |
CN115195270A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-10-18 | 上海紫江喷铝环保材料有限公司 | 一种版辊及其制备方法和使用方法 |
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