JP2001184731A - 情報記録媒体、その製造方法、浮上ヘッド及び情報記録再生方法 - Google Patents

情報記録媒体、その製造方法、浮上ヘッド及び情報記録再生方法

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JP2001184731A
JP2001184731A JP36282999A JP36282999A JP2001184731A JP 2001184731 A JP2001184731 A JP 2001184731A JP 36282999 A JP36282999 A JP 36282999A JP 36282999 A JP36282999 A JP 36282999A JP 2001184731 A JP2001184731 A JP 2001184731A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 情報をより高密度で記録することが可能な情
報記録媒体を提供することを課題とする。 【解決手段】 基板1上に記録膜4を有し、基板1表面
上に透明部(2、3)が存在する情報記録媒体におい
て、該情報記録媒体の表面がほぼ平坦であり、透明部
(2、3)がトラッキングサーボ情報用の部位及び/又
はアドレス情報を示す部位であることを特徴とする情報
記録媒体により上記の課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体、そ
の製造方法、浮上ヘッド及び情報記録再生方法に関す
る。更に詳しくは、本発明は、トラッキング性能が向上
した光ディスク、磁気ディスク等の情報記録媒体、その
製造方法、浮上ヘッド及び情報記録再生方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、情報記録媒体の一種である磁気デ
ィスクでは、サーボトラックライタ(STW)で、サー
ボライトする方式が主流であった。しかし、この方式で
は、磁気ディスクの記録容量が高くなるとサーボライト
に時間がかかるという問題があった。また、サーボライ
ト時間を短縮するために、STWを複数台設けることも
可能であるが、それにより製造コストが上昇するという
問題があった。そこで、光ディスクで行われているよう
に、予め基板に凹凸を形成し、その凹凸を利用してトラ
ッキングサーボ情報やアドレス情報を作りこむ方法が提
案されている(日経エレクトロニクス、第169〜18
1頁、No.586、1993年7月19日発行)。
【0003】一方、上記したように、光ディスクでは予
め基板に凹凸を形成し、その凹凸を利用してトラッキン
グサーボ情報やアドレス情報が作りこまれているが、更
に情報の高密度化のために、対物レンズのNAを上げた
り、浮上スライダにレンズを載せることによりソリッド
イマージョンレンズ(SIL)を用いる方法が提案され
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクでは、ト
ラッキングサーボ情報やアドレス情報を基板に凹凸を形
成することで作りこむ場合、これら情報は連続的な凹凸
になる。具体的には、磁気ディスクは通常円盤状である
ので、アドレス情報は半径方向に対して連続的に凹凸が
形成されることととなる。
【0005】磁気ディスクへ情報を高密度で記録する方
法として、記録ヘッドの浮上量を小さくする(即ち、デ
ィスクと記録ヘッドとの間隔をせまくする)方法があ
る。ところが、浮上量を小さくすると、基板上の前記凹
凸が無視できなくなり、浮上量を一定に保つことが困難
となる。そのため、トラッキングサーボ情報が正確に再
生できずトラッキングできなかったり、情報を正確に記
録再生することが困難となる問題が生じる。
【0006】一方、光ディスクでも、情報を高密度で記
録する方法として、対物レンズのNAを上げて浮上スラ
イダの浮上量を小さくする方法がある。しかしながら、
上記磁気ディスクと同じ問題が生じる。更に、凹凸を軽
減するために樹脂膜で表面を被覆することも考えられる
が、樹脂膜は厚さが数μmのオーダーとなるため、浮上
量を小さくすることによるメリットを生かすことができ
なかった。更に、樹脂膜は、一定の厚さに形成すること
が困難であるため、良好な集光特性を得ることが困難で
あるという問題もあった。
【0007】
【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、基板上に記録膜を有し、基板表面上に透明部が存在
する情報記録媒体において、該情報記録媒体の表面がほ
ぼ平坦であり、透明部がトラッキングサーボ情報用の部
位及び/又はアドレス情報を示す部位であることを特徴
とする情報記録媒体が提供される。更に、本発明によれ
ば、基板表面上に透明膜を成膜し、記録膜の形成予定領
域の透明膜を除去して透明部を形成した後、除去部に記
録膜を埋め込むことにより、該基板表面上に透明部が存
在し、かつ記録膜側の表面がほぼ平坦である情報記録媒
体を得ることを特徴とする情報記録媒体の製造方法が提
供される。
【0008】また、本発明によれば、基板表面の透明部
の形成予定領域をエッチングし、その領域に透明部を形
成した後、記録膜を透明部を含む基板上に成膜すること
により、該基板表面上に透明部が存在し、かつ記録膜側
の表面がほぼ平坦である情報記録媒体を得ることを特徴
とする情報記録媒体の製造方法が提供される。更に、本
発明によれば、記録ヘッド、再生ヘッド、光源、フォト
ディテクタを少なくとも備えた浮上ヘッドであって、浮
上ヘッドが全体又は一部に透明部材を備え、透明部材内
に前記光源及びフォトディテクタが位置することを特徴
とする浮上ヘッドが提供される。
【0009】また、本発明によれば、上記情報記録媒体
への情報記録再生方法であって、基板の裏面から基板越
し又は基板の表面に光を照射することにより、情報記録
媒体のトラッキングサーボ情報及び/又はアドレス情報
を検出し、得られた検出結果を元に、情報記録再生のた
めの光ヘッドと磁気ヘッドの両方にトラッキングサーボ
をかけることを特徴とする情報記録再生方法が提供され
る。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の情報記録媒体は、例えば
図1に示すように、基板表面上に透明部が存在すること
を特徴の1つとしている。図1中、1は基板、2はトラ
ッキングサーボ情報用の透明部、3はアドレス情報用の
透明部、4は記録膜、5は複数のアドレス情報用の透明
部を備えたアドレス情報部、6は情報記録部(情報記録
トラック)を意味している。ここで、情報記録媒体が円
形の場合、トラッキングサーボ情報用の透明部2の長軸
方向が媒体の円周方向であり、短軸方向が媒体の半径方
向である。この構成により、後述するように、トラッキ
ングサーボ情報やアドレス情報を適切に得ることができ
る。
【0011】本発明の情報記録媒体には、情報が磁気的
に又は近接場光を用いて記録再生される、磁気ディス
ク、相変化型光ディスク、光磁気ディスク等が含まれ
る。情報記録媒体は、基板、透明部と、磁性膜、光磁気
膜又は相変化膜等の記録膜とから主に構成される。透明
部を構成する材料は、特に限定されず、二酸化シリコン
(SiO2)、窒化シリコン(SiN)、酸化亜鉛(Z
nO)等が挙げられる。窒化シリコンは、光の波長68
0nmに対する屈折率が1.7であり、二酸化シリコン
(屈折率1.5)より大きい屈折率を有する。また、酸
化亜鉛の屈折率は2.2である。そのため、二酸化シリ
コンと同じ位相深さを得るには、物理的な深さを浅くす
ることができる。
【0012】また、透明部が複数群存在していてもよ
く、それら透明部が屈折率の互いに異なる2つ以上の群
からなっていてもよい。屈折率を異ならせることによ
り、物理的な深さが同じでも光学的深さを変えることが
でき、種類の異なる情報を形成することができる。ここ
で透明部とは、使用する光源(例えば、半導体レーザ)
の波長に対して透明という意味である。
【0013】基板、記録膜は当該分野で公知の材料によ
り構成することができる。記録膜は、情報が記録される
部位であり、基板が円盤状の場合、同心円又はスパイラ
ル状の平面形状を有していてもよい。また、透明部と屈
折率を異ならせれば、透明な基板を使用することも可能
である。すなわち、基板としてシリコン、アルミニウ
ム、ガラス、樹脂等が使用可能である。情報記録媒体を
構成する透明部は、基板表面上に形成されている。一
方、記録膜は、透明部間に埋め込まれていてもよく、透
明部を含む基板上に形成されていてもよい。上記以外の
情報記録媒体を構成する部材として、保護膜等が挙げら
れる。透明部は、トラッキングサーボ情報用の部位又は
アドレス情報を示す部位として使用することが好まし
い。透明部の厚さは、記録膜の表面と、透明部の底面か
ら反射する光が干渉するように設定すれば、情報を検出
することができる。
【0014】本発明の情報記録媒体は、記録膜側の表面
がほぼ平坦であることが必要である。平坦にすること
で、情報を記録再生する浮上ヘッドの浮上を安定に保
ち、良好なトラッキングのサーボ又は集光特性を実現す
ることができる。
【0015】上記情報記録媒体の製造方法としては、例
えば以下の方法が挙げられる。 (1)基板表面上に透明膜を成膜し、記録膜予定領域の
透明膜を除去して透明部を形成した後、除去部に記録膜
を埋め込むことにより得ることができる。 (2)基板表面の透明部の形成予定領域をエッチング
し、その領域に透明部を形成した後、記録膜を透明部を
含む基板上に成膜することにより得ることができる。更
に、本発明では、記録ヘッド、再生ヘッド、光源、フォ
トディテクタを少なくとも備えた浮上ヘッドであって、
浮上ヘッドが全体又は一部に透明部を備え、透明部内に
光源及びフォトディテクタが位置することを特徴とする
浮上ヘッドも提供できる。この浮上ヘッドによれば、透
明部を識別するための光源及びフォトディテクタが、磁
気ヘッドのような情報を記録再生するヘッド(記録ヘッ
ド、再生ヘッド)と併設されているので、装置の構成を
簡略化できる。
【0016】また、本発明では、基板の裏面から基板越
し又は基板の表面に光を照射することにより、透明部で
光が回折し、基板から反射又は基板を透過する回折光
(例えば一次回折光)をフォトディテクタで検出するこ
とで、情報記録媒体のトラッキングサーボ情報及び/又
はアドレス情報を検出し、得られた検出結果を元に、情
報記録再生装置を構成する光ヘッドと磁気ヘッドの両方
にトラッキングサーボをかけることによる情報の記録再
生方法も提供できる。なお、基板に入射する光は、トラ
ッキングサーボ情報又はアドレス情報の検出に用いる以
外に、記録膜に熱を加えるために使用することができ
る。
【0017】以下、実施の形態により本発明を更に具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 実施の形態1 本発明の情報記録媒体の製造方法の一例の概略断面図を
図2(a)〜(f)に示す。以下、この図について説明
する。まず、直径2.5インチのシリコン(Si)から
なる基板21上に、50nmの厚さの二酸化シリコン膜
(屈折率n=1.5)22を成膜する(図2(a)参
照)。
【0018】次に、フォトレジストを塗布及びプリベー
クすることにより、100nmの厚さのフォトレジスト
層23を二酸化シリコン膜22上に形成する。次いで、
所定のパターンが形成されたフォトマスク(図示せず)
とマスクアライナー(図示せず)を用いて露光した後
(図2(b)参照)、現像することによりパターン化し
たフォトレジスト層24を得る(図2(c)参照)。
【0019】次に、反応性イオンエッチング(RIE)
法により、フォトレジスト層24が形成されていない部
分の二酸化シリコン膜を除去して、基板21を露出させ
ると共に透明部25を形成する(図2(d)参照)。
【0020】次いで、50nmの厚さのCoCrTaか
らなる磁性膜26をスパッタ法により成膜する(図2
(e)参照)。この後、フォトレジスト層24上に形成
された磁性膜26を、フォトレジスト層24の除去と共
にリフトオフする(図2(f)参照)。最後に、保護膜
として炭素をスパッタ法により5nmの厚さで成膜する
ことにより、図3に示すごとき断面構造を有する情報記
録媒体を得ることができる。なお、炭素からなる保護膜
は薄いため、光を80%程度透過する。図3中、30は
浮上ヘッドで、以下に述べるように光学ヘッド、記録ヘ
ッド、再生ヘッドを搭載している。31は支持バネであ
る。
【0021】次に、上記情報記録媒体への情報の記録再
生に適する浮上ヘッド30の概略斜視図を図4に示す。
図4中、41は記録ヘッド、42は再生ヘッド、43は
波長680nmのレーザ光を発生する光源としての半導
体レーザ、44はレンズ、45はフォトディテクタ、4
6はフォトポリマー、47はスライダ、48は半導体レ
ーザのためのヒートシンク、49はセラミックである。
記録ヘッド41、再生ヘッド42及びレーザースポット
は、ほぼ直線状に揃えて配置されている。スライダ47
は、フォトポリマー46とセラミック49とからなり、
ほぼ矩形状をしている。該スライダ47は図示されない
支持バネでアクチュエータに支持されている。磁気信号
(情報)の記録再生は、記録ヘッドと再生ヘッドとで行
われる。
【0022】上記浮上ヘッドを用いた情報記録再生方法
を説明する。まず、トラッキングサーボのために半導体
レーザ43から出た光は、レンズ44を通り、情報記録
媒体上に集光される。このとき、この実施の形態では、
集光したビームの直径は約1μmで、情報記録媒体上の
トラックピッチは0.8μmで、透明部の幅は0.2μ
mとしている。情報記録媒体の透明部から回折した反射
光は、フォトポリマー46を通過してフォトディテクタ
45に入る。フォトディテクタ45にはプリアンプ(図
示せず)が付けられていて、光が電圧レベルとしてトラ
ッキングサーボ回路に送られる。
【0023】図5にトラッキングサーボ回路のブロック
図を示す。フォトディテクタ51と52(図4の符号4
5に相当)からの出力は、I/V変換器53と54で電
圧値に変換される。得られた電圧値は増幅器55と56
で増幅され、差信号が減算器57で、和信号が加算器5
8でそれぞれ作成される。差信号を分子、和信号を分母
として除算器59で割り算し、得られた出力が、オフセ
ット注入器510を介して、位相補償器511を通っ
て、駆動回路512に送られる。駆動回路512は、得
られた値を元に、浮上ヘッドが所定のトラックにトラッ
キングされるように、図示しないアクチュエータのコイ
ルに電流を流す。また、加算器58による和信号から情
報記録媒体の反射率を検出して、セクタのアドレス情報
が得られる。なお、図5中、513は位置情報検出器を
意味する
【0024】図6(1)に、情報記録媒体上のビームの
位置と2つのフォトディテクタ上の回折光強度パターン
を示す。ビームスポット61がトラック62の中心にあ
る場合(図6(1)−(b)参照)、左右のフォトディ
テクタ上での回折光強度は同一となる。しかし、ビーム
スポット61がトラック62の右や左にずれると片側の
回折光強度が強くなる(図6(1)−(a)及び(c)
参照)。図6(1)−(a)及び(c)中、斜線は右又
は左のフォトディテクタの回折光強度が強いことを示し
ている。即ち、トラックとビームすっポットの位置関係
により、左右の回折光強度が変わるが、左右の回折光強
度が等しくなるように調整すれば、トラックの中心に浮
上ヘッドがトラッキングされることとなる。
【0025】回路上では、除算器59の出力が、図6
(2)のようになるようトラッキングサーボをかけるこ
とで、記録領域の中心にトラッキングをかけることがで
きる。また、例えば、ディスクの内周や外周では、ビー
ムスポット、記録ヘッド、再生ヘッドとトラックの接線
が平行でなくなる。その場合、記録ヘッドや再生ヘッド
がトラック中心にあるとき、ビームスポットはトラック
中心からはずれるが、この際、除算器59と位相補償器
511の間に設けられたオフセット注入器510で、所
定のオフセット電圧を加えることで、記録ヘッドや再生
ヘッドをトラックの中心にトラッキングをかけることも
可能である。
【0026】ここで、実際にトラッキングが問題なく掛
かったのは、透明部の厚さが20nmより大きい場合で
あった。但し、この実施の形態の磁気ディスクは、可換
変媒体ではないので、フォトディテクタ等のトラッキン
グサーボ系を調整することにより、20nmでもトラッ
キングをかけることが可能である。なお、情報記録媒体
が、可換媒体である光ディスクの場合は、35nm程度
であることが好ましい。
【0027】実施の形態2 本発明の情報記録媒体の製造方法の一例の概略断面図を
図7(a)〜(e)に示す。以下、この図について説明
する。まず、直径2.5インチのSiからなる基板71
上に、フォトレジストを塗布及びプリベークすることに
より、100nmの厚さのフォトレジスト層を形成す
る。次いで、予め所定のパターンが形成されたフォトマ
スクとマスクアライナー(図示せず)を用いて露光した
後、現像することによりパターン化したフォトレジスト
層72を得る(図7(a)参照)。
【0028】次に、反応性イオンエッチング(RIE)
法により、フォトレジスト層72の形成されていない部
分の基板71を50nmの深さエッチングする(図7
(b)参照)。次に、厚さ55nmの窒化シリコン層7
3をスパッタ法により全面に積層する(図7(c)参
照)。フォトレジスト層72を除去しつつ、フォトレジ
スト層72上の窒化シリコン層73をリフトオフして除
去することで、透明部74を形成する(図7(d)参
照)。
【0029】更に、基板71表面を研磨してほぼ平坦に
し、全面に厚さ20nmのCoCrTaからなる磁性膜
75をスパッタ法により成膜する(図7(e)参照)。
最後に、保護膜として炭素をスパッタ法により5nmの
厚さで成膜することにより、図8に示すごとき断面構造
を有する情報記録媒体を得ることができる。なお、炭素
からなる保護膜は薄いため光を80%程度透過し、磁性
膜は40%程度透過するので、トラッキングサーボ情報
やアドレス情報の再生には支障がなかった。
【0030】実施の形態3 図9は、浮上ヘッドの別な構成を示す斜視図である。図
4の浮上ヘッド30では、半導体レーザ43が光源とし
て使用されているが、図9では、半導体レーザを稼動部
である浮上ヘッド90に設けず、アクチュエータを固定
する基盤(図示せず)に配置している。半導体レーザか
ら出た光は、光ファイバー93により浮上ヘッド90ま
で導かれ、カップリングレンズを兼ねたレンズ94で情
報記録媒体上に照射される。この浮上ヘッド90を用い
ても、実施の形態1と同様にトラッキングをかけること
ができる。なお、図9中、91は記録ヘッド、92は再
生ヘッド、95はフォトディテクタ、96はフォトポリ
マー、97はスライダ、99はセラミックを意味し、そ
れぞれ図4の41、42、45、46、47、49に対
応している。
【0031】実施の形態4 本発明の情報記録媒体の製造方法の一例の概略断面図を
図10(a)〜(l)に示す。以下、この図について説
明する。まず、直径2.5インチのSiからなる基板1
01上に、フォトレジストを塗布及びプリベークするこ
とにより、100nmの厚さのフォトレジスト層102
を形成する(図10(a)参照)。
【0032】次いで、アドレス情報用の透明部を形成す
るための所定のパターンが形成されたフォトマスク(図
示せず)とマスクアライナー(図示せず)を用いて露光
した後(図10(b)参照、図中、Xが露光された箇
所)、現像することによりパターン化したフォトレジス
ト層102aを得る(図10(c)参照)。次に、反応
性イオンエッチング(RIE)法により、フォトレジス
ト層102aの形成されていない部分の基板101を所
望深さエッチングする(図10(d)参照)。更に、C
VD法により、エッチングした深さと同じ厚さの二酸化
シリコン膜103を成膜する(図10(e)参照)
【0033】次に、フォトレジスト層102aとその上
に存在する二酸化シリコン膜103を除去し、全面に二
酸化シリコン膜104を堆積させる(図10(f)参
照)。この工程により、透明部105aが基板の表面に
形成される。次に、二酸化シリコン膜104上に、フォ
トレジスト層106を形成する(図10(g)参照)。
次いで、予めトラッキングサーボ情報用の透明部を形成
するための所定のパターンが形成されたフォトマスク
(図示せず)とマスクアライナー(図示せず)を用いて
露光した後、現像することによりパターン化したフォト
レジスト層106aを得る(図10(h)参照)。
【0034】フォトレジスト層106aをマスクとして
二酸化シリコン膜104をエッチングして基板101を
露出させる(図10(i)参照)。この工程により、透
明部105bが基板上に形成される。以上の工程によ
り、トラッキングサーボ情報用の透明部105bと、こ
れより厚い膜のアドレス情報用の透明部(105a+1
05b)が形成されたことになる。
【0035】次に、全面に厚さ20nmの磁性膜107
をスパッタ法により成膜する(図10(j)参照)。更
に、フォトレジスト層106aを除去すると共に、その
上に形成された磁性膜107をリフトオフする(図10
(k)参照)。最後に、保護膜108として炭素をスパ
ッタ法により5nmの厚さで成膜することにより、図1
1に示すごとき斜視構造を有する情報記録媒体を得るこ
とができる。この情報記録媒体は、アドレス情報用とト
ラッキングサーボ情報用に最適な位相深さになるような
厚さの透明部を形成しているので、両信号を十分大きく
得ることができる。
【0036】実施の形態5 上記実施の形態4では、トラッキングサーボ情報用の透
明部の厚さを、アドレス情報用の透明部の厚さより薄く
した。しかし、トラッキングサーボ情報用の透明部を二
酸化シリコン膜とし、アドレス情報用の透明部を窒化シ
リコンや酸化亜鉛とすることで、両透明部をほぼ同一の
膜厚とすることができる。この状態を実施の形態5に示
す。この実施の形態の情報記録媒体の製造方法の概略断
面図を図12(a)〜(l)に示す。以下、この図につ
いて説明する。まず、直径2.5インチのSiからなる
基板121上に、フォトレジストを塗布及びプリベーク
することにより、100nmの厚さのフォトレジスト層
122を形成する(図12(a)参照)。
【0037】次いで、トラッキングサーボ情報用の透明
部を形成するための所定のパターンが形成されたフォト
マスク123aとマスクアライナー(図示せず)を用い
て露光した後(図12(b)参照)、現像することによ
りパターン化したフォトレジスト層122aを得る(図
12(c)参照)。次に、RIE法により、フォトレジ
スト層122aの形成されていない部分の基板121を
所望深さエッチングする(図12(d)参照)。更に、
スパッタ法により、エッチングした深さと同じ厚さの二
酸化シリコン膜124を成膜する(図12(e)参照)
【0038】次に、フォトレジスト層122aとその上
に存在する二酸化シリコン膜124を除去する(図12
(f)参照)。なお、この工程により、トラッキングサ
ーボ情報用の透明部125aが基板の表面層に形成され
る。次に、全面に、フォトレジスト層126を形成する
(図12(g)参照)。次いで、アドレス情報用の透明
部を形成するための所定のパターンが形成されたフォト
マスク123bとマスクアライナー(図示せず)を用い
て露光する(図12(h)参照)。
【0039】この後、現像することによりパターン化し
たフォトレジスト層126aを得る。次に、RIE法に
より、フォトレジスト層126aの形成されていない部
分の基板121を所望深さエッチングする(図12
(i)参照)。更に、スパッタ法により、エッチングし
た深さと同じ厚さの酸化亜鉛膜127を成膜する(図1
2(j)参照)。次に、フォトレジスト層126aとそ
の上に存在する酸化亜鉛膜127を除去する(図12
(k)参照)。なお、この工程により、アドレス情報用
の透明部125bが基板の表面層に形成される。
【0040】次に、全面に厚さ20nmの磁性膜128
をスパッタ法により成膜する(図12(l)参照)。最
後に、保護膜129として炭素をスパッタ法により5n
mの厚さで成膜することにより、情報記録媒体を得るこ
とができる。この情報記録媒体を図13の情報記録装置
で記録再生した。
【0041】図13は、情報記録装置の内、トラッキン
グサーボ系を中心に簡単に示た図である。以下、この図
を説明する。レーザ1301から出た光は、ビーム整形
器で平行な真円ビームに整形され、1302のビームス
プリッタを通過し、1303の立ち上げミラーで光路を
曲げられ、対物レンズ1304を通り情報記録媒体13
05に照射される。情報記録媒体1305中のグルーブ
による変調を受けた光は、再び対物レンズ1304を通
り、1302のビームスプリッタで反射し、1306の
2分割ディテクタに入る。
【0042】この2分割ディテクタで光が電気信号に変
換され、それぞれの信号は1307、1308のI/V
回路で電圧に変換される。次に、増幅器1309、13
10で増幅され、1311の減算器で差信号と1312
の加算器で和信号が作られる。更に、1313の除算器
で差信号を和信号で割り算してTES信号が作られる。
1314の位相補償器で位相を進ませ、1315の駆動
回路を経て1316のアクチュエータで、1304の対
物レンズによるトラッキングを行う。また、除算器13
13の出力は別な位相補償器1317で位相を進ませ、
1318の駆動回路を経て1319のアクチュエータ
で、1320の浮上ヘッドによるトラッキングを行う。
【0043】実施の形態6 実施の形態1と同じ工程を用い、サンプルサーボ方式に
適した媒体を作成した。図14にその情報記録媒体の斜
視図を示す。図14中、141は基板、142はサンプ
ルサーボのための透明部(ピット)、143はクロック
情報のための透明部(ピット)、144はアドレス情報
のための透明部をそれぞれ意味している。142〜14
4の透明部は、基板141の表面層に形成されている。
この基板上には、窒化シリコンからなる下地層(図示せ
ず)とTb20(Fe90Co1080からなる光磁気記録層
としての磁性膜145が積層されている。更に、磁性膜
145上には、厚さ5nmの炭素からなる保護膜146
が成膜されている。
【0044】図15に、サンプルピットとクロックピッ
トを備えた情報記録媒体のトラッキングのために使用さ
れるSILを搭載した浮上スライダを用いた情報記録再
生装置の概略構成図を示す。レーザ1501から出た光
は、ビーム整形器(図示せず)で平行な真円形状のビー
ムに整形され、1502のビームスプリッタを通過す
る。通過したビームは、1503の立ち上げミラーで光
路を曲げられ、対物レンズ1504と浮上SILレンズ
1505を通り情報記録媒体1506に照射される。
【0045】情報記録媒体で反射した光は、再び対物レ
ンズ1504を通り、ビームスプリッタ1502で反射
し、1507のフォトディテクタに入射する。フォトデ
ィテクタ1507に入射した光をI/V変換器1508
で電圧に変化し、クロックピットから図示しない回路に
よりPLLを掛けてクロックを作り、サンプルピット上
でゲートを開ける。サンプルピットからの反射光量を検
出し、そのレベルをホールド回路1509と1510に
よりホールドし、2回路によりホールドされた信号を減
算器1511により差信号に変換する。この差信号はト
ラッキングエラー信号に対応し、この信号が、位相補償
器1512、駆動回路1513及びアクチュエータ15
14介して対物レンズにフィードバックされる。
【0046】ここで、2つのサンプルピットの中心を光
が通ると、反射光量は図16(1)のようになる。光が
中心からずれると図16(2)のように、反射光量が変
動するため、変動量を測定することでトラッキングエラ
ー信号を得ることができる。なお、上記SILを用いた
情報の記録再生方法では、透明部の厚さが35nm以上
必要であった。浮上SILレンズの浮上量は150nm
である。サンプルピットは図14のように情報記録媒体
の半径方向に並べて形成されているが、基板の表面は略
平坦であるため、浮上SILレンズを安定に浮上させる
ことができる。
【0047】
【発明の効果】透明部を含む情報記録媒体の表面を略平
坦にすることにより、浮上ヘッドを安定に浮上させるこ
とができ、精度の高いトラッキングが可能となり、より
安定して情報の記録再生を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の情報記録媒体の概略斜視図である。
【図2】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程断
面図である。
【図3】本発明の情報記録媒体の概略断面図である。
【図4】本発明の浮上ヘッドの概略斜視図である。
【図5】本発明の情報記録再生装置を構成するトラッキ
ングサーボ回路のブロック図である。
【図6】本発明の情報記録媒体上のビームの位置と2つ
のフォトディテクタ上の回折光強度パターン及び除算器
49の出力結果である。
【図7】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程断
面図である。
【図8】本発明の情報記録媒体の概略断面図である。
【図9】本発明の浮上ヘッドの概略斜視図である。
【図10】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程
断面図である。
【図11】本発明の情報記録媒体の概略斜視図である。
【図12】本発明の情報記録媒体の製造方法の概略工程
断面図である。
【図13】本発明の情報記録再生装置の概略構成図であ
る。
【図14】本発明の情報記録媒体の概略斜視図である。
【図15】本発明の情報記録再生装置の概略構成図であ
る。
【図16】本発明の情報記録媒体の反射光量を示すグラ
フである。
【符号の説明】 1、21、71、101、121、141 基板 2、3、25、74、105a、105b、125a、
125b、142、143、144 透明部 4、75 記録膜 5 アドレス情報部 6 情報記録部 22、103、104、124 二酸化シリコン膜 23、24、72、102、102a、106、106
a、122、122a、126、126a フォトレジ
スト層 26、75、107、128、145 磁性膜 30、90、1320 浮上ヘッド 31 支持バネ 41、91 記録ヘッド 42、92 再生ヘッド 43 半導体レーザ 44、94 レンズ 45、51、52、95、1507 フォトディテクタ 46、96 フォトポリマー 47、97 スライダ 48 ヒートシンク 49、99 セラミック 53、54、1307、1308、1508 I/V変
換器 55、56、1309、1310 増幅器 57、1311、1511 減算器 58、1312 加算器 59、1313 除算器 510 オフセット注入器 511、1314、1317、1512 位相補償器 512、1315、1318、1513 駆動回路 513 位置情報検出器 61 ビームスポット 62 トラック 73 窒化シリコン層 93 光ファイバー 108、129、146 保護膜 123a、123b フォトマスク 127 酸化亜鉛膜 1301、1501 レーザ 1302、1502 ビームスプリッタ 1303、1503 立ち上げミラー 1304、1504 対物レンズ 1305、1506 情報記録媒体 1306 2分割ディテクタ 1316、1319、1514 アクチュエータ 1505 浮上SILレンズ 1509、1510 ホールド回路 X 露光された箇所

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に記録膜を有し、基板表面上に透
    明部が存在する情報記録媒体において、該情報記録媒体
    の表面がほぼ平坦であり、透明部がトラッキングサーボ
    情報用の部位及び/又はアドレス情報を示す部位である
    ことを特徴とする情報記録媒体。
  2. 【請求項2】 透明部が複数個存在し、複数個の透明部
    が屈折率の異なる透明部からなる群を少なくとも2つ以
    上備えている請求項1に記載の情報記録媒体。
  3. 【請求項3】 基板表面上に透明膜を成膜し、記録膜の
    形成予定領域の透明膜を除去して透明部を形成した後、
    除去部に記録膜を埋め込むことにより、該基板表面上に
    透明部が存在し、かつ記録膜側の表面がほぼ平坦である
    情報記録媒体を得ることを特徴とする情報記録媒体の製
    造方法。
  4. 【請求項4】 基板表面の透明部の形成予定領域をエッ
    チングし、その領域に透明部を形成した後、記録膜を透
    明部を含む基板上に成膜することにより、該基板表面上
    に透明部が存在し、かつ記録膜側の表面がほぼ平坦であ
    る情報記録媒体を得ることを特徴とする情報記録媒体の
    製造方法。
  5. 【請求項5】 記録ヘッド、再生ヘッド、光源、フォト
    ディテクタを少なくとも備えた浮上ヘッドであって、浮
    上ヘッドが全体又は一部に透明部材を備え、透明部材内
    に前記光源及びフォトディテクタが位置することを特徴
    とする浮上ヘッド。
  6. 【請求項6】 光源が、浮上ヘッドに一体化された半導
    体レーザ又は光ファイバーを介して浮上ヘッド外に設置
    された半導体レーザである請求項5に記載の浮上ヘッ
    ド。
  7. 【請求項7】 請求項1又は2に記載の情報記録媒体へ
    の情報記録再生方法であって、基板の裏面から基板越し
    又は基板の表面に光を照射することにより、情報記録媒
    体のトラッキングサーボ情報及び/又はアドレス情報を
    検出し、得られた検出結果を元に、情報記録再生のため
    の光ヘッドと磁気ヘッドの両方にトラッキングサーボを
    かけることを特徴とする情報記録再生方法。
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