JP2001183535A - ファイバグレーティング - Google Patents
ファイバグレーティングInfo
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Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光通信システム中で用いられるファイバグレー
ティングで反射中心波長以外の波長の光を伝播させる。 【解決手段】干渉縞は、紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光
Ｊ＝−１次回折光のときファイバを伝播してきた波長λ
BIJの光が反射され、紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光Ｊ
＝−１次回折光以外の組合せのとき波長λBIJの光が透
過するよう紫外光Ｉと紫外光Ｊよってファイバに形成さ
れる周期ΛIJ、干渉縞のファイバの光伝播方向に垂直な
方向からの角度θIJを有する。
ティングで反射中心波長以外の波長の光を伝播させる。 【解決手段】干渉縞は、紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光
Ｊ＝−１次回折光のときファイバを伝播してきた波長λ
BIJの光が反射され、紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光Ｊ
＝−１次回折光以外の組合せのとき波長λBIJの光が透
過するよう紫外光Ｉと紫外光Ｊよってファイバに形成さ
れる周期ΛIJ、干渉縞のファイバの光伝播方向に垂直な
方向からの角度θIJを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信システム中
で用いられるファイバグレーティング（ＦＢＧ）に係わ
り、特に反射中心波長以外の波長の光を伝播させる用
途、たとえば通信光に1550nm帯の光を用い、監視光に16
50nm帯の光を用いるシステムで使用される1650nm帯の光
を遮断するフィルタとしてのファイバグレーティングに
関する。
で用いられるファイバグレーティング（ＦＢＧ）に係わ
り、特に反射中心波長以外の波長の光を伝播させる用
途、たとえば通信光に1550nm帯の光を用い、監視光に16
50nm帯の光を用いるシステムで使用される1650nm帯の光
を遮断するフィルタとしてのファイバグレーティングに
関する。
【０００２】
【従来の技術】ファイバグレーティングはファイバコア
の屈折率を周期的に変化させたものであり、ファイバ中
を伝播する光のうちファイバコアの屈折率変化の周期と
コアの屈折率に依存した特定の波長を反射する機能を持
つものである。
の屈折率を周期的に変化させたものであり、ファイバ中
を伝播する光のうちファイバコアの屈折率変化の周期と
コアの屈折率に依存した特定の波長を反射する機能を持
つものである。
【０００３】ファイバグレーティングの作製方法として
は位相マスクを用いる方法、ホログラフィック干渉を用
いる方法がある。何れの方法も光の干渉による干渉縞を
利用してファイバコアに周期的な屈折率変化を起こさせ
る。
は位相マスクを用いる方法、ホログラフィック干渉を用
いる方法がある。何れの方法も光の干渉による干渉縞を
利用してファイバコアに周期的な屈折率変化を起こさせ
る。
【０００４】ファイバグレーティング作製に用いられる
光は、その光の照射によってファイバコアの屈折率を増
大あるいは減少させるものが望ましい。一般に光通信に
使用されているＧｅドープコアを持つファイバでは、紫
外光照射によってファイバコアの屈折率が増大するの
で、ファイバグレーティング作製には紫外光が利用され
ている。
光は、その光の照射によってファイバコアの屈折率を増
大あるいは減少させるものが望ましい。一般に光通信に
使用されているＧｅドープコアを持つファイバでは、紫
外光照射によってファイバコアの屈折率が増大するの
で、ファイバグレーティング作製には紫外光が利用され
ている。
【０００５】ファイバグレーティング作製の再現性、波
長特性の制御性は位相マスクを用いる方法が優れてお
り、ホログラフィック干渉を用いる方法よりも位相マス
クを用いる方法が多く利用されている。
長特性の制御性は位相マスクを用いる方法が優れてお
り、ホログラフィック干渉を用いる方法よりも位相マス
クを用いる方法が多く利用されている。
【０００６】位相マスクは、石英ガラスなどの紫外光が
透過可能な材質の板材の表面に周期的な溝を形成した物
である。この位相マスクに光を照射すると周期的な溝に
よって光が特定の方向に回折される。
透過可能な材質の板材の表面に周期的な溝を形成した物
である。この位相マスクに光を照射すると周期的な溝に
よって光が特定の方向に回折される。
【０００７】位相マスクを用いてファイバグレーティン
グを作製する場合、紫外光を位相マスクに照射し、位相
マスクによって回折した紫外光の＋１次、−１次回折光
の二光束干渉によって形成される干渉縞にファイバを曝
し、ファイバ中に周期的な屈折率変化を起こさせる（図
１（ａ））。なお、U．S． Patent No. ５，６１９，６
０３参照。
グを作製する場合、紫外光を位相マスクに照射し、位相
マスクによって回折した紫外光の＋１次、−１次回折光
の二光束干渉によって形成される干渉縞にファイバを曝
し、ファイバ中に周期的な屈折率変化を起こさせる（図
１（ａ））。なお、U．S． Patent No. ５，６１９，６
０３参照。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、位相マ
スクに紫外光を照射した場合、実際には＋１次、−１次
回折光以外に０次、＋２次、−２次、…などの回折光が
存在する（図１（ｂ））。これらの回折光の二光束干渉
によっても当然干渉縞が形成される。＋１次、−１次以
外の組合せによる回折光の干渉縞によって起きるファイ
バコアの周期的な屈折率変化は、ファイバグレーティン
グの光学特性を劣化させる。具体的には、必要としてい
る反射波長以外の波長で、不必要な損失を生じさせる。
強いファイバグレーティングを作製する場合、これらの
＋１次、−１次以外の組合せによる回折光の干渉縞は無
視できなくなる。
スクに紫外光を照射した場合、実際には＋１次、−１次
回折光以外に０次、＋２次、−２次、…などの回折光が
存在する（図１（ｂ））。これらの回折光の二光束干渉
によっても当然干渉縞が形成される。＋１次、−１次以
外の組合せによる回折光の干渉縞によって起きるファイ
バコアの周期的な屈折率変化は、ファイバグレーティン
グの光学特性を劣化させる。具体的には、必要としてい
る反射波長以外の波長で、不必要な損失を生じさせる。
強いファイバグレーティングを作製する場合、これらの
＋１次、−１次以外の組合せによる回折光の干渉縞は無
視できなくなる。
【０００９】これは、＋１次、−１次回折光の組合せ以
外による干渉縞の多くがファイバの光伝播方向に対して
９０°以外の角度を有することに起因する。＋１次、−
１次回折光の組合せによる干渉縞はファイバの光伝播方
向に対して９０°の角度を有しており、ファイバコアを
伝播する特定の光を伝播方向と反対の方向に反射させ
る。一方、干渉縞がファイバの光伝播方向に対して９０
°以外の角度を有する場合、伝播してきた特定の光をフ
ァイバコアの外に反射させうる。このため、ファイバコ
アを特定の波長が伝播出来なくなり、結果として損失を
生ずる（図３（ｂ）、図４）。
外による干渉縞の多くがファイバの光伝播方向に対して
９０°以外の角度を有することに起因する。＋１次、−
１次回折光の組合せによる干渉縞はファイバの光伝播方
向に対して９０°の角度を有しており、ファイバコアを
伝播する特定の光を伝播方向と反対の方向に反射させ
る。一方、干渉縞がファイバの光伝播方向に対して９０
°以外の角度を有する場合、伝播してきた特定の光をフ
ァイバコアの外に反射させうる。このため、ファイバコ
アを特定の波長が伝播出来なくなり、結果として損失を
生ずる（図３（ｂ）、図４）。
【００１０】本発明は上述した難点に鑑みなされたもの
で、必要としている反射波長以外の波長で、不必要な損
失を生じさせないファイバグレーティングを提供するこ
とを目的としている。
で、必要としている反射波長以外の波長で、不必要な損
失を生じさせないファイバグレーティングを提供するこ
とを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明のファイバグレーティングは、紫外光を位相マス
クを介してファイバにビーム照射し±１次回折光の二光
束干渉によってファイバの光伝播方向に対して垂直方向
に生じる干渉縞でグレーティングを作製すると共に、紫
外光のビーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方
または両方を他方に対して相対的に移動して±１次以外
の０次と１次、−１次と２次、…などの回折光の組合せ
による二光束干渉によってファイバの光伝播方向に対し
て斜行方向に生じる干渉縞を減少させるファイバグレー
ティングであって、干渉縞は、下記式１乃至３で表され
る紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光Ｊ＝−１次回折光のと
きファイバを伝播してきた波長λBIJの光が反射され、
紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光Ｊ＝−１次回折光以外の
組合せのとき波長λBIJの光が透過するよう紫外光Ｉと
紫外光Ｊよってファイバに形成される周期ΛIJ、干渉縞
のファイバの光伝播方向に垂直な方向からの角度θIJを
有する。
本発明のファイバグレーティングは、紫外光を位相マス
クを介してファイバにビーム照射し±１次回折光の二光
束干渉によってファイバの光伝播方向に対して垂直方向
に生じる干渉縞でグレーティングを作製すると共に、紫
外光のビーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方
または両方を他方に対して相対的に移動して±１次以外
の０次と１次、−１次と２次、…などの回折光の組合せ
による二光束干渉によってファイバの光伝播方向に対し
て斜行方向に生じる干渉縞を減少させるファイバグレー
ティングであって、干渉縞は、下記式１乃至３で表され
る紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光Ｊ＝−１次回折光のと
きファイバを伝播してきた波長λBIJの光が反射され、
紫外光Ｉ＝１次回折光、紫外光Ｊ＝−１次回折光以外の
組合せのとき波長λBIJの光が透過するよう紫外光Ｉと
紫外光Ｊよってファイバに形成される周期ΛIJ、干渉縞
のファイバの光伝播方向に垂直な方向からの角度θIJを
有する。
【００１２】
【数６】
【００１３】
【数７】
【００１４】
【数８】
【００１５】（ここに、θI、θJはそれぞれ紫外光Ｉ、
紫外光Ｊのファイバの光伝播方向に垂直な方向からの角
度（但し、−９０°＜θJ＜θI≦＋９０°、角度の測り
かたは光伝播方向に垂直な方向に対して左回りに角度が
増える場合を正の角度、右回りに角度が増える場合を負
の角度とする）、λuvは紫外光の波長、ｎc λ uvは波長
λuvでのコアの屈折率、λBIJはグレーティングで反射
されうる伝播してきた光の波長、ｎc λ BIJは波長λBIJ
でのコアの屈折率、Ｎは１以上の正の整数） 本発明のファイバグレーティングにおいて、位相マスク
およびファイバの一方または両方を他方に対して相対的
にファイバの光伝播方向に垂直な方向に対して角度θｍ
の方向に移動する際の移動量Λｍは下記式４で与えられ
る。
紫外光Ｊのファイバの光伝播方向に垂直な方向からの角
度（但し、−９０°＜θJ＜θI≦＋９０°、角度の測り
かたは光伝播方向に垂直な方向に対して左回りに角度が
増える場合を正の角度、右回りに角度が増える場合を負
の角度とする）、λuvは紫外光の波長、ｎc λ uvは波長
λuvでのコアの屈折率、λBIJはグレーティングで反射
されうる伝播してきた光の波長、ｎc λ BIJは波長λBIJ
でのコアの屈折率、Ｎは１以上の正の整数） 本発明のファイバグレーティングにおいて、位相マスク
およびファイバの一方または両方を他方に対して相対的
にファイバの光伝播方向に垂直な方向に対して角度θｍ
の方向に移動する際の移動量Λｍは下記式４で与えられ
る。
【００１６】
【数９】
【００１７】（ここに、θｍ≠θIJ、且つ−９０°＜θ
ｍ≦＋９０°）本発明のファイバグレーティングにおい
て、位相マスクおよびファイバの一方または両方を他方
に対して相対的にファイバの光伝播方向に垂直な方向に
移動する際の移動量ΛIJ ⊥は下記式５で与えられる。
ｍ≦＋９０°）本発明のファイバグレーティングにおい
て、位相マスクおよびファイバの一方または両方を他方
に対して相対的にファイバの光伝播方向に垂直な方向に
移動する際の移動量ΛIJ ⊥は下記式５で与えられる。
【数１０】 （ここに、θIJ≠０） 本発明のファイバグレーティングにおいて、紫外光のビ
ーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方または両
方を他方に対して相対的に移動する移動量は連続的に変
化される。
ーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方または両
方を他方に対して相対的に移動する移動量は連続的に変
化される。
【００１８】本発明のファイバグレーティングにおい
て、紫外光のビーム照射中に位相マスクおよびファイバ
の一方または両方を他方に対して相対的に移動する移動
量は段階的に変化される。
て、紫外光のビーム照射中に位相マスクおよびファイバ
の一方または両方を他方に対して相対的に移動する移動
量は段階的に変化される。
【００１９】本発明のファイバグレーティングにおい
て、位相マスクには垂直に紫外光が照射される。
て、位相マスクには垂直に紫外光が照射される。
【００２０】本発明のファイバグレーティングにおい
て、位相マスクおよびファイバの一方または両方は他方
に対して相対的に、かつファイバの伝播方向に垂直な方
向に移動される。
て、位相マスクおよびファイバの一方または両方は他方
に対して相対的に、かつファイバの伝播方向に垂直な方
向に移動される。
【００２１】本発明のファイバグレーティングにおい
て、ファイバは光ファイバである。
て、ファイバは光ファイバである。
【００２２】本発明のファイバグレーティングにおい
て、ファイバは薄膜導波路で構成することもできる。
て、ファイバは薄膜導波路で構成することもできる。
【００２３】本発明のファイバグレーティングにおい
て、式３のファイバを伝播してきた波長λBIJで損失が
0.01〜1.0dBである。
て、式３のファイバを伝播してきた波長λBIJで損失が
0.01〜1.0dBである。
【００２４】本発明のファイバグレーティングにおい
て、式３のファイバを伝播してきた波長λBIJで損失が
0.01〜0.5dBである。
て、式３のファイバを伝播してきた波長λBIJで損失が
0.01〜0.5dBである。
【００２５】本発明でのファイバグレーティングにおい
ては、ファイバを伝播してきた波長λBIJが整数Ｎ＝１
で式３を満足し、波長λBIJでの損失が0.01〜1.0dBであ
る。
ては、ファイバを伝播してきた波長λBIJが整数Ｎ＝１
で式３を満足し、波長λBIJでの損失が0.01〜1.0dBであ
る。
【００２６】本発明でのファイバグレーティングにおい
ては、ファイバを伝播してきた波長λBIJが整数Ｎ＝１
で式３を満足し、波長λBIJでの損失が0.01〜0.5dBであ
る。
ては、ファイバを伝播してきた波長λBIJが整数Ｎ＝１
で式３を満足し、波長λBIJでの損失が0.01〜0.5dBであ
る。
【００２７】本発明のファイバグレーティングにおい
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９０％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜1.0dBである。
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９０％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜1.0dBである。
【００２８】本発明のファイバグレーティングにおい
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９０％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜0.5dBである。
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９０％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜0.5dBである。
【００２９】本発明のファイバグレーティングにおい
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９９％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜1.0dBである。
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９９％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜1.0dBである。
【００３０】本発明のファイバグレーティングにおい
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９９％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜0.5dBである。
て、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバの光伝播方向
に垂直な方向に対する角度θIJ＝０で表される波長λ
BIJの反射率が９９％〜９９．９９％であり、波長λBIJ
での損失が0.01〜0.5dBである。
【００３１】このように構成されたファイバグレーティ
ングによれば、光通信システムにおいてファイバ中でた
とえば1550nm帯の通信波長光を透過伝播させ、通信波長
光以外の監視光として用いられる1650nm帯の監視波長光
を遮断するフィルタとして機能させて反射させファイバ
の破損等の状態を監視することができる。
ングによれば、光通信システムにおいてファイバ中でた
とえば1550nm帯の通信波長光を透過伝播させ、通信波長
光以外の監視光として用いられる1650nm帯の監視波長光
を遮断するフィルタとして機能させて反射させファイバ
の破損等の状態を監視することができる。
【００３２】
【発明の実施の形態】以下、本発明のファイバグレーテ
ィングにおける好ましい実施の形態例を図面にしたがっ
て説明する。
ィングにおける好ましい実施の形態例を図面にしたがっ
て説明する。
【００３３】図２（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明
のファイバグレーティングは、紫外光を位相マスクを介
してファイバにビーム照射し±１次回折光の二光束干渉
によってファイバの光伝播方向に対して垂直方向に生じ
る干渉縞でグレーティングを作製すると共に、紫外光の
ビーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方または
両方を他方に対して相対的に移動して±１次以外の０次
と１次、−１次と２次、…などの回折光の二光束干渉に
よってファイバの光伝播方向に対して斜行方向に生じる
干渉縞を減少させるものである。
のファイバグレーティングは、紫外光を位相マスクを介
してファイバにビーム照射し±１次回折光の二光束干渉
によってファイバの光伝播方向に対して垂直方向に生じ
る干渉縞でグレーティングを作製すると共に、紫外光の
ビーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方または
両方を他方に対して相対的に移動して±１次以外の０次
と１次、−１次と２次、…などの回折光の二光束干渉に
よってファイバの光伝播方向に対して斜行方向に生じる
干渉縞を減少させるものである。
【００３４】図６（ａ）に示すように、ファイバ１がフ
ァイバ１の外部にある紫外光照射系のレーザー紫外光源
２から位相マスク２ａを介して紫外光３に曝されている
場合、ファイバ１のコア１ａにおいて位相マスクによっ
て回折された回折光３ａのうち任意の１組の回折光の紫
外光Ｉと紫外光Ｊとの干渉によってできる干渉縞４を考
える。
ァイバ１の外部にある紫外光照射系のレーザー紫外光源
２から位相マスク２ａを介して紫外光３に曝されている
場合、ファイバ１のコア１ａにおいて位相マスクによっ
て回折された回折光３ａのうち任意の１組の回折光の紫
外光Ｉと紫外光Ｊとの干渉によってできる干渉縞４を考
える。
【００３５】紫外光Ｉ、紫外光Ｊのファイバ１の光伝播
方向PDに垂直な方向VDからの角度をそれぞれθI、θJと
する。但し、−９０°＜θJ＜θI≦＋９０°であり、角
度の測りかたは図６（ａ）のとおり光伝播方向ＰＤに垂
直な方向ＶＤに対して左回りに角度が増える場合を正の
角度、右回りに角度が増える場合を負の角度とする。
方向PDに垂直な方向VDからの角度をそれぞれθI、θJと
する。但し、−９０°＜θJ＜θI≦＋９０°であり、角
度の測りかたは図６（ａ）のとおり光伝播方向ＰＤに垂
直な方向ＶＤに対して左回りに角度が増える場合を正の
角度、右回りに角度が増える場合を負の角度とする。
【００３６】この場合、紫外光の波長をλuv、波長λuv
でのコア１ａの屈折率をｎc λ uvとすると、図６（ｂ）
に示す紫外光Ｉと紫外光Ｊによってコア１ａに形成され
る干渉縞の間隔ΛIJおよび干渉縞４のファイバ１の光伝
播方向PDに垂直な方向VDからの角度θIJは、以下の式
１、２で表される。
でのコア１ａの屈折率をｎc λ uvとすると、図６（ｂ）
に示す紫外光Ｉと紫外光Ｊによってコア１ａに形成され
る干渉縞の間隔ΛIJおよび干渉縞４のファイバ１の光伝
播方向PDに垂直な方向VDからの角度θIJは、以下の式
１、２で表される。
【００３７】
【数１１】
【００３８】
【数１２】
【００３９】この紫外光Ｉと紫外光Ｊによる干渉縞４よ
ってファイバ１のコア１ａに周期的な屈折率変化が生じ
た場合、その周期は周期ΛIJ、周期的な屈折率変化のフ
ァイバ１の光伝播方向PDに垂直な方向VDからの角度はθ
IJとなる。また、ファイバの光伝播方向PDに伝播してき
た光の周期的な屈折率変化に対する入射角度はθIJとな
る。したがって、ファイバ１の光伝播方向PDに伝播して
きた光が周期的な屈折率変化によって反射される条件
（Bragg条件）は、伝播してきた光の波長をλBIJ、波長
λBIJでのコア１ａの屈折率をｎc λ BIJとし、Ｎを正の
整数とすると、以下の式で表される。
ってファイバ１のコア１ａに周期的な屈折率変化が生じ
た場合、その周期は周期ΛIJ、周期的な屈折率変化のフ
ァイバ１の光伝播方向PDに垂直な方向VDからの角度はθ
IJとなる。また、ファイバの光伝播方向PDに伝播してき
た光の周期的な屈折率変化に対する入射角度はθIJとな
る。したがって、ファイバ１の光伝播方向PDに伝播して
きた光が周期的な屈折率変化によって反射される条件
（Bragg条件）は、伝播してきた光の波長をλBIJ、波長
λBIJでのコア１ａの屈折率をｎc λ BIJとし、Ｎを正の
整数とすると、以下の式で表される。
【００４０】
【数１３】
【００４１】ファイバ１のコア１ａに紫外光３を利用し
て周期的な屈折率変化を起こさせ、特定の波長を反射す
るファイバグレーティングＦＢＧを形成する際、式３を
満たすBragg波長λBIJでの反射を低減したい場合、紫外
光３の照射中にファイバ１と位相マスク２ａとの位置関
係をファイバ１の光伝播方向PDに垂直な方向VDに対して
角度θｍの方向に次式に示すΛｍだけ変化させればよ
い。但し、θｍ≠θIJ、且つ−９０°＜θｍ≦＋９０°
て周期的な屈折率変化を起こさせ、特定の波長を反射す
るファイバグレーティングＦＢＧを形成する際、式３を
満たすBragg波長λBIJでの反射を低減したい場合、紫外
光３の照射中にファイバ１と位相マスク２ａとの位置関
係をファイバ１の光伝播方向PDに垂直な方向VDに対して
角度θｍの方向に次式に示すΛｍだけ変化させればよ
い。但し、θｍ≠θIJ、且つ−９０°＜θｍ≦＋９０°
【００４２】
【数１４】
【００４３】θIJ≠０の場合、ファイバ１と位相マスク
２ａとの位置関係を干渉縞４のファイバ１の光伝播方向
に垂直な方向に次式のΛIJ ⊥だけ変化させればよい。
２ａとの位置関係を干渉縞４のファイバ１の光伝播方向
に垂直な方向に次式のΛIJ ⊥だけ変化させればよい。
【００４４】
【数１５】
【００４５】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、紫外光３のビーム照射中に位相マスク２ａおよ
びファイバ１の一方または両方を他方に対して相対的に
移動する移動量Λｍ、ΛIJ ⊥は連続的に変化される。
おいて、紫外光３のビーム照射中に位相マスク２ａおよ
びファイバ１の一方または両方を他方に対して相対的に
移動する移動量Λｍ、ΛIJ ⊥は連続的に変化される。
【００４６】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、紫外光のビーム照射中に位相マスク２ａおよび
ファイバ１の一方または両方を他方に対して相対的に移
動する移動量Λｍ、ΛIJ ⊥は段階的に変化される。
おいて、紫外光のビーム照射中に位相マスク２ａおよび
ファイバ１の一方または両方を他方に対して相対的に移
動する移動量Λｍ、ΛIJ ⊥は段階的に変化される。
【００４７】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、位相マスク２ａには垂直に紫外光が照射され
る。
おいて、位相マスク２ａには垂直に紫外光が照射され
る。
【００４８】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、位相マスク２ａおよびファイバ１の一方または
両方は他方に対して相対的に、かつファイバ１の光伝播
方向ＰＤに垂直な方向ＶＤに移動される。
おいて、位相マスク２ａおよびファイバ１の一方または
両方は他方に対して相対的に、かつファイバ１の光伝播
方向ＰＤに垂直な方向ＶＤに移動される。
【００４９】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、ファイバ１は光ファイバである。
おいて、ファイバ１は光ファイバである。
【００５０】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、ファイバ１は薄膜導波路（図示せず）で構成し
てもよい。
おいて、ファイバ１は薄膜導波路（図示せず）で構成し
てもよい。
【００５１】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、式３のファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播して
きた波長λBIJで損失が0.01〜1.0dBである。
おいて、式３のファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播して
きた波長λBIJで損失が0.01〜1.0dBである。
【００５２】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、式３のファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播して
きた波長λBIJで損失が0.01〜0.5dBである。
おいて、式３のファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播して
きた波長λBIJで損失が0.01〜0.5dBである。
【００５３】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、ファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播してきた波
長λBIJが整数Ｎ＝１で式３を満足し、波長λBIJでの損
失が0.01〜1.0dBである。
おいて、ファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播してきた波
長λBIJが整数Ｎ＝１で式３を満足し、波長λBIJでの損
失が0.01〜1.0dBである。
【００５４】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、ファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播してきた波
長λBIJが整数Ｎ＝１で式３を満足し、波長λBIJでの損
失が0.01〜0.5dBである。
おいて、ファイバ１の光伝播方向ＰＤに伝播してきた波
長λBIJが整数Ｎ＝１で式３を満足し、波長λBIJでの損
失が0.01〜0.5dBである。
【００５５】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞４のファイバ１の光
伝播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表
される波長λBIJの反射率が９０％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜1.0dBである。
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞４のファイバ１の光
伝播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表
される波長λBIJの反射率が９０％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜1.0dBである。
【００５６】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞４のファイバ１の光
伝播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表
される波長λBIJの反射率が９０％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜0.5dBである。
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞４のファイバ１の光
伝播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表
される波長λBIJの反射率が９０％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜0.5dBである。
【００５７】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバ１の光伝
播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表さ
れる波長λBIJの反射率が９９％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜1.0dBである。
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイバ１の光伝
播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表さ
れる波長λBIJの反射率が９９％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜1.0dBである。
【００５８】本発明のファイバグレーティングＦＢＧに
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞４のファイバ１の光
伝播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表
される波長λBIJの反射率が９９％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜0.5dBである。
おいて、式３の整数Ｎ＝１、干渉縞４のファイバ１の光
伝播方向ＰＤに垂直な方向ＶＤからの角度θIJ＝０で表
される波長λBIJの反射率が９９％〜９９．９９％であ
り、波長λBIJでの損失が0.01〜0.5dBである。
【００５９】このように構成されたファイバグレーティ
ングＦＢＧでは、光通信システムにおいてファイバ中で
たとえば1550nm帯の通信波長光を透過伝播させ、通信波
長光以外の監視光として用いられる1650nm帯の監視波長
光を遮断するフィルタとして機能させて反射させファイ
バの破損等の状態を監視することができる。なお、上記
実施の形態例では紫外光を位相マスクを介してファイバ
にファイバの光伝播方向に対して垂直方向にビーム照射
し±１次回折光の二光束干渉によってファイバ軸方向に
対して垂直方向に生じる干渉縞で作製するファイバグレ
ーティングについて説明したが（図７（ａ））、ファイ
バの光伝播方向に対して垂直以外の方向で照射し０次と
+１次、０次と+２次、０次と−１次、０次と−２次、…
などの回折光の二光束干渉によってファイバの光伝播方
向に対して垂直方向に生じる干渉縞でファイバグレーテ
ィングを作製することができる（図７（ｂ）、
（ｃ））。したがって、このような例も本願発明の技術
範囲に包含されるものと解釈され、この場合、特許請求
の範囲において「±１次」の回折光の文言は二光束干渉
によってファイバの光伝播方向に対して垂直方向に干渉
縞を生じさせる次数の回折光（上記の例では０次と+１
次回折光、０次と+２次回折光、−１次と０次回折光、
−２次と０次回折光…など）と読替えるものとする。
ングＦＢＧでは、光通信システムにおいてファイバ中で
たとえば1550nm帯の通信波長光を透過伝播させ、通信波
長光以外の監視光として用いられる1650nm帯の監視波長
光を遮断するフィルタとして機能させて反射させファイ
バの破損等の状態を監視することができる。なお、上記
実施の形態例では紫外光を位相マスクを介してファイバ
にファイバの光伝播方向に対して垂直方向にビーム照射
し±１次回折光の二光束干渉によってファイバ軸方向に
対して垂直方向に生じる干渉縞で作製するファイバグレ
ーティングについて説明したが（図７（ａ））、ファイ
バの光伝播方向に対して垂直以外の方向で照射し０次と
+１次、０次と+２次、０次と−１次、０次と−２次、…
などの回折光の二光束干渉によってファイバの光伝播方
向に対して垂直方向に生じる干渉縞でファイバグレーテ
ィングを作製することができる（図７（ｂ）、
（ｃ））。したがって、このような例も本願発明の技術
範囲に包含されるものと解釈され、この場合、特許請求
の範囲において「±１次」の回折光の文言は二光束干渉
によってファイバの光伝播方向に対して垂直方向に干渉
縞を生じさせる次数の回折光（上記の例では０次と+１
次回折光、０次と+２次回折光、−１次と０次回折光、
−２次と０次回折光…など）と読替えるものとする。
【００６０】＜実施例＞紫外光を位相マスクを介してフ
ァイバにビーム照射し±１次回折光の二光束干渉によっ
て式１〜式３にしたがってファイバの光伝播方向に対し
て垂直方向に生じる干渉縞を生成すると共に、紫外光の
ビーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方を他方
に対して相対的に移動してファイバグレーティングを作
製した（図２）。
ァイバにビーム照射し±１次回折光の二光束干渉によっ
て式１〜式３にしたがってファイバの光伝播方向に対し
て垂直方向に生じる干渉縞を生成すると共に、紫外光の
ビーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方を他方
に対して相対的に移動してファイバグレーティングを作
製した（図２）。
【００６１】ＦＢＧ作製中に位相マスクがファイバに対
して垂直に移動した場合（式５）、±１次光の干渉縞は
ファイバに対して垂直に形成されるので、ＦＢＧの形成
される箇所は移動しない（図２（ａ））。一方、±１次
回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形
成される干渉縞は、位相マスクがファイバに対して垂直
に移動するとファイバ中に形成されるＦＢＧの位置が変
わってしまい、結果として±１次回折光以外の組合せに
よってファイバに対して斜めに形成される干渉縞によっ
て形成されるＦＢＧが弱くなる（図２（ｂ））。
して垂直に移動した場合（式５）、±１次光の干渉縞は
ファイバに対して垂直に形成されるので、ＦＢＧの形成
される箇所は移動しない（図２（ａ））。一方、±１次
回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形
成される干渉縞は、位相マスクがファイバに対して垂直
に移動するとファイバ中に形成されるＦＢＧの位置が変
わってしまい、結果として±１次回折光以外の組合せに
よってファイバに対して斜めに形成される干渉縞によっ
て形成されるＦＢＧが弱くなる（図２（ｂ））。
【００６２】従って、位相マスクをファイバに対して垂
直に動かした場合、±１次の干渉縞によって形成される
ＦＢＧだけが残り1.5μm損失の原因と考えられる斜めの
ＦＢＧ形成は阻害され、1.5μm損失が改善されたＦＢＧ
が形成できる。実際に位相マスク移動を用いてＦＢＧを
作製し、従来方法と1.5μm帯の損失を比較した。本発明
のマスク移動と従来方法のヒストグラムをそれぞれ図３
（ａ）、（ｂ）に示す。また、従来方法と本発明のマス
ク移動のＦＢＧ透過スペクトルを図４、図５に示す。従
来方法では損失0.6dB以下のものは全体の65%を占めてい
るのに対して、本発明のマスク移動では損失0.6dB以下
のものが全体の90%を占めており、本発明の有用性を示
す結果が得られた。
直に動かした場合、±１次の干渉縞によって形成される
ＦＢＧだけが残り1.5μm損失の原因と考えられる斜めの
ＦＢＧ形成は阻害され、1.5μm損失が改善されたＦＢＧ
が形成できる。実際に位相マスク移動を用いてＦＢＧを
作製し、従来方法と1.5μm帯の損失を比較した。本発明
のマスク移動と従来方法のヒストグラムをそれぞれ図３
（ａ）、（ｂ）に示す。また、従来方法と本発明のマス
ク移動のＦＢＧ透過スペクトルを図４、図５に示す。従
来方法では損失0.6dB以下のものは全体の65%を占めてい
るのに対して、本発明のマスク移動では損失0.6dB以下
のものが全体の90%を占めており、本発明の有用性を示
す結果が得られた。
【００６３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のファイバグレーティングによれば、光通信システムに
おいて、ファイバ中でたとえば1550nm帯の通信波長光を
透過伝播させ、通信波長光以外の監視光として用いられ
る1650nm帯の監視波長λBIJの光を遮断するフィルタと
して機能させて反射させファイバの破損等の状態を監視
することができる。本発明のファイバグレーティングで
は、反射中心波長λBIJの短波長側の波長（およそ0.9λ
BIJから0.99λBIJ）の範囲における通信波長の損失を抑
えることができる。
のファイバグレーティングによれば、光通信システムに
おいて、ファイバ中でたとえば1550nm帯の通信波長光を
透過伝播させ、通信波長光以外の監視光として用いられ
る1650nm帯の監視波長λBIJの光を遮断するフィルタと
して機能させて反射させファイバの破損等の状態を監視
することができる。本発明のファイバグレーティングで
は、反射中心波長λBIJの短波長側の波長（およそ0.9λ
BIJから0.99λBIJ）の範囲における通信波長の損失を抑
えることができる。
【図１】（ａ）は±１次回折光の二光束干渉によってフ
ァイバの光伝播方向に対して垂直方向に生じる干渉縞に
よるファイバグレーティングの形成例を示す図、（ｂ）
は±１次回折光以外の二光束干渉によって斜行方向に生
じる干渉縞によるファイバグレーティングの形成例を示
す図。
ァイバの光伝播方向に対して垂直方向に生じる干渉縞に
よるファイバグレーティングの形成例を示す図、（ｂ）
は±１次回折光以外の二光束干渉によって斜行方向に生
じる干渉縞によるファイバグレーティングの形成例を示
す図。
【図２】（ａ）は±１次回折光の二光束干渉によってフ
ァイバの光伝播方向に対して垂直方向に干渉縞を生じさ
せ位相マスクをファイバに対して垂直方向に移動するこ
とによる本発明のファイバグレーティングを示す図、
（ｂ）は±１次回折光以外の組合せによる二光束干渉に
よって斜行方向に干渉縞を生じさせ位相マスクをファイ
バに対して垂直方向に移動することによる本発明のファ
イバグレーティングを示す図。
ァイバの光伝播方向に対して垂直方向に干渉縞を生じさ
せ位相マスクをファイバに対して垂直方向に移動するこ
とによる本発明のファイバグレーティングを示す図、
（ｂ）は±１次回折光以外の組合せによる二光束干渉に
よって斜行方向に干渉縞を生じさせ位相マスクをファイ
バに対して垂直方向に移動することによる本発明のファ
イバグレーティングを示す図。
【図３】（ａ）は本発明のマスク移動によるファイバグ
レーティングの1.5μm帯の損失におけるヒストグラム、
（ｂ）は従来方法によるファイバグレーティングの1.5
μm帯の損失におけるヒストグラム。
レーティングの1.5μm帯の損失におけるヒストグラム、
（ｂ）は従来方法によるファイバグレーティングの1.5
μm帯の損失におけるヒストグラム。
【図４】従来方法によるファイバグレーティングのＦＢ
Ｇ透過スペクトル。
Ｇ透過スペクトル。
【図５】本発明のマスク移動によるファイバグレーティ
ングのＦＢＧ透過スペクトル。
ングのＦＢＧ透過スペクトル。
【図６】（ａ）、（ｂ）は本発明のマスク移動によるフ
ァイバグレーティングの説明図。
ァイバグレーティングの説明図。
【図７】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は本発明によるファイ
バグレーティングの実施の形態例を示す説明図。
バグレーティングの実施の形態例を示す説明図。
１・・・・・ファイバ ２ａ・・・・・位相マスク ３ａ・・・・・回折光 ４・・・・・干渉縞 ＦＢＧ・・・・・ファイバグレーティング Ｉ、Ｊ・・・・・紫外光 λuv・・・・・紫外光の波長 ｎc λ uv・・・・・波長λuvでのコアの屈折率 λBIJ・・・・・紫外光Ｉ、Ｊの干渉縞によってファイバコア
に形成されるファイバグレーティングによって反射され
うるファイバを伝播してきた光の波長 ｎc λ BIJ・・・・・波長λBIJでのコアの屈折率 ΛIJ・・・・・周期 Λｍ、ΛIJ ⊥・・・・・移動量 ＰＤ・・・・・ファイバの光伝播方向 ＶＤ・・・・・ファイバの光伝播方向に垂直な方向 θI・・・・・紫外光Ｉのファイバの光伝播方向に垂直な方向
からの角度 θJ・・・・・紫外光Ｊのファイバの光伝播方向に垂直な方向
からの角度 θIJ・・・・・干渉縞のファイバの光伝播方向に垂直な方向
からの角度 Ｎ・・・・・１以上の正の整数
に形成されるファイバグレーティングによって反射され
うるファイバを伝播してきた光の波長 ｎc λ BIJ・・・・・波長λBIJでのコアの屈折率 ΛIJ・・・・・周期 Λｍ、ΛIJ ⊥・・・・・移動量 ＰＤ・・・・・ファイバの光伝播方向 ＶＤ・・・・・ファイバの光伝播方向に垂直な方向 θI・・・・・紫外光Ｉのファイバの光伝播方向に垂直な方向
からの角度 θJ・・・・・紫外光Ｊのファイバの光伝播方向に垂直な方向
からの角度 θIJ・・・・・干渉縞のファイバの光伝播方向に垂直な方向
からの角度 Ｎ・・・・・１以上の正の整数
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森下 裕一 神奈川県川崎市川崎区小田栄２丁目１番１ 号 昭和電線電纜株式会社内 Ｆターム(参考） 2H050 AC82 AC84 AD00
Claims (17)
- 【請求項１】紫外光を位相マスクを介してファイバにビ
ーム照射し±１次回折光の二光束干渉によってファイバ
の光伝播方向に対して垂直方向に生じる干渉縞でグレー
ティングを作製すると共に、前記紫外光のビーム照射中
に前記位相マスクおよび前記ファイバの一方または両方
を他方に対して相対的に移動して±１次以外の０次と１
次、−１次と２次、…などの回折光の組合せによる二光
束干渉によってファイバの光伝播方向に対して斜行方向
に生じる干渉縞を減少させるファイバグレーティングで
あって、 前記干渉縞は、下記式１乃至３で表される紫外光Ｉ＝１
次回折光、紫外光Ｊ＝−１次回折光のときファイバを伝
播してきた波長λBIJの光が反射され、紫外光Ｉ＝１次
回折光、紫外光Ｊ＝−１次回折光以外の組合せのとき波
長λBIJの光が透過するよう紫外光Ｉと紫外光Ｊよって
ファイバに形成される周期ΛIJ、干渉縞のファイバの光
伝播方向に垂直な方向からの角度θIJを有することを特
徴とするファイバグレーティング。 【数１】 【数２】 【数３】 （ここに、θI、θJはそれぞれ紫外光Ｉ、紫外光Ｊのフ
ァイバの光伝播方向に垂直な方向からの角度（但し、−
９０°＜θJ＜θI≦＋９０°、角度の測りかたは光伝播
方向に垂直な方向に対して左回りに角度が増える場合を
正の角度、右回りに角度が増える場合を負の角度とす
る）、λuvは紫外光の波長、ｎc λ uvは波長λuvでのコ
アの屈折率、λBIJはグレーティングで反射されうる伝
播してきた光の波長、ｎc λ BIJは波長λBIJでのコアの
屈折率、Ｎは１以上の正の整数） - 【請求項２】前記位相マスクおよび前記ファイバの一方
または両方を他方に対して相対的に前記ファイバの光伝
播方向に垂直な方向に対して角度θｍの方向に移動する
際の移動量Λｍは下記式４で与えられることを特徴とす
る請求項１記載のファイバグレーティング。 【数４】 （ここに、θｍ≠θIJ、且つ−９０°＜θｍ≦＋９０
°） - 【請求項３】前記位相マスクおよび前記ファイバの一方
または両方を他方に対して相対的に前記ファイバの光伝
播方向に垂直な方向に移動する際の移動量ΛIJ ⊥は下記
式５で与えられることを特徴とする請求項１記載のファ
イバグレーティング。 【数５】 （ここに、θIJ≠０） - 【請求項４】前記移動量は連続的に変化させることを特
徴とする請求項２または３記載のファイバグレーティン
グ。 - 【請求項５】前記移動量は段階的に変化させることを特
徴とする請求項２または３記載のファイバグレーティン
グ。 - 【請求項６】前記位相マスクに垂直に前記紫外光を照射
することを特徴とする請求項１記載のファイバグレーテ
ィング。 - 【請求項７】前記位相マスクおよび前記ファイバの一方
または両方を他方に対して相対的に、かつファイバの光
伝播方向に垂直な方向に移動することを特徴とする請求
項６記載のファイバグレーティング。 - 【請求項８】前記ファイバは光ファイバであることを特
徴とする請求項１乃至７の何れか１項記載のファイバグ
レーティング。 - 【請求項９】前記ファイバは薄膜導波路であることを特
徴とする請求項１乃至７の何れか１項記載のファイバグ
レーティング。 - 【請求項１０】前記式３のファイバを伝播してきた波長
λBIJで損失が0.01〜1.0dBであることを特徴とする請求
項１記載のファイバグレーティング。 - 【請求項１１】前記式３のファイバを伝播してきた波長
λBIJで損失が0.01〜0.5dBであることを特徴とする請求
項１記載のファイバグレーティング。 - 【請求項１２】前記ファイバを伝播してきた波長λBIJ
が整数Ｎ＝１で式３を満足することを特徴とする請求項
１０記載のファイバグレーティング。 - 【請求項１３】前記ファイバを伝播してきた波長λBIJ
が整数Ｎ＝１で式３を満足することを特徴とする請求項
１１記載のファイバグレーティング。 - 【請求項１４】前記式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイ
バの光伝播方向に垂直な方向からの角度θIJ＝０で表さ
れる波長λBIJの反射率が９０％〜９９．９９％である
ことを特徴とする請求項１０記載のファイバグレーティ
ング。 - 【請求項１５】前記式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイ
バの光伝播方向に垂直な方向からの角度θIJ＝０で表さ
れる波長λBIJの反射率が９０％〜９９．９９％である
ことを特徴とする請求項１１記載のファイバグレーティ
ング。 - 【請求項１６】前記式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイ
バの光伝播方向に垂直な方向からの角度θIJ＝０で表さ
れる波長λBIJの反射率が９９％〜９９．９９％である
ことを特徴とする請求項１０記載のファイバグレーティ
ング。 - 【請求項１７】前記式３の整数Ｎ＝１、干渉縞のファイ
バの光伝播方向に垂直な方向からの角度θIJ＝０で表さ
れる波長λBIJの反射率が９９％〜９９．９９％である
ことを特徴とする請求項１１記載のファイバグレーティ
ング。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36533999A JP3955703B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | ファイバグレーティングの作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36533999A JP3955703B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | ファイバグレーティングの作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001183535A true JP2001183535A (ja) | 2001-07-06 |
| JP3955703B2 JP3955703B2 (ja) | 2007-08-08 |
Family
ID=18484024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36533999A Expired - Fee Related JP3955703B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | ファイバグレーティングの作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3955703B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001088573A1 (fr) * | 2000-05-18 | 2001-11-22 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Reseau de diffraction de type guide d'onde optique et procede de fabrication de ce reseau |
| JP2006243400A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ファイバグレーティングの製造方法及び製造装置 |
| WO2019177114A1 (ja) | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバおよび光ファイバグレーティング |
-
1999
- 1999-12-22 JP JP36533999A patent/JP3955703B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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