JP3330858B2 - 連続的にチャープした位相マスクの製造方法 - Google Patents
連続的にチャープした位相マスクの製造方法Info
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
- G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
- G02B6/02138—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
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- G—PHYSICS
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- G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
- G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
- G02B6/0208—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response
- G02B6/02085—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by their structure, wavelength response characterised by the grating profile, e.g. chirped, apodised, tilted, helical
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバブラグ
グレーティングに関し、特に信頼性を向上させた連続的
にチャープしたブラググレーティングの製造方法と装置
に関する。
グレーティングに関し、特に信頼性を向上させた連続的
にチャープしたブラググレーティングの製造方法と装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバは、現代通信システムのキー
コンポーネントである。光ファイバは、低損失で長距離
に亘って、大量の情報を含む光学信号を伝送できる細い
ガラスファイバである。光ファイバは、第１（高）屈折
率のコアを第２（低）屈折率のクラッド層で包囲した小
径の導波路である。コアに臨界許容角度以下の角度でも
って入射した光線は、光ファイバのコア内を全反射す
る。これらの光線は、最低の減衰でもって光ファイバの
軸に沿って導波される。通常光ファイバは、屈折率を制
御するために低濃度のドーパントを含有した高純度のシ
リカ製である。
コンポーネントである。光ファイバは、低損失で長距離
に亘って、大量の情報を含む光学信号を伝送できる細い
ガラスファイバである。光ファイバは、第１（高）屈折
率のコアを第２（低）屈折率のクラッド層で包囲した小
径の導波路である。コアに臨界許容角度以下の角度でも
って入射した光線は、光ファイバのコア内を全反射す
る。これらの光線は、最低の減衰でもって光ファイバの
軸に沿って導波される。通常光ファイバは、屈折率を制
御するために低濃度のドーパントを含有した高純度のシ
リカ製である。
【０００３】光ファイバブラググレーティングは、光フ
ァイバ内の光の波長を選択的に制御する重要な要素部品
である。通常ブラググレーティングは、光ファイバに沿
って、ほぼ等間隔の屈折率の複数の摂動（変動）を有す
る光ファイバである。これらの屈折率変動は、連続する
変動の間隔Λの２倍に等しい波長λの光を反射する、即
ちλ＝２Λである。残りの波長は、影響を受けずに通過
（透過）する。このようなブラググレーティングは、様
々な応用分野で使用されている。例えば、フィルタリン
グ処理，半導体レーザの安定化，光ファイバ増幅器，ポ
ンプエネルギの反射および光ファイバ分散の補償等であ
る。
ァイバ内の光の波長を選択的に制御する重要な要素部品
である。通常ブラググレーティングは、光ファイバに沿
って、ほぼ等間隔の屈折率の複数の摂動（変動）を有す
る光ファイバである。これらの屈折率変動は、連続する
変動の間隔Λの２倍に等しい波長λの光を反射する、即
ちλ＝２Λである。残りの波長は、影響を受けずに通過
（透過）する。このようなブラググレーティングは、様
々な応用分野で使用されている。例えば、フィルタリン
グ処理，半導体レーザの安定化，光ファイバ増幅器，ポ
ンプエネルギの反射および光ファイバ分散の補償等であ
る。
【０００４】従来の光ファイバブラググレーティング
は、紫外線に対し感光性の高いドーパントを有する光フ
ァイバ、例えば酸化ゲルマニウムでドーピングしたコア
を有する光ファイバを用意し、この光ファイバをエキシ
マレーザからの高強度の紫外線に周期的に露光する。こ
の紫外線は、感光性ドーパントと反応して局部屈折率に
長周期の変動をもたらす。従来のグレーティングを形成
する屈折率変動の周期的間隔は、物理的マスク，位相マ
スク，あるいは一対の干渉ビームを使用することにより
得られる。
は、紫外線に対し感光性の高いドーパントを有する光フ
ァイバ、例えば酸化ゲルマニウムでドーピングしたコア
を有する光ファイバを用意し、この光ファイバをエキシ
マレーザからの高強度の紫外線に周期的に露光する。こ
の紫外線は、感光性ドーパントと反応して局部屈折率に
長周期の変動をもたらす。従来のグレーティングを形成
する屈折率変動の周期的間隔は、物理的マスク，位相マ
スク，あるいは一対の干渉ビームを使用することにより
得られる。
【０００５】従来の光ファイバグレーティングにおける
問題点は、そのバンド幅が狭いことである。この従来の
光ファイバブラググレーティングは、λ＝２Λに中心を
有する狭いバンド幅の光のみを選択的に反射する。しか
し、レーザ増幅器ポンプエネルギの反射のような多くの
応用例においては、従来の単一周期グレーティングで得
られる波長領域よりも広い領域を有する広領域のバンド
幅グレーティングを得ることが望ましい。分散補償のよ
うな他の応用例においては、有限のバンド幅でもって伝
播する信号に波長依存性の時間遅延を与えることが望ま
しい。
問題点は、そのバンド幅が狭いことである。この従来の
光ファイバブラググレーティングは、λ＝２Λに中心を
有する狭いバンド幅の光のみを選択的に反射する。しか
し、レーザ増幅器ポンプエネルギの反射のような多くの
応用例においては、従来の単一周期グレーティングで得
られる波長領域よりも広い領域を有する広領域のバンド
幅グレーティングを得ることが望ましい。分散補償のよ
うな他の応用例においては、有限のバンド幅でもって伝
播する信号に波長依存性の時間遅延を与えることが望ま
しい。
【０００６】チャーピングと称する技術を用いて、広領
域のバンド幅の光を反射するグレーティングを生成し、
そしてこの反射されたバンド幅の光が波長依存性の時間
遅延を生成させることができることが認識されている。
このチャーピング技術は、屈折率変動を生成するため
に、一定の間隔Λ0 から増加する（あるいは減少する）
ような間隔Ｓに連続する屈折率変動の間の間隔を変化さ
せるものである。
域のバンド幅の光を反射するグレーティングを生成し、
そしてこの反射されたバンド幅の光が波長依存性の時間
遅延を生成させることができることが認識されている。
このチャーピング技術は、屈折率変動を生成するため
に、一定の間隔Λ0 から増加する（あるいは減少する）
ような間隔Ｓに連続する屈折率変動の間の間隔を変化さ
せるものである。
【０００７】このチャープしたデバイスは、より幅の広
い周期を有するために反射信号のバンド幅は増加する。
波長依存性の時間遅延がこの反射信号に導入されるが、
その理由は、それらを反射するのに必要な間隔（周期）
に遭遇する前に異なるパス長さを様々な波長が伝播する
からである。しかし、このようなチャープグレーティン
グはその製造が容易ではない。
い周期を有するために反射信号のバンド幅は増加する。
波長依存性の時間遅延がこの反射信号に導入されるが、
その理由は、それらを反射するのに必要な間隔（周期）
に遭遇する前に異なるパス長さを様々な波長が伝播する
からである。しかし、このようなチャープグレーティン
グはその製造が容易ではない。
【０００８】連続的にチャープしたグレーティングは、
屈折率変動間の各連続的な周期に対し増加する周期的増
分を付加したり取り除いたりする。理想的にはこの増分
は線形に増加するが、しかし他の単調な関数、例えば二
次関数あるいは（距離の）自乗平方をとった変動もある
種の応用例では有益である。さらにまた連続チャープグ
レーティングを生成するような位相マスクを生成するた
めに、最新技術の電子ビームリソグラフィを用いる努力
もなされている。しかし、このようにして生成された位
相マスクは、周期が階段状にしか変化せず、階段状チャ
ープ（step-chirped）グレーティングと称する連続的グ
レーティングの近似物しか生成できない。
屈折率変動間の各連続的な周期に対し増加する周期的増
分を付加したり取り除いたりする。理想的にはこの増分
は線形に増加するが、しかし他の単調な関数、例えば二
次関数あるいは（距離の）自乗平方をとった変動もある
種の応用例では有益である。さらにまた連続チャープグ
レーティングを生成するような位相マスクを生成するた
めに、最新技術の電子ビームリソグラフィを用いる努力
もなされている。しかし、このようにして生成された位
相マスクは、周期が階段状にしか変化せず、階段状チャ
ープ（step-chirped）グレーティングと称する連続的グ
レーティングの近似物しか生成できない。
【０００９】具体的に説明すると、この位相マスクは、
各ステップが一定間隔で多くの屈折率変動を有するよう
な連続した部分（ステップ）を有するグレーティングを
生成してしまう。このような間隔は、あるステップから
次のステップにのみ段階的に変化するが、連続して（滑
らかに）は変化しない。このようなステップチャープグ
レーティングは、ステップ間の位相境界に位相の不連続
性を示し、技術的に難しい通信の応用における分散補償
に必要な波長に連続的な遅延時間の変動を与えることは
できない。
各ステップが一定間隔で多くの屈折率変動を有するよう
な連続した部分（ステップ）を有するグレーティングを
生成してしまう。このような間隔は、あるステップから
次のステップにのみ段階的に変化するが、連続して（滑
らかに）は変化しない。このようなステップチャープグ
レーティングは、ステップ間の位相境界に位相の不連続
性を示し、技術的に難しい通信の応用における分散補償
に必要な波長に連続的な遅延時間の変動を与えることは
できない。
【００１０】チャープグレーティングを生成する別の研
究開発努力は、チャーピングに影響を及ぼすために光フ
ァイバを物理的に変化させることである。例えば、グレ
ーティングを書き込む従来のプロセスの前または後で光
ファイバを曲げたり、応力をかけたりテーパをつけたり
することである。これに関しては、Q. Zhang et al.著
の“Linearly and Nonlinearly Chirped Bragg Gration
gs Fabricated on curved Fibers”, Optics Letters,
Vol. 20, No. 10, p. 1122 (1995) を参照のこと。しか
し、このようなアプローチにおける問題点は、テーパを
つけたり，応力をかけたり，曲げたりすることは光ファ
イバの性能を劣化させ、信頼性を低下させることにな
る。そして、これらは再現性の問題もある。
究開発努力は、チャーピングに影響を及ぼすために光フ
ァイバを物理的に変化させることである。例えば、グレ
ーティングを書き込む従来のプロセスの前または後で光
ファイバを曲げたり、応力をかけたりテーパをつけたり
することである。これに関しては、Q. Zhang et al.著
の“Linearly and Nonlinearly Chirped Bragg Gration
gs Fabricated on curved Fibers”, Optics Letters,
Vol. 20, No. 10, p. 1122 (1995) を参照のこと。しか
し、このようなアプローチにおける問題点は、テーパを
つけたり，応力をかけたり，曲げたりすることは光ファ
イバの性能を劣化させ、信頼性を低下させることにな
る。そして、これらは再現性の問題もある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、信頼性を向上させた連続的（滑らか）にチャープ
した光ファイバブラググレーティングを製造する方法お
よび装置を提供することである。
的は、信頼性を向上させた連続的（滑らか）にチャープ
した光ファイバブラググレーティングを製造する方法お
よび装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、連続的
にチャープした光ファイバブラググレーティングは、連
続的にチャープした位相マスクを製造し、このマスクを
用いて直線状に平行に配置された光ファイバにブラググ
レーティングを書き込む。このチャープした位相マスク
は、フォトレジストをコーティングしたマスク基板を２
本の干渉ビームに露光し、そのうち一方のビームは、コ
リメートしたビームであり、他方のビームは、滑らかに
湾曲したミラーから反射したビームである。
にチャープした光ファイバブラググレーティングは、連
続的にチャープした位相マスクを製造し、このマスクを
用いて直線状に平行に配置された光ファイバにブラググ
レーティングを書き込む。このチャープした位相マスク
は、フォトレジストをコーティングしたマスク基板を２
本の干渉ビームに露光し、そのうち一方のビームは、コ
リメートしたビームであり、他方のビームは、滑らかに
湾曲したミラーから反射したビームである。
【００１３】このようにして得られた位相マスクを用い
て光ファイバに物理的な変化を施すことなく連続的に変
化したグレーティング周期を有するチャープファイバグ
レーティングを書き込む。このようにして得られた光フ
ァイバグレーティングは、バンド幅が広がり、高度な通
信アプリケーションにおける分散補償に有効な均一の分
散遅延特性を有する。
て光ファイバに物理的な変化を施すことなく連続的に変
化したグレーティング周期を有するチャープファイバグ
レーティングを書き込む。このようにして得られた光フ
ァイバグレーティングは、バンド幅が広がり、高度な通
信アプリケーションにおける分散補償に有効な均一の分
散遅延特性を有する。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は信頼性を向上させた連続的
にチャープした光ファイバブラググレーティングの製造
ステップを表す図である。最初のステップは、光ファイ
バ用のそして特定の波長に対し連続的にチャープした位
相マスクの製造に関し、最終ステップは、グレーティン
グを光ファイバに書き込むものである。
にチャープした光ファイバブラググレーティングの製造
ステップを表す図である。最初のステップは、光ファイ
バ用のそして特定の波長に対し連続的にチャープした位
相マスクの製造に関し、最終ステップは、グレーティン
グを光ファイバに書き込むものである。
【００１５】図１のブロックＡに示す第１ステップは、
フォトレジストをコーティングした平面状表面を有する
位相グレーティング用の基板を用意する。この基板は、
３０×６０×３ｍｍの寸法を有する融解石英製の長方形
の板で、フォトレジストのコーティング層（例、Shiple
y S1400 （登録商標））は、その主表面上に０．４μｍ
厚の厚さを形成する。
フォトレジストをコーティングした平面状表面を有する
位相グレーティング用の基板を用意する。この基板は、
３０×６０×３ｍｍの寸法を有する融解石英製の長方形
の板で、フォトレジストのコーティング層（例、Shiple
y S1400 （登録商標））は、その主表面上に０．４μｍ
厚の厚さを形成する。
【００１６】ブロックＢに示すように、次のステップ
は、このフォトレジスト層を一対の干渉光ビームにさら
し、一方のビームはコリメートしたビームであり、他方
は、滑らかに湾曲したミラーからのコリメートしたビー
ムの反射光でこれによりフォトレジストに連続的にチャ
ープしたグレーティングパターンを露光する。
は、このフォトレジスト層を一対の干渉光ビームにさら
し、一方のビームはコリメートしたビームであり、他方
は、滑らかに湾曲したミラーからのコリメートしたビー
ムの反射光でこれによりフォトレジストに連続的にチャ
ープしたグレーティングパターンを露光する。
【００１７】次に図２は、チャープした位相マスクを形
成する露光システム２０を示す。この露光システム２０
は、コヒーレントの光源（図示せず）と２本のビーム光
を基板２３のフォトレジスト塗布表面２２に向けるコリ
メートレンズ２１を有する。第１ビーム２４は、コリメ
ートした直接光であり、第２ビーム２５は、湾曲ミラー
２６から反射されたコリメートビームの一部である。こ
の２本のビームは、フォトレジスト塗布表面２２で干渉
する。湾曲したミラーは、関連領域で滑らかに湾曲して
いなければならない。この湾曲は、図に示すような凸状
あるいは凹状である。
成する露光システム２０を示す。この露光システム２０
は、コヒーレントの光源（図示せず）と２本のビーム光
を基板２３のフォトレジスト塗布表面２２に向けるコリ
メートレンズ２１を有する。第１ビーム２４は、コリメ
ートした直接光であり、第２ビーム２５は、湾曲ミラー
２６から反射されたコリメートビームの一部である。こ
の２本のビームは、フォトレジスト塗布表面２２で干渉
する。湾曲したミラーは、関連領域で滑らかに湾曲して
いなければならない。この湾曲は、図に示すような凸状
あるいは凹状である。
【００１８】コヒーレントな露光ビームは、４５７．９
ｎｍで動作するＡｒイオンレーザにより与えられる。湾
曲ミラー２６は、約１０ｃｍの長さのシリコンウェハの
ようなフレキシブルなミラーである。このミラーと基板
の組立体がステッピングモータにより制御された回転ス
テージ（０．００１度の解像度）の上に搭載され、露光
ビームに対する入射角を正確に制御する。
ｎｍで動作するＡｒイオンレーザにより与えられる。湾
曲ミラー２６は、約１０ｃｍの長さのシリコンウェハの
ようなフレキシブルなミラーである。このミラーと基板
の組立体がステッピングモータにより制御された回転ス
テージ（０．００１度の解像度）の上に搭載され、露光
ビームに対する入射角を正確に制御する。
【００１９】この基板２３は、線形の移動ステージ（図
示せず）上に搭載して、複数のグレーティング露光が可
能なようにしてもよい。このミラーの湾曲量は移動ステ
ージ上に搭載されたバー２８により制御される。このス
テージは、コンピュータ制御で単一基板上に複数のグレ
ーティングを生成する高度に再現可能な方法を提供す
る。
示せず）上に搭載して、複数のグレーティング露光が可
能なようにしてもよい。このミラーの湾曲量は移動ステ
ージ上に搭載されたバー２８により制御される。このス
テージは、コンピュータ制御で単一基板上に複数のグレ
ーティングを生成する高度に再現可能な方法を提供す
る。
【００２０】次にこの装置の動作について説明する。来
入コリメートビームは、垂直軸に対し、半分に分割され
る。そのうち一方の半分のビームの波面は、コリメート
された状態で、他方の半分のビームは、湾曲ミラー２６
からの反射により、発散する波面に変換される。基板２
３で干渉ビームにより生成されるグレーティング周期
は、次式で与えられる。 Λpm＝λ／２ｓｉｎ（α／２） ここで、λは干渉計露光波長で、αは２本のビームの間
の角度である。
入コリメートビームは、垂直軸に対し、半分に分割され
る。そのうち一方の半分のビームの波面は、コリメート
された状態で、他方の半分のビームは、湾曲ミラー２６
からの反射により、発散する波面に変換される。基板２
３で干渉ビームにより生成されるグレーティング周期
は、次式で与えられる。 Λpm＝λ／２ｓｉｎ（α／２） ここで、λは干渉計露光波長で、αは２本のビームの間
の角度である。
【００２１】αは２本のビームが干渉する露光面の長さ
に沿って変化するので、グレーティング周期は、位相マ
スク上の位置の関数となり、連続的にチャープする。さ
らにフレキシブルな湾曲ミラーを用いることによりグレ
ーティング周期のチャープ量は、ミラーの曲げを調整す
ることにより変化させることができる。
に沿って変化するので、グレーティング周期は、位相マ
スク上の位置の関数となり、連続的にチャープする。さ
らにフレキシブルな湾曲ミラーを用いることによりグレ
ーティング周期のチャープ量は、ミラーの曲げを調整す
ることにより変化させることができる。
【００２２】図２に示した方法と装置の利点は、湾曲ミ
ラー２６がフレキシブルでチャープ量を変化させること
ができる点である。チャープ量はミラーのズレｄと、グ
レーティングの周期の両方の関数である。ｄが変化する
と、角度が変化し、これによりビームのコリメート部分
が干渉する。図２の基板／ミラーの組立体は、露光ビー
ムに対し、回転可能でこれにより位相マスクの周期を変
化させることができるので、最大のグレーティング長さ
は、あるビームの露光角度とミラーの大きさの関数であ
る。さらにまた、反射ビームの等角度分散（equal angu
lar distributions） は、露光角に依存した様々なチャ
ープ量を与えることになる。
ラー２６がフレキシブルでチャープ量を変化させること
ができる点である。チャープ量はミラーのズレｄと、グ
レーティングの周期の両方の関数である。ｄが変化する
と、角度が変化し、これによりビームのコリメート部分
が干渉する。図２の基板／ミラーの組立体は、露光ビー
ムに対し、回転可能でこれにより位相マスクの周期を変
化させることができるので、最大のグレーティング長さ
は、あるビームの露光角度とミラーの大きさの関数であ
る。さらにまた、反射ビームの等角度分散（equal angu
lar distributions） は、露光角に依存した様々なチャ
ープ量を与えることになる。
【００２３】露光した後、第３のステップは、フォトレ
ジストの現像をすることである（図１のブロックＣ）。
現像の終点は、５０％デューティサイクルとなるような
フォトレジストがクリアとなった点に対応する。グレー
ティング周期とチャープは、Ｈｅ−Ｎｅレーザで＋１と
−１の複屈折オーダーのリトロアングル（Littrow angl
es）を測定することにより算出することができる。
ジストの現像をすることである（図１のブロックＣ）。
現像の終点は、５０％デューティサイクルとなるような
フォトレジストがクリアとなった点に対応する。グレー
ティング周期とチャープは、Ｈｅ−Ｎｅレーザで＋１と
−１の複屈折オーダーのリトロアングル（Littrow angl
es）を測定することにより算出することができる。
【００２４】ブロックＤに示す次のステップは、フォト
レジストパターンを基板に適当な深さまでエッチングし
て、連続的にチャープした表面凹凸グレーティングを有
する位相マスクを形成することである。この基板は、Ｕ
Ｖ露光波長でπの位相シフトに対応する深さまで反応性
イオンエッチングチェンバー内でＣＨＦ3 でもってエッ
チングするのが好ましい。その後、このようにしてパタ
ーン化されたフォトレジストを、従来のウェット化学処
理でもってステップＥで示すように石英基板から取り除
く。
レジストパターンを基板に適当な深さまでエッチングし
て、連続的にチャープした表面凹凸グレーティングを有
する位相マスクを形成することである。この基板は、Ｕ
Ｖ露光波長でπの位相シフトに対応する深さまで反応性
イオンエッチングチェンバー内でＣＨＦ3 でもってエッ
チングするのが好ましい。その後、このようにしてパタ
ーン化されたフォトレジストを、従来のウェット化学処
理でもってステップＥで示すように石英基板から取り除
く。
【００２５】図３は、このようにして得られた連続的に
チャープした位相マスク３０を示し、この連続的にチャ
ープした位相マスク３０は交互に形成された厚い領域３
３と薄い領域３４のシーケンスを含む表面３２を有する
基板３１からなる。このシーケンスは、表面凹凸グレー
ティングと称する（これは光ファイバグレーティングで
はない）。
チャープした位相マスク３０を示し、この連続的にチャ
ープした位相マスク３０は交互に形成された厚い領域３
３と薄い領域３４のシーケンスを含む表面３２を有する
基板３１からなる。このシーケンスは、表面凹凸グレー
ティングと称する（これは光ファイバグレーティングで
はない）。
【００２６】基板３１は、通常融解石英製で、ＵＶ光の
透過が可能である。使用に際しては、ＵＶ光の入射ビー
ム３５をこのマスクに直接当てる。入射ビームは、２Ｎ
＋１オーダーの複数の回析ビームに分解される。ここで
Ｎは、位相マスクの周期により３と５の間である。この
構造体は、±１次の透過光を最大にし、そして０次の透
過を最低にするために最適化される。
透過が可能である。使用に際しては、ＵＶ光の入射ビー
ム３５をこのマスクに直接当てる。入射ビームは、２Ｎ
＋１オーダーの複数の回析ビームに分解される。ここで
Ｎは、位相マスクの周期により３と５の間である。この
構造体は、±１次の透過光を最大にし、そして０次の透
過を最低にするために最適化される。
【００２７】０次の透過は、厚い領域３３と薄い領域３
４との差厚ｔにより決定される。０次の透過を完全にキ
ャンセルするために、ｔは大気に対し融解石英中を伝播
する光に対しπ（１８０゜）の位相遅延に対応する。こ
のπの位相シフトは、０次の透過ビームに対し、破壊的
な干渉となる。この厚さｔπは次式で与えられる。 ｔπ＝λ／２（ｎ−１） ここでλは入射光の波長で、ｎはその波長における屈折
率を表す。
４との差厚ｔにより決定される。０次の透過を完全にキ
ャンセルするために、ｔは大気に対し融解石英中を伝播
する光に対しπ（１８０゜）の位相遅延に対応する。こ
のπの位相シフトは、０次の透過ビームに対し、破壊的
な干渉となる。この厚さｔπは次式で与えられる。 ｔπ＝λ／２（ｎ−１） ここでλは入射光の波長で、ｎはその波長における屈折
率を表す。
【００２８】０次の透過は、次式で定義されるグレーテ
ィングのデューティサイクルＤの関数でもある。 Ｄ＝ａ／Λpm ここでａは厚い領域３３の幅であり、ΛPMは厚い領域３
３と隣接する薄い領域３４の合計幅である。
ィングのデューティサイクルＤの関数でもある。 Ｄ＝ａ／Λpm ここでａは厚い領域３３の幅であり、ΛPMは厚い領域３
３と隣接する薄い領域３４の合計幅である。
【００２９】矩形のプロファイル位相グレーティングに
おいては、０次の透過効率η0 は次式で与えられる。 η0＝１＋４Ｄ（Ｄ−１）sin2（πｔ／２ｔπ）
おいては、０次の透過効率η0 は次式で与えられる。 η0＝１＋４Ｄ（Ｄ−１）sin2（πｔ／２ｔπ）
【００３０】η0 ＜０．０５とするのが好ましいが、理
由は回析しない光は、光ファイバブラググレーティング
の屈折率変化を減少させることになるからである。ｔ＝
ｔπの場合には、デューティサイクルＤはη0 ＜０．０
５において、０．３９＜Ｄ＜０．６１である。別の例と
しては、Ｄ＝０．５における許容可能な厚さの変化ｔ
は、０．８６ｔπ＜ｔ＜１．１４ｔπである。このデュ
ーティサイクルは０次透過の増加の主要原因となるが、
不完全なエッチ深さの変動の複雑な影響が上記に挙げた
ものよりもより許容差を厳しくする。
由は回析しない光は、光ファイバブラググレーティング
の屈折率変化を減少させることになるからである。ｔ＝
ｔπの場合には、デューティサイクルＤはη0 ＜０．０
５において、０．３９＜Ｄ＜０．６１である。別の例と
しては、Ｄ＝０．５における許容可能な厚さの変化ｔ
は、０．８６ｔπ＜ｔ＜１．１４ｔπである。このデュ
ーティサイクルは０次透過の増加の主要原因となるが、
不完全なエッチ深さの変動の複雑な影響が上記に挙げた
ものよりもより許容差を厳しくする。
【００３１】数値的な例を挙げると、位相マスクを露光
波長が２４４ｎｍで、１５５０ｎｍの光ファイバブラグ
波長を生成するために用いるよう設計した。ｎ＝１．４
５とすると、１５５０ｎｍのブラグ波長に対する位相マ
スク周期は、ΛPM＝１．０６９μｍである。そしてη0
＜０．０５に対する許容可能なデューティサイクルの変
動は、０．５３４μｍ±１１８ｎｍの厚さ領域の幅に対
応する。厚さの差は、０．２７１μｍ±３８ｎｍであ
る。
波長が２４４ｎｍで、１５５０ｎｍの光ファイバブラグ
波長を生成するために用いるよう設計した。ｎ＝１．４
５とすると、１５５０ｎｍのブラグ波長に対する位相マ
スク周期は、ΛPM＝１．０６９μｍである。そしてη0
＜０．０５に対する許容可能なデューティサイクルの変
動は、０．５３４μｍ±１１８ｎｍの厚さ領域の幅に対
応する。厚さの差は、０．２７１μｍ±３８ｎｍであ
る。
【００３２】図４は、反射波長がλ＝１４８０ｎｍ用に
上記のようにして形成された２０ｍｍ長さのグレーティ
ングに沿って測定したチャープを表す。広領域のグレー
ティングにおいては線形チャープが望ましく、その結果
ブラグ波長の変化は長さに沿って均一に分布している。
図４から明なように、グレーティングの長さ方向に沿っ
たチャーププロファイルはほぼ直線である。
上記のようにして形成された２０ｍｍ長さのグレーティ
ングに沿って測定したチャープを表す。広領域のグレー
ティングにおいては線形チャープが望ましく、その結果
ブラグ波長の変化は長さに沿って均一に分布している。
図４から明なように、グレーティングの長さ方向に沿っ
たチャーププロファイルはほぼ直線である。
【００３３】図１のブロックＦに示すように、光ファイ
バグレーティングの第６ステップは、光ファイバにチャ
ープしたブラググレーティングを書き込むためにチャー
プした位相マスクを使用することである。チャープした
ファイバブラググレーティングは、光ファイバに悪影響
を及ぼすことなくチャープした位相マスクを用いて形成
できる。
バグレーティングの第６ステップは、光ファイバにチャ
ープしたブラググレーティングを書き込むためにチャー
プした位相マスクを使用することである。チャープした
ファイバブラググレーティングは、光ファイバに悪影響
を及ぼすことなくチャープした位相マスクを用いて形成
できる。
【００３４】ＵＶ感光性光ファイバを位相マスクの近傍
の領域に配置する。この領域は２本の回析ビームがオー
バーラップしており、そしてグレーティングがマスクを
通して直角にコリメートしたＵＶ光を向けることにより
光ファイバに書き込まれる。この光ファイバには応力が
かけられたり、曲げたりテーパーを形成する必要はな
い。再現性を高めるために、光ファイバは、位相マスク
に対し、平行にかつ真っ直ぐに配置される。光ファイバ
とマスクとの間の距離は２００μｍのオーダーで、露光
量は１００−４００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスである。
の領域に配置する。この領域は２本の回析ビームがオー
バーラップしており、そしてグレーティングがマスクを
通して直角にコリメートしたＵＶ光を向けることにより
光ファイバに書き込まれる。この光ファイバには応力が
かけられたり、曲げたりテーパーを形成する必要はな
い。再現性を高めるために、光ファイバは、位相マスク
に対し、平行にかつ真っ直ぐに配置される。光ファイバ
とマスクとの間の距離は２００μｍのオーダーで、露光
量は１００−４００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスである。
【００３５】図５はこのようにして得られたチャープし
た光ファイバブラググレーティング６０の断面図で、こ
のチャープした光ファイバブラググレーティング６０は
第１（高）屈折率のコア６１とこの周囲に形成された第
２（低い）屈折率のクラッド層６２とを有する。このコ
ア６１は光ファイバの長さ方向に沿って離間した複数の
屈折率変動領域６４を有するチャープしたグレーティン
グ６３を有する。このチャープしたグレーティング６３
は本質的に連続的（滑らか）にチャープしている。理由
は、位相マスクは連続的に湾曲したミラーを使用するこ
とにより連続的にチャープしているからである。
た光ファイバブラググレーティング６０の断面図で、こ
のチャープした光ファイバブラググレーティング６０は
第１（高）屈折率のコア６１とこの周囲に形成された第
２（低い）屈折率のクラッド層６２とを有する。このコ
ア６１は光ファイバの長さ方向に沿って離間した複数の
屈折率変動領域６４を有するチャープしたグレーティン
グ６３を有する。このチャープしたグレーティング６３
は本質的に連続的（滑らか）にチャープしている。理由
は、位相マスクは連続的に湾曲したミラーを使用するこ
とにより連続的にチャープしているからである。
【００３６】図６は、チャープした位相マスクを形成す
る際に用いられる湾曲ミラーの変位と光ファイバブラグ
グレーティングの波長チャープとの関係を表すグラフで
ある。このグラフは有効屈折率が１．４５の光ファイバ
に書き込まれた９８０ｎｍと１４８０ｎｍのブラググレ
ーティングを表す。
る際に用いられる湾曲ミラーの変位と光ファイバブラグ
グレーティングの波長チャープとの関係を表すグラフで
ある。このグラフは有効屈折率が１．４５の光ファイバ
に書き込まれた９８０ｎｍと１４８０ｎｍのブラググレ
ーティングを表す。
【００３７】一例として、ブラググレーティングは、２
３ｎｍ／ｃｍでチャープした０．６ｃｍの位相マスクを
用いることにより形成された。図７はこのグレーティン
グの透過スペクトラムを表す。短波長側での拡張したデ
ィップ（窪み、ギザギザ）は、グレーティング中を透過
する際に発生する放射モードでの結合に起因する。反射
装置として用いられる場合には、放射モード結合は発生
せず、光はブラググレーティング共鳴中の波長に対して
のみ反射される。このスペクトラムは、１．４５ｎｍ−
１０ｄＢ幅を有し、これは予測した幅とよく一致する。
より広領域のグレーティングは、位相マスクのより大き
な部分あるいはマスクチャープを増加させることのいず
れかにより書き込むことができる。
３ｎｍ／ｃｍでチャープした０．６ｃｍの位相マスクを
用いることにより形成された。図７はこのグレーティン
グの透過スペクトラムを表す。短波長側での拡張したデ
ィップ（窪み、ギザギザ）は、グレーティング中を透過
する際に発生する放射モードでの結合に起因する。反射
装置として用いられる場合には、放射モード結合は発生
せず、光はブラググレーティング共鳴中の波長に対して
のみ反射される。このスペクトラムは、１．４５ｎｍ−
１０ｄＢ幅を有し、これは予測した幅とよく一致する。
より広領域のグレーティングは、位相マスクのより大き
な部分あるいはマスクチャープを増加させることのいず
れかにより書き込むことができる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、信頼性を
向上させた連続的にチャープした光ファイバブラググレ
ーティングを製造する方法および装置を提供するもので
ある。
向上させた連続的にチャープした光ファイバブラググレ
ーティングを製造する方法および装置を提供するもので
ある。
【図１】信頼性を向上させた連続的にチャープした光フ
ァイバブラググレーティングの製造ステップを表すブロ
ック図
ァイバブラググレーティングの製造ステップを表すブロ
ック図
【図２】連続的にチャープした位相マスクの製造に用い
られる装置を表す図
られる装置を表す図
【図３】図１の方法を実行するのに用いられる連続的に
チャープした位相マスクの断面図
チャープした位相マスクの断面図
【図４】位相マスクのチャープと位相グレーティングと
の間の位置との関係を表すグラフ
の間の位置との関係を表すグラフ
【図５】連続的にチャープした光ファイバブラググレー
ティングの断面図
ティングの断面図
【図６】光ファイバブラググレーティングのチャープと
位相マスクを製造するのに用いられる湾曲ミラーの変位
（ずれ）との関係を表すグラフ
位相マスクを製造するのに用いられる湾曲ミラーの変位
（ずれ）との関係を表すグラフ
【図７】図１のプロセスにより製造された連続的にチャ
ープされた光ファイバブラググレーティングの伝送スペ
クトラムを表す図
ープされた光ファイバブラググレーティングの伝送スペ
クトラムを表す図
２０ 露光システム ２１ コリメートレンズ ２２ フォトレジスト塗布表面 ２３ 基板 ２４ 第１ビーム ２５ 第２ビーム ２６ 湾曲ミラー ２８ バー ３０ 連続的にチャープした位相マスク ３１ 基板 ３２ 表面 ３３ 厚い領域 ３４ 薄い領域 ３５ 入射ビーム ６０ チャープした光ファイバブラググレーティング ６１ コア ６２ クラッド層 ６３ チャープしたグレーティング ６４ 屈折率変動領域 Ａ レジストを塗布した基板を用意する Ｂ このレジストを直接ビームと反射ビームに露光する Ｃ フォトレジストチャープパターンを現像する Ｄ マスクされた基板をエッチングして位相マスクを形
成する Ｅ フォトレジストを除去する Ｆ 光ファイバを位相マスクを介して露光する
成する Ｅ フォトレジストを除去する Ｆ 光ファイバを位相マスクを介して露光する
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス エー．ストラッサー アメリカ合衆国、07928 ニュージャー ジー、チェイサム、リバー ロード 420、アパートメント ケー３ 審査官 森内 正明 (56)参考文献 特開 平８−286010（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−286009（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−286059（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−287204（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−140311（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−230208（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−104124（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−338919（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−338918（ＪＰ，Ａ) 国際公開96／24079（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/18 G02B 6/10
Claims (2)
- 【請求項１】 ＵＶ露光波長で用いる連続的にチャープ
した位相マスクの製造方法であって、 紫外光に対し透明な材料で形成され、フォトレジスト層
でコーティングされた表面を有する基板を用意するステ
ップと、 前記フォトレジストをコリメートビームと滑らかに湾曲
したミラーから反射された前記コリメートビームの一部
との干渉により形成された光パターンに露光するステッ
プと、前記フォトレジスト を現像するステップと、前記基板をエッチングして、 連続的にチャープした表面
凹凸グレーティングを有する位相マスクを形成するステ
ップとからなり、ＵＶ露光波長におけるπの位相シフト
に対応する深さに前記凹凸グレーティングがエッチング
されることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 連続的にチャープした位相マスクを基板
から製造する装置であって、 コリメート光ビームのソースと、滑らかに湾曲した ミラー（２６）と、 前記ミラー（２６）に隣接して、基板（２３）を支持す
る基板搭載装置とからなり、前記湾曲ミラーと前記基板
搭載装置とが前記コリメートビームに対し回転可能に搭
載され、これにより、前記コリメートビームの第１の部
分が、前記基板搭載装置に配置された前記基板の表面で
前記ミラーから反射されたコリメートビームの第２部分
（２５）と干渉するよう、前記ビームの入射角を調整す
ることが可能であり、そして、 前記滑らかに湾曲したミラーは、曲率半径を変化させる
ことが可能な可撓性のある湾曲ミラーであり、さらに、
前記ミラーの湾曲の程度を制御可能に変更する手段が備
わっている ことを特徴とする装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/740,745 US5718738A (en) | 1996-11-04 | 1996-11-04 | Method for making continuously chirped fiber bragg gratings |
| US08/740745 | 1996-11-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10142413A JPH10142413A (ja) | 1998-05-29 |
| JP3330858B2 true JP3330858B2 (ja) | 2002-09-30 |
Family
ID=24977888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28327697A Expired - Fee Related JP3330858B2 (ja) | 1996-11-04 | 1997-10-16 | 連続的にチャープした位相マスクの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5718738A (ja) |
| EP (1) | EP0840147A3 (ja) |
| JP (1) | JP3330858B2 (ja) |
| AU (1) | AU739886B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6314220B1 (en) | 1995-03-13 | 2001-11-06 | Templex Technology, Inc. | Segmented complex fiber gratings |
| FR2745641B1 (fr) * | 1996-03-01 | 1998-04-10 | Alcatel Submarcom | Filtre obtenu par inscription d'un reseau de bragg dans une fibre optique |
| AUPO515297A0 (en) * | 1997-02-19 | 1997-04-11 | Future Fibre Technologies Pty Ltd | A method of providing in-situ chirped gratings in waveguides and waveguides made by that method |
| KR100294540B1 (ko) | 1997-12-31 | 2001-07-12 | 윤종용 | 가변형처핑격자 |
| US6522797B1 (en) | 1998-09-01 | 2003-02-18 | Input/Output, Inc. | Seismic optical acoustic recursive sensor system |
| US7065298B1 (en) | 1998-11-17 | 2006-06-20 | Intel Corporation | Code-based optical networks, methods, and apparatus |
| US6347171B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-02-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for forming a diffraction grating |
| US7242464B2 (en) * | 1999-06-24 | 2007-07-10 | Asml Holdings N.V. | Method for characterizing optical systems using holographic reticles |
| US6313771B1 (en) | 1999-11-17 | 2001-11-06 | Templex Technology, Inc. | Codes, methods, and apparatus for optical encoding and decoding |
| US6961490B2 (en) * | 2000-01-27 | 2005-11-01 | Unaxis-Balzers Aktiengesellschaft | Waveguide plate and process for its production and microtitre plate |
| US6421167B1 (en) | 2000-03-03 | 2002-07-16 | General Dynamics Advanced Technology Systems, Inc. | Multiple function bandwidth management systems |
| US6356684B1 (en) | 2000-04-14 | 2002-03-12 | General Dynamics Advanced Technology Systems, Inc. | Adjustable optical fiber grating dispersion compensators |
| US6577792B2 (en) | 2001-03-15 | 2003-06-10 | 3M Innovative Properties Company | Wide-bandwidth chirped fiber Bragg gratings with low delay ripple amplitude |
| US6901188B2 (en) * | 2001-03-15 | 2005-05-31 | 3M Innovative Properties Company | Dispersion compensation modules with fiber Bragg gratings |
| US20030017421A1 (en) * | 2001-07-18 | 2003-01-23 | Miri Park | Holographic grating fabrication using mirror with surface curvature |
| US6567588B2 (en) * | 2001-08-28 | 2003-05-20 | Photronics, Inc. | Method for fabricating chirped fiber bragg gratings |
| US7043121B2 (en) * | 2001-12-06 | 2006-05-09 | Zygo Corporation | Method and apparatus for writing apodized patterns |
| US20030121289A1 (en) * | 2002-01-02 | 2003-07-03 | Benda John A. | Long period fiber Bragg gratings written with alternate side IR laser illumination |
| JP4824273B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2011-11-30 | 大日本印刷株式会社 | 回折格子作製用位相マスク |
| JP5360399B2 (ja) * | 2009-08-06 | 2013-12-04 | 大日本印刷株式会社 | 回折格子作製用位相マスク |
| US8817269B2 (en) | 2011-04-26 | 2014-08-26 | Carl Zeiss Meditec, Inc. | Fizeau reference arm using a chirped fiber bragg grating |
| CN102998740B (zh) * | 2012-11-30 | 2014-04-16 | 燕山大学 | 一种带纤中多波长阵列光栅同时刻写的装置及方法 |
| CN106918866B (zh) * | 2017-05-10 | 2023-08-18 | 深圳大学 | 一种光纤布拉格啁啾相移光栅及其制作方法和设备 |
| CN107340565B (zh) * | 2017-08-25 | 2018-10-09 | 武汉理工大学 | 一种在线制备光纤光栅阵列自动切换波长的装置及方法 |
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|---|---|---|---|---|
| US3676914A (en) * | 1970-05-01 | 1972-07-18 | Zenith Radio Corp | Manufacture of shadow mask color picture tube |
| US5367588A (en) * | 1992-10-29 | 1994-11-22 | Her Majesty The Queen In Right Of Canada, As Represented By The Minister Of Communications | Method of fabricating Bragg gratings using a silica glass phase grating mask and mask used by same |
| US5116461A (en) * | 1991-04-22 | 1992-05-26 | Motorola, Inc. | Method for fabricating an angled diffraction grating |
| US5363239A (en) * | 1992-12-23 | 1994-11-08 | At&T Bell Laboratories | Method for forming spatially-varying distributed Bragg reflectors in optical media |
| US5363329A (en) * | 1993-11-10 | 1994-11-08 | Eugeniy Troyan | Semiconductor memory device for use in an electrically alterable read-only memory |
| JP3346440B2 (ja) * | 1994-09-30 | 2002-11-18 | 日本電信電話株式会社 | 透過型ファイバグレーティングフィルタの製造方法 |
| JPH08286009A (ja) * | 1995-04-13 | 1996-11-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | チャープ格子形成装置 |
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-
1996
- 1996-11-04 US US08/740,745 patent/US5718738A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-10-16 JP JP28327697A patent/JP3330858B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-10-28 EP EP97308602A patent/EP0840147A3/en not_active Withdrawn
- 1997-10-29 AU AU43634/97A patent/AU739886B2/en not_active Ceased
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| AU739886B2 (en) | 2001-10-25 |
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