JP2001181307A - 流動床気相重合反応系用のサンプリング系 - Google Patents
流動床気相重合反応系用のサンプリング系Info
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- C08F2400/02—Control or adjustment of polymerization parameters
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリマーの気相重合用のサンプリング系を提
供する。 【解決手段】 （１）サンプル収納容器をサンプル収納
容器から環境への漏洩及び反応装置からサンプル収納容
器への漏洩について分析し；（２）流動床からのポリマ
ーのサンプルをサンプル収納容器に取り出し；（３）ポ
リマーのサンプルをアルミニウムアルキル冷却剤と接触
させ；（４）サンプル収納容器内のポリマーのサンプル
を不活性ガスでパージし；及び（５）ポリマーのサンプ
ルをサンプル収納容器から吐出することを含む方法。
供する。 【解決手段】 （１）サンプル収納容器をサンプル収納
容器から環境への漏洩及び反応装置からサンプル収納容
器への漏洩について分析し；（２）流動床からのポリマ
ーのサンプルをサンプル収納容器に取り出し；（３）ポ
リマーのサンプルをアルミニウムアルキル冷却剤と接触
させ；（４）サンプル収納容器内のポリマーのサンプル
を不活性ガスでパージし；及び（５）ポリマーのサンプ
ルをサンプル収納容器から吐出することを含む方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】発明は、ポリマーを気相流動
床重合において生産することに関する。一層特に、発明
は、ポリマー（ＰＥ、ＰＰ、及び／又はＥＰＲのような
粘着性ポリマーのような）のかかる気相重合用のサンプ
リング系に関する。
床重合において生産することに関する。一層特に、発明
は、ポリマー（ＰＥ、ＰＰ、及び／又はＥＰＲのような
粘着性ポリマーのような）のかかる気相重合用のサンプ
リング系に関する。
【０００２】
【従来の技術】流動床を有する連続気相反応装置におい
て生産される生成物の化学的又は物理的性質は、生成物
が規格内に入っていることを確実にするために求めなけ
ればならない。これらの性質は、現場で測定すべきこと
が理想であるが、この目標を達成するための信頼し得る
技術は、開発されていない。従って、生成物サンプルを
採取して反応装置の外で分析する必要がある。そのよう
なサンプルは、反応装置の後の輸送管路で採取されるの
が普通である。
て生産される生成物の化学的又は物理的性質は、生成物
が規格内に入っていることを確実にするために求めなけ
ればならない。これらの性質は、現場で測定すべきこと
が理想であるが、この目標を達成するための信頼し得る
技術は、開発されていない。従って、生成物サンプルを
採取して反応装置の外で分析する必要がある。そのよう
なサンプルは、反応装置の後の輸送管路で採取されるの
が普通である。
【０００３】これを行うときに、ある時間遅れが、反応
装置とサンプル点との間の設備及びその設備における滞
留時間に応じて導入される。サンプルを輸送管路から又
は圧力定格（ｐｒｅｓｓｕｒｅ−ｒａｔｅｄ）生成物吐
出タンクの下流で採取することが標準であった。
装置とサンプル点との間の設備及びその設備における滞
留時間に応じて導入される。サンプルを輸送管路から又
は圧力定格（ｐｒｅｓｓｕｒｅ−ｒａｔｅｄ）生成物吐
出タンクの下流で採取することが標準であった。
【０００４】輸送ガスを固形分から分離するのにサイク
ロンが使用されてきた。これらの系は、モノマーが有害
すぎずかつ容易にパージされることができるポリマー
（例えば、結晶性アルファオレフィンポリマー）につい
て適度に良く働く。（サイクロンは、おそらく粘着性ポ
リマーについては良く働かないであろう。）
ロンが使用されてきた。これらの系は、モノマーが有害
すぎずかつ容易にパージされることができるポリマー
（例えば、結晶性アルファオレフィンポリマー）につい
て適度に良く働く。（サイクロンは、おそらく粘着性ポ
リマーについては良く働かないであろう。）
【０００５】しかし、エチレン−プロピレン−ジエンエ
ラストマーを含むエチレン−プロピレンゴム（ＥＰＲ）
やブタジエンゴム（ＢＲ）のような粘着性ポリマーにつ
いての気相プロセスの到来は、これらの簡単なサンプル
系を、モノマー（すなわち、ジエン）の危険格付けによ
り、役に立たないものにする。ＥＰＲ生成物は、エチリ
デンノルボルネン（ＥＮＢ）を含有し、ＢＲ生成物は、
１，３−ブタジエンを含有し、これらは空気排出及びヒ
ト暴露を制限する厳しい制御を有する。ＥＮＢは、強い
臭いを有し、周囲空気中１３ｐｐｂｖで検出することが
できる。１，３−ブタジエンについての現行の暴露限界
は、ほんの１ｐｐｍｖである。
ラストマーを含むエチレン−プロピレンゴム（ＥＰＲ）
やブタジエンゴム（ＢＲ）のような粘着性ポリマーにつ
いての気相プロセスの到来は、これらの簡単なサンプル
系を、モノマー（すなわち、ジエン）の危険格付けによ
り、役に立たないものにする。ＥＰＲ生成物は、エチリ
デンノルボルネン（ＥＮＢ）を含有し、ＢＲ生成物は、
１，３−ブタジエンを含有し、これらは空気排出及びヒ
ト暴露を制限する厳しい制御を有する。ＥＮＢは、強い
臭いを有し、周囲空気中１３ｐｐｂｖで検出することが
できる。１，３−ブタジエンについての現行の暴露限界
は、ほんの１ｐｐｍｖである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】よって、そのような重
合の安全で信頼し得るサンプリングへの要求が継続して
存在する。
合の安全で信頼し得るサンプリングへの要求が継続して
存在する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】発明の概要 驚くべきことに、本発明は、粘着性ポリマーを重合する
間サンプリングするための方法及び装置を提供する。発明の開示 ポリマーを気相流動床反応装置において製造する間ポリ
マーをサンプリング方法であって、下記： （１）サンプル収納容器をサンプル収納容器から環境へ
の漏洩及び反応装置からサンプル収納容器への漏洩につ
いて分析し； （２）流動床からのポリマーのサンプルをサンプル収納
容器に取り出し； （３）ポリマーのサンプルをアルミニウムアルキル冷却
剤と接触させ； （４）サンプル収納容器内のポリマーのサンプルを不活
性ガスでパージし；及び （５）ポリマーのサンプルをサンプル収納容器から吐出
する ことを含む方法を提供する。
間サンプリングするための方法及び装置を提供する。発明の開示 ポリマーを気相流動床反応装置において製造する間ポリ
マーをサンプリング方法であって、下記： （１）サンプル収納容器をサンプル収納容器から環境へ
の漏洩及び反応装置からサンプル収納容器への漏洩につ
いて分析し； （２）流動床からのポリマーのサンプルをサンプル収納
容器に取り出し； （３）ポリマーのサンプルをアルミニウムアルキル冷却
剤と接触させ； （４）サンプル収納容器内のポリマーのサンプルを不活
性ガスでパージし；及び （５）ポリマーのサンプルをサンプル収納容器から吐出
する ことを含む方法を提供する。
【０００８】更に、下記を含む装置を提供する： （１）円錐角が粘着性固形分に容器の底部を容易に埋め
させないようにする程に急勾配である円錐吐出底部を有
する圧力定格サンプリング容器； （２）固体生成物をサンプリング容器内部に保ちかつ固
体生成物を計測器又はその他のプロセス流体に移行させ
ないようにする１つ以上のフィルター； （３）バルブの作動を順に並べることができかつサンプ
リング系が安全に作動しておりかつ所望する機能を遂行
していることを確実にする、圧力、温度及び流れ検出器
を含むその他のプロセス計測器と共に論理テストを遂行
することができるプログラム可能式論理制御器（ＰＬ
Ｃ）； （４）反応装置からサンプリング容器への漏れを最少に
する金属シートを有する反応装置に接続される１つ以上
の最高速度で作動する（ｆｕｌｌ−ｂｏｒｅ）ＰＬＣ制
御される遠隔作動式バルブ； （５）サンプリング容器をパージガス、冷却剤、ベン
ト、フレアー、反応装置循環ガスのようなその他のプロ
セス流体に接続し、又は生成物を吐出するための１つ以
上のＰＬＣ制御される遠隔作動式バルブ；並びに （６）生成物をオフライン分析するためにサンプル容器
中に最終的に吐出するのを制御するのを可能にする手動
吐出隔離バルブ。
させないようにする程に急勾配である円錐吐出底部を有
する圧力定格サンプリング容器； （２）固体生成物をサンプリング容器内部に保ちかつ固
体生成物を計測器又はその他のプロセス流体に移行させ
ないようにする１つ以上のフィルター； （３）バルブの作動を順に並べることができかつサンプ
リング系が安全に作動しておりかつ所望する機能を遂行
していることを確実にする、圧力、温度及び流れ検出器
を含むその他のプロセス計測器と共に論理テストを遂行
することができるプログラム可能式論理制御器（ＰＬ
Ｃ）； （４）反応装置からサンプリング容器への漏れを最少に
する金属シートを有する反応装置に接続される１つ以上
の最高速度で作動する（ｆｕｌｌ−ｂｏｒｅ）ＰＬＣ制
御される遠隔作動式バルブ； （５）サンプリング容器をパージガス、冷却剤、ベン
ト、フレアー、反応装置循環ガスのようなその他のプロ
セス流体に接続し、又は生成物を吐出するための１つ以
上のＰＬＣ制御される遠隔作動式バルブ；並びに （６）生成物をオフライン分析するためにサンプル容器
中に最終的に吐出するのを制御するのを可能にする手動
吐出隔離バルブ。
【０００９】
【発明の実施の形態】好ましい具体例の説明 ＥＰＲ及びＢＲポリマーは、重合反応を停止させないな
らば、架橋し又は分子量の非常に高いポリマーを造り得
る。ＥＰＲ及びＢＲポリマーについての理想的なサンプ
ル系は、サンプルを反応装置から直接採取することがで
きるばかりでないものであるが、それは、また、パージ
ング及び反応停止作業を行ってサンプルを作業員に害の
ないものにすることもできよう。これらの機能を遂行す
ることができるサンプル系は、発明者等にとり、このプ
ロセス及び装置を開発する前に知られていなかった。
らば、架橋し又は分子量の非常に高いポリマーを造り得
る。ＥＰＲ及びＢＲポリマーについての理想的なサンプ
ル系は、サンプルを反応装置から直接採取することがで
きるばかりでないものであるが、それは、また、パージ
ング及び反応停止作業を行ってサンプルを作業員に害の
ないものにすることもできよう。これらの機能を遂行す
ることができるサンプル系は、発明者等にとり、このプ
ロセス及び装置を開発する前に知られていなかった。
【００１０】発明の装置は、１，３−ブタジエンのよう
な揮発性の有害なモノマーを取り扱うことができる流動
床気相反応系からポリマーサンプルを採取するために開
発した。その装置は、小さい円錐底部容器からなり、こ
れを直接流動床気相反応装置に接続する。容器は、内部
フィルターを収容し、内部フィルターは、生成物微粉に
系を出させないようにしかつ計測器及びベント管路を生
成物で詰まらせないようにする。サンプリング容器をプ
ロセスから分離するのに特殊な金属座を付けたバルブを
使用する。プログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）が、
容器に取り付けられたバルブの作動を順に並べてポリマ
ーのサンプルを得る。ＰＬＣ論理は、また、サンプリン
グ容器が漏洩の存在しないことを確実にし、サンプリン
グ容器を不活性ガスでパージし、サンプルサイズを制御
し、サンプルを取り出し、モノマーの存在しないサンプ
ルを不活性ガスでパージし、サンプルを化学的に不動態
化し、次いでサンプルを容器に吐出して取り出すことを
可能にする。ＰＬＣ論理は、パージガス流量及び温度を
パージングプロセスの間保つことを確実にしながら、パ
ージングシーケンスの期間を制御する。
な揮発性の有害なモノマーを取り扱うことができる流動
床気相反応系からポリマーサンプルを採取するために開
発した。その装置は、小さい円錐底部容器からなり、こ
れを直接流動床気相反応装置に接続する。容器は、内部
フィルターを収容し、内部フィルターは、生成物微粉に
系を出させないようにしかつ計測器及びベント管路を生
成物で詰まらせないようにする。サンプリング容器をプ
ロセスから分離するのに特殊な金属座を付けたバルブを
使用する。プログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）が、
容器に取り付けられたバルブの作動を順に並べてポリマ
ーのサンプルを得る。ＰＬＣ論理は、また、サンプリン
グ容器が漏洩の存在しないことを確実にし、サンプリン
グ容器を不活性ガスでパージし、サンプルサイズを制御
し、サンプルを取り出し、モノマーの存在しないサンプ
ルを不活性ガスでパージし、サンプルを化学的に不動態
化し、次いでサンプルを容器に吐出して取り出すことを
可能にする。ＰＬＣ論理は、パージガス流量及び温度を
パージングプロセスの間保つことを確実にしながら、パ
ージングシーケンスの期間を制御する。
【００１１】上述した容器及びＰＬＣ論理を使用したサ
ンプリングプロセスの自動化は、あらゆるサンプルが、
分析する前に同じコンディショニングを経験することを
確実にする。これは、サンプル毎のばらつきを低減さ
せ、反応装置制御及び操作性を向上させる。サンプリン
グ系は、作業員を有害なモノマーや反応副生物に暴露す
る可能性を最少にする。パージされかつ不動態化された
サンプルをオフライン分析して生成物の性質並びに物理
的／化学的特性を求める。サンプルの分析からの結果を
用いて反応条件への調整を案内する。
ンプリングプロセスの自動化は、あらゆるサンプルが、
分析する前に同じコンディショニングを経験することを
確実にする。これは、サンプル毎のばらつきを低減さ
せ、反応装置制御及び操作性を向上させる。サンプリン
グ系は、作業員を有害なモノマーや反応副生物に暴露す
る可能性を最少にする。パージされかつ不動態化された
サンプルをオフライン分析して生成物の性質並びに物理
的／化学的特性を求める。サンプルの分析からの結果を
用いて反応条件への調整を案内する。
【００１２】発明は、気相流動床反応装置からサンプル
を自動的に採取し、またサンプルをパージして炭化水素
を除きかつサンプルを反応ゲル抑制剤又はその他の化合
物に接触させる手段を含む装置である。その装置は、円
錐底部圧力定格サンプル室、遠隔作動式バルブ、圧力送
信機、圧力指示器、流量指示器、流量制限オリフィス、
バルブ、チェックバルブ、フィルター機素、及びプログ
ラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）で構成される。プログ
ラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）は、バルブの作動を番
に並べ、かつサンプリング系の安全な作動を確実にし及
び作業員に問題解決情報を与えるための論理テストを遂
行し、問題解決情報は、ディジタル制御系に伝送されて
運転ディスプレイユニット上に知らされる。ＰＬＣが遂
行することができる遠隔作動される仕事は、手動で行う
ことができるが、サンプル再現性及び安全を犠牲にする
ことになる。サンプリング装置は、極めて反応性及び毒
性の反応環境からサンプルを採取しかつサンプルを吐出
して、作業員がサンプルを容易に取り扱うことができる
ために良く適している。サンプリング系は、作業員を許
容暴露限度が低い物質に暴露するのを最少にしかつ毒性
物質の環境への排出を最少にする。自動サンプリング系
によって採取された各々のサンプルは、サンプルを繰り
返して採取する際に伴われる同じ仕事を手動で行うこと
を試みることによって造り出されれ得る偏りを排除する
同じ処理を受ける。サンプル系は、サンプルを分析テス
ティング要件が指図する通りに得るのに必要な通りにそ
の加工工程を通して繰り返し循環させることができる。
を自動的に採取し、またサンプルをパージして炭化水素
を除きかつサンプルを反応ゲル抑制剤又はその他の化合
物に接触させる手段を含む装置である。その装置は、円
錐底部圧力定格サンプル室、遠隔作動式バルブ、圧力送
信機、圧力指示器、流量指示器、流量制限オリフィス、
バルブ、チェックバルブ、フィルター機素、及びプログ
ラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）で構成される。プログ
ラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）は、バルブの作動を番
に並べ、かつサンプリング系の安全な作動を確実にし及
び作業員に問題解決情報を与えるための論理テストを遂
行し、問題解決情報は、ディジタル制御系に伝送されて
運転ディスプレイユニット上に知らされる。ＰＬＣが遂
行することができる遠隔作動される仕事は、手動で行う
ことができるが、サンプル再現性及び安全を犠牲にする
ことになる。サンプリング装置は、極めて反応性及び毒
性の反応環境からサンプルを採取しかつサンプルを吐出
して、作業員がサンプルを容易に取り扱うことができる
ために良く適している。サンプリング系は、作業員を許
容暴露限度が低い物質に暴露するのを最少にしかつ毒性
物質の環境への排出を最少にする。自動サンプリング系
によって採取された各々のサンプルは、サンプルを繰り
返して採取する際に伴われる同じ仕事を手動で行うこと
を試みることによって造り出されれ得る偏りを排除する
同じ処理を受ける。サンプル系は、サンプルを分析テス
ティング要件が指図する通りに得るのに必要な通りにそ
の加工工程を通して繰り返し循環させることができる。
【００１３】パイロットプラント自動サンプリング系の
略図を図１に示す。それの主要な部材は、円錐底部圧力
定格円筒形円錐底部サンプリング容器（１）、フィルタ
ー機素（２）、プログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）
（３）、金属シートを有する最高速度遠隔作動式バルブ
（４）、遠隔作動式バルブ（５）、及び手動作動式最高
速度で作動する吐出バルブ（６）からなる。ＰＬＣは、
作動式バルブの作動を順に並べ、かつサンプリング系の
安全な作動のために必要な論理テストを遂行する。サン
プル容器（１）のデザインは、固体ポリマーサンプルが
サンプル捕集容器の中に流れるのを可能にするために円
錐角少なくとも４５度を有する円錐底部を含み、周期的
な圧力サービスにおいて限りなく循環するためにデザイ
ンする。固形分が容器から流れるのを助成するのに角度
が一層急な円錐を使用するのが慣例である。サンプリン
グ容器（１）は、それの日常運転中に大気圧近くから６
００ｐｓｉｇ（４．２ＭＰａ）程に高い圧力になりかつ
大気圧近くに戻る突然の内部圧力変化を経験するのが慣
例である。
略図を図１に示す。それの主要な部材は、円錐底部圧力
定格円筒形円錐底部サンプリング容器（１）、フィルタ
ー機素（２）、プログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）
（３）、金属シートを有する最高速度遠隔作動式バルブ
（４）、遠隔作動式バルブ（５）、及び手動作動式最高
速度で作動する吐出バルブ（６）からなる。ＰＬＣは、
作動式バルブの作動を順に並べ、かつサンプリング系の
安全な作動のために必要な論理テストを遂行する。サン
プル容器（１）のデザインは、固体ポリマーサンプルが
サンプル捕集容器の中に流れるのを可能にするために円
錐角少なくとも４５度を有する円錐底部を含み、周期的
な圧力サービスにおいて限りなく循環するためにデザイ
ンする。固形分が容器から流れるのを助成するのに角度
が一層急な円錐を使用するのが慣例である。サンプリン
グ容器（１）は、それの日常運転中に大気圧近くから６
００ｐｓｉｇ（４．２ＭＰａ）程に高い圧力になりかつ
大気圧近くに戻る突然の内部圧力変化を経験するのが慣
例である。
【００１４】生成物を反応装置（７）から最高速度で作
動する遠隔作動式バルブ（４）を介してサンプリング容
器（１）の中に運ぶ反応装置口は、パイロットプラント
流動床反応装置内のガス分配板の垂直方向に数インチ以
内でありかつ正常な生成物吐出ノズルと同じ高さにある
のが普通である。生成物移送バルブ（４）用に金属シー
トを有するフル−ポート（ｆｕｌｌ−ｐｏｒｔ）ボール
バルブを使用することが勧められる。両方のバルブは、
必要なものではないが、第二バルブは、バルブの内の一
方が漏洩を発生しても、サンプル容器（１）を反応装置
（７）から一層良好に隔離することをもたらす。生成物
移送バルブは、反応装置と反応装置に最も近い生成物移
送バルブとの間の無駄容積を最少にするために、反応装
置に近く、好ましくは正常のフランジ出口の代わりに反
応装置ボスを使用してつなげる。また、生成物サンプル
を直接反応装置から採取する代わりに反応装置に接続さ
れた生成物吐出容器から固体生成物サンプルを取り出す
同様のサンプリング系も使用されている。
動する遠隔作動式バルブ（４）を介してサンプリング容
器（１）の中に運ぶ反応装置口は、パイロットプラント
流動床反応装置内のガス分配板の垂直方向に数インチ以
内でありかつ正常な生成物吐出ノズルと同じ高さにある
のが普通である。生成物移送バルブ（４）用に金属シー
トを有するフル−ポート（ｆｕｌｌ−ｐｏｒｔ）ボール
バルブを使用することが勧められる。両方のバルブは、
必要なものではないが、第二バルブは、バルブの内の一
方が漏洩を発生しても、サンプル容器（１）を反応装置
（７）から一層良好に隔離することをもたらす。生成物
移送バルブは、反応装置と反応装置に最も近い生成物移
送バルブとの間の無駄容積を最少にするために、反応装
置に近く、好ましくは正常のフランジ出口の代わりに反
応装置ボスを使用してつなげる。また、生成物サンプル
を直接反応装置から採取する代わりに反応装置に接続さ
れた生成物吐出容器から固体生成物サンプルを取り出す
同様のサンプリング系も使用されている。
【００１５】サンプリングシーケンスは、作業員がサン
プルをプログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）（３）を
経て電子的に要求することによって始まる。すべての遠
隔作動式バルブは、閉位置で始まり、ＰＬＣは、初期バ
ルブ位置が正しいことを確実にするのを検査する。サン
プリング手順における任意の工程が間違っているなら
ば、ＰＬＣは、フェイル−セイフの応答を起動させる。
この応答は、論理が作業員に警報し、残りのサンプリン
グ工程をバイパスし、すべての遠隔作動式バルブをそれ
らのフェイル−セイフ位置に戻すことである。
プルをプログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）（３）を
経て電子的に要求することによって始まる。すべての遠
隔作動式バルブは、閉位置で始まり、ＰＬＣは、初期バ
ルブ位置が正しいことを確実にするのを検査する。サン
プリング手順における任意の工程が間違っているなら
ば、ＰＬＣは、フェイル−セイフの応答を起動させる。
この応答は、論理が作業員に警報し、残りのサンプリン
グ工程をバイパスし、すべての遠隔作動式バルブをそれ
らのフェイル−セイフ位置に戻すことである。
【００１６】初期バルブ位置検査の後に、ＰＬＣは、次
いで、サンプリング容器内の圧力を検査する。圧力が１
５ｐｓｉｇ（０．２０ＭＰａ）を超えるならば、サンプ
リング容器（１）内部のガスを離れた作動式バルブ
（５）を経てフレアー（８）にベントさせる。ベントさ
れたガスは、また、触媒酸化装置又は同様の装置に送っ
て炭化水素の環境への排出を防止することもできる。パ
イロットプラントサンプリング系は、遠隔作動式三方バ
ルブ（５）を使用してサンプリング容器からのベントさ
れたガスを大気（９）又はフレアー（８）に向ける。ベ
ントされたガスを触媒酸化装置のような低い圧力で作動
する排出低減装置に送るならば、この更なるバルブは、
必要でない。
いで、サンプリング容器内の圧力を検査する。圧力が１
５ｐｓｉｇ（０．２０ＭＰａ）を超えるならば、サンプ
リング容器（１）内部のガスを離れた作動式バルブ
（５）を経てフレアー（８）にベントさせる。ベントさ
れたガスは、また、触媒酸化装置又は同様の装置に送っ
て炭化水素の環境への排出を防止することもできる。パ
イロットプラントサンプリング系は、遠隔作動式三方バ
ルブ（５）を使用してサンプリング容器からのベントさ
れたガスを大気（９）又はフレアー（８）に向ける。ベ
ントされたガスを触媒酸化装置のような低い圧力で作動
する排出低減装置に送るならば、この更なるバルブは、
必要でない。
【００１７】サンプリング室内の圧力が１５ｐｓｉｇよ
りも低い圧力で特定の時間（３０秒）内でベントしない
ならば、系のエラーが起きて前述したフェイル−セイフ
の応答を生じる。サンプル容器をベントすることができ
ないことは、プロセスからサンプル容器中に不完全なバ
ルブによる漏洩又はベントバルブがブロックされること
を示し得る。
りも低い圧力で特定の時間（３０秒）内でベントしない
ならば、系のエラーが起きて前述したフェイル−セイフ
の応答を生じる。サンプル容器をベントすることができ
ないことは、プロセスからサンプル容器中に不完全なバ
ルブによる漏洩又はベントバルブがブロックされること
を示し得る。
【００１８】装置が遂行する次の工程は、サンプリング
容器（１）から環境への漏洩又はプロセスからサンプリ
ング容器中への漏洩を検査することである。サンプリン
グ容器（１）を窒素（１０）により遠隔作動式バルブ
（５）を経て加圧しておよそ１５０ｐｓｉｇ（１．１Ｍ
Ｐａ）にし、次いで加圧源と分離する。制限オリフィス
をパイロットプラントにおいて使用してサンプリング容
器加圧速度を制御する。反応装置圧力が１５０ｐｓｉｇ
よりも大きくかつサンプリング容器内部の圧力が上昇し
続けるとしたら、それは、反応装置（７）からサンプリ
ング容器（１）への不完全なバルブ（４）による漏洩を
示し得る。この場合に、サンプリング系フェイル−セイ
フの応答が起動される。サンプル系内部の圧力が低下し
て規定した限界よりも低くなるならば、これは環境への
漏洩を示し、フェイル−セイフ応答がＰＬＣによって起
動さされる。
容器（１）から環境への漏洩又はプロセスからサンプリ
ング容器中への漏洩を検査することである。サンプリン
グ容器（１）を窒素（１０）により遠隔作動式バルブ
（５）を経て加圧しておよそ１５０ｐｓｉｇ（１．１Ｍ
Ｐａ）にし、次いで加圧源と分離する。制限オリフィス
をパイロットプラントにおいて使用してサンプリング容
器加圧速度を制御する。反応装置圧力が１５０ｐｓｉｇ
よりも大きくかつサンプリング容器内部の圧力が上昇し
続けるとしたら、それは、反応装置（７）からサンプリ
ング容器（１）への不完全なバルブ（４）による漏洩を
示し得る。この場合に、サンプリング系フェイル−セイ
フの応答が起動される。サンプル系内部の圧力が低下し
て規定した限界よりも低くなるならば、これは環境への
漏洩を示し、フェイル−セイフ応答がＰＬＣによって起
動さされる。
【００１９】サンプリング容器圧力検査を首尾良く通過
した後に、サンプリング容器を窒素で周期的に加圧パー
ジしかつベントさせて可能な汚染物を除く。各々の加圧
サイクルの終わりに窒素をフレアーにベントさせる。加
圧−ベントサイクルの数は、可変であるが、６をパイロ
ットプラントにおいて行うのが典型的である。この工程
は、完全に必要と言うものではないが、それは、サンプ
ルを採取する時に反応装置中に移行するサンプリング容
器内の残留酸素及び水分の量を最少にすることができ
る。
した後に、サンプリング容器を窒素で周期的に加圧パー
ジしかつベントさせて可能な汚染物を除く。各々の加圧
サイクルの終わりに窒素をフレアーにベントさせる。加
圧−ベントサイクルの数は、可変であるが、６をパイロ
ットプラントにおいて行うのが典型的である。この工程
は、完全に必要と言うものではないが、それは、サンプ
ルを採取する時に反応装置中に移行するサンプリング容
器内の残留酸素及び水分の量を最少にすることができ
る。
【００２０】ＰＬＣは、サンプリング容器（１）を加圧
して反応装置から採取されるサンプルのサイズを調節す
る。反応装置とサンプル容器との間の差圧が小さい程、
サンプルは小さくなる。サンプルサイズの調節は、精確
なものではないが、通常、サンプル容器内の圧力を調整
してサンプルサイズを数百グラムの範囲内に保つことが
できる。この工程は、使用者がサンプルサイズを気にせ
ず又はサンプリング容器のサイズにサンプルサイズを調
整させるために選ぶならば、必要でない。
して反応装置から採取されるサンプルのサイズを調節す
る。反応装置とサンプル容器との間の差圧が小さい程、
サンプルは小さくなる。サンプルサイズの調節は、精確
なものではないが、通常、サンプル容器内の圧力を調整
してサンプルサイズを数百グラムの範囲内に保つことが
できる。この工程は、使用者がサンプルサイズを気にせ
ず又はサンプリング容器のサイズにサンプルサイズを調
整させるために選ぶならば、必要でない。
【００２１】サンプル移送バルブ（４）が開放して固形
分を反応装置からサンプリング容器中に流れさせる。ま
た、ＰＬＣ論理に加えて電気−空気式インターロックを
使用して、生成物移送バルブ（４）がサンプリング容器
の底部にある遠隔作動式バルブ（５）と同じ時に開放す
ることができないことを確実にする。ＰＬＣは、この移
送の間サンプリング容器圧力をモニターする。サンプリ
ング容器圧力の上昇が起きないならば、反応装置からサ
ンプリング容器への移送管路は閉塞されていると仮定さ
れ、ＰＬＣは、作業員に警報し、フェイル−セイフ応答
が起動される。固形分を数秒間沈降させた後に、サンプ
リング容器から圧力をベントさせる。サンプリング容器
内部のフィルター（２）は、固形分を容器内に収容し、
圧力送信機への計装リード線を固形分で詰まらせないよ
うにする。焼結金属フィルターが、それらの機械的強度
の故に、典型的である。
分を反応装置からサンプリング容器中に流れさせる。ま
た、ＰＬＣ論理に加えて電気−空気式インターロックを
使用して、生成物移送バルブ（４）がサンプリング容器
の底部にある遠隔作動式バルブ（５）と同じ時に開放す
ることができないことを確実にする。ＰＬＣは、この移
送の間サンプリング容器圧力をモニターする。サンプリ
ング容器圧力の上昇が起きないならば、反応装置からサ
ンプリング容器への移送管路は閉塞されていると仮定さ
れ、ＰＬＣは、作業員に警報し、フェイル−セイフ応答
が起動される。固形分を数秒間沈降させた後に、サンプ
リング容器から圧力をベントさせる。サンプリング容器
内部のフィルター（２）は、固形分を容器内に収容し、
圧力送信機への計装リード線を固形分で詰まらせないよ
うにする。焼結金属フィルターが、それらの機械的強度
の故に、典型的である。
【００２２】一旦、サンプルがサンプリング装置内部に
入ったら、サンプリング容器のガス状内容物をフィルタ
ー（２）を通してフレアーにベントさせる。制限オリフ
ィスをパイロットプラント内のベント管路上に設置して
あまりに急速な降圧が固形分を持ち上げてサンプリング
容器の上部口の中に入れさせないようにする。サンプリ
ング容器ベント上の上部フィルターは、固形分入口より
も上に配置して、サンプルを反応装置からサンプリング
容器に移送する時に固形分が直接フィルターに衝撃を与
えないようにする。ＰＬＣは、降圧工程をモニターし、
サンプリング容器圧力が３０秒内に１５ｐｓｉｇよりも
低い圧力に低下しないならば、フェイル−セイフ応答を
起動させる。サンプリング容器をベントさせている間、
フレアーに接続される遠隔作動式バルブを短時間閉止
し、フィルターに窒素を逆に吹き付けてフィルターを清
浄にした後に、次のサンプルを採取する。
入ったら、サンプリング容器のガス状内容物をフィルタ
ー（２）を通してフレアーにベントさせる。制限オリフ
ィスをパイロットプラント内のベント管路上に設置して
あまりに急速な降圧が固形分を持ち上げてサンプリング
容器の上部口の中に入れさせないようにする。サンプリ
ング容器ベント上の上部フィルターは、固形分入口より
も上に配置して、サンプルを反応装置からサンプリング
容器に移送する時に固形分が直接フィルターに衝撃を与
えないようにする。ＰＬＣは、降圧工程をモニターし、
サンプリング容器圧力が３０秒内に１５ｐｓｉｇよりも
低い圧力に低下しないならば、フェイル−セイフ応答を
起動させる。サンプリング容器をベントさせている間、
フレアーに接続される遠隔作動式バルブを短時間閉止
し、フィルターに窒素を逆に吹き付けてフィルターを清
浄にした後に、次のサンプルを採取する。
【００２３】次いで、温度４０°〜８０℃の加熱した窒
素（１１）を流量およそ２０ポンド／時（９．１ｋｇ／
時）で底部内部フィルターを通してサンプリング容器中
に送る。このガスは、固体サンプルから揮発性炭化水素
をパージしてフレアーにベントさせる。ＰＬＣは、高温
窒素パージ流の流量及び温度をモニターする。ＰＬＣ内
部のタイマーは、パージ流れの期間を制御する。パージ
流れ又はそれの温度が規定の範囲内でないならば、タイ
マーは、停止して作業員に警報する。タイマーは、流れ
及び温度が規定の範囲内になるまで停止する。
素（１１）を流量およそ２０ポンド／時（９．１ｋｇ／
時）で底部内部フィルターを通してサンプリング容器中
に送る。このガスは、固体サンプルから揮発性炭化水素
をパージしてフレアーにベントさせる。ＰＬＣは、高温
窒素パージ流の流量及び温度をモニターする。ＰＬＣ内
部のタイマーは、パージ流れの期間を制御する。パージ
流れ又はそれの温度が規定の範囲内でないならば、タイ
マーは、停止して作業員に警報する。タイマーは、流れ
及び温度が規定の範囲内になるまで停止する。
【００２４】パージ流れを開始した直ぐ後に、アルコー
ル（１２）をゆっくり計量して高温窒素パージ流中に供
給する。メタノール、エタノール及びイソプロパノール
をパイロットプラントにおいて用いた。同様の蒸気圧を
有するその他の物質も用いることができよう。アルコー
ルは、助触媒と反応してサンプリング容器内で続く反応
を停止させる。アルコールは、また、ゲル及びその他の
高分子量種の形成を防ぐ。アルコールの流量は、パイロ
ットプラントにおける一つのサンプリング系で微細な細
管によって調節する。別のほぼ同一のサンプリング系で
は、高温窒素流体を、アルコールを収容する小さな容器
を通過させ、容器を出るアルコール富化流体をサンプリ
ング容器に送る。両方の方法が、サンプル中の助触媒残
分を急冷するのに及びゲル形成を排除するのに有効であ
ることが分かった。
ル（１２）をゆっくり計量して高温窒素パージ流中に供
給する。メタノール、エタノール及びイソプロパノール
をパイロットプラントにおいて用いた。同様の蒸気圧を
有するその他の物質も用いることができよう。アルコー
ルは、助触媒と反応してサンプリング容器内で続く反応
を停止させる。アルコールは、また、ゲル及びその他の
高分子量種の形成を防ぐ。アルコールの流量は、パイロ
ットプラントにおける一つのサンプリング系で微細な細
管によって調節する。別のほぼ同一のサンプリング系で
は、高温窒素流体を、アルコールを収容する小さな容器
を通過させ、容器を出るアルコール富化流体をサンプリ
ング容器に送る。両方の方法が、サンプル中の助触媒残
分を急冷するのに及びゲル形成を排除するのに有効であ
ることが分かった。
【００２５】細管系では、ＰＬＣは、アルコール注入の
期間を制御する。サンプリング系において使用するアル
コールのモル比は、助触媒に対し少なくとも１：１モル
比である。適した急冷を確実にかつサンプリング容器内
で理想を下まわるガス流れの分布を引き起こすのに、ア
ルコール／助触媒モル／モル比５：１を用いるのが典型
的である。３０：１程に高いアルコール対助触媒モル比
を用いた。アルコール急冷は、いくつかの触媒系につい
ては、必要でないかもしれない。
期間を制御する。サンプリング系において使用するアル
コールのモル比は、助触媒に対し少なくとも１：１モル
比である。適した急冷を確実にかつサンプリング容器内
で理想を下まわるガス流れの分布を引き起こすのに、ア
ルコール／助触媒モル／モル比５：１を用いるのが典型
的である。３０：１程に高いアルコール対助触媒モル比
を用いた。アルコール急冷は、いくつかの触媒系につい
ては、必要でないかもしれない。
【００２６】サンプルをパージしかつ急冷した後に、サ
ンプリング容器内の残留圧力をフレアーにベントさせ
る。圧力が２ｐｓｉｇ（０．１２ＭＰａ）よりも低く低
下する時に、内容物は、吐出する準備ができ、論理許容
は、サンプリング容器の底部にある遠隔作動式吐出バル
ブ（５）を開放させる。パイロットプラントでは、２つ
の重複する圧力送信機からの測定値を使用して、サンプ
リング容器内の圧力が遠隔作動式吐出バルブを開放させ
る程に低くなることを確実にする。アルコールによる要
求されるサンプルパージング及び急冷すべてを完了した
後のプロセスにおけるこの段階で、サンプリング容器圧
力が５ｐｓｉｇ（０．１４ＭＰａ）よりも低く低下する
時に、ＰＬＣは、サンプリング容器内部の圧力を大気に
ベントさせる。パイロットプラントフレアー系内の圧力
は、時々サンプリング容器圧力を２ｐｓｉｇに低下さ
せ、それにより生成物吐出論理を抑制しないようにす
る。手動の最高速度で作動する吐出バルブ（６）をパイ
ロットプラントサンプリング系内に設置して更に排出を
最少にしかつ作業員に固形分のサンプリング容器（１
３）中への吐出速度のいくらかの制御を与える。一旦、
サンプルを取り出したら、サンプリング系は、同じ仕事
を繰り返すことによって別のサンプルを採取する準備が
できた。
ンプリング容器内の残留圧力をフレアーにベントさせ
る。圧力が２ｐｓｉｇ（０．１２ＭＰａ）よりも低く低
下する時に、内容物は、吐出する準備ができ、論理許容
は、サンプリング容器の底部にある遠隔作動式吐出バル
ブ（５）を開放させる。パイロットプラントでは、２つ
の重複する圧力送信機からの測定値を使用して、サンプ
リング容器内の圧力が遠隔作動式吐出バルブを開放させ
る程に低くなることを確実にする。アルコールによる要
求されるサンプルパージング及び急冷すべてを完了した
後のプロセスにおけるこの段階で、サンプリング容器圧
力が５ｐｓｉｇ（０．１４ＭＰａ）よりも低く低下する
時に、ＰＬＣは、サンプリング容器内部の圧力を大気に
ベントさせる。パイロットプラントフレアー系内の圧力
は、時々サンプリング容器圧力を２ｐｓｉｇに低下さ
せ、それにより生成物吐出論理を抑制しないようにす
る。手動の最高速度で作動する吐出バルブ（６）をパイ
ロットプラントサンプリング系内に設置して更に排出を
最少にしかつ作業員に固形分のサンプリング容器（１
３）中への吐出速度のいくらかの制御を与える。一旦、
サンプルを取り出したら、サンプリング系は、同じ仕事
を繰り返すことによって別のサンプルを採取する準備が
できた。
【００２７】商業系（図２）におけるサンプリング手順
は、極めて似ており、差違だけを注記することにする。
商業サンプリング装置は、パイロットプラント自動サン
プリング系と同じ容器一体性（ｉｎｔｅｇｒｉｔｙ）及
び加圧パージングを遂行する。図１におけるフレアー
（８）と大気ベント（９）との間を選定する三方遠隔作
動式バルブ（５）を、図２の商業系における大気ベント
ヘッダー上の手動バルブ（１４）に代える。商業サンプ
リング装置において、差圧送信機を使用してサンプルを
採取する直前に反応装置（７）とサンプリング容器
（１）との間の差圧を調整してサンプルのサイズを調節
する。パイロットプラント系では、作業技術者は、サン
プリング容器内部のサンプリング前の圧力を調整して、
直接差圧を調整するよりもむしろサンプルサイズを調節
する。最終結果は、サンプルサイズが反応装置とサンプ
リング容器との間の差圧によって制御されるので、同じ
である。
は、極めて似ており、差違だけを注記することにする。
商業サンプリング装置は、パイロットプラント自動サン
プリング系と同じ容器一体性（ｉｎｔｅｇｒｉｔｙ）及
び加圧パージングを遂行する。図１におけるフレアー
（８）と大気ベント（９）との間を選定する三方遠隔作
動式バルブ（５）を、図２の商業系における大気ベント
ヘッダー上の手動バルブ（１４）に代える。商業サンプ
リング装置において、差圧送信機を使用してサンプルを
採取する直前に反応装置（７）とサンプリング容器
（１）との間の差圧を調整してサンプルのサイズを調節
する。パイロットプラント系では、作業技術者は、サン
プリング容器内部のサンプリング前の圧力を調整して、
直接差圧を調整するよりもむしろサンプルサイズを調節
する。最終結果は、サンプルサイズが反応装置とサンプ
リング容器との間の差圧によって制御されるので、同じ
である。
【００２８】別の有意の差違は、商業設備が循環ガス
（１５）流れを使用して図２における遠隔作動式バルブ
（１６）により反応装置口を固形分が除かれた状態にし
て置くことである。口を清浄な状態にして置きかつ固体
激変を起きさせないために、６０ｆｐｓ（１８ｍ／秒）
最少ガス速度が勧められる。しかし、速度は、ＥＰＲ−
１ユニットにおける速度は、おそらく１０〜２０ｆｐｓ
（３．０〜６．１ｍ／秒）も同然である。圧縮機の吐出
とサンプリング口における反応装置床との間の差圧は、
循環ガス用の原動力となる。一旦、装置が一体性検査に
合格し、装置を窒素で加圧パージし、かつ適当な差圧に
加圧したら、循環ガスパージバルブ（１６）を閉じるこ
とによってサンプリング手順が始まる。次いで、金属座
を付けたフル−ポート（ｆｕｌｌ−ｐｏｒｔ）（全口）
生成物移送バルブ（４）が開放して固形分をサンプリン
グ容器中に流れさせる。反応装置に取り付けた遠隔作動
式生成物移送バルブ（４）が閉じ、遠隔作動式バルブ
（１７）を経る循環ガスパージ圧力を用いてサンプリン
グ容器中に押し入れる。サンプリング容器（４）に接続
したその他の遠隔作動式フル−ポートバルブ（４）は、
パージガスバルブ（１７）と共に閉じる。パージガス流
れを、サンプルガスパージバルブ（１６）を開放するこ
とによって反応装置サンプル口に逆に向ける。循環ガス
パージ流れを、次の系が反応装置から次のサンプルを採
取する準備ができるまで維持する。
（１５）流れを使用して図２における遠隔作動式バルブ
（１６）により反応装置口を固形分が除かれた状態にし
て置くことである。口を清浄な状態にして置きかつ固体
激変を起きさせないために、６０ｆｐｓ（１８ｍ／秒）
最少ガス速度が勧められる。しかし、速度は、ＥＰＲ−
１ユニットにおける速度は、おそらく１０〜２０ｆｐｓ
（３．０〜６．１ｍ／秒）も同然である。圧縮機の吐出
とサンプリング口における反応装置床との間の差圧は、
循環ガス用の原動力となる。一旦、装置が一体性検査に
合格し、装置を窒素で加圧パージし、かつ適当な差圧に
加圧したら、循環ガスパージバルブ（１６）を閉じるこ
とによってサンプリング手順が始まる。次いで、金属座
を付けたフル−ポート（ｆｕｌｌ−ｐｏｒｔ）（全口）
生成物移送バルブ（４）が開放して固形分をサンプリン
グ容器中に流れさせる。反応装置に取り付けた遠隔作動
式生成物移送バルブ（４）が閉じ、遠隔作動式バルブ
（１７）を経る循環ガスパージ圧力を用いてサンプリン
グ容器中に押し入れる。サンプリング容器（４）に接続
したその他の遠隔作動式フル−ポートバルブ（４）は、
パージガスバルブ（１７）と共に閉じる。パージガス流
れを、サンプルガスパージバルブ（１６）を開放するこ
とによって反応装置サンプル口に逆に向ける。循環ガス
パージ流れを、次の系が反応装置から次のサンプルを採
取する準備ができるまで維持する。
【００２９】サンプルパージングは、加熱された窒素を
アルコールを収容する小さい容器（１８）を通過させる
パイロットプラント装置とほぼ同じである。一つの相違
は、アルコールに富む流体を円錐セクションの底部側に
配置したフィルターを通して供給するか又はそれを別の
遠隔作動式吐出バルブ（１９）を経てサンプリング容器
の下のサンプリング容器の底部上の二口遠隔作動式吐出
バルブの間の吐出パイピング中に供給するかのいずれか
にすることができることである。上部の遠隔作動式フル
−ポート吐出バルブ（２０）は、パイロットプラントサ
ンプリング系では使用せず、商業系において、プラント
サンプリング容器内の下部フィルター（２）が詰まり続
けたことから、加えた。パイロットプラントに対してＥ
ＰＲ−１における反応装置作業圧力が一層高いことが、
このフィルター問題を引き起こしたかもしれない。ＥＰ
Ｒ−１において固形分サンプルを反応装置からサンプリ
ング容器中に移送する時に、パージガスをサンプリング
容器からバルブ（２０）によって完全に分離する。パイ
ロットプラントでは、パージガスについての唯一の保護
は、フィルターそれ自体である。
アルコールを収容する小さい容器（１８）を通過させる
パイロットプラント装置とほぼ同じである。一つの相違
は、アルコールに富む流体を円錐セクションの底部側に
配置したフィルターを通して供給するか又はそれを別の
遠隔作動式吐出バルブ（１９）を経てサンプリング容器
の下のサンプリング容器の底部上の二口遠隔作動式吐出
バルブの間の吐出パイピング中に供給するかのいずれか
にすることができることである。上部の遠隔作動式フル
−ポート吐出バルブ（２０）は、パイロットプラントサ
ンプリング系では使用せず、商業系において、プラント
サンプリング容器内の下部フィルター（２）が詰まり続
けたことから、加えた。パイロットプラントに対してＥ
ＰＲ−１における反応装置作業圧力が一層高いことが、
このフィルター問題を引き起こしたかもしれない。ＥＰ
Ｒ−１において固形分サンプルを反応装置からサンプリ
ング容器中に移送する時に、パージガスをサンプリング
容器からバルブ（２０）によって完全に分離する。パイ
ロットプラントでは、パージガスについての唯一の保護
は、フィルターそれ自体である。
【００３０】ＥＰＲ−１及びパイロットプラントにおけ
る装置についての吐出シーケンスは、サンプリング容器
の底部にある遠隔作動式吐出バルブ（２０）及び（５）
が開放する前に満足させなければならない同一の論理許
容と同様である。ＰＬＣ論理及び独立の外部三重の重複
するＰＬＣは、生成物移送バルブ（４）並びに循環ガス
パージバルブ（１７）が、遠隔作動式吐出バルブと同じ
時に開放しないことを確実にする。作業技術者は、サン
プリング装置の底部にある手動吐出バルブ（６）を使用
してサンプリング容器（１３）への固形分の流れを制御
する。一旦、パージされかつ急冷されたサンプルを装置
から取り出したら、自動サンプル系は、別のサンプルを
採取する準備ができた。
る装置についての吐出シーケンスは、サンプリング容器
の底部にある遠隔作動式吐出バルブ（２０）及び（５）
が開放する前に満足させなければならない同一の論理許
容と同様である。ＰＬＣ論理及び独立の外部三重の重複
するＰＬＣは、生成物移送バルブ（４）並びに循環ガス
パージバルブ（１７）が、遠隔作動式吐出バルブと同じ
時に開放しないことを確実にする。作業技術者は、サン
プリング装置の底部にある手動吐出バルブ（６）を使用
してサンプリング容器（１３）への固形分の流れを制御
する。一旦、パージされかつ急冷されたサンプルを装置
から取り出したら、自動サンプル系は、別のサンプルを
採取する準備ができた。
【００３１】商業ユニットにおいてサンプリング系につ
いて選定するノズルの配置は、パイロットプラントに比
べて一層重要である。サンプリング口を、ガス分配板の
直ぐ上のガスジェットの流体の機械的な影響から離して
ガス分配板よりも上にすることを推奨した。商業サンプ
リング系について現在行われている口は、ガス分配板よ
りも数インチ上にして一層大きな凝集物に対して一層感
応し易くしかつ微粉に対して一層感応し難くする。ま
た、サンプリング系がサンプルを反応装置の壁から短い
距離離れて採取することを可能にするために、インサー
トをサンプリングノズルに加えることが必要かもしれな
い。ＥＰＲ−１商業ユニットは、サンプルが流動床内容
物を真に代表することを確実にするのにこれらの変更を
実施していない。
いて選定するノズルの配置は、パイロットプラントに比
べて一層重要である。サンプリング口を、ガス分配板の
直ぐ上のガスジェットの流体の機械的な影響から離して
ガス分配板よりも上にすることを推奨した。商業サンプ
リング系について現在行われている口は、ガス分配板よ
りも数インチ上にして一層大きな凝集物に対して一層感
応し易くしかつ微粉に対して一層感応し難くする。ま
た、サンプリング系がサンプルを反応装置の壁から短い
距離離れて採取することを可能にするために、インサー
トをサンプリングノズルに加えることが必要かもしれな
い。ＥＰＲ−１商業ユニットは、サンプルが流動床内容
物を真に代表することを確実にするのにこれらの変更を
実施していない。
【００３２】重合プロセス及び条件．本発明は、攪拌式
又は流動気相重合反応の特定のタイプに何ら限定せず、
単一の反応装置又は複数の反応装置（２つ以上の反応装
置を、好ましくは直列につなげた）において実施するこ
とができる。良く知られた慣用の気相重合プロセスに加
えて、気相重合反応装置のいわゆる「誘導式凝縮モー
ド」を含む「凝縮モード」、及び「液体モノマー」操作
を採用することができる。
又は流動気相重合反応の特定のタイプに何ら限定せず、
単一の反応装置又は複数の反応装置（２つ以上の反応装
置を、好ましくは直列につなげた）において実施するこ
とができる。良く知られた慣用の気相重合プロセスに加
えて、気相重合反応装置のいわゆる「誘導式凝縮モー
ド」を含む「凝縮モード」、及び「液体モノマー」操作
を採用することができる。
【００３３】樹脂を製造する慣用の流動床プロセスは、
一種又はそれ以上のモノマー、通常一種のモノマーを、
連続して流動床反応装置を反応条件下でニッケル触媒の
存在において通過させることによって実施する。生成物
を反応装置から抜き出す。未反応モノマーのガス状流を
反応装置から連続して抜き出して循環流に加えるメーク
アップモノマーと共に反応装置に循環させる。慣用の気
相重合は、例えば米国特許第３，９２２，３２２号；同
第４，０３５，５６０号；及び同第４，９９４，５３４
号に開示されている。本発明の慣用の重合を、米国特許
第４，９９４，５３４号に記載されているような一種又
はそれ以上の不活性な粒状物質の存在において実施する
のは、随意でありかつ好ましい。
一種又はそれ以上のモノマー、通常一種のモノマーを、
連続して流動床反応装置を反応条件下でニッケル触媒の
存在において通過させることによって実施する。生成物
を反応装置から抜き出す。未反応モノマーのガス状流を
反応装置から連続して抜き出して循環流に加えるメーク
アップモノマーと共に反応装置に循環させる。慣用の気
相重合は、例えば米国特許第３，９２２，３２２号；同
第４，０３５，５６０号；及び同第４，９９４，５３４
号に開示されている。本発明の慣用の重合を、米国特許
第４，９９４，５３４号に記載されているような一種又
はそれ以上の不活性な粒状物質の存在において実施する
のは、随意でありかつ好ましい。
【００３４】凝縮モード重合は、米国特許第４，５４
３，３９９号；同第４，５８８，７９０号；同第４，９
９４，５３４号；同第５，３５２，７４９号；及び同第
５，４６２，９９９号に開示されている。凝縮モードプ
ロセスは、一層大きな冷却容量、故に一層大きな反応装
置生産性を達成するのに採用される。これらの重合で
は、循環流、又はそれの一部を冷却して流動床重合プロ
セスにおいて露点よりも低い温度にし、循環流の全部又
は一部を凝縮させるに帰することができる。循環流を反
応装置に戻す。循環流の露点は、反応／循環流の作業圧
力を増大することにより及び／又は循環流中の凝縮性流
体のパーセンテージを増大させかつ非凝縮性流体のパー
センテージを減少させることによって上げることができ
る。凝縮性流体は、触媒、反応体及び製造するポリマー
生成物に対して不活性であるのがよく；凝縮性流体は、
また、モノマー及びコモノマーも含んでよい。凝縮用流
体は、反応／循環系中に系内の任意の点で導入すること
ができる。凝縮性流体は、飽和又は不飽和炭化水素を含
む。重合プロセス自体の凝縮性流体に加えて、重合に不
活性なその他の凝縮性流体を導入して凝縮モード運転を
誘導することができる。適した凝縮性流体の例は、炭素
原子２〜８を含有する液体飽和炭化水素（例えば、エタ
ン、プロパン、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ペンタ
ン、イソペンタン、ネオペンタン、ｎ−ヘキサン、イソ
ヘキサン、及びその他の飽和Ｃ6炭化水素、ｎ−ヘプタ
ン、ｎ−オクタン及びその他の飽和Ｃ7及びＣ8炭化水
素、並びにこれらの混合物）から選ぶことができる。凝
縮性流体は、また、オレフィン、アルファ−オレフィ
ン、ジオレフィン、少なくとも一種のアルファオレフィ
ンを含有するジオレフィン、及びこれらの混合物のよう
な重合性凝縮性コモノマーも含んでよい。凝縮モードで
は、流動床に入る液体を急速に分散及び気化させること
が望ましい。
３，３９９号；同第４，５８８，７９０号；同第４，９
９４，５３４号；同第５，３５２，７４９号；及び同第
５，４６２，９９９号に開示されている。凝縮モードプ
ロセスは、一層大きな冷却容量、故に一層大きな反応装
置生産性を達成するのに採用される。これらの重合で
は、循環流、又はそれの一部を冷却して流動床重合プロ
セスにおいて露点よりも低い温度にし、循環流の全部又
は一部を凝縮させるに帰することができる。循環流を反
応装置に戻す。循環流の露点は、反応／循環流の作業圧
力を増大することにより及び／又は循環流中の凝縮性流
体のパーセンテージを増大させかつ非凝縮性流体のパー
センテージを減少させることによって上げることができ
る。凝縮性流体は、触媒、反応体及び製造するポリマー
生成物に対して不活性であるのがよく；凝縮性流体は、
また、モノマー及びコモノマーも含んでよい。凝縮用流
体は、反応／循環系中に系内の任意の点で導入すること
ができる。凝縮性流体は、飽和又は不飽和炭化水素を含
む。重合プロセス自体の凝縮性流体に加えて、重合に不
活性なその他の凝縮性流体を導入して凝縮モード運転を
誘導することができる。適した凝縮性流体の例は、炭素
原子２〜８を含有する液体飽和炭化水素（例えば、エタ
ン、プロパン、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ペンタ
ン、イソペンタン、ネオペンタン、ｎ−ヘキサン、イソ
ヘキサン、及びその他の飽和Ｃ6炭化水素、ｎ−ヘプタ
ン、ｎ−オクタン及びその他の飽和Ｃ7及びＣ8炭化水
素、並びにこれらの混合物）から選ぶことができる。凝
縮性流体は、また、オレフィン、アルファ−オレフィ
ン、ジオレフィン、少なくとも一種のアルファオレフィ
ンを含有するジオレフィン、及びこれらの混合物のよう
な重合性凝縮性コモノマーも含んでよい。凝縮モードで
は、流動床に入る液体を急速に分散及び気化させること
が望ましい。
【００３５】液体モノマー重合モードは、米国特許第
５，４５３，４７１号；米国特許出願第５１０，３７５
号；ＰＣＴ９５／０９８２６（米国）及びＰＣＴ９５／
０９８２７（米国）に開示されている。液体モノマーモ
ードで運転する時は、もし床中に存在する液体モノマー
が、製造されるポリマー中／上のような床中に存在する
固体粒状物質又は床中に存在する不活性な粒状物質（例
えば、カーボンブラック、シリカ、クレー、タルク、及
びこれらの混合物）としても知られる流動化助剤上に吸
着され又は粒状物質中に吸収されるとすれば、相当な量
の自由な液体モノマーが存在しない限り、液体は、ポリ
マー床全体にわたって存在するすることができる。液体
モードは、慣用のポリオレフィンが製造される温度より
もずっと高い凝縮温度を有するモノマーを使用して気相
反応装置においてポリマーを製造することを可能にす
る。
５，４５３，４７１号；米国特許出願第５１０，３７５
号；ＰＣＴ９５／０９８２６（米国）及びＰＣＴ９５／
０９８２７（米国）に開示されている。液体モノマーモ
ードで運転する時は、もし床中に存在する液体モノマー
が、製造されるポリマー中／上のような床中に存在する
固体粒状物質又は床中に存在する不活性な粒状物質（例
えば、カーボンブラック、シリカ、クレー、タルク、及
びこれらの混合物）としても知られる流動化助剤上に吸
着され又は粒状物質中に吸収されるとすれば、相当な量
の自由な液体モノマーが存在しない限り、液体は、ポリ
マー床全体にわたって存在するすることができる。液体
モードは、慣用のポリオレフィンが製造される温度より
もずっと高い凝縮温度を有するモノマーを使用して気相
反応装置においてポリマーを製造することを可能にす
る。
【００３６】液体モノマープロセスは、成長中のポリマ
ー粒子の床を収容する重合域を有する攪拌式床又はガス
流動式床反応容器において行うのが普通である。そのプ
ロセスは、モノマー（１，３−ブタジエン）及び随意に
一種又はそれ以上の不活性なガスの流れを重合域中に、
随意に一種又はそれ以上の不活性な粒状物質の存在にお
いて連続して導入し；本明細書中に記載する通りの触媒
を連続して又は断続に重合域中に導入し；重合域からポ
リマー生成物を連続して又は断続に抜き出し；及び未反
応ガスを域から連続して抜き出し；域内の温度を域内に
存在する少なくとも一種のモノマーの露点よりも低く保
ちながらガスを圧縮及び冷却することを含む。一種だけ
のモノマーが気−液流中に存在するので、少なくとも一
種の不活性ガスも存在する。不活性ガスは、窒素、アル
ゴン、Ｃ1〜Ｃ20アルカン、及びこれらの混合物を含
み、窒素、ブタン、又はこれら２つの混合物が好適であ
る。域内の温度及び域を通過するガスの速度は、固体粒
状物質上に吸着されない又は固体粒状物質中に吸収され
ない液体が重合域中に本質的に存在しないようにするの
が典型的である。流動化助剤の使用は、液体モノマープ
ロセス及び本発明のプロセスにおいて好適である。本発
明の気相重合プロセスにおいて採用するモノマーの露点
又は凝縮温度に鑑みて、液体モノマーモードが好適な重
合モードである。
ー粒子の床を収容する重合域を有する攪拌式床又はガス
流動式床反応容器において行うのが普通である。そのプ
ロセスは、モノマー（１，３−ブタジエン）及び随意に
一種又はそれ以上の不活性なガスの流れを重合域中に、
随意に一種又はそれ以上の不活性な粒状物質の存在にお
いて連続して導入し；本明細書中に記載する通りの触媒
を連続して又は断続に重合域中に導入し；重合域からポ
リマー生成物を連続して又は断続に抜き出し；及び未反
応ガスを域から連続して抜き出し；域内の温度を域内に
存在する少なくとも一種のモノマーの露点よりも低く保
ちながらガスを圧縮及び冷却することを含む。一種だけ
のモノマーが気−液流中に存在するので、少なくとも一
種の不活性ガスも存在する。不活性ガスは、窒素、アル
ゴン、Ｃ1〜Ｃ20アルカン、及びこれらの混合物を含
み、窒素、ブタン、又はこれら２つの混合物が好適であ
る。域内の温度及び域を通過するガスの速度は、固体粒
状物質上に吸着されない又は固体粒状物質中に吸収され
ない液体が重合域中に本質的に存在しないようにするの
が典型的である。流動化助剤の使用は、液体モノマープ
ロセス及び本発明のプロセスにおいて好適である。本発
明の気相重合プロセスにおいて採用するモノマーの露点
又は凝縮温度に鑑みて、液体モノマーモードが好適な重
合モードである。
【００３７】ＥＰＲ、ポリブタジエン（例えば、高シス
１，４−ポリブタジエン）、やポリイソプレンのような
粘着性ポリマーは、気相流動反応装置においてポリマー
生成物の軟化又は粘着温度で又はそれよりも高い温度で
随意に及び好ましくはカーボンブラック（改質され及び
処理されたカーボンブラックを含む）、シリカ、クレ
ー、タルク、活性炭、及びこれらの混合物からなる群よ
り選ぶ不活性粒状物質の存在において製造するのが普通
である。不活性粒状物質の中で、カーボンブラック、シ
リカ、及びこれらの混合物が好適であり、カーボンブラ
ックが最も好適である。不活性粒状物質は、気相重合に
おいて最終のエラストマー性ポリマー生成物の重量に基
づいて約０．３〜約８０重量％、好ましくは約５〜約７
５重量％、最も好ましくは５〜５０重量％の量で用い
る。用いることができるその他の不活性粒状物質（特
に、カーボンブラック）は、米国特許第５，１６２，４
６３号及び同第５，２００，４７７号；ＷＯ／９８／３
４９６０；米国特許出願第０９／３４２，７０６号（Ｄ
−１７８５１）号及び同第０９／３４３，１６９号（Ｄ
−１７９４５）に開示されている。
１，４−ポリブタジエン）、やポリイソプレンのような
粘着性ポリマーは、気相流動反応装置においてポリマー
生成物の軟化又は粘着温度で又はそれよりも高い温度で
随意に及び好ましくはカーボンブラック（改質され及び
処理されたカーボンブラックを含む）、シリカ、クレ
ー、タルク、活性炭、及びこれらの混合物からなる群よ
り選ぶ不活性粒状物質の存在において製造するのが普通
である。不活性粒状物質の中で、カーボンブラック、シ
リカ、及びこれらの混合物が好適であり、カーボンブラ
ックが最も好適である。不活性粒状物質は、気相重合に
おいて最終のエラストマー性ポリマー生成物の重量に基
づいて約０．３〜約８０重量％、好ましくは約５〜約７
５重量％、最も好ましくは５〜５０重量％の量で用い
る。用いることができるその他の不活性粒状物質（特
に、カーボンブラック）は、米国特許第５，１６２，４
６３号及び同第５，２００，４７７号；ＷＯ／９８／３
４９６０；米国特許出願第０９／３４２，７０６号（Ｄ
−１７８５１）号及び同第０９／３４３，１６９号（Ｄ
−１７９４５）に開示されている。
【００３８】上記の重合のモードのすべては、製造する
ポリマー生成物と同じであるか又異なるポリマーの「種
床」で構成される又は「種床」を収容する気相流動床に
おいて実施するのが普通である。床は、反応装置におい
てポリマーを製造するつもりの同じ粒状樹脂で構成され
るのが好ましい。こうして、重合の課程中で、床は、形
成されたポリマー粒子、成長中のポリマー粒子、及び触
媒粒子を、粒子を分離させて流体として作用させる程の
流量及び速度で導入する重合用及び改質用ガス状成分に
よって流動させてなる。
ポリマー生成物と同じであるか又異なるポリマーの「種
床」で構成される又は「種床」を収容する気相流動床に
おいて実施するのが普通である。床は、反応装置におい
てポリマーを製造するつもりの同じ粒状樹脂で構成され
るのが好ましい。こうして、重合の課程中で、床は、形
成されたポリマー粒子、成長中のポリマー粒子、及び触
媒粒子を、粒子を分離させて流体として作用させる程の
流量及び速度で導入する重合用及び改質用ガス状成分に
よって流動させてなる。
【００３９】流動用ガスは、初期供給、メークアップ供
給、及び循環ガス、すなわちモノマー、並びに所望なら
ば、改質剤及び／又は不活性キャリヤーガス（例えば、
窒素、アルゴン、又は不活性炭化水素（例えば、エタン
又はブタンのようなＣ1〜Ｃ2 0アルカン）、窒素及び／
又はブタンが好適である）で構成される。代表的な循環
ガスは、一種又はそれ以上のモノマー、不活性キャリヤ
ーガス、及び随意に水素で、単独か又は組み合わせてか
のいずれかで構成される。そのプロセスは、バッチ又は
連続様式で実施することができ、後者が好適である。反
応装置の必須部分は、容器、床、ガス分配板、入口及び
出口パイピング、少なくとも１つの圧縮機、少なくとも
１つの循環ガス冷却器又は熱交換器、及び生成物吐出系
である。容器中床よりも上に、速度低減域が、及び床内
に反応域が存在する。両方共にガス分配板よりも上であ
る。
給、及び循環ガス、すなわちモノマー、並びに所望なら
ば、改質剤及び／又は不活性キャリヤーガス（例えば、
窒素、アルゴン、又は不活性炭化水素（例えば、エタン
又はブタンのようなＣ1〜Ｃ2 0アルカン）、窒素及び／
又はブタンが好適である）で構成される。代表的な循環
ガスは、一種又はそれ以上のモノマー、不活性キャリヤ
ーガス、及び随意に水素で、単独か又は組み合わせてか
のいずれかで構成される。そのプロセスは、バッチ又は
連続様式で実施することができ、後者が好適である。反
応装置の必須部分は、容器、床、ガス分配板、入口及び
出口パイピング、少なくとも１つの圧縮機、少なくとも
１つの循環ガス冷却器又は熱交換器、及び生成物吐出系
である。容器中床よりも上に、速度低減域が、及び床内
に反応域が存在する。両方共にガス分配板よりも上であ
る。
【００４０】所望ならば、反応装置の変更を導入するす
ることができる。一つは、１つ又はそれ以上の循環ガス
圧縮機を冷却器の上流から下流に配置転換することを含
み、別は、ベントラインを生成物吐出容器（攪拌式タン
ク生成物）の頂部から反応装置の頂部に戻して加えて生
成物吐出容器の充填レベルを改良することを含む。
ることができる。一つは、１つ又はそれ以上の循環ガス
圧縮機を冷却器の上流から下流に配置転換することを含
み、別は、ベントラインを生成物吐出容器（攪拌式タン
ク生成物）の頂部から反応装置の頂部に戻して加えて生
成物吐出容器の充填レベルを改良することを含む。
【００４１】重合は、また、単一の重合容器に初めに一
種のモノマーを仕込み、それを重合させ、次いで第二の
モノマーを加えてそれを重合させることによって行うこ
ともできる。代わりに、２つ又はそれ以上の重合容器
を、好ましくは直列につなげて使用して二種又はそれ以
上のモノマーを重合させることができる。複数の反応装
置を使用して、一種のモノマーを第一反応装置において
重合させ、追加のモノマーを第二又は続く反応装置にお
いて重合させることができる。
種のモノマーを仕込み、それを重合させ、次いで第二の
モノマーを加えてそれを重合させることによって行うこ
ともできる。代わりに、２つ又はそれ以上の重合容器
を、好ましくは直列につなげて使用して二種又はそれ以
上のモノマーを重合させることができる。複数の反応装
置を使用して、一種のモノマーを第一反応装置において
重合させ、追加のモノマーを第二又は続く反応装置にお
いて重合させることができる。
【００４２】通常、気相重合反応装置における重合条件
は、温度が約０°〜１２０℃、好ましくは約４０°〜１
００℃、最も好ましくは約５０°〜８０℃の範囲になる
ようにする。分圧は、採用する特定のモノマー及び重合
の温度に応じて変わり、約１〜１２５ｐｓｉ（０．００
７〜０．８６２ＭＰａ）の範囲にすることができる。モ
ノマーの凝縮温度は良く知られている。通常、分圧をモ
ノマーの露点よりもわずかに高く又はわずかに低く（す
なわち、±１０ｐｓｉ（０．０７ＭＰａ））して運転す
るのが好適である。例えば、ブタジエン及びイソプレン
−ブタジエンについて、分圧は、約１０〜約１００ｐｓ
ｉ（０．０７〜０．６９ＭＰａ）の範囲であり；イソプ
レン分圧は、約１０〜約５０ｐｓｉ（０．０７〜０．３
４ＭＰａ）の範囲である。液体モノマーモードでのイソ
プレン重合について、液体モノマー（イソプレン）を反
応装置内のポリマーに対するイソプレンモノマーの濃度
約１〜約３０重量％に保つ。全反応装置圧力は、約１０
０〜約５００ｐｓｉ（０．６９〜３．４ＭＰａ）の範囲
である。ジエンでないが、スチレンをブタジエン又はエ
チリデンノルボルネンの重合のようなその他のジエン重
合に類似して重合させる。本発明のプロセスは、空時得
率比（ＳＴＹ）約１：１０を有するように作動させる。
すなわち、それらは、アルファオレフィン重合に比べて
一層長い滞留時間を要するのが普通である。空時得率比
が大きい程、ポリマーは一層速く反応装置において製造
される。
は、温度が約０°〜１２０℃、好ましくは約４０°〜１
００℃、最も好ましくは約５０°〜８０℃の範囲になる
ようにする。分圧は、採用する特定のモノマー及び重合
の温度に応じて変わり、約１〜１２５ｐｓｉ（０．００
７〜０．８６２ＭＰａ）の範囲にすることができる。モ
ノマーの凝縮温度は良く知られている。通常、分圧をモ
ノマーの露点よりもわずかに高く又はわずかに低く（す
なわち、±１０ｐｓｉ（０．０７ＭＰａ））して運転す
るのが好適である。例えば、ブタジエン及びイソプレン
−ブタジエンについて、分圧は、約１０〜約１００ｐｓ
ｉ（０．０７〜０．６９ＭＰａ）の範囲であり；イソプ
レン分圧は、約１０〜約５０ｐｓｉ（０．０７〜０．３
４ＭＰａ）の範囲である。液体モノマーモードでのイソ
プレン重合について、液体モノマー（イソプレン）を反
応装置内のポリマーに対するイソプレンモノマーの濃度
約１〜約３０重量％に保つ。全反応装置圧力は、約１０
０〜約５００ｐｓｉ（０．６９〜３．４ＭＰａ）の範囲
である。ジエンでないが、スチレンをブタジエン又はエ
チリデンノルボルネンの重合のようなその他のジエン重
合に類似して重合させる。本発明のプロセスは、空時得
率比（ＳＴＹ）約１：１０を有するように作動させる。
すなわち、それらは、アルファオレフィン重合に比べて
一層長い滞留時間を要するのが普通である。空時得率比
が大きい程、ポリマーは一層速く反応装置において製造
される。
【００４３】ポリマー．本発明によって利することがで
きるポリマーは、粒状であるのが好ましい。それらは、
ポリオレフィン又はアルファオレフィン、例えばエチレ
ン又はプロピレンのホモポリマー、主モル％の主モノマ
ーとしてのエチレン及び／又はプロピレン並びに従たる
モル％の少なくとも一種のＣ3〜Ｃ8アルファオレフィン
のコポリマー及びターポリマー；粘着性ポリマー；並び
にポリ塩化ビニル；及びＥＰＭ、ＥＰＤＭ、ポリイソプ
レン、スチレン、ビニルポリブタジエンのようなエラス
トマーのようなものを含むことができる。この記述は、
エチレンがモノマーでないアルファオレフィンホモポリ
マー及びコポリマー樹脂による本発明の使用を排除する
つもりでない。本発明によって利することができる粘着
性ポリマーの例は、エチレン−プロピレンゴム及びエチ
レン−プロピレン−ジエンゴム、ポリブタジエン、ポリ
イソプレン、高エチレン含量プロピレン／エチレンブロ
ックコポリマー、ポリ（１−ブテン）（所定の条件下で
製造される時）、極低密度（低モジュラス）ポリエチレ
ン、すなわちエチレンブテンゴム又はヘキセン含有ター
ポリマー、エチレン／プロピレン／エチリデンノルボル
ネン、エチレン／プロピレン／オクタジエン、及びエチ
レン／プロピレン／ヘキサジエンターポリマーを含む。
きるポリマーは、粒状であるのが好ましい。それらは、
ポリオレフィン又はアルファオレフィン、例えばエチレ
ン又はプロピレンのホモポリマー、主モル％の主モノマ
ーとしてのエチレン及び／又はプロピレン並びに従たる
モル％の少なくとも一種のＣ3〜Ｃ8アルファオレフィン
のコポリマー及びターポリマー；粘着性ポリマー；並び
にポリ塩化ビニル；及びＥＰＭ、ＥＰＤＭ、ポリイソプ
レン、スチレン、ビニルポリブタジエンのようなエラス
トマーのようなものを含むことができる。この記述は、
エチレンがモノマーでないアルファオレフィンホモポリ
マー及びコポリマー樹脂による本発明の使用を排除する
つもりでない。本発明によって利することができる粘着
性ポリマーの例は、エチレン−プロピレンゴム及びエチ
レン−プロピレン−ジエンゴム、ポリブタジエン、ポリ
イソプレン、高エチレン含量プロピレン／エチレンブロ
ックコポリマー、ポリ（１−ブテン）（所定の条件下で
製造される時）、極低密度（低モジュラス）ポリエチレ
ン、すなわちエチレンブテンゴム又はヘキセン含有ター
ポリマー、エチレン／プロピレン／エチリデンノルボル
ネン、エチレン／プロピレン／オクタジエン、及びエチ
レン／プロピレン／ヘキサジエンターポリマーを含む。
【００４４】本明細書中で引用したすべての参考文献を
援用する。発明を以下の例によって例示する。明細書中
のすべての部及びパーセンテージは、他の方法で特定し
ない場合には、重量による。
援用する。発明を以下の例によって例示する。明細書中
のすべての部及びパーセンテージは、他の方法で特定し
ない場合には、重量による。
【図１】発明の自動サンプリング系の略図である。
【図２】本発明の商業ＥＰＲ−１反応装置サンプリング
系の図である。
系の図である。
１ 圧力定格円錐底部サンプリング容器 ２ サンプリング容器内部のフィルター、典型的には細
孔サイズ１〜１０ミクロンを有する燒結金属フィルター
媒体 ３ プログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）、例えばＴ
ｅｘａｓ Ｉｎｓｒｕｍｅｎｔｓ Ｍｏｄｅｌ ４０５ ４ 最高速度で作動する金属座を付けたＰＬＣ制御され
る遠隔作動式バルブ、典型的にはボールバルブ ５ ＰＬＣ制御される遠隔作動式バルブ、典型的にはボ
ールバルブ ６ 最高速度で作動する手動起動バルブ、典型的にはボ
ールバルブ ７ 反応装置 ８ フレアー ９ 大気ベント １０ 窒素 １１ 加熱された窒素 １２ アルコール １３ オフライン分析用サンプル吐出容器 １４ 手動大気ベントバルブ １５ 反応装置循環ガス １６ ＰＬＣ制御される遠隔作動式循環ガスパージバル
ブ １７ ＰＬＣ制御される遠隔作動式循環ガスサンプルラ
インパージバルブ １８ スチームトレースされるアルコール気化容器 １９ 加熱された窒素／アルコール添加ＰＬＣ制御され
る遠隔作動式バルブ ２０ 上部フル−ポートＰＬＣ制御される遠隔作動式吐
出バルブ
孔サイズ１〜１０ミクロンを有する燒結金属フィルター
媒体 ３ プログラム可能式論理制御器（ＰＬＣ）、例えばＴ
ｅｘａｓ Ｉｎｓｒｕｍｅｎｔｓ Ｍｏｄｅｌ ４０５ ４ 最高速度で作動する金属座を付けたＰＬＣ制御され
る遠隔作動式バルブ、典型的にはボールバルブ ５ ＰＬＣ制御される遠隔作動式バルブ、典型的にはボ
ールバルブ ６ 最高速度で作動する手動起動バルブ、典型的にはボ
ールバルブ ７ 反応装置 ８ フレアー ９ 大気ベント １０ 窒素 １１ 加熱された窒素 １２ アルコール １３ オフライン分析用サンプル吐出容器 １４ 手動大気ベントバルブ １５ 反応装置循環ガス １６ ＰＬＣ制御される遠隔作動式循環ガスパージバル
ブ １７ ＰＬＣ制御される遠隔作動式循環ガスサンプルラ
インパージバルブ １８ スチームトレースされるアルコール気化容器 １９ 加熱された窒素／アルコール添加ＰＬＣ制御され
る遠隔作動式バルブ ２０ 上部フル−ポートＰＬＣ制御される遠隔作動式吐
出バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０１Ｎ 1/04 Ｇ０１Ｎ 1/04 Ｓ (72)発明者 クリストファー・スコット・ハニセット アメリカ合衆国ウエストバージニア州ダン バー、ロクサラナ・ドライブ488 (72)発明者 ドナルド・ロバート・フィールズ アメリカ合衆国ウエストバージニア州ナイ トロー、バリー・ドライブ107 (72)発明者 キウ・ヒー・リー アメリカ合衆国ウエストバージニア州サウ ス・チャールストン、ラストリング・ロー ド1002
Claims (2)
- 【請求項１】 ポリマーを気相流動床反応装置において
製造する間ポリマーをサンプリング方法であって、下
記： （１）サンプル収納容器をサンプル収納容器から環境へ
の漏洩及び反応装置からサンプル収納容器への漏洩につ
いて分析し； （２）流動床からのポリマーのサンプルをサンプル収納
容器に取り出し； （３）ポリマーのサンプルをアルミニウムアルキル冷却
剤と接触させ； （４）サンプル収納容器内のポリマーのサンプルを不活
性ガスでパージし；及び （５）ポリマーのサンプルをサンプル収納容器から吐出
することを含む方法。 - 【請求項２】 下記を含む装置： （１）円錐角が粘着性固形分に容器の底部を容易に埋め
させないようにする程に急勾配である円錐吐出底部を有
する圧力定格サンプリング容器； （２）固体生成物をサンプリング容器内部に保ちかつ固
体生成物を計測器又はその他のプロセス流体に移行させ
ないようにする１つ以上のフィルター； （３）バルブの作動を順に並べることができかつサンプ
リング系が安全に作動しておりかつ所望する機能を遂行
していることを確実にする、圧力、温度及び流れ検出器
を含むその他のプロセス計測器と共に論理テストを遂行
することができるプログラム可能式論理制御器（ＰＬ
Ｃ）； （４）反応装置からサンプリング容器への漏洩を最少に
する金属シートを有する反応装置に接続される１つ以上
の最高速度で作動するＰＬＣ制御される遠隔作動式バル
ブ； （５）サンプリング容器をパージガス、冷却剤、ベン
ト、フレアー、反応装置循環ガスのようなその他のプロ
セス流体に接続し、又は生成物を吐出するための１つ以
上のＰＬＣ制御される遠隔作動式バルブ；並びに （６）生成物をオフライン分析するためにサンプル容器
中に最終的に吐出するのを制御するのを可能にする手動
吐出隔離バルブ。
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