JP2001179671A - ワーク搬送装置の吸着パッド - Google Patents
ワーク搬送装置の吸着パッドInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理能力の低下を招くことなく、敷粉の飛散
を防止してワークの反りや付着を防止できるワーク搬送
装置の吸着パッドを提供する。 【解決手段】 吸着面７ａを有するスポンジゴム（パッ
ド部材）７に真空源が接続された吸着筒（吸着通路）８
を吸着口８ａが上記吸着面７ａに開口するように設けて
なり、ワークＷを上記吸着面７ａにて吸引保持した状態
でワーク処理位置Ａに搬送し、該ワーク処理位置Ａにて
上記吸着筒８に真空破壊エアを吹き込むことにより上記
ワークＷの吸引保持を解除するようにしたワーク搬送装
置の吸着パッドにおいて、上記スポンジゴム７の吸着口
８ａの外周部に上記真空破壊エアを吹きつけ方向と逆方
向に流出させる真空破壊エア逃げ通路９を形成する。
を防止してワークの反りや付着を防止できるワーク搬送
装置の吸着パッドを提供する。 【解決手段】 吸着面７ａを有するスポンジゴム（パッ
ド部材）７に真空源が接続された吸着筒（吸着通路）８
を吸着口８ａが上記吸着面７ａに開口するように設けて
なり、ワークＷを上記吸着面７ａにて吸引保持した状態
でワーク処理位置Ａに搬送し、該ワーク処理位置Ａにて
上記吸着筒８に真空破壊エアを吹き込むことにより上記
ワークＷの吸引保持を解除するようにしたワーク搬送装
置の吸着パッドにおいて、上記スポンジゴム７の吸着口
８ａの外周部に上記真空破壊エアを吹きつけ方向と逆方
向に流出させる真空破壊エア逃げ通路９を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークをパッド部
材により吸引保持した状態で搬送するようにしたワーク
搬送装置の吸着パッドに関する。
材により吸引保持した状態で搬送するようにしたワーク
搬送装置の吸着パッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、セラミック電子部品の製造する
場合、板状のセラミック素子（以下、ワークと称する）
を匣に重ねた状態で焼成炉内にて熱処理する場合があ
る。この場合、熱処理する際にワークが互いに反り返っ
たり，付着したりするのを防止するためにワークの重ね
合わせ面に敷粉を振るようにしている。
場合、板状のセラミック素子（以下、ワークと称する）
を匣に重ねた状態で焼成炉内にて熱処理する場合があ
る。この場合、熱処理する際にワークが互いに反り返っ
たり，付着したりするのを防止するためにワークの重ね
合わせ面に敷粉を振るようにしている。
【０００３】また、上記ワークを焼成炉に搬送するため
の保持手段として、従来、図８〜図１０に示す真空式吸
着パッドが採用されている。この吸着パッド５０は、チ
ャンバ５１にスポンジゴムベース５２を介在させてスポ
ンジゴム５３を固着し、上記チャンバ５１に真空源が接
続される吸引口５５を接続するとともに、スポンジゴム
ベース５２及びスポンジゴム５３に吸引口５５に連通す
る吸着孔５６，５６を形成した概略構造のものである。
の保持手段として、従来、図８〜図１０に示す真空式吸
着パッドが採用されている。この吸着パッド５０は、チ
ャンバ５１にスポンジゴムベース５２を介在させてスポ
ンジゴム５３を固着し、上記チャンバ５１に真空源が接
続される吸引口５５を接続するとともに、スポンジゴム
ベース５２及びスポンジゴム５３に吸引口５５に連通す
る吸着孔５６，５６を形成した概略構造のものである。
【０００４】上記吸着パッド５０は、密着させて整列し
たセラミック素子からなる複数のワークＷをスポンジゴ
ム５３の吸着面５３ａにて吸引保持した状態で所定のワ
ーク処理位置Ａに搬送し、該ワーク処理位置Ａにて上記
チャンバ５１内に真空破壊エアを吹き込み、これにより
ワークＷをスポンジゴム５３から遊離する。この場合、
ワークＷ同士が重なり合うのを防止する観点から、上記
吸着面５３ａは平坦に形成されている。また真空破壊エ
アとはワークＷの吸着保持を強制的に解除するための正
圧のことである。
たセラミック素子からなる複数のワークＷをスポンジゴ
ム５３の吸着面５３ａにて吸引保持した状態で所定のワ
ーク処理位置Ａに搬送し、該ワーク処理位置Ａにて上記
チャンバ５１内に真空破壊エアを吹き込み、これにより
ワークＷをスポンジゴム５３から遊離する。この場合、
ワークＷ同士が重なり合うのを防止する観点から、上記
吸着面５３ａは平坦に形成されている。また真空破壊エ
アとはワークＷの吸着保持を強制的に解除するための正
圧のことである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の吸着パッドでは、図１０に示すように、真空破壊エ
ア（→印参照）の一部がワークＷ間の隙間から下面に流
れ、プレース面に振りかけた敷粉６０を吹き飛ばしてし
まう場合があり、この状態で熱処理を行うとワークＷの
反りや付着が発生し、品質及び製品歩留まりが低下する
という問題がある。
来の吸着パッドでは、図１０に示すように、真空破壊エ
ア（→印参照）の一部がワークＷ間の隙間から下面に流
れ、プレース面に振りかけた敷粉６０を吹き飛ばしてし
まう場合があり、この状態で熱処理を行うとワークＷの
反りや付着が発生し、品質及び製品歩留まりが低下する
という問題がある。
【０００６】ここで、敷粉の飛散を防止するには、真空
破壊エアの吹きつけ量を減らしたり吹きつけ圧力を弱め
たりすることが考えられるが、このようにした場合には
処理能力が著しく低下するという懸念がある。
破壊エアの吹きつけ量を減らしたり吹きつけ圧力を弱め
たりすることが考えられるが、このようにした場合には
処理能力が著しく低下するという懸念がある。
【０００７】本発明は上記従来の状況に鑑みてなされた
もので、処理能力の低下を招くことなく、敷粉の飛散を
防止してワークの反りや付着を防止できるワーク搬送装
置の吸着パッドを提供することを目的としている。
もので、処理能力の低下を招くことなく、敷粉の飛散を
防止してワークの反りや付着を防止できるワーク搬送装
置の吸着パッドを提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、吸着面を有す
るパッド部材に真空源が接続される吸着通路を吸着口が
上記吸着面に開口するように設けてなり、ワークを上記
吸着面にて吸引保持した状態でワーク処理位置に搬送
し、該ワーク処理位置にて上記吸着通路に真空破壊エア
を吹き込むことにより上記ワークの吸引保持を解除する
ようにしたワーク搬送装置の吸着パッドにおいて、上記
パッド部材の吸着口の近傍に上記真空破壊エアを吹きつ
け方向と逆方向に流出させる真空破壊エア逃げ通路を形
成したことを特徴としている。
るパッド部材に真空源が接続される吸着通路を吸着口が
上記吸着面に開口するように設けてなり、ワークを上記
吸着面にて吸引保持した状態でワーク処理位置に搬送
し、該ワーク処理位置にて上記吸着通路に真空破壊エア
を吹き込むことにより上記ワークの吸引保持を解除する
ようにしたワーク搬送装置の吸着パッドにおいて、上記
パッド部材の吸着口の近傍に上記真空破壊エアを吹きつ
け方向と逆方向に流出させる真空破壊エア逃げ通路を形
成したことを特徴としている。
【０００９】請求項２の発明は、請求項１において、上
記吸着通路がパッド部材に対して移動可能となってお
り、上記真空破壊エアを吹き込んだときに上記吸着通路
をエア吹きつけ方向と逆方向に移動させる移動駆動手段
を設けたことを特徴としている。
記吸着通路がパッド部材に対して移動可能となってお
り、上記真空破壊エアを吹き込んだときに上記吸着通路
をエア吹きつけ方向と逆方向に移動させる移動駆動手段
を設けたことを特徴としている。
【００１０】
【発明の作用効果】本発明にかかる吸着パッドによれ
ば、パッド部材の吸着口の近傍に真空破壊エの逃げ通路
を形成したので、吸着通路に吹き込まれた真空破壊エア
は吸着口から吹きつけ方向と逆方向に流出することとな
り、真空破壊エアがワークの間から下面に流入するのを
防止でき、ひいては敷粉の飛散を防止できる。これによ
りワークの反りや付着の問題を解消でき、品質及び製品
歩留まりを向上できる効果がある。
ば、パッド部材の吸着口の近傍に真空破壊エの逃げ通路
を形成したので、吸着通路に吹き込まれた真空破壊エア
は吸着口から吹きつけ方向と逆方向に流出することとな
り、真空破壊エアがワークの間から下面に流入するのを
防止でき、ひいては敷粉の飛散を防止できる。これによ
りワークの反りや付着の問題を解消でき、品質及び製品
歩留まりを向上できる効果がある。
【００１１】また真空破壊エアを吹きつけ方向と反対方
向に流出させる構造であるので、真空破壊エアの流量を
小さくしたり，圧力を弱めたりする必要はなく、処理能
力が低下することはない。
向に流出させる構造であるので、真空破壊エアの流量を
小さくしたり，圧力を弱めたりする必要はなく、処理能
力が低下することはない。
【００１２】請求項２の発明では、真空破壊エアを吹き
込んだときに上記吸着通路をエア吹きつけ方向と逆方向
に移動させたので、吸着口から逃げ通路への流路が開く
こととなり、これにより真空破壊エアの略全てを逃げ通
路から流出させることができ、敷粉の飛散をより確実に
防止できる効果がある。
込んだときに上記吸着通路をエア吹きつけ方向と逆方向
に移動させたので、吸着口から逃げ通路への流路が開く
こととなり、これにより真空破壊エアの略全てを逃げ通
路から流出させることができ、敷粉の飛散をより確実に
防止できる効果がある。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。
図面に基づいて説明する。
【００１４】図１ないし図６は、請求項１の発明の一実
施形態（第１実施形態）によるワーク搬送装置の吸着パ
ッドを説明するための図であり、図１は吸着パッドの斜
視図、図２は吸着パッドの底面図、図３は吸着パッドの
断面図（図１のIII-III 線断面図）、図４は吸着パッド
の動作を示す図、図５はワーク搬送装置の概略図、図６
はワークの搬送工程を示す工程図である。
施形態（第１実施形態）によるワーク搬送装置の吸着パ
ッドを説明するための図であり、図１は吸着パッドの斜
視図、図２は吸着パッドの底面図、図３は吸着パッドの
断面図（図１のIII-III 線断面図）、図４は吸着パッド
の動作を示す図、図５はワーク搬送装置の概略図、図６
はワークの搬送工程を示す工程図である。
【００１５】図において、３０はワーク搬送装置であ
り、これは前工程により成形処理されたワークＷをワー
ク受取位置Ｂまで移送するベルトコンベア３１と、該ワ
ーク受取位置ＢのワークＷを真空吸引により吸着する吸
着パッド１と、吸着パッド１を昇降駆動する昇降シリン
ダ機構３２と、該昇降シリンダ機構３２をワーク受取位
置Ｂからワーク処理位置Ａまで搬送する横行きシリンダ
機構３３とを備えている。また上記ベルトコンベア３１
の上方にはストッパ３４が架設されており、該ストッパ
３４によりベルトコンベア３１により移送されたワーク
Ｗをワーク受取位置Ｂに停止させるようになっている。
り、これは前工程により成形処理されたワークＷをワー
ク受取位置Ｂまで移送するベルトコンベア３１と、該ワ
ーク受取位置ＢのワークＷを真空吸引により吸着する吸
着パッド１と、吸着パッド１を昇降駆動する昇降シリン
ダ機構３２と、該昇降シリンダ機構３２をワーク受取位
置Ｂからワーク処理位置Ａまで搬送する横行きシリンダ
機構３３とを備えている。また上記ベルトコンベア３１
の上方にはストッパ３４が架設されており、該ストッパ
３４によりベルトコンベア３１により移送されたワーク
Ｗをワーク受取位置Ｂに停止させるようになっている。
【００１６】上記吸着パッド１は、上記昇降シリンダ機
構３２に支持固定された矩形板状のベース２と、該ベー
ス２と同じ大きさのスポンジゴムベース３とを間をあけ
て対向させ、該スポンジゴムベース３とベース２とを両
端部に配設された円筒状のカラー４，４を介在させて固
定ボルト５，５により締結固定してなるパッド本体６
の、上記スポンジゴムベース３の下面にパッド部材とし
てのスポンジゴム７を気密に貼着して構成されている。
このスポンジゴム７の下面が平坦な吸着面７ａとなって
いる。
構３２に支持固定された矩形板状のベース２と、該ベー
ス２と同じ大きさのスポンジゴムベース３とを間をあけ
て対向させ、該スポンジゴムベース３とベース２とを両
端部に配設された円筒状のカラー４，４を介在させて固
定ボルト５，５により締結固定してなるパッド本体６
の、上記スポンジゴムベース３の下面にパッド部材とし
てのスポンジゴム７を気密に貼着して構成されている。
このスポンジゴム７の下面が平坦な吸着面７ａとなって
いる。
【００１７】上記パッド本体２には一対の吸着通路を有
する吸着筒８，８が軸線を垂直方向に向けて配設されて
おり、この各吸着筒８はベース２，スポンジゴムベース
３，及びスポンジゴム７を貫通させて配置されている。
上記各吸着筒８の下端の吸着口８ａはスポンジゴム７の
吸着面７ａに開口しており、上端の吸引口８ｂはベース
２から上方に突出して不図示の真空源に接続されてい
る。また各吸着筒８の吸引口８ｂには真空破壊エアを供
給するエア供給源が上記真空源と切り替え可能に接続さ
れている。この真空破壊エアはワークＷの吸引保持を短
時間で強制的に解除するために瞬時に空気を込むもので
ある。なお、上記吸着筒８は市販のものでよく、吸着す
るワークによりワーク１個に対する数を増やしてもよ
い。
する吸着筒８，８が軸線を垂直方向に向けて配設されて
おり、この各吸着筒８はベース２，スポンジゴムベース
３，及びスポンジゴム７を貫通させて配置されている。
上記各吸着筒８の下端の吸着口８ａはスポンジゴム７の
吸着面７ａに開口しており、上端の吸引口８ｂはベース
２から上方に突出して不図示の真空源に接続されてい
る。また各吸着筒８の吸引口８ｂには真空破壊エアを供
給するエア供給源が上記真空源と切り替え可能に接続さ
れている。この真空破壊エアはワークＷの吸引保持を短
時間で強制的に解除するために瞬時に空気を込むもので
ある。なお、上記吸着筒８は市販のものでよく、吸着す
るワークによりワーク１個に対する数を増やしてもよ
い。
【００１８】そして、上記スポンジゴムベース３及びス
ポンジゴム７と各吸着筒８との間には真空破壊エア逃げ
通路９，９が形成されており、この各逃げ通路９はスポ
ンジゴムベース３及びスポンジゴム７の吸着筒８の外周
部を繰り抜いて形成されたものである。上記逃げ通路９
の下端開口９ａは上記スポンジゴム７の吸着面７ａに開
口しており、上端開口９ｂは上記スポンジゴムベース３
の上面から外方に開口している。
ポンジゴム７と各吸着筒８との間には真空破壊エア逃げ
通路９，９が形成されており、この各逃げ通路９はスポ
ンジゴムベース３及びスポンジゴム７の吸着筒８の外周
部を繰り抜いて形成されたものである。上記逃げ通路９
の下端開口９ａは上記スポンジゴム７の吸着面７ａに開
口しており、上端開口９ｂは上記スポンジゴムベース３
の上面から外方に開口している。
【００１９】次に本実施形態の作用効果について説明す
る。
る。
【００２０】本実施形態のワーク搬送装置３０は、前工
程により成形処理されたワーク（セラミック素子）Ｗが
ベルトコンベア３１により移送され、ストッパ３４に当
接してワーク受取位置Ｂにて停止すると、昇降シリンダ
機構３２により吸着パッド１が下降してワークＷに密着
し、この状態で真空吸引を行ってワークＷを吸着保持す
る（図６のＳ１，Ｓ２）。
程により成形処理されたワーク（セラミック素子）Ｗが
ベルトコンベア３１により移送され、ストッパ３４に当
接してワーク受取位置Ｂにて停止すると、昇降シリンダ
機構３２により吸着パッド１が下降してワークＷに密着
し、この状態で真空吸引を行ってワークＷを吸着保持す
る（図６のＳ１，Ｓ２）。
【００２１】昇降シリンダ機構３２によって吸着パッド
１が上昇してワークＷを持ち上げ、次に横行きシリンダ
機構３３が昇降シリンダ機構３２ごと吸着パッド１をワ
ーク処理位置Ａの上方まで搬送する（図６のＳ３，Ｓ
４）。
１が上昇してワークＷを持ち上げ、次に横行きシリンダ
機構３３が昇降シリンダ機構３２ごと吸着パッド１をワ
ーク処理位置Ａの上方まで搬送する（図６のＳ３，Ｓ
４）。
【００２２】昇降シリンダ機構３２が吸着パッド１を下
降させ、ワーク処理位置Ａにて吸着筒８に真空破壊エア
を吹き込むことによりワークＷをスポンジゴム７から遊
離させ、敷粉１０が振られたプレース面上に載置する
（図６のＳ５，Ｓ６）。
降させ、ワーク処理位置Ａにて吸着筒８に真空破壊エア
を吹き込むことによりワークＷをスポンジゴム７から遊
離させ、敷粉１０が振られたプレース面上に載置する
（図６のＳ５，Ｓ６）。
【００２３】この後、昇降シリンダ機構３２が吸着パッ
ド１を上昇させ、横行きシリンダ機構３３により吸着パ
ッド１をワーク受取位置Ｂまで戻す。
ド１を上昇させ、横行きシリンダ機構３３により吸着パ
ッド１をワーク受取位置Ｂまで戻す。
【００２４】この場合、従来では、上記真空破壊エアを
吹き込む際に、該破壊エアがワークの下面に流入して敷
粉を飛散させてしまうという問題があった。
吹き込む際に、該破壊エアがワークの下面に流入して敷
粉を飛散させてしまうという問題があった。
【００２５】これに対して、本実施形態では、スポンジ
ゴムベース３及びスポンジゴム７と各吸着筒８との間に
は真空破壊エア逃げ通路９，９を形成したので、吸着筒
８内に吹き込まれた真空破壊エアはワークＷに当たると
同時に逃げ通路９から上方に反射して吹きつけ方向と逆
方向に流出することとなる。これにより、真空破壊エア
がワークＷの下面に流入することはなく、敷粉１０が飛
び散るのを防止できる。もって焼成時のワークの反りや
付着の問題を解消でき、品質及び製品歩留まりを向上で
きる。
ゴムベース３及びスポンジゴム７と各吸着筒８との間に
は真空破壊エア逃げ通路９，９を形成したので、吸着筒
８内に吹き込まれた真空破壊エアはワークＷに当たると
同時に逃げ通路９から上方に反射して吹きつけ方向と逆
方向に流出することとなる。これにより、真空破壊エア
がワークＷの下面に流入することはなく、敷粉１０が飛
び散るのを防止できる。もって焼成時のワークの反りや
付着の問題を解消でき、品質及び製品歩留まりを向上で
きる。
【００２６】ちなみに、本実施形態の効果を確認するた
めに行った実験では、真空破壊エアを圧力０．５Ｍｐａ
で吹きつけたところ、敷粉の飛散は全く見られなかっ
た。
めに行った実験では、真空破壊エアを圧力０．５Ｍｐａ
で吹きつけたところ、敷粉の飛散は全く見られなかっ
た。
【００２７】図７は、請求項２の発明の一実施形態（第
２実施形態）による吸着パッドを説明するための図であ
る。図中、図３及び図４と同一符号は同一又は相当部分
を示す。
２実施形態）による吸着パッドを説明するための図であ
る。図中、図３及び図４と同一符号は同一又は相当部分
を示す。
【００２８】本実施形態の吸着パッド２０は、パッド本
体６にスポンジゴム７を貼着するとともに、該パッド本
体６に吸着筒８を配置し、該吸着筒８とスポンジゴムベ
ース３及びスポンジゴム７との間に真空破壊エア逃げ通
路９を形成してなり、基本的構造は第１実施形態と同様
である。
体６にスポンジゴム７を貼着するとともに、該パッド本
体６に吸着筒８を配置し、該吸着筒８とスポンジゴムベ
ース３及びスポンジゴム７との間に真空破壊エア逃げ通
路９を形成してなり、基本的構造は第１実施形態と同様
である。
【００２９】そして、上記各吸着筒８は、ベース２に配
設された摺動部材２１を介して軸線方向に昇降可能に支
持されている。また各吸着筒８には昇降駆動手段２２が
設けられており、これは各吸着筒８間に架設されたプレ
ート２３とベース２との間にシリンダ２４を配設した概
略構造のものであり、真空破壊エアを吹き込んだときに
上記吸着筒８を上昇させるように構成されている。これ
により吸着筒８と逃げ通路９とが連通するようになって
いる。なお、昇降駆動手段として、上記プレートとベー
スとの間にスプリングを配設してもよい。
設された摺動部材２１を介して軸線方向に昇降可能に支
持されている。また各吸着筒８には昇降駆動手段２２が
設けられており、これは各吸着筒８間に架設されたプレ
ート２３とベース２との間にシリンダ２４を配設した概
略構造のものであり、真空破壊エアを吹き込んだときに
上記吸着筒８を上昇させるように構成されている。これ
により吸着筒８と逃げ通路９とが連通するようになって
いる。なお、昇降駆動手段として、上記プレートとベー
スとの間にスプリングを配設してもよい。
【００３０】本実施形態の吸着パッド２０は、ワークＷ
を吸引保持した状態でワーク処理位置Ａに搬送し（図７
（ａ）参照）、該位置Ａにて真空破壊エアを吹き込むと
同時に吸着筒８を上昇させる（図７（ｂ）参照）。する
と真空破壊エアは吸着筒８から逃げ通路９を通って直ち
に外部に流出することとなり、敷粉１０を飛散させるこ
となくワークＷを載置できる（図７（ｃ）参照）。
を吸引保持した状態でワーク処理位置Ａに搬送し（図７
（ａ）参照）、該位置Ａにて真空破壊エアを吹き込むと
同時に吸着筒８を上昇させる（図７（ｂ）参照）。する
と真空破壊エアは吸着筒８から逃げ通路９を通って直ち
に外部に流出することとなり、敷粉１０を飛散させるこ
となくワークＷを載置できる（図７（ｃ）参照）。
【００３１】このように本実施形態によれば、真空破壊
エアを吹き込んだときに吸着筒８を上昇させて該吸着筒
８と逃げ通路９とを連通させたので、真空破壊エアの全
てを逃げ通路９から瞬時に流出させることができ、敷粉
１０の飛散をより確実に防止できる。
エアを吹き込んだときに吸着筒８を上昇させて該吸着筒
８と逃げ通路９とを連通させたので、真空破壊エアの全
てを逃げ通路９から瞬時に流出させることができ、敷粉
１０の飛散をより確実に防止できる。
【００３２】なお、上記各実施形態では、矩形状のワー
クを搬送する場合を説明したが、本発明のワークはこれ
に限られるものではなく、例えば円形状，あるいは異形
状のワークにも勿論適用できる。
クを搬送する場合を説明したが、本発明のワークはこれ
に限られるものではなく、例えば円形状，あるいは異形
状のワークにも勿論適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態によるワーク搬送装置の
吸着パッドを説明するための斜視図である。
吸着パッドを説明するための斜視図である。
【図２】上記吸着パッドの底面図である。
【図３】上記吸着パッドの断面図（図１のIII-III 線断
面図) である。
面図) である。
【図４】上記吸着パッドの動作を示す図である。
【図５】上記ワーク搬送装置の概略図である。
【図６】上記ワークの搬送工程を示す工程図である。
【図７】本発明の第２実施形態による吸着パッドの動作
を示す図である。
を示す図である。
【図８】従来の一般的の吸着パッドを示す斜視図であ
る。
る。
【図９】従来の吸着パッドの断面図である。
【図１０】従来の吸着パッドの問題点を示す図である。
１，２０ 吸着パッド ７ スポンジゴム（パッド部材） ７ａ 吸着面 ８ 吸着筒（吸着通路） ８ａ 吸着口 ９ 真空破壊エア逃げ通路 ２２ 昇降駆動手段 ３０ ワーク搬送装置 Ａ ワーク処理位置 Ｗ ワーク
Claims (2)
- 【請求項１】 吸着面を有するパッド部材に真空源が接
続される吸着通路を吸着口が上記吸着面に開口するよう
に設けてなり、ワークを上記吸着面にて吸引保持した状
態でワーク処理位置に搬送し、該ワーク処理位置にて上
記吸着通路に真空破壊エアを吹き込むことにより上記ワ
ークの吸引保持を解除するようにしたワーク搬送装置の
吸着パッドにおいて、上記パッド部材の吸着口の近傍に
上記真空破壊エアを吹きつけ方向と逆方向に流出させる
真空破壊エア逃げ通路を形成したことを特徴とするワー
ク搬送装置の吸着パッド。 - 【請求項２】 請求項１において、上記吸着通路がパッ
ド部材に対して移動可能となっており、上記真空破壊エ
アを吹き込んだときに上記吸着通路をエア吹きつけ方向
と逆方向に移動させる移動駆動手段を設けたことを特徴
とするワーク搬送装置の吸着パッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36533799A JP4122671B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | ワーク搬送装置の吸着パッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36533799A JP4122671B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | ワーク搬送装置の吸着パッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001179671A true JP2001179671A (ja) | 2001-07-03 |
| JP4122671B2 JP4122671B2 (ja) | 2008-07-23 |
Family
ID=18484019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36533799A Expired - Fee Related JP4122671B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | ワーク搬送装置の吸着パッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4122671B2 (ja) |
Cited By (6)
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- 1999-12-22 JP JP36533799A patent/JP4122671B2/ja not_active Expired - Fee Related
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