JP2001172633A - コレステリック性液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 耐熱性に優れ、しかも多色反射板等に利用で
きるモノドメイン配向フィルムを形成しうるコレステリ
ック性液晶組成物の提供。 【解決手段】 一般式（ａ１）および（ａ２）で示され
る架橋型ネマチック性液晶ポリマー、一般式（ｂ）で示
される架橋型コレステリック性液晶モノマー、及び一般
式（ｃ）で示されるコレステリック性液晶モノマーを含
有してなるコレステリック性液晶組成物。（式中、Ａお
よびＤは、環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−，−ＤＣＯ
−，−Ｏ−基を、Ｇは架橋基を、ＪおよびＬは光学活性
基をそれぞれ表す。） 一般式（ａ１）： 【化１】 一般式（ａ２）： 【化２】 一般式（ｂ）： 【化３】 一般式（ｃ）： 【化４】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コレステリック性
液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板に関する。
本発明のコレステリック性液晶組成物は、配向架橋処理
されてモノドメイン配向フィルムとなり各種光学フィル
ム等に用いうる。特に、配向フィルムの調製にあたっ
て、光学活性基の含有量を制御したモノドメイン配向フ
ィルムは、多色反射板として有用である。

【０００２】

【従来の技術】反射型液晶表示装置は、透過型液晶表示
装置と比較するとバックライトが不要であるという大き
な特徴を有するため、当該表示装置を薄く、軽くするこ
とが可能であり、しかもバックライトに必要な消費電力
を削減することができる。かかる特徴は、液晶表示装置
を備え、電源の容量が限られた携帯用の機器類、とりわ
け携帯用のノートパソコンの表示装置としての利用価値
か大きい。

【０００３】この反射型表示装置においては、透過型液
晶表示装置に準じてカラー表示化を達成することが要求
されている。これまでは反射型表示装置においても透過
型液晶表示装置で使用されているカラーフィルターを用
いたカラー化技術が採用されていた。しかし、かかるカ
ラー化技術を用いた反射型液晶表示装置は表示が暗く、
視認性に乏しいものであることから、別個のカラー化技
術が求められている。

【０００４】このような反射型液晶表示装置における新
たなカラー化技術としては、液晶の複屈折による着色変
化（ＥＣＢモード）を利用したものが提案されている。
しかしながら、このカラー化技術は、表示色やその色数
が限定されていて、多色カラー性に乏しく、また色純度
にも劣って鮮明性に乏しい難点があった。

【０００５】一方、低分子量の液状コレステリック性液
晶による選択反射性を利用したカラー化技術も提案され
ている（Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ：Ａｐｐl ．Ｐｈｙｓ．，ｖ
ｏｌ．８，１４４１；１９７５）。しかしながら、この
カラー化技術では、液状の液晶を用いるため、液晶表示
装置が、液晶をガラス基板間等に挟持した構造となって
重くて厚いものとなり、反射型の液晶表示装置には不向
きであると共に、液晶の流動性が色区画の固定性を低下
させ、また熱により色特性が変化しやすいという問題が
あった。

【０００６】他方、リオトロビック型の液晶ポリマーを
モノマーに溶解させて、それを温度制御下に活性光線を
使用して重合固定化したフィルムも提案されている（特
開昭５９−８３１１３号公報）。しかしながら、この技
術では、色制御を温度によって行う必要があること、ま
た液晶ポリマーがリオトロピック性のためにフィルム形
成時に基板挟持構造とすることが必要であること等のた
め、赤色領域、緑色領域、青色領域等の色区画を微細化
することが困難であると共に大面積化や量産化も困難で
あった。

【０００７】上記の問題を解消すべく、特開平１０−５
４９０５号公報には、シッフ塩基を有するコレステリッ
ク性液晶ポリマーに光酸発生剤を添加し、紫外線等の活
性光線の照射にて発生した酸により、シッフ塩基を切断
等してコレステリック性液晶ポリマーの面内でのコレス
テリックピッチを制御した多色反射板、並びにその製造
方法が提案されている。この技術は、表示色や色数の制
御が容易で色純度に優れ、反射型液晶表示装置における
鮮明で豊富な多色カラーによる良視認性の表示が達成で
き、しかも軽くて薄く、色区画の固定性に優れ、色特性
が実用温度で変化しにくい光学素子を製造することがで
きる。

【０００８】しかしながら、上記多色化処理工程によ
り、光学活性基の含有量を調整してコレステリック性液
晶ポリマーの面内でのコレステリックピッチを制御し
て、十分な選択反射色を達成するためには、コレステリ
ック性液晶ポリマーがシッフ塩基などの結合基を有する
ことが不可欠ではあるものの、シッフ塩基などの結合基
を有するコレステリック性液晶ポリマーは、加熱配向時
における熱的安定性等の性質が十分でないため、多色反
射板における一定の品質を保持することが難しい。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、耐
熱性に優れ、しかも多色反射板等に利用できるモノドメ
イン配向フィルムを形成しうるコレステリック性液晶組
成物を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、鋭意研究した結果、以下に示すコレステ
リック性液晶組成物により、前記目的を達成できること
を見出し、本発明を完成するに至った。

【００１１】すなわち、本発明は、一般式（ａ１）：

【化９】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｅはシアノ基、ア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子また
はフッ素原子を、ｇは２〜６の整数を示す。）で表され
る繰り返し単位、および、一般式（ａ２）：

【化１０】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘはそれぞれ独立
して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｇ
は架橋基を、ｈは２〜６の整数を、ｋは０〜６の整数を
示す。）で表される繰り返し単位を有する架橋型ネマチ
ック性液晶ポリマー（ａ）、一般式（ｂ）：

【化１１】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘはそれぞれ独立
して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｊ
は活性光線により変性ないし失活しない光学活性基を、
ｐおよびｑはそれぞれ独立して２〜６の整数を示す。）
で表される架橋型コレステリック性液晶モノマー
（ｂ）、ならびに、一般式（ｃ）：

【化１２】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｌは活性光線によ
り変性ないし失活する光学活性基を、ｒは２〜６の整数
を示す。）で表されるコレステリック性液晶モノマー
（ｃ）を含有してなるコレステリック性液晶組成物、に
関する。

【００１２】前記本発明の液晶組成物は、ネマチック性
液晶ポリマー（ａ）が架橋型であることに加え、コレス
テリック性液晶モノマー（ｂ）も架橋型であり、配向後
における後架橋によって、液晶性を維持した架橋形態の
液晶ポリマーが得られることから、耐熱性が向上するた
め熱的安定性がよい。

【００１３】また、前記架橋型コレステリック性液晶モ
ノマー（ｂ）の光学活性基（Ｊ）は活性光線に対し安定
なものであり、一方、コレステリック性液晶モノマー
（ｃ）の光学活性基（Ｌ）は活性光線に対し活性で不安
定なものである。このように発明の液晶組成物は、活性
光線に対する安定性の異なる光学活性基によって、選択
反射特性に関わる光学活性基の有効成分含有量の制御が
可能であり、多色反射板等に利用できるモノドメイン配
向フィルムを形成しうる。なお、前記一般式（ｂ）およ
び一般式（ｃ）中の光学活性基に係わる変性ないし失活
とは、光学活性基の結合基の切断や構造変化、異性化や
転移などにより光学活性基がグランジャン配向における
螺旋ピッチの形成に有効に寄与しない状態となることを
意味する。

【００１４】かかる本発明のコレステリック性液晶組成
物は、たとえば、ガラス転移温度以上に加熱後冷却する
方式にて配向処理でき、常法により架橋処理することに
より液晶ポリマー化できる。したがって、従来のコレス
テリック性液晶組成物に準じ、低温で配向架橋処理によ
り、耐熱性に優れる配向フィルムの大面積体も容易に効
率よく製造することができる。また、本発明の液晶組成
物、配向フィルムは、活性光線に対し活性で不安定な光
学活性基の割合が制御されているため、雰囲気中や溶媒
中の酸性不純物に対する安定性、溶液安定性にも優れ
る。

【００１５】前記一般式（ａ１）、一般式（ａ２）、一
般式（ｂ）、一般式（ｃ）においてＡおよびＤは環状系
官能基であれば特に制限されないが、コレステリック性
液晶組成物の配向性を考慮すると、環状系官能基として
は、下記一般式、

【化１３】 で表される環状系官能基のいずれかであることが好まし
い。

【００１６】また、一般式（ａ２）においてＧは架橋基
であれば特に制限されないが、常態において比較的安定
性が高く、また従来の架橋処理で比較的容易に解裂し架
橋反応を起こしうる点で、下記一般式、

【化１４】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を示す）で表さ
れる架橋基のいずれかであることが好ましい。これら架
橋基のなかでも、脂環系の架橋基が、ポリマーの重合時
に架橋するおそれがないため合成が容易な点で好まし
い。

【００１７】また、前記一般式（ｂ）において、Ｊ（活
性光線により変性ないし失活しない光学活性基）は、一
般式、

【化１５】 （各式中、ｔ、ｕは０≦ｔ≦５、１≦ｕ≦６、かつｔ＋
１≦ｕを満足する整数を示す。）で表される光学活性基
（ｊ）のいずれかであることが好ましい。このような光
学活性基（ｊ）は、活性光線に対して活性なシッフ塩基
等の連結基を含まず、溶液安定性や配向時の熱的安定性
に優れ、耐熱性が向上する。

【００１８】また、一般式（ｃ）におけるＬ（活性光線
により変性ないし失活する光学活性基）は、一般式、

【化１６】 （各式中、Ｒ² はフェニル基、ビフェニル基、１−ナフ
チル基または２−ナフチル基を示し、Ｒ³ はメチル基、
フェニル基またはカルボキシメチル基を示し、Ｒ ⁴ はメ
チル基、ベンジル基またはｔ−ブチル基を示す。＊は不
斉炭素原子を示す。）で表される光学活性基（ｌ）のい
ずれかであることが好ましい。このような光学活性基
（ｌ）により、光学活性基の有効成分含有量を容易に制
御でき、選択反射特性を向上させうる。

【００１９】本発明の配向フィルムは、前記コレステリ
ック性液晶組成物に配向処理および架橋処理を施して得
られるものである。配向フィルムはモノドメイン配向を
有する。本発明の配向フィルムは、大面積のものを容易
に効率よく製造でき、しかも架橋されているため耐熱性
に優れている。

【００２０】また、前記配向フィルムを多色反射板に適
用するには、前記コレステリック性液晶組成物に、複数
の領域ごとに制御された活性光線を順次又は同時に照射
して、当該コレステリック性液晶組成物中の光学活性基
の有効含有量が異なる複数の領域を形成し、その後又は
それと同時にコレステリック性液晶組成物を配向処理し
て前記領域ごとに反射波長の異なる反射領域を形成する
多色化処理工程を行った後、さらに架橋処理を施す。か
かる製造方法により、耐熱性に優れた多色反射板が得ら
れる。

【００２１】

【発明の実施の形態】前記架橋型ネマチック性液晶ポリ
マー（ａ）、架橋型コレステリック性液晶モノマー
（ｂ）、コレステリック性液晶モノマー（ｃ）は、任意
の方法で合成できる。

【００２２】架橋型ネマチック性液晶ポリマー（ａ）
は、前記一般式（ａ１）および一般式（ａ２）で表され
る繰り返し単位を有する共重合体であり、かかる繰り返
し単位に対応するモノマー、すなわち、ネマチック性液
晶モノマー（ａ１）と架橋型ネマチック性液晶モノマー
（ａ２）を共重合することにより合成できる。

【００２３】共重合体の調製は、例えばラジカル重合方
式、カチオン重合方式、アニオン重合方式などの通例の
アクリル系モノマーの重合方式に準じて行うことができ
る。なお、ラジカル重合方式を適用する場合、各種の重
合開始剤を用いうるが、そのうちアゾビスイソブチロニ
トリルや過酸化ベンゾイルなどの分解温度が高くもな
く、かつ低くもない中間的温度で分解するものが好まし
く用いられる。

【００２４】また、共重合体中の架橋型ネマチック性液
晶モノマー（ａ２）の共重合割合は、共重合体を構成す
るモノマーの１〜３０モル％程度とするのが好ましい。
架橋型ネマチック性液晶モノマー（ａ２）の割合が少な
くなると高耐熱性を得るに十分な架橋が起こすために
は、前記共重合割合は５モル％以上とするのがより好ま
しい。一方、架橋型ネマチック性液晶モノマー（ａ２）
の割合が多くなると液晶としての配向性に支障をきたす
おそれがあるため、前記共重合割合は１５モル％以下と
するのがより好ましい。

【００２５】架橋型ネマチック性液晶ポリマー（ａ）の
分子量は、重量平均分子量に基づき２千〜１０万程度と
するのが好ましい。分子量が小さくなると、非流動層と
しての成膜性に乏しくなるため２．５千以上とするのが
より好ましい。また、分子量が大きくなると、液晶とし
ての配向性、特にラビング配向膜等を介したモノドメイ
ン化に乏しくなって均一な配向状態を形成しにくくなる
ことより、５万以下とするがより好ましい。

【００２６】以下に、下記式（α）で表わされる架橋型
ネマチック性液晶ポリマー（ａ）の合成例の一例を下記
化１７に示す。

【００２７】

【化１７】 すなわち、ネマチック性液晶モノマー（ａ１）は、たと
えば、４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息香
酸と４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルを、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（式中、ＤＣＣ）とジメチ
ルアミノピリジン（式中、ＤＭＡＰ）の存在下にエステ
ル化することによりを得ることができる。

【００２８】また、架橋型ネマチック性液晶モノマー
（ａ２）は、たとえば、４−（４’−ヒドロキシフェニ
ル）安息香酸を水酸化ナトリウム水溶液中、クロロ炭酸
メチルを加え室温で撹拌して水酸基を保護した後、１，
２，５，６−テトラヒドロベンジルアルコールを反応さ
せてテトラヒドロベンジル基を導入し、その後２５％ア
ンモニア水／テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）＝１／１０
（重量比）の混合液中で加熱還流し保護基を切断し、さ
らに４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息香酸
を加え、ＤＣＣとＤＭＡＰの存在下にエステル化するに
より得ることができる。

【００２９】そして、これらのモノマーをアゾビスイソ
ブチロニトリル（式中、ＡＩＢＮ）触媒下で共重合する
ことによって、化学式（α）で表わされる架橋型ネマチ
ック性液晶ポリマー（ａ）を得ることができる。なお、
化１７中のｍ、ｎは、ポリマー中の各繰り返し単位の割
合（モル％）を示し、｛ｎ／（ｍ＋ｎ）｝＝０．０１〜
０．３を満足するものであり、便宜的にブロック共重合
体で表したが、前記一般式（ａ１）および一般式（ａ
２）で表される繰り返し単位はブロック型、ランダム型
のいずれでもよい。

【００３０】かかる前記式（α）の構造は本発明におけ
る架橋型ネマチック性液晶ポリマー（ａ）の一例であ
り、本発明における架橋型ネマチック性液晶ポリマー
（ａ）が前記式（α）に限定されるものではない。

【００３１】なお、４−（２−プロペノイルオキシエト
キシ）安息香酸の合成は、下記化１８に示す通りエチレ
ンクロロヒドリンと４−ヒドロキシ安息香酸をヨウ化カ
リウムを触媒としてアルカリ水溶液中で加熱還流させ
て、ヒドロキシカルボン酸を得た後、それをアクリル酸
と脱水反応させて得ることができる。

【００３２】

【化１８】 また、下記式（β）で表わされる架橋型コレステリック
性液晶モノマー（ｂ）の合成例の一例を下記化１９に示
す。

【００３３】

【化１９】 すなわち、４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安
息香酸２モル部に対しイソソルビド１モル部を、ジシク
ロヘキシルカルボジイミドおよびジメチルアミノピリジ
ン触媒下でエステル化することにより、架橋型コレステ
リック性液晶モノマー（β）を合成できる。かかる前記
式（β）の構造は本発明における架橋型コレステリック
性液晶モノマー（ｂ）の一例であり、本発明における架
橋型コレステリック性液晶モノマー（ｂ）が前記式
（β）に限定されるものではない。

【００３４】また、下記式（γ）で表わされるコレステ
リック性液晶モノマー（ｃ）の合成例の一例を下記化２
０に示す。

【００３５】

【化２０】 すなわち、４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安
息香酸と４位にシッフ塩基を介して光学活性基を有する
フェノールを、ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび
ジメチルアミノピリジン触媒下でエステル化することに
より、目的のコレステリック性液晶モノマー（γ）を合
成できる。かかる前記式（γ）の構造は本発明における
コレステリック性液晶モノマー（ｃ）の一例であり、本
発明におけるコレステリック性液晶モノマー（ｃ）が前
記式（γ）に限定されるものではない。

【００３６】なお、４位にシッフ塩基を介して光学活性
基を有するフェノールは、例えば下記化２１のように、
４−ヒドロキシベンズアルデヒドと（Ｓ）−（−）−１
−フェニルエチルアミンをトルエン中で共沸脱水するこ
とにより得ることができる。

【化２１】 本発明のコレステリック性液晶組成物は、前記架橋型ネ
マチック性液晶ポリマー（ａ）、架橋型コレステリック
性液晶モノマー（ｂ）、コレステリック性液晶モノマー
（ｃ）を含有してなるものである。なお、これらの液晶
ポリマー、液晶モノマーは、それぞれ前記一般式で表さ
れるものを２種以上混合して用いてもよい。

【００３７】液晶組成物中、架橋型ネマチック性ポリマ
ー（ａ）の組成割合は、過少だと液晶性に乏しくなり、
配向できないおそれがあるため、５０〜９５重量％程度
とするのが好ましい。さらには、架橋型ネマチック性ポ
リマー（ａ）の含有量は、６５重量％以上とするのがよ
り好ましい。また９０重量％以下とするのがより好まし
い。

【００３８】また、液晶組成物中、架橋型コレステリッ
ク性液晶モノマー（ｂ）およびコレステリック性液晶モ
ノマー（ｃ）の合計の割合は、架橋型ネマチック性ポリ
マー（ａ）の残部となる。また、架橋型コレステリック
性液晶モノマー（ｂ）およびコレステリック性液晶モノ
マー（ｃ）の組成比は、たとえば、作製する多色反射板
の選択反射波長の制御範囲にもよるが、通常、（ｂ）：
（ｃ）＝１０：８０〜８０：１０程度（重量比）、好ま
しくは１０：４０〜４０：１０の範囲である。コレステ
リック性液晶モノマー（ｃ）が過少の場合、単色用に用
いる場合には特に問題はないが、選択反射光を多色化し
て用いる場合には選択反射波長を制御できる範囲が極端
に小さくなり、多色反射板の作製上好ましくない。一
方、過多になると、溶液安定性や熱的安定性に劣る光学
活性基が選択反射波長制御後にも残存することとなり、
好ましくない。

【００３９】なお、本発明のコレステリック性液晶組成
物は、前記液晶ポリマー（ａ）、液晶モノマー（ｂ）、
（ｃ）を各種用途に応じて適宜に選択し、上記方法に準
じて合成したものから調製するが、本発明の目的を損な
わない範囲で、前記液晶モノマー以外の液晶モノマー
や、液晶ポリマーを含有することができる。

【００４０】本発明のコレステリック性液晶組成物は、
配向処理および架橋処理が施されてモノドメイン配向を
有する配向フィルムとなる。

【００４１】配向処理は、従来の光学素子の形成に準じ
たは配向処理方法で行いうる。たとえば、コレステリッ
ク性液晶組成物の溶液を配向処理面上に展開して乾燥
後、加熱処理して配向層を形成する。

【００４２】前記の液晶組成物溶液の調製に際して用い
る溶媒としては、前記液晶ポリマー（ａ）、液晶モノマ
ー（ｂ）、（ｃ）を溶解しうるものであれば特に限定は
なく、このようなものを適宜に選択して用いることがで
きるる。たとえば、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、クロロホルム、
テトラヒドロフラン等があげられる。これらの溶媒は単
独溶媒や混合溶媒として用いられる。

【００４３】配向処理面としては、例えば低分子液晶化
合物の配向処理に使用されている公知のものを用いるこ
とかできる。たとえば、基材上にボリイミドやポリビニ
ルアルコール等からなる薄膜を形成して、それをレーヨ
ン布等でラビング処理したものや、酸化珪素等を斜方蒸
着したもの、あるいは延伸フィルムなどがあげられる。
基材等としては、液晶組成物を配向させるための加熱処
理に耐えるものであれば特に制限されず、例えばガラス
板やポリマーシート、位相差板や偏光板等を適宜に選択
して用いうる。

【００４４】液晶組成物溶液の展開は、たとえば、その
溶液を、スピンコート法やロールコート法、フローコー
ト法やプリント法、デイップコート法や流延製膜法等の
方法で薄層展開し、それを乾燥処理して溶媒を除去する
方法などによりおこなうことができる。

【００４５】液晶組成物の展開層を配向させるための加
熱処理は、液晶組成物のガラス転移点から等方相を呈す
る溶融状態までの温度範囲に加熱することにより行うこ
とができる。なお、配向状態を固定化するための冷却条
件については特に限定はなく、通例前記の加熱処理を３
００℃以下で行いうることから、自然冷却方式が一般に
用いられる。

【００４６】配向処理を終えた展開層は、それを架橋処
理することにより配向架橋物とされるが、その架橋処理
は電磁波照射および加熱の一方、または両方により行う
ことができる。電磁波は、紫外線や電子線等の適宜なも
のを用いうるが、中でも開始剤を添加する必要が無く初
期配向性に影響の少ない電子線を好ましく用いうる。電
磁波の波長、照射量は適宜決めることができるが、紫外
線を用いる場合は液晶組成物の吸収のない３００ｎｍよ
り長波長の紫外線が好ましく、電子線を用いる場合は、
照射量が多すぎると液晶ポリマーが崩壊するので、系に
よるがおおむね１〜２００Ｍｒａｄ／ｃｍ² が好まし
い。

【００４７】配向後の架橋を引き起こすために用いうる
開始剤は架橋形態によって異なるが、いずれの場合も開
始剤の添加による配向処理物の着色が実用上問題のない
程度であることが望ましい。まず加熱のみによって架橋
を行う場合は、配向処理時に架橋が起らないよう、分解
温度の高い開始剤を用いる必要がある。次に電磁波架橋
のうち開始剤が必要な紫外線について言及すると、紫外
線照射のみ、もしくは加熱しながら紫外線照射によって
架橋を行ういずれの場合も、配向温度および架橋時の加
熱温度で分解するものは好ましくなく、液晶組成物の吸
収がある３００ｎｍより長波長の紫外線で分解する開始
剤であれば使用できる。例えば、２‐ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブ
タノン−１や、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノ
ン］などが好ましく用いられる。また添加する開始剤量
も適宜決めることができる。

【００４８】電磁波照射に際しては、酸素阻害による影
響を回避するため減圧下や無酸素下等で行うことが好ま
しい。なお加熱処理の場合、液晶組成物のガラス転移温
度より高く、等方相転移温度より低い温度範囲の中の適
宜な温度で加熱してよい。

【００４９】本発明の配向フィルムは、適宜な基材上に
配向処理した液晶層を有する形態や、配向処理した液晶
層の単独層からなるフィルム形態などの適宜な形態を有
するものであってよい。液晶単独層からなるフィルムは
配向処理面よりの剥離物として得ることができるが、そ
の剥離回収には、長鎖アルキル基等からなる剥離性側鎖
を有するラビング膜形成剤を用いる方式や、炭素数８〜
１８のアルギル鎖を有するシラン化合物を表面に結合修
飾させたガラス板に配向処理面を形成する方式などの適
宜な方式を必要に応じて適用することができる。

【００５０】一方、基材との重畳物からなる配向フィル
ムとする場合、その基材としては、プラスチックフィル
ムやガラス板、あるいはポリマーシート、位相差板等の
延伸フィルムや偏光板の如き光学フィルムなど適宜のも
のを用いうる。前記のプラスチックフィルムとしては、
例えばポリメチルメタクリレートやポリカーボネート、
ポリビニルアルコールやポリアクリレート、ポリプロピ
レンやその他のポリオレフィン、ポリスチレンなどの、
延伸フィルムを形成しうる光学的に透明なプラスチック
を適宜に選択して用いうる。なお、基材としては、ガラ
ス板やトリアセチルセルロースフィルムの如く複屈折に
よる位相差が可及的に小さいものが特に望ましい。

【００５１】なお、配向架橋処理した液晶層の厚さは、
使用目的に応じた光学特性などにより適宜に決定しうる
が、一般には柔軟性等の点より１００μｍ以下、就中５
０μｍ、特に１〜３０μｍとされる。

【００５２】このようにして得られた本発明の配向フィ
ルムは、円偏光二色性を示す光学フィルムとして、液晶
表示素子等の色補償板、光学位相板、コレステリックフ
ィルム、ノッチフィルター等の種々の光学フィルム用途
に有用なものである。

【００５３】また、本発明のコレステリック性液晶組成
物は、基材層に展開した液晶相に対し、複数の領域ごと
に制御された活性光線を順次又は同時に照射して、当該
コレステリック性液晶組成物中の光学活性基の有効含有
量が異なる複数の領域を形成し、その後又はそれと同時
にコレステリック性液晶組成物を配向処理して前記領域
ごとに反射波長の異なる反射領域を形成する多色化処理
工程を行った後、さらに架橋処理を施すことにより、コ
レステリック性液晶の選択反射特性を任意に設定した、
耐熱性に優れる多色反射板を製造できる。

【００５４】活性光線としては、光学活性基を変性ない
し失活させうる、例えば可視光線や紫外線、電子線やガ
ンマ線などの適宜な放射線を用いることが出来る。その
中でも、照射エネルギー等の点より水銀灯やエキシマレ
ーザー等を介した紫外線が好ましい。

【００５５】活性光線の照射により、コレステリック性
液晶モノマー（ｃ）中の光学活性基（Ｌ）に係わるシッ
フ塩基等の結合基が切断され、光学活性基の有効含有量
が異なる複数の領域が形成され、コレステリック性液晶
の選択反射特性を任意に設定可能である。

【００５６】多色反射板の製造における配向処理、架橋
処理は、前記と同様の処理法を採用でき、配向処理は活
性光線の照射と同時に行うこともできる。なお、活性光
線の照射にあたっては、基材層に展開した液晶相を予め
配向処理しておくことにより、活性光線の照射後または
同時における配向処理を良好に行いうる。

【００５７】また、前記液晶組成物に光酸発生剤を配合
して非流動層とすることにより、結合基の切断に必要な
活性光線の照射量を減量できるが、かかる光酸発生剤を
添加した場合には、光学活性基に係わるウレタン結合や
−ＯＣＯＯ−結合においても切断が可能となる。その配
合量は、液晶組成物１００重量部に対し２５重量部以
下、就中０．１〜２０重量部、特に０．５〜１０重量部
が一般的であるが、これに限定されない。

【００５８】光酸発生剤としては、例えばトリアジン
類、芳香族スルホニウム塩類、芳香族ジアゾニウム塩
類、シアン酸エステル類、芳香族スルホン酸エステル
類、ニトロベンジルエステル類、芳香族スルファミド類
などの適宜なものを用いうる。就中、配合効果や液晶配
向への無影響性などの点より、トリアジン類や芳香族ス
ルホニウム塩類が好ましく用いうる。

【００５９】前記したトリアジン類の具体例としては、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３’，４’
−ジメトキシフェニル）トリアジン、２，４−ビス（ト
リクロロメチル）−６−（４’−メトキシナフチル）ト
リアジン、２，４‐ビス（トリクロロメチル）−６−ビ
ペロニルトリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチ
ル）−６−（４’−メトキシ−β−スチリル）トリアジ
ン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３’−
クロロ−４’−メトキシ−β−スチリル）トリアジンな
どが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【００６０】また、芳香族スルホニウム塩類の具体例と
しては、下記の化学式で表されるものなどが挙げられ
る。

【００６１】

【化２２】

【実施例】以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実
施例等について説明する。

【００６２】製造例１（ネマチック性液晶モノマー（ａ
１）の合成）

【化２３】 水酸化カリウム３００ｇをエタノール７００ｍｌと水３
００ｍｌの混合液に溶解し、その溶液に４−ヒドロキシ
安息香酸２７６ｇと触媒量のヨウ化カリウムを溶解させ
た後、加温状態でエチレンクロロヒドリン１７７ｇを徐
々に添加して約１５時間還流させた。得られた反応液よ
りエタノールを留去し、次いで水２Ｌ中に入れ、この水
溶液をジエチルエーテルで２回洗浄後、塩酸を添加して
酸性液とした。さらに沈殿物を濾別乾燥した後、エタノ
ールで再結晶し、４−（２−ヒドロキシエトキシ）安息
香酸２９８ｇを得た。

【００６３】次に、前記の４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）安息香酸１８．２ｇをテトラヒドロフラン３００ｍ
ｌに溶解させた後、それにアクリル酸ビニル１９．５ｇ
とリパーゼＰＳ（天野製薬（株）製）１８．０ｇと少量
のｐ−メトキシフェノールを添加して４０℃で３時間撹
拌した。得られた反応液よりリパーゼＰＳを濾別後、そ
の濾液を減圧留去した。生成の固体を２−ブタノン／ヘ
キサン＝２：１（重量比）の混合溶媒で再結晶させて４
−（２−プロベノイルオキシエトキシ）安息香酸１７．
５ｇを得た。

【００６４】次に、４−（２−プロペノイルオキシエト
キシ）安息香酸９．４４ｇ、トリフルオロ酢酸無水物
８．３２ｍｌを塩化メチレン１００ｍｌ中にいれ、撹拌
しながら４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニル７．
８ｇを加え、室温で６時間反応させた。反応液に塩化メ
チレン３００ｍｌを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。濾過、濃縮後、アセトニトリル１５０ｍｌより
再結晶を行い、ネマチック性液晶モノマー１１．７ｇ
（化学純度＞９８％）を得た。

【００６５】製造例２（架橋型ネマチック性液晶モノマ
ー（ａ２）の合成）

【化２４】 水２０００ｍｌに、水酸化ナトリウム８３．８６ｇおよ
び４−ヒドロキシ安息香酸１００ｇを溶解した溶液を氷
冷しておき、その中にクロロぎ酸メチル９１．１ｍｌを
撹拌しながら滴下した後、室温に戻しながら４時間撹拌
した。この溶液を水浴上で冷却しながら、この溶液に濃
塩酸約７０ｍｌを加えてｐＨ２〜３に調整し、析出した
結晶を濾過、水洗いして乾燥させた。さらに、イソプロ
パノール１０００ｍｌから再結晶し、４−メトキシカル
ボニルオキシ安息香酸９４．０ｇ（収率６６，２％、化
学純度＞９９％）を得た。

【００６６】４−メトキシカルボニルオキシ安息香酸４
０．０ｇおよびジメチルホルムアミド１．５０ｍｌを脱
水クロロホルム４００ｍｌ中に入れ、系を窒素置換して
おき、４０℃で撹拌しながら塩化チオニル１９．３４ｍ
ｌを滴下した。そのまま２時間撹拌した後、溶媒と過剰
の塩化チオニルをトラップを用いて留去し、さらに脱水
テトラヒドロフラン２０．０ｍｌを加えて結晶を溶解さ
せてから留去する洗浄操作を２回繰り返した。これに脱
水テトラヒドロフラン１００ｍｌを加え、さらに氷浴上
で１，２，５，６−テトラヒドロベンジルアルコール２
５．２ｇ、トリエチルアミン２２．７ｇおよびジメチル
アミノピリジン触媒量を脱水テトラヒドロフラン１００
ｍｌに溶解した溶液を滴下し、室温で一晩撹拌した。ト
リエチルアミン塩酸塩を濾別し、テトラヒドロフランを
２／３程度留去した後、塩化メチレン５００ｍｌで希釈
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、２モル／ｌ塩酸、
飽和食塩水で有機相を洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を留去した。さらに、クロロホルムを溶媒と
したシリカゲルカラムにより精製し、４−メトキシカル
ボニルオキシ安息香酸テトラヒドロベンジルエステル５
８．８ｇ（収率９９．３％、化学純度＞９７％）を得
た。

【００６７】４−メトキシカルボニルオキシ安息香酸テ
トラヒドロベンジルエステル５８．８ｇ、テトラヒドロ
フラン７００ｍｌ、２５％アンモニア水７０ｍｌをフラ
スコに仕込み、室温で１時間撹拌した。反応液を濃塩酸
で中和し、濾過した後、溶媒を留去した。塩化メチレン
２０００ｍｌを加え、有機相を水１０００ｍｌで２回洗
った後、溶媒を留去して４−ヒドロキシ安息香酸テトラ
ヒドロベンジルエステル３７．８ｇ（収率８０．４％、
化学純度＞９５％）を得た。

【００６８】４−メトキシカルボニルオキシ安息香酸１
４．８ｇ、４−ヒドロキシ安息香酸テトラヒドロベンジ
ルエステル１８．４ｇ、ジメチルアミノピリジン触媒量
および塩化メチレン３３０ｍｌをフラスコに仕込み、撹
拌しながら、これにジシクロヘキシルカルボジイミド１
７．１ｇを塩化メチレン３０ｍｌに溶解した溶液を３０
分かけて滴下した。そのまま室温で２０分撹拌し、反応
液を濾過した後、有機相を０．５モル／ｌ塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、４−メトキ
シカルボニルオキシ安息香酸−ｐ−テトラヒドロベンゾ
キシカルボニルフェニルエステル３４．１ｇ（収率＞９
９％、化学純度８８％）を得た。

【００６９】４−メトキシガルボニルオキシ安息香酸−
ｐ−テトラヒドロベンゾキシカルボニルフェニルエステ
ル３４．１ｇ、テトラヒドロフラン５００ｍｌおよび２
５％アンモニア水５０ｍｌをフラスコに仕込み、室温で
１時間撹拌した。反応液を濾過し、溶媒を留去した後、
塩化メチレン５００ｍｌを加え、有機相を水５００ｍｌ
で２回洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去して４−ヒドロキシ安息香酸−ｐ−テトラヒドロ
ベンゾキシカルボニルフェニルエステル２７．７ｇ（取
率９７．１％、化学純度９３％）を得た。

【００７０】４−ヒドロキシ安息香酸−ｐ−テトラヒド
ロベンゾキシカルボニルフェニルエステル２７．３ｇ、
４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息香酸１
９，２ｇ、ジメチルアミノピリジン触媒量、ブチルヒド
ロキシトルエン（重合禁止剤）少量および塩化メチレン
５００ｍｌをフラスコに仕込み、撹拌しながら、これに
ジシクロヘキシルカルボジイミド１７．６ｇを塩化メチ
レン３０ｍｌに溶解した溶液を３０分かけて滴下した。
室温で一晩撹拌し、反応液を濾過して塩化メチレン５０
０ｍｌを加えて希釈した後、有機相を０．５モル／ｌ塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去し
た。イソプロパノール７００ｍｌから再結晶し、架橋型
ネマチック性液晶モノマー２４．６ｇ（収率５６％、化
学純度９９％）を得た。

【００７１】製造例３（架橋型ネマチック性液晶ポリマ
ー（ａ）の合成）

【化２５】 製造例１で得たネマチック性液晶モノマー５．００ｇ、
製造例２で得た架橋型ネマチック性液晶モノマー０．３
４５ｇおよびジメチルアセトアミド／テトラヒドロフラ
ン＝４／１（重量比）の混合溶媒５０ｍｌをフラスコに
仕込み、系内を窒素置換した。水浴上で、溶液を温度５
７℃に加温して前記液晶モノマーを溶解させた後、アゾ
ビスイソブチロニトリル０．１０４ｇをジメチルアセト
アミド／テトラヒドロフラン＝４／１（重量比）の混合
溶媒２ｍｌに溶解した溶液を滴下した。溶液温度５７℃
に加温したまま、窒素置換しなから６時間撹拌し、室温
まで放冷した後、反応液を濾過し、メタノール１０００
ｍｌに投入してポリマーを析出させた。ポリマーを濾取
し、メタノール／テトラヒドロフラン＝3 ／２（重量
比）の混合溶媒で洗浄し、減圧乾燥して目的の架橋型ネ
マチック性液晶ポリマー４．８１ｇ（収率９０％、重量
平均分子量１００００）を得た。なお、化２５中のｍ、
ｎは各繰り返し単位の割合（モル％）を示し、｛ｎ／
（ｍ＋ｎ）｝＝０．０４８であり、便宜的にブロック共
重合体で表した。

【００７２】製造例４（架橋型コレステリック性液晶モ
ノマー（ｂ）の合成）

【化２６】 ４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息香酸５．
１０ｇ、イソソルビド２．８３ｇ、ジメチルアミノピリ
ジン触媒量およびブチルヒドロキシトルエン少量を塩化
メチレン５０ｍｌに溶解し、室温撹拌を行い、そこへ塩
化メチレン３ｍｌに溶解したジシクロヘキシルカルボジ
イミド（ＤＣＣ）２．３３ｇを徐々に添加した。室温で
５時間した後、析出したＤＣＣウレアを濾別した。濾液
を０．５モル／リットル塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水（２回）（各１００ｍｌ）で洗浄
し、さらに硫酸マグネシウムで乾燥、濾別、溶媒を留去
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒：塩化メチレン／ジエチルエーテル＝６／１（重量
比））を行い、目的の架橋型コレステリック性液晶モノ
マー１．３９ｇ（化学純度＞９０％）を得た。

【００７３】製造例５（コレステリック性液晶モノマー
（ｃ）の合成）

【化２７】 ｐ−ヒドロキシベンズアルデビド１２２ｇをトルエン１
２００ｍｌに加温して溶解した後、（Ｓ）−（−）−１
−フェニルエチルアミン１２１ｇを３０分かけて加え、
Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ器を用いて理論量の水を確認する
まで約３〜４時間還流した。次に反応液を放冷し、析出
した結晶を濾過し、エタノール１５００ｍｌで再結晶し
て自色の針状結晶（キラルフェノール化合物）１６６ｇ
が得られた。

【００７４】４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）
安息香酸１１８ｇ、キラルフェノール化合物１１３ｇ、
ジメチルアミノピリジン触媒量およびブチルヒドロキシ
トルエン少量を酢酸エチル２５００ｍｌに溶解し、室温
撹拌を行い、そこへ酢酸エチル２００ｍｌに溶解したジ
シクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）１２４ｇを徐
々に添加した。室温で５時問撹拌した後、析出したＤＣ
Ｃウレアを濾別した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水（２回）（各１００ｍｌ）で洗浄し、
さらに硫酸マグネシウムで乾燥、濾別、溶媒を留去した
後、エタノール１８００ｍｌで再結晶を行い、目的のコ
レステリック性液晶モノマー１３０ｇ（化学純度＞９０
％）を得た。

【００７５】実施例１ 製造例３で得られた架橋型ネマチック性液晶ポリマー７
５重量部、製造例４で得られた架橋型コレステリック性
液晶モノマー９重量部および製造例５で得られたコレス
テリック性モノマー１６重量部をシクロヘキサノンに溶
解させて３０重量％の液晶組成物の溶液を調製した。

【００７６】次に、前記溶液を、ガラス板に張り合わせ
た延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムに、スピン
コーターにて塗布して乾燥させ、１６０℃で５分間加熱
して配向処理後に、室温にて放冷した後、電子線を４０
Ｍｒａｄ／ｃｍ² で照射して架橋し、配向架橋処理され
た配向フィルムを得た。

【００７７】実施例２ 実施例１で調製した液晶組成物１００重量部を含む溶液
に、光酸発生剤５重量部を添加した液晶組成物の溶液を
調製し、さらに当該溶液に実施例１と同様の配向処理を
行った後、透過率が１００％、５０％、０％の３領域を
１００μｍピッチで有するフォトマスクを介してＤｅｅ
ｐ紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ² 照射し、さらに前記同様
の配向処理条件で再配向して多色反射処理を行った後、
電子線を４０Ｍｒａｄ／ｃｍ² で照射して架橋処理し
て、配向架橋処理された配向フィルム（多色反射板）を
得た。

【００７８】比較例ｌ 実施例１において、製造例３で得られた架橋型ネマチッ
ク性液晶ポリマー７５重量部および製造例５で得られた
コレステリック性モノマー２５重量部により液晶組成物
を調製した以外は、実施例１と同様の操作を行い配向フ
ィルムを得た。

【００７９】比較例２ 実施例２において、製造例３で得られた架橋型ネマチッ
ク性液晶ポリマー７５重量部および製造例５で得られた
コレステリック性モノマー２５重量部により液晶組成物
を調製した以外は、実施例２と同様の操作を行い配向フ
ィルムを得た。 参考例１ 実施例１において、電子線照射を行わないこと以外は、
実施例１と同様の操作を行い配向フィルムを得た。

【００８０】参考例２ 実施例２において、電子線照射を行わないこと以外は、
実施例２と同様の操作を行い配向フィルムを得た。

【００８１】実施例、比較例で得た配向フィルムを種々
の温度で１時間加熱して外観の変化を目視観察し、変化
が認められない最高温度を耐熱温度として評価した。結
果を表１に示す。

【００８２】

【表１】 表１より、架橋型コレステリック性液晶モノマー（ｂ）
を含有する液晶組成物から調製された実施例の配向フィ
ルムは、架橋型コレステリック性液晶モノマー（ｂ）を
含有していない液晶組成物から得られた比較例の配向フ
ィルムに比べて、耐熱温度が大幅に向上していることが
認められる。また、参考例から、配向フィルムは、架橋
処理を施すことにより、耐熱温度が大幅に向上している
ことが認められる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 290/12 Ｃ０８Ｆ 290/12 ４Ｈ０２７ Ｃ０８Ｊ 3/00 ＣＥＹ Ｃ０８Ｊ 3/00 ＣＥＹ ４Ｊ０２７ 3/24 3/24 Ｚ ４Ｊ１００ 3/28 ＣＥＹ 3/28 ＣＥＹ 5/00 5/00 5/18 ＣＥＹ 5/18 ＣＥＹ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ 5/26 5/26 5/30 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ // Ｃ０８Ｌ 55:00 Ｃ０８Ｌ 55:00 (72)発明者 中西 貞裕 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 望月 周 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA04 BA66 BB02 BB15 BB42 FA04 FA09 FA11 FA21 2H049 BA03 BA46 BB43 BB47 BB48 BB49 BC04 BC09 BC22 4F070 AA12 AA32 AA72 AB15 GC02 GC09 HA04 HB01 HB05 HB12 4F071 AA33 AA33X AE02 AF35 AG14 AG15 AG28 AG29 AH12 BB02 BC01 4H006 AA01 AB64 BT26 BT34 BT36 4H027 BA02 BA13 BD01 BD21 BE05 BE06 4J027 AA02 AA08 BA02 BA07 BA19 CC03 CD04 4J100 AL08P AL74Q BA02P BA02Q BA15P BA15Q BA40P BC23Q BC43P BC43Q BC44P BC44Q CA04 CA31 DA66 HA53 HA61 HC34 HC38 HC42 JA39

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（ａ１）： 【化１】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
   はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
   基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｅはシアノ基、ア
   ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子また
   はフッ素原子を、ｇは２〜６の整数を示す。）で表され
   る繰り返し単位、および、一般式（ａ２）： 【化２】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
   はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘはそれぞれ独立
   して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｇ
   は架橋基を、ｈは２〜６の整数を、ｋは０〜６の整数を
   示す。）で表される繰り返し単位を有する架橋型ネマチ
   ック性液晶ポリマー（ａ）、一般式（ｂ）： 【化３】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
   はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘはそれぞれ独立
   して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｊ
   は活性光線により変性ないし失活しない光学活性基を、
   ｐおよびｑはそれぞれ独立して２〜６の整数を示す。）
   で表される架橋型コレステリック性液晶モノマー
   （ｂ）、ならびに、一般式（ｃ）： 【化４】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
   はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
   基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｌは活性光線によ
   り変性ないし失活する光学活性基を、ｒは２〜６の整数
   を示す。）で表されるコレステリック性液晶モノマー
   （ｃ）を含有してなるコレステリック性液晶組成物。
2. 【請求項２】 一般式（ａ１）、一般式（ａ２）、一般
   式（ｂ）、一般式（ｃ）におけるＡおよびＤ（環状系官
   能基）が、一般式： 【化５】 で表される環状系官能基のいずれかであることを特徴と
   する請求項１に記載のコレステリック性液晶組成物。
3. 【請求項３】 一般式（ａ２）におけるＧ（架橋基）
   が、一般式： 【化６】 （式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を示す）で表さ
   れる架橋基のいずれかであることを特徴とする請求項１
   または２記載のコレステリック性液晶組成物。
4. 【請求項４】 一般式（ｂ）におけるＪ（活性光線によ
   り変性ないし失活しない光学活性基）が、一般式： 【化７】 （各式中、ｔ、ｕは０≦ｔ≦５、１≦ｕ≦６、かつｔ＋
   １≦ｕを満足する整数を示す。）で表される光学活性基
   （ｊ）のいずれかであることを特徴とする請求項１〜３
   のいずれかに記載のコレステリック性液晶組成物。
5. 【請求項５】 一般式（ｃ）におけるＬ（活性光線によ
   り変性ないし失活する光学活性基）が、一般式： 【化８】 （各式中、Ｒ² はフェニル基、ビフェニル基、１−ナフ
   チル基または２−ナフチル基を示し、Ｒ³ はメチル基、
   フェニル基またはカルボキシメチル基を示し、Ｒ ⁴ はメ
   チル基、ベンジル基またはｔ−ブチル基を示す。＊は不
   斉炭素原子を示す。）で表される光学活性基（ｌ）のい
   ずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
   に記載のコレステリック性液晶組成物。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載のコレス
   テリック性液晶組成物に配向処理および架橋処理を施し
   て得られる配向フィルム。
7. 【請求項７】 請求項１〜５のいずれかに記載のコレス
   テリック性液晶組成物に、複数の領域ごとに制御された
   活性光線を順次又は同時に照射して、当該コレステリッ
   ク性液晶組成物中の光学活性基の有効含有量が異なる複
   数の領域を形成し、その後又はそれと同時にコレステリ
   ック性液晶組成物を配向処理して前記領域ごとに反射波
   長の異なる反射領域を形成する多色化処理工程を行った
   後、さらに架橋処理を施す多色反射板の製造方法。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の製造方法で得られた多
   色反射板。