JP2001166159A - 光導波路素子の製造方法 - Google Patents
光導波路素子の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ブラッググレーティングの特性を正確に調整
することができる光導波路素子の製造方法を提供する。 【解決手段】 光誘起屈折率変化を生じる光ファイバー
１にフェーズマスク２を介して紫外線レーザー光３を照
射するブラッググレーティング形成工程と、光ファイバ
ー１にフェーズマスク２を介さずに紫外レーザー光３を
照射するトリミング工程とを有する製造方法。
することができる光導波路素子の製造方法を提供する。 【解決手段】 光誘起屈折率変化を生じる光ファイバー
１にフェーズマスク２を介して紫外線レーザー光３を照
射するブラッググレーティング形成工程と、光ファイバ
ー１にフェーズマスク２を介さずに紫外レーザー光３を
照射するトリミング工程とを有する製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、光フィル
タ等の光導波路素子の製造方法に関し、特に、光ファイ
バー等の光導波路中に形成されたブラッググレーティン
グの特性を調整する方法に関する。
タ等の光導波路素子の製造方法に関し、特に、光ファイ
バー等の光導波路中に形成されたブラッググレーティン
グの特性を調整する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４，８０７，９５０号公報及
び特開平７−１４０３１１号公報には、フェーズマスク
を用いたブラッググレーティングの形成方法が開示され
ている。これらの公報に開示された方法によれば、紫外
線に対してフォトリフラクティブ効果（光誘起屈折率変
化）を有する光ファイバー上にフェーズマスクを置き、
このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外光を照
射する。このとき、フェーズマスクに入射した紫外光は
フェーズマスクにより回折され、互いに干渉してフェー
ズマスクピッチ２Λの半分のピッチΛで干渉が発生す
る。このため、光ファイバーのコアには、フォトリフラ
クティブ効果により、ピッチΛごとに屈折率変化が生
じ、その結果、光ファイバーのコアにブラッググレーテ
ィングが形成される。ブラッググレーティングは、ブラ
ッグ波長λBの入力光を反射する。ここで、λB＝２ｎ
effΛであり、ｎeffはブラッググレーティング形成領域
の実効屈折率である。
び特開平７−１４０３１１号公報には、フェーズマスク
を用いたブラッググレーティングの形成方法が開示され
ている。これらの公報に開示された方法によれば、紫外
線に対してフォトリフラクティブ効果（光誘起屈折率変
化）を有する光ファイバー上にフェーズマスクを置き、
このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外光を照
射する。このとき、フェーズマスクに入射した紫外光は
フェーズマスクにより回折され、互いに干渉してフェー
ズマスクピッチ２Λの半分のピッチΛで干渉が発生す
る。このため、光ファイバーのコアには、フォトリフラ
クティブ効果により、ピッチΛごとに屈折率変化が生
じ、その結果、光ファイバーのコアにブラッググレーテ
ィングが形成される。ブラッググレーティングは、ブラ
ッグ波長λBの入力光を反射する。ここで、λB＝２ｎ
effΛであり、ｎeffはブラッググレーティング形成領域
の実効屈折率である。
【０００３】ところで、ブラッググレーティングを適用
した分波又は合波用の光波長フィルタには、ほぼ１００
％の反射率が要求される。これに対し、例えば、光アン
プの利得均一化フィルタにブラッググレーティングを応
用する場合は、光アンプの利得特性の逆の反射スペクト
ル特性を有するフィルタが要求される。また、ブラッグ
グレーティングを応用した光フィルタを、半導体レーザ
ーの波長選択や波長安定化に用いる場合は、半導体レー
ザーの出力効率を極力損わない反射率の設定が必要にな
る。
した分波又は合波用の光波長フィルタには、ほぼ１００
％の反射率が要求される。これに対し、例えば、光アン
プの利得均一化フィルタにブラッググレーティングを応
用する場合は、光アンプの利得特性の逆の反射スペクト
ル特性を有するフィルタが要求される。また、ブラッグ
グレーティングを応用した光フィルタを、半導体レーザ
ーの波長選択や波長安定化に用いる場合は、半導体レー
ザーの出力効率を極力損わない反射率の設定が必要にな
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光誘起
屈折率変化Δｎの照射紫外線強度（即ち、単位面積当た
りに照射される紫外光の積算エネルギーＥ（Ｊ／ｃ
ｍ2））依存性は、図１３に示されるように、対数関数
的な特性を有している。図１３からわかるように、光誘
起屈折率変化Δｎは、照射紫外線の積算エネルギーＥが
小さい場合には顕著に現れ（図１３の曲線の傾斜が急で
あり）、照射紫外線の積算エネルギーＥが大きい場合に
は顕著ではない（図１３の曲線の傾斜が緩やかであ
る）。従来は、低反射率ブラッググレーティングを形成
する場合に、照射紫外線の積算エネルギーＥが小さい領
域を利用していたので、僅かな製造条件の変動（即ち、
照射紫外線の積算エネルギーＥの変動）が光誘起屈折率
変化Δｎ（その結果、反射率）に大きく反映するため、
高反射率ブラッググレーティングを形成する場合（照射
紫外線の積算エネルギーＥが大きい場合）に比べて、十
分に高い反射率精度（製造再現性）を得ることが困難で
あった。
屈折率変化Δｎの照射紫外線強度（即ち、単位面積当た
りに照射される紫外光の積算エネルギーＥ（Ｊ／ｃ
ｍ2））依存性は、図１３に示されるように、対数関数
的な特性を有している。図１３からわかるように、光誘
起屈折率変化Δｎは、照射紫外線の積算エネルギーＥが
小さい場合には顕著に現れ（図１３の曲線の傾斜が急で
あり）、照射紫外線の積算エネルギーＥが大きい場合に
は顕著ではない（図１３の曲線の傾斜が緩やかであ
る）。従来は、低反射率ブラッググレーティングを形成
する場合に、照射紫外線の積算エネルギーＥが小さい領
域を利用していたので、僅かな製造条件の変動（即ち、
照射紫外線の積算エネルギーＥの変動）が光誘起屈折率
変化Δｎ（その結果、反射率）に大きく反映するため、
高反射率ブラッググレーティングを形成する場合（照射
紫外線の積算エネルギーＥが大きい場合）に比べて、十
分に高い反射率精度（製造再現性）を得ることが困難で
あった。
【０００５】そこで、本発明は、上記したような従来技
術の課題を解決するためになされたものであり、その目
的とするところは、ブラッググレーティングの反射特性
を正確に調整することができる光導波路素子の製造方法
を提供することにある。
術の課題を解決するためになされたものであり、その目
的とするところは、ブラッググレーティングの反射特性
を正確に調整することができる光導波路素子の製造方法
を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光導波路素
子の製造方法は、光誘起屈折率変化を生じる光導波路に
紫外光を照射してブラッググレーティングを形成する工
程と、上記光導波路に紫外光を照射してブラッググレー
ティングの特性を調整するトリミング工程とを有するこ
とを特徴としている。
子の製造方法は、光誘起屈折率変化を生じる光導波路に
紫外光を照射してブラッググレーティングを形成する工
程と、上記光導波路に紫外光を照射してブラッググレー
ティングの特性を調整するトリミング工程とを有するこ
とを特徴としている。
【０００７】また、上記ブラッググレーティング形成工
程を、光導波路にフェーズマスクを介して紫外光を照射
してブラッググレーティングを形成する工程とし、上記
トリミング工程を、光導波路にフェーズマスクを介さず
に紫外光を照射すして特性を調整する工程としてもよ
い。
程を、光導波路にフェーズマスクを介して紫外光を照射
してブラッググレーティングを形成する工程とし、上記
トリミング工程を、光導波路にフェーズマスクを介さず
に紫外光を照射すして特性を調整する工程としてもよ
い。
【０００８】また、上記トリミング工程を、上記ブラッ
ググレーティング形成工程より先に実施しても、後に実
施してもよい。
ググレーティング形成工程より先に実施しても、後に実
施してもよい。
【０００９】また、上記紫外光がレーザー光であること
が望ましい。
が望ましい。
【００１０】また、上記ブラッググレーティングがチャ
ープドグレーティング又はブレーズドチャープドグレー
ティングであってもよい。
ープドグレーティング又はブレーズドチャープドグレー
ティングであってもよい。
【００１１】また、上記トリミング工程において、光導
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向の全域にわたって均一としてもよい。
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向の全域にわたって均一としてもよい。
【００１２】また、上記トリミング工程において、光導
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向の両端部近傍において徐々に低下する台形型のプロフ
ァイルを示すようにしてもよい。
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向の両端部近傍において徐々に低下する台形型のプロフ
ァイルを示すようにしてもよい。
【００１３】また、上記ブラッググレーティング形成工
程において、光導波路に照射される紫外光の単位面積当
たりの積算エネルギーがブラッググレーティング形成領
域の長手方向の両端部近傍において徐々に低下してお
り、上記トリミング工程において、光導波路に照射され
る紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブ
ラッググレーティング形成領域の長手方向の両端部近傍
において徐々に低下する台形型のプロファイルを示すよ
うにしてもよい。
程において、光導波路に照射される紫外光の単位面積当
たりの積算エネルギーがブラッググレーティング形成領
域の長手方向の両端部近傍において徐々に低下してお
り、上記トリミング工程において、光導波路に照射され
る紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブ
ラッググレーティング形成領域の長手方向の両端部近傍
において徐々に低下する台形型のプロファイルを示すよ
うにしてもよい。
【００１４】また、上記トリミング工程をブラッググレ
ーティング形成領域の一部に実行してもよい。
ーティング形成領域の一部に実行してもよい。
【００１５】また、上記トリミング工程において、光導
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向に沿って徐々に増加又は減少するようにしてもよい。
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向に沿って徐々に増加又は減少するようにしてもよい。
【００１６】また、上記トリミング工程において、光導
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向に沿って連続的に変化するようにしてもよい。
波路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネル
ギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方
向に沿って連続的に変化するようにしてもよい。
【００１７】
【発明の実施の形態】第１の実施形態 本実施形態は、ユニフォームブラッググレーティングの
反射率と反射中心波長の調整に関する。
反射率と反射中心波長の調整に関する。
【００１８】図１は、本発明の第１の実施形態に係る光
導波路素子の製造方法の工程説明図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程を示し、同図
（Ｂ）は、ブラッググレーティングの特性を調整するト
リミング工程を示す。
導波路素子の製造方法の工程説明図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程を示し、同図
（Ｂ）は、ブラッググレーティングの特性を調整するト
リミング工程を示す。
【００１９】図１に示されるように、第１の実施形態に
係る製造方法は、光誘起屈折率変化を生じる光導波路と
しての光ファイバー１にフェーズマスク２を介して紫外
線レーザー光３を照射するブラッググレーティング形成
工程（同図（Ａ））と、光ファイバー１にフェーズマス
ク２を介さずに紫外線レーザー光４を照射するトリミン
グ工程（同図（Ｂ））とを有する。但し、ブラッググレ
ーティングの形成を、フェーズマスク法以外の方法（例
えば、２光束干渉法）によって実行してもよい。
係る製造方法は、光誘起屈折率変化を生じる光導波路と
しての光ファイバー１にフェーズマスク２を介して紫外
線レーザー光３を照射するブラッググレーティング形成
工程（同図（Ａ））と、光ファイバー１にフェーズマス
ク２を介さずに紫外線レーザー光４を照射するトリミン
グ工程（同図（Ｂ））とを有する。但し、ブラッググレ
ーティングの形成を、フェーズマスク法以外の方法（例
えば、２光束干渉法）によって実行してもよい。
【００２０】光ファイバー１としては、ゲルマニウムが
ドープされた石英系導波路からなるコア５と、このコア
５の外側を囲うクラッド６とから構成された感光性光フ
ァイバー（例えば、ファイバーコア(Fibercore)社製の
製品番号ＰＳ１５００）を用いる。また、第１の実施形
態におけるフェーズマスク２のラインアンドスペースの
ピッチは、一定であり、２Λである。また、紫外線レー
ザー光３としては、例えば、アルゴンＳＨＧ(Second Ha
rmonic Generation)レーザーから照射される波長２４０
ｎｍ付近の紫外コヒーレント光を用いる。図１（Ａ）に
示されるように、光ファイバー１にフェーズマスク２を
介して紫外線レーザー光３を照射すると、コア５には、
コア軸方向（即ち、光ファイバー長手方向又はブラッグ
グレーティング形成領域の長手方向）に屈折率変化部分
７と屈折率が変化しない部分８が交互に、フェーズマス
ク２のピッチ２Λの半分のピッチΛで形成され、その結
果、コア５に周期的な屈折率分布が生じた領域（ブラッ
ググレーティング）が形成される。
ドープされた石英系導波路からなるコア５と、このコア
５の外側を囲うクラッド６とから構成された感光性光フ
ァイバー（例えば、ファイバーコア(Fibercore)社製の
製品番号ＰＳ１５００）を用いる。また、第１の実施形
態におけるフェーズマスク２のラインアンドスペースの
ピッチは、一定であり、２Λである。また、紫外線レー
ザー光３としては、例えば、アルゴンＳＨＧ(Second Ha
rmonic Generation)レーザーから照射される波長２４０
ｎｍ付近の紫外コヒーレント光を用いる。図１（Ａ）に
示されるように、光ファイバー１にフェーズマスク２を
介して紫外線レーザー光３を照射すると、コア５には、
コア軸方向（即ち、光ファイバー長手方向又はブラッグ
グレーティング形成領域の長手方向）に屈折率変化部分
７と屈折率が変化しない部分８が交互に、フェーズマス
ク２のピッチ２Λの半分のピッチΛで形成され、その結
果、コア５に周期的な屈折率分布が生じた領域（ブラッ
ググレーティング）が形成される。
【００２１】次のトリミング工程においては、図１
（Ｂ）に示されるように、光ファイバー１にフェーズマ
スク２を介さずに紫外線レーザー光４を照射する。紫外
線レーザー光４としては、紫外線レーザー光３と同じも
のを用いてもよい。紫外線レーザー光４の照射に際して
は、例えば、光ファイバー３を支持するテーブル（図示
せず）又は紫外線レーザー光４をコア軸方向に一定速度
で移動させる。トリミング工程は、１回でもよいが、複
数回のトリミング工程によって光ファイバーの特性を要
求される値に到達させてもよい。尚、図１においては、
トリミング工程をブラッググレーティング形成工程より
後に実施しているが、トリミング工程をブラッググレー
ティング形成工程より先に実施してもよい。
（Ｂ）に示されるように、光ファイバー１にフェーズマ
スク２を介さずに紫外線レーザー光４を照射する。紫外
線レーザー光４としては、紫外線レーザー光３と同じも
のを用いてもよい。紫外線レーザー光４の照射に際して
は、例えば、光ファイバー３を支持するテーブル（図示
せず）又は紫外線レーザー光４をコア軸方向に一定速度
で移動させる。トリミング工程は、１回でもよいが、複
数回のトリミング工程によって光ファイバーの特性を要
求される値に到達させてもよい。尚、図１においては、
トリミング工程をブラッググレーティング形成工程より
後に実施しているが、トリミング工程をブラッググレー
ティング形成工程より先に実施してもよい。
【００２２】図２は、第１の実施形態に係る光導波路素
子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、単位面積当たりの照射紫外線エネルギーΔＥ
（Ｊ／ｃｍ2）に対する光誘起屈折率変化Δｎが照射紫
外線の積算エネルギーＥ（Ｊ／ｃｍ2）によって変化す
ることを示す説明図である。
子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、単位面積当たりの照射紫外線エネルギーΔＥ
（Ｊ／ｃｍ2）に対する光誘起屈折率変化Δｎが照射紫
外線の積算エネルギーＥ（Ｊ／ｃｍ2）によって変化す
ることを示す説明図である。
【００２３】図２（Ａ）に実線で示されるように、ブラ
ッググレーティング形成工程後のコア５の屈折率分布
は、光誘起屈折率差がΔｎBで屈折率変化の周期（ピッ
チ）がΛであり、山の部分（図１における屈折率変化部
分７に対応する部分）の最高値がΔｎaで谷の部分（図
１における屈折率が変化しない部分８に対応する部分）
の最低値がΔｎbになる。また、ｎcoreは、紫外線照射
前のコア５の屈折率を示す。この場合、ブラッグ波長λ
Bは、λB＝２ｎeffΛとなる。
ッググレーティング形成工程後のコア５の屈折率分布
は、光誘起屈折率差がΔｎBで屈折率変化の周期（ピッ
チ）がΛであり、山の部分（図１における屈折率変化部
分７に対応する部分）の最高値がΔｎaで谷の部分（図
１における屈折率が変化しない部分８に対応する部分）
の最低値がΔｎbになる。また、ｎcoreは、紫外線照射
前のコア５の屈折率を示す。この場合、ブラッグ波長λ
Bは、λB＝２ｎeffΛとなる。
【００２４】また、図２（Ｂ）に実線で示されるよう
に、トリミング工程後のコア５の屈折率分布は、光誘起
屈折率差がΔｎB′で周期がΛであり、山の部分の最高
値がΔｎa′で谷の部分の最低値がΔｎb′になる。図２
（Ｃ）に示されるように、トリミング工程においては、
コア５に均一に（単位面積に照射された紫外線の照射エ
ネルギーがΔＥであるように）紫外線が照射された。こ
の場合、コア５の実効屈折率はｎeffからｎeff′に増加
し、ブラッグ波長λBは、２ｎeffΛから２ｎeff′Λに
増加する。図２（Ｃ）に示されるように、照射紫外線の
積算エネルギーＥの低い部分では、照射エネルギーΔＥ
の紫外線照射により、屈折率の最低値（図１における屈
折率が変化しない部分８の屈折率）がΔｎbからΔｎb′
に上昇し、積算エネルギーＥの高い部分では、照射エネ
ルギーΔＥの紫外線照射により、屈折率の最低値（図１
における屈折率変化部分７の屈折率）がΔｎaからΔ
ｎa′に上昇する。従って、積算エネルギーＥの低い部
分では、照射エネルギーΔＥの紫外線照射により光誘起
屈折率の谷の部分の最低値がΔｎbottom（＝Δｎb′−
Δｎb）と大きく変化するが、積算エネルギーの高い部
分では、照射エネルギーΔＥの紫外線照射により光誘起
屈折率の山の部分の最高値はΔｎtop（＝Δｎa′−Δｎ
a）と僅かに変化する。この結果、照射エネルギーΔＥ
の紫外線照射により、ブラッググレーティングを形成す
る光誘起屈折率差ΔｎB＝Δｎa−Δｎbが、図２（Ｂ）
に示されるように、光誘起屈折率差ΔｎB′＝Δｎa′−
Δｎb′に変化する。光誘起屈折率の紫外光強度依存性
から明らかなように、常にΔｎbottom＞Δｎtopである
から、ブラッググレーティングを形成する光誘起屈折率
差は小さくなり（即ち、ΔｎB＞ΔｎB′）、ブラッググ
レーティングの反射率は低下する。このような光誘起屈
折率の変化に伴い、このグレーティング形成領域の実効
屈折率ｎeffがｎeff′変化し、ブラッグ波長λBも変化
する。この現象を利用することで、ブラッググレーティ
ング形成後に、反射スペクトル（特に、反射率と反射中
心波長）を調整（トリミング）することができる。
に、トリミング工程後のコア５の屈折率分布は、光誘起
屈折率差がΔｎB′で周期がΛであり、山の部分の最高
値がΔｎa′で谷の部分の最低値がΔｎb′になる。図２
（Ｃ）に示されるように、トリミング工程においては、
コア５に均一に（単位面積に照射された紫外線の照射エ
ネルギーがΔＥであるように）紫外線が照射された。こ
の場合、コア５の実効屈折率はｎeffからｎeff′に増加
し、ブラッグ波長λBは、２ｎeffΛから２ｎeff′Λに
増加する。図２（Ｃ）に示されるように、照射紫外線の
積算エネルギーＥの低い部分では、照射エネルギーΔＥ
の紫外線照射により、屈折率の最低値（図１における屈
折率が変化しない部分８の屈折率）がΔｎbからΔｎb′
に上昇し、積算エネルギーＥの高い部分では、照射エネ
ルギーΔＥの紫外線照射により、屈折率の最低値（図１
における屈折率変化部分７の屈折率）がΔｎaからΔ
ｎa′に上昇する。従って、積算エネルギーＥの低い部
分では、照射エネルギーΔＥの紫外線照射により光誘起
屈折率の谷の部分の最低値がΔｎbottom（＝Δｎb′−
Δｎb）と大きく変化するが、積算エネルギーの高い部
分では、照射エネルギーΔＥの紫外線照射により光誘起
屈折率の山の部分の最高値はΔｎtop（＝Δｎa′−Δｎ
a）と僅かに変化する。この結果、照射エネルギーΔＥ
の紫外線照射により、ブラッググレーティングを形成す
る光誘起屈折率差ΔｎB＝Δｎa−Δｎbが、図２（Ｂ）
に示されるように、光誘起屈折率差ΔｎB′＝Δｎa′−
Δｎb′に変化する。光誘起屈折率の紫外光強度依存性
から明らかなように、常にΔｎbottom＞Δｎtopである
から、ブラッググレーティングを形成する光誘起屈折率
差は小さくなり（即ち、ΔｎB＞ΔｎB′）、ブラッググ
レーティングの反射率は低下する。このような光誘起屈
折率の変化に伴い、このグレーティング形成領域の実効
屈折率ｎeffがｎeff′変化し、ブラッグ波長λBも変化
する。この現象を利用することで、ブラッググレーティ
ング形成後に、反射スペクトル（特に、反射率と反射中
心波長）を調整（トリミング）することができる。
【００２５】図３は、第１の実施形態のトリミング工程
を狭帯域（ＦＷＨＭ（半値幅）：０．２ｎｍ程度）のフ
ァイバーブラッググレーティング（ＦＢＧ）に複数回実
行した場合の反射スペクトルの変化を示す図である。図
３に示されるように、トリミング工程を繰り返すことに
より、反射率が低下し、反射中心波長が長波長側にシフ
トし、反射スペクトルは図中の矢印方向に変化する。図
４は、第１の実施形態のトリミング工程を３種類（それ
ぞれを記号○、●、△で区別する。）の狭帯域ＦＢＧの
それぞれに複数回実行した場合の反射スペクトルの変化
を示す図である。図４に示されるように、複数回のトリ
ミング工程によりＦＢＧの反射率は低下し、反射中心波
長が長波長側にシフトする。図３及び図４からわかるよ
うに、第１の実施形態に係る製造方法によれば、数１０
％に及ぶ反射率調整とブラッググレーティングのＦＷＨ
Ｍに相当する約０．２ｎｍの反射波長の調整が可能にな
る。
を狭帯域（ＦＷＨＭ（半値幅）：０．２ｎｍ程度）のフ
ァイバーブラッググレーティング（ＦＢＧ）に複数回実
行した場合の反射スペクトルの変化を示す図である。図
３に示されるように、トリミング工程を繰り返すことに
より、反射率が低下し、反射中心波長が長波長側にシフ
トし、反射スペクトルは図中の矢印方向に変化する。図
４は、第１の実施形態のトリミング工程を３種類（それ
ぞれを記号○、●、△で区別する。）の狭帯域ＦＢＧの
それぞれに複数回実行した場合の反射スペクトルの変化
を示す図である。図４に示されるように、複数回のトリ
ミング工程によりＦＢＧの反射率は低下し、反射中心波
長が長波長側にシフトする。図３及び図４からわかるよ
うに、第１の実施形態に係る製造方法によれば、数１０
％に及ぶ反射率調整とブラッググレーティングのＦＷＨ
Ｍに相当する約０．２ｎｍの反射波長の調整が可能にな
る。
【００２６】また、第１の実施形態のようなユニフォー
ムブラッググレーティングにおける反射率や反射中心波
長の調整（トリミング）は、半導体光アンプ素子等と先
球レンズファイバーに形成したブラッググレーティング
とを組み合わせて構成された外部共振器或いは半導体光
アンプ素子等とＰＬＣ型光導波路に形成されたブラッグ
グレーティングとを組み合わせて構成された外部共振器
によってレーザー発振を得る光モジュール等に使用され
るブラッググレーティングの反射率／波長のトリミング
（調整）に有効である。
ムブラッググレーティングにおける反射率や反射中心波
長の調整（トリミング）は、半導体光アンプ素子等と先
球レンズファイバーに形成したブラッググレーティング
とを組み合わせて構成された外部共振器或いは半導体光
アンプ素子等とＰＬＣ型光導波路に形成されたブラッグ
グレーティングとを組み合わせて構成された外部共振器
によってレーザー発振を得る光モジュール等に使用され
るブラッググレーティングの反射率／波長のトリミング
（調整）に有効である。
【００２７】図５は、第１の実施形態の変形例を説明す
るための図であり、図中の曲線は単位面積当たりに照射
される照射紫外線の積算エネルギーＥ（Ｊ／ｃｍ2）に
対する光誘起屈折率変化Δｎを示す。この変形例は、照
射紫外線のエネルギーΔＥを大きくしている点のみが、
図１から図４までに示される製造方法と相違する。ま
た、図６は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布を
示す。図６において、Ｘはコア軸方向を示し、Δｎ
Rは、光誘起屈折率差を示す。図６において、１１は、
トリミング工程における屈折率変化分を示し、１２は、
グレーティング形成工程による屈折率変化を示す。この
変形例によれば、照射される紫外線の単位面積当たりの
照射エネルギーの変動に対する光誘起屈折率変化の大き
い部分（図５の部分１３）ではなく、照射エネルギーの
変動に対する光誘起屈折率変化の小さい部分（図５の部
分１４）を利用しているので、ファイバーにブラッググ
レーティングを形成する際に照射される紫外線の単位面
積当たりの照射エネルギーの変動に起因する特性劣化を
軽減することができる。
るための図であり、図中の曲線は単位面積当たりに照射
される照射紫外線の積算エネルギーＥ（Ｊ／ｃｍ2）に
対する光誘起屈折率変化Δｎを示す。この変形例は、照
射紫外線のエネルギーΔＥを大きくしている点のみが、
図１から図４までに示される製造方法と相違する。ま
た、図６は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布を
示す。図６において、Ｘはコア軸方向を示し、Δｎ
Rは、光誘起屈折率差を示す。図６において、１１は、
トリミング工程における屈折率変化分を示し、１２は、
グレーティング形成工程による屈折率変化を示す。この
変形例によれば、照射される紫外線の単位面積当たりの
照射エネルギーの変動に対する光誘起屈折率変化の大き
い部分（図５の部分１３）ではなく、照射エネルギーの
変動に対する光誘起屈折率変化の小さい部分（図５の部
分１４）を利用しているので、ファイバーにブラッググ
レーティングを形成する際に照射される紫外線の単位面
積当たりの照射エネルギーの変動に起因する特性劣化を
軽減することができる。
【００２８】図７は、第１の実施形態の他の変形例を説
明するための図であり、トリミング工程後のコア５の屈
折率分布を示す。この変形例は、照射エネルギーΔＥを
大きくしている点及び照射紫外線の単位面積当たりのエ
ネルギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長
手方向の両端部近傍において徐々に低下している点が
が、上記図１から図４までに示される製造方法と相違す
る。図７において、１５は、トリミング工程における屈
折率変化分を示し、１６は、グレーティング形成工程に
よる屈折率変化を示す。この変形例によれば、ファイバ
ーにブラッググレーティングを形成する際に照射される
紫外光のエネルギー（ファイバに照射される単位面積当
たりの積算エネルギー）の変動に起因する特性劣化を軽
減することができる。また、ブラッググレーティング境
界部における伝搬光のロスを軽減することができる。
明するための図であり、トリミング工程後のコア５の屈
折率分布を示す。この変形例は、照射エネルギーΔＥを
大きくしている点及び照射紫外線の単位面積当たりのエ
ネルギーの分布がブラッググレーティング形成領域の長
手方向の両端部近傍において徐々に低下している点が
が、上記図１から図４までに示される製造方法と相違す
る。図７において、１５は、トリミング工程における屈
折率変化分を示し、１６は、グレーティング形成工程に
よる屈折率変化を示す。この変形例によれば、ファイバ
ーにブラッググレーティングを形成する際に照射される
紫外光のエネルギー（ファイバに照射される単位面積当
たりの積算エネルギー）の変動に起因する特性劣化を軽
減することができる。また、ブラッググレーティング境
界部における伝搬光のロスを軽減することができる。
【００２９】第２の実施形態 第２の実施形態に係る光導波路素子の製造方法は、ブラ
ッググレーティング形成工程においてサイドローブ抑圧
比の改善のためにブラッググレーティング形成領域の両
端部に屈折率変調（アポダイズ）させた部分を設けた場
合に関する。
ッググレーティング形成工程においてサイドローブ抑圧
比の改善のためにブラッググレーティング形成領域の両
端部に屈折率変調（アポダイズ）させた部分を設けた場
合に関する。
【００３０】図８は、第２の実施形態に係る光導波路素
子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示す。
子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示す。
【００３１】第２の実施形態に係る製造方法は、光誘起
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
【００３２】第２の実施形態におけるフェーズマスクの
ラインアンドスペースのピッチは、一定値２Λである。
このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線レー
ザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折率変
化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェーズマ
スクのピッチの半分のピッチΛで形成される。その結
果、コアにブラッググレーティングを形成することがで
きる。第２の実施形態のブラッググレーティング形成工
程においては、図８（Ａ）に示されるように、ブラッグ
グレーティング形成工程において照射される紫外線レー
ザー光の単位面積当たりの積算エネルギーがブラッググ
レーティング形成領域の長手方向の両端部において端部
に近づくほど徐々に低下するようにアポダイズがなされ
ている。
ラインアンドスペースのピッチは、一定値２Λである。
このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線レー
ザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折率変
化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェーズマ
スクのピッチの半分のピッチΛで形成される。その結
果、コアにブラッググレーティングを形成することがで
きる。第２の実施形態のブラッググレーティング形成工
程においては、図８（Ａ）に示されるように、ブラッグ
グレーティング形成工程において照射される紫外線レー
ザー光の単位面積当たりの積算エネルギーがブラッググ
レーティング形成領域の長手方向の両端部において端部
に近づくほど徐々に低下するようにアポダイズがなされ
ている。
【００３３】次のトリミング工程においては、図８
（Ｂ）に示されるように、光導波路に照射される紫外光
の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラッググ
レーティング形成領域の長手方向の両端部近傍において
徐々に低下する台形型のプロファイルを示すように、ト
リミング工程における紫外線照射においても、図８
（Ａ）の場合と同様にアポダイズを行った。トリミング
工程においては、光ファイバーにフェーズマスクを介さ
ずに紫外線レーザー光を照射する。紫外線レーザー光の
照射に際しては、例えば、光ファイバーを支持するテー
ブル又は紫外線レーザー光をコア軸方向に移動させる。
レーザー光の照射エネルギーを一定に保ちながら、この
移動速度を変化させることによって、単位面積当たりの
照射紫外線エネルギーの分布をコア軸方向に調整するこ
とができる。こうすることによって、ブラッググレーテ
ィング形成領域の全域にトリミングを施すことができ
る。トリミング工程は、１回でもよいが、複数回のトリ
ミング工程によって光ファイバーの特性を要求される値
に到達させてもよい。尚、照射紫外線エネルギーの分布
をコア軸方向に調整する方法としては、マスクを用いる
方法もある。
（Ｂ）に示されるように、光導波路に照射される紫外光
の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラッググ
レーティング形成領域の長手方向の両端部近傍において
徐々に低下する台形型のプロファイルを示すように、ト
リミング工程における紫外線照射においても、図８
（Ａ）の場合と同様にアポダイズを行った。トリミング
工程においては、光ファイバーにフェーズマスクを介さ
ずに紫外線レーザー光を照射する。紫外線レーザー光の
照射に際しては、例えば、光ファイバーを支持するテー
ブル又は紫外線レーザー光をコア軸方向に移動させる。
レーザー光の照射エネルギーを一定に保ちながら、この
移動速度を変化させることによって、単位面積当たりの
照射紫外線エネルギーの分布をコア軸方向に調整するこ
とができる。こうすることによって、ブラッググレーテ
ィング形成領域の全域にトリミングを施すことができ
る。トリミング工程は、１回でもよいが、複数回のトリ
ミング工程によって光ファイバーの特性を要求される値
に到達させてもよい。尚、照射紫外線エネルギーの分布
をコア軸方向に調整する方法としては、マスクを用いる
方法もある。
【００３４】以上説明したように、第２の実施形態によ
れば、トリミング工程においても、屈折率変調（アポダ
イズ）を行って、グレーティング形成領域両端での屈折
率の不連続点を解消したので、ファブリペロー干渉が抑
制され、ブラッググレーティングとしてのサイドローブ
抑圧比を改善することができる。
れば、トリミング工程においても、屈折率変調（アポダ
イズ）を行って、グレーティング形成領域両端での屈折
率の不連続点を解消したので、ファブリペロー干渉が抑
制され、ブラッググレーティングとしてのサイドローブ
抑圧比を改善することができる。
【００３５】また、第２の実施形態において、上記以外
の点は、上記第１の実施形態と同じである。
の点は、上記第１の実施形態と同じである。
【００３６】第３の実施形態 第３の実施形態は、広帯域（ＦＷＨＭ約１．０ｎｍ）の
チャープドブラッググレーティングが形成された全域に
反射率調整のための紫外光照射（トリミング）を行った
ものである。
チャープドブラッググレーティングが形成された全域に
反射率調整のための紫外光照射（トリミング）を行った
ものである。
【００３７】図９は、第３の実施形態に係る光導波路素
子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、トリミング工程を繰り返すことにより反射ス
ペクトルが変化することを示す。
子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、トリミング工程を繰り返すことにより反射ス
ペクトルが変化することを示す。
【００３８】第３の実施形態に係る製造方法は、光誘起
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
【００３９】第３の実施形態におけるフェーズマスクの
ラインアンドスペースのピッチは、一定ではなく、最大
値２Λ1から最小値２Λ2まで徐々に増加又は減少してい
る。このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線
レーザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折
率変化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェー
ズマスクのピッチの半分のピッチ（Λ1〜Λ2）で形成さ
れる。その結果、コアにチャープドブラッググレーティ
ングを形成することができる。即ち、図９（Ａ）に示す
ように、第３の実施形態の広帯域のブラッググレーティ
ングは光誘起屈折率変化のピッチを最大Λ1から最小Λ2
まで連続的に変化させることで形成されており、反射波
長帯域はλB1＝２ｎeffΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2までの
連続波長である。
ラインアンドスペースのピッチは、一定ではなく、最大
値２Λ1から最小値２Λ2まで徐々に増加又は減少してい
る。このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線
レーザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折
率変化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェー
ズマスクのピッチの半分のピッチ（Λ1〜Λ2）で形成さ
れる。その結果、コアにチャープドブラッググレーティ
ングを形成することができる。即ち、図９（Ａ）に示す
ように、第３の実施形態の広帯域のブラッググレーティ
ングは光誘起屈折率変化のピッチを最大Λ1から最小Λ2
まで連続的に変化させることで形成されており、反射波
長帯域はλB1＝２ｎeffΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2までの
連続波長である。
【００４０】次のトリミング工程においては、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射する。紫外線レーザー光の照射に際しては、例えば、
光ファイバーを支持するテーブル又は紫外線レーザー光
をコア軸方向に一定速度で移動させる。こうすることに
よって、ブラッググレーティング形成領域の全域にトリ
ミングを施すことができる。トリミング工程は、１回で
もよいが、複数回のトリミング工程によって光ファイバ
ーの反射特性を要求される値に到達させてもよい。尚、
トリミング領域を制限する方法としては、マスクを用い
る方法もある。
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射する。紫外線レーザー光の照射に際しては、例えば、
光ファイバーを支持するテーブル又は紫外線レーザー光
をコア軸方向に一定速度で移動させる。こうすることに
よって、ブラッググレーティング形成領域の全域にトリ
ミングを施すことができる。トリミング工程は、１回で
もよいが、複数回のトリミング工程によって光ファイバ
ーの反射特性を要求される値に到達させてもよい。尚、
トリミング領域を制限する方法としては、マスクを用い
る方法もある。
【００４１】以上説明したように、第２の実施形態によ
れば、チャープドブラッググレーティングが形成された
全域に、均等なエネルギーで、トリミング工程における
紫外光照射を行うことにより、ブラッググレーティング
を形成する光誘起屈折率差ΔｎBを小さくしている（Δ
ｎB′にしている）ので、照射する紫外光の積算エネル
ギーが大きいほど、ブラッググレーティングの反射率は
反射波長帯域内で均等に低下する。従って、第１の実施
形態と同様に、反射率を精度良く設定することができ
る。この場合は、図９（Ｃ）に示されるように、反射波
長変化は反射波長帯域幅に比べて十分小さいことから、
現実的には反射率のみを調整することができる。また、
第２の実施形態と同様に、反射率を調整するトリミング
にアポダイズを施せばサイドローブ抑圧比を改善するこ
とができる。
れば、チャープドブラッググレーティングが形成された
全域に、均等なエネルギーで、トリミング工程における
紫外光照射を行うことにより、ブラッググレーティング
を形成する光誘起屈折率差ΔｎBを小さくしている（Δ
ｎB′にしている）ので、照射する紫外光の積算エネル
ギーが大きいほど、ブラッググレーティングの反射率は
反射波長帯域内で均等に低下する。従って、第１の実施
形態と同様に、反射率を精度良く設定することができ
る。この場合は、図９（Ｃ）に示されるように、反射波
長変化は反射波長帯域幅に比べて十分小さいことから、
現実的には反射率のみを調整することができる。また、
第２の実施形態と同様に、反射率を調整するトリミング
にアポダイズを施せばサイドローブ抑圧比を改善するこ
とができる。
【００４２】また、第３の実施形態において、上記以外
の点は、上記第１の実施形態又は第２の実施形態と同じ
である。
の点は、上記第１の実施形態又は第２の実施形態と同じ
である。
【００４３】第４の実施形態 第４の実施形態は、チャープドブラッググレーティング
が形成された一部分にのみ反射率調整のための紫外光照
射（トリミング）を行ったものである。
が形成された一部分にのみ反射率調整のための紫外光照
射（トリミング）を行ったものである。
【００４４】図１０は、第４の実施形態に係る光導波路
素子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、トリミング工程による反射スペクトルの変化
を示す。
素子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、トリミング工程による反射スペクトルの変化
を示す。
【００４５】第４の実施形態に係る製造方法は、光誘起
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
【００４６】第４の実施形態におけるフェーズマスクの
ラインアンドスペースのピッチは、一定ではなく、最大
値２Λ1から最小値２Λ2まで徐々に増加又は減少してい
る。このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線
レーザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折
率変化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェー
ズマスクのピッチの半分のピッチ（Λ1〜Λ2）で形成さ
れる。その結果、コアにチャープドブラッググレーティ
ングを形成することができる。即ち、図１０（Ａ）に示
すように、第４の実施形態の広帯域のブラッググレーテ
ィングは光誘起屈折率変化のピッチを最大Λ1から最小
Λ2まで連続的に変化させることで形成されており、反
射波長帯域はλB1＝２ｎeffΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2ま
での連続波長である。
ラインアンドスペースのピッチは、一定ではなく、最大
値２Λ1から最小値２Λ2まで徐々に増加又は減少してい
る。このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線
レーザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折
率変化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェー
ズマスクのピッチの半分のピッチ（Λ1〜Λ2）で形成さ
れる。その結果、コアにチャープドブラッググレーティ
ングを形成することができる。即ち、図１０（Ａ）に示
すように、第４の実施形態の広帯域のブラッググレーテ
ィングは光誘起屈折率変化のピッチを最大Λ1から最小
Λ2まで連続的に変化させることで形成されており、反
射波長帯域はλB1＝２ｎeffΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2ま
での連続波長である。
【００４７】次のトリミング工程においては、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射する。紫外線レーザー光の照射に際しては、例えば、
光ファイバーを支持するテーブル又は紫外線レーザー光
をコア軸方向に移動させる。この移動範囲を制限するこ
とによって、ブラッググレーティング形成領域の一部に
トリミングを施すことができる。トリミング工程は、１
回でもよいが、複数回のトリミング工程によって光ファ
イバーの反射特性を要求される値に到達させてもよい。
尚、トリミング領域を制限する方法としては、マスクを
用いる方法もある。
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射する。紫外線レーザー光の照射に際しては、例えば、
光ファイバーを支持するテーブル又は紫外線レーザー光
をコア軸方向に移動させる。この移動範囲を制限するこ
とによって、ブラッググレーティング形成領域の一部に
トリミングを施すことができる。トリミング工程は、１
回でもよいが、複数回のトリミング工程によって光ファ
イバーの反射特性を要求される値に到達させてもよい。
尚、トリミング領域を制限する方法としては、マスクを
用いる方法もある。
【００４８】第４の実施形態においては、チャープドグ
レーティングが形成された領域の一部に、照射紫外線エ
ネルギーを一定にして紫外光照射を行っているので、照
射紫外線エネルギーの分布は、図１０（Ｂ）の実効屈折
率ｎeff′として示された破線と同様のプロファイルを
示す。即ち、トリミング工程をチャープドブラッググレ
ーティング形成領域の一部に施したことによって、図１
０（Ｃ）に実線で示されるように、階段状の反射スペク
トルを得ることができる。
レーティングが形成された領域の一部に、照射紫外線エ
ネルギーを一定にして紫外光照射を行っているので、照
射紫外線エネルギーの分布は、図１０（Ｂ）の実効屈折
率ｎeff′として示された破線と同様のプロファイルを
示す。即ち、トリミング工程をチャープドブラッググレ
ーティング形成領域の一部に施したことによって、図１
０（Ｃ）に実線で示されるように、階段状の反射スペク
トルを得ることができる。
【００４９】以上説明したように、第４の実施形態によ
れば、図１０（Ｃ）に示されるように、グレーティング
形成領域内で階段状に変化した反射スペクトルを得るこ
とができ、製造された素子に、希望する波長において反
射率が急に変化する特性を持たせることができる。この
ような特性は、例えば、２値センサー等への応用に適し
ている。
れば、図１０（Ｃ）に示されるように、グレーティング
形成領域内で階段状に変化した反射スペクトルを得るこ
とができ、製造された素子に、希望する波長において反
射率が急に変化する特性を持たせることができる。この
ような特性は、例えば、２値センサー等への応用に適し
ている。
【００５０】尚、第４の実施形態におけるトリミング工
程における照射紫外線エネルギーの分布のプロファイル
に、上記第２の実施形態と同様に、反射率を調整するア
ポダイズを施せばサイドローブ抑圧比の改善に有効であ
る。
程における照射紫外線エネルギーの分布のプロファイル
に、上記第２の実施形態と同様に、反射率を調整するア
ポダイズを施せばサイドローブ抑圧比の改善に有効であ
る。
【００５１】また、第４の実施形態において、上記以外
の点は、上記第１から第３までの実施形態と同じであ
る。
の点は、上記第１から第３までの実施形態と同じであ
る。
【００５２】第５の実施形態 第５の実施形態は、チャープドブラッググレーディング
が形成された全域に、反射率調整のための紫外光照射
（トリミング）を、コア軸方向に照射紫外線エネルギー
を連続的に変化させて行ったものである。
が形成された全域に、反射率調整のための紫外光照射
（トリミング）を、コア軸方向に照射紫外線エネルギー
を連続的に変化させて行ったものである。
【００５３】図１１は、第５の実施形態に係る光導波路
素子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、トリミング工程による反射スペクトルの変化
を示す図である。
素子の製造方法を説明するための図であり、同図（Ａ）
は、ブラッググレーティング形成工程後のコア５の屈折
率分布（実線）と有効屈折率ｎeff（破線）を示し、同
図（Ｂ）は、トリミング工程後のコア５の屈折率分布
（実線）と有効屈折率ｎeff′（破線）を示し、同図
（Ｃ）は、トリミング工程による反射スペクトルの変化
を示す図である。
【００５４】第５の実施形態に係る製造方法は、光誘起
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
【００５５】図１１（Ａ）に示されるように、広帯域の
ブラッググレーティングはグレーディングのピッチを連
続的に、例えば、Λ1からΛ2まで変化させることによっ
て形成されている。この場合の反射波長帯域はλB1＝２
ｎeffΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2までの連続波長である。
第５の実施形態においては、チャープドグレーティング
が形成された領域の全域に、照射紫外線エネルギーを徐
々に変化させながら紫外光照射を行う。照射紫外線エネ
ルギーの分布は、図１１（Ｂ）の実効屈折率ｎeff′と
して示された直線（破線）と同様のプロファイルを示
す。トリミング工程を実行すると、図１１（Ｂ）に示さ
れるように、チャープドブラッググレーティングの光誘
起屈折率差が小さくなる。トリミング工程によって、チ
ャープドブラッググレーティングの波長域における反射
率にはその反射波長帯域内で傾斜が発生する。
ブラッググレーティングはグレーディングのピッチを連
続的に、例えば、Λ1からΛ2まで変化させることによっ
て形成されている。この場合の反射波長帯域はλB1＝２
ｎeffΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2までの連続波長である。
第５の実施形態においては、チャープドグレーティング
が形成された領域の全域に、照射紫外線エネルギーを徐
々に変化させながら紫外光照射を行う。照射紫外線エネ
ルギーの分布は、図１１（Ｂ）の実効屈折率ｎeff′と
して示された直線（破線）と同様のプロファイルを示
す。トリミング工程を実行すると、図１１（Ｂ）に示さ
れるように、チャープドブラッググレーティングの光誘
起屈折率差が小さくなる。トリミング工程によって、チ
ャープドブラッググレーティングの波長域における反射
率にはその反射波長帯域内で傾斜が発生する。
【００５６】以上説明したように、第５の実施形態の製
造方法によれば、図１１（Ｃ）に示されるように、グレ
ーティング形成領域内で連続的に傾斜した反射スペクト
ルを得ることができ、波長の増加に応じて反射率が増加
又は低下する特性を用いるアナログセンサー等への応用
に適した特性を持たせることができる。
造方法によれば、図１１（Ｃ）に示されるように、グレ
ーティング形成領域内で連続的に傾斜した反射スペクト
ルを得ることができ、波長の増加に応じて反射率が増加
又は低下する特性を用いるアナログセンサー等への応用
に適した特性を持たせることができる。
【００５７】尚、第５の実施形態におけるトリミング工
程における照射紫外線エネルギーの分布のプロファイル
に、上記第２の実施形態と同様に、反射率を調整するア
ポダイズを施せばサイドローブ抑圧比の改善に有効であ
る。
程における照射紫外線エネルギーの分布のプロファイル
に、上記第２の実施形態と同様に、反射率を調整するア
ポダイズを施せばサイドローブ抑圧比の改善に有効であ
る。
【００５８】また、第５の実施形態において、上記以外
の点は、上記第１から第４までの実施形態と同じであ
る。
の点は、上記第１から第４までの実施形態と同じであ
る。
【００５９】第６の実施形態 第６の実施形態は、ブレーズドチャープドブラッググレ
ーティングが形成された全域に、反射率調整のための紫
外光照射（トリミング）を連続的に任意のパターンでコ
ア軸方向に照射紫外線エネルギーを変化させて行ったも
のである。
ーティングが形成された全域に、反射率調整のための紫
外光照射（トリミング）を連続的に任意のパターンでコ
ア軸方向に照射紫外線エネルギーを変化させて行ったも
のである。
【００６０】図１２は、第６の実施形態を説明するため
の図であり、同図（Ａ）は、ブラッググレーティング形
成工程後のコア軸方向の屈折率分布（実線）及び実効反
射率（破線）を示し、同図（Ｂ）は、トリミング工程後
のコア軸方向の屈折率分布（実線）及び実効反射率（破
線）を示し、同図（Ｃ）は、トリミング工程による透過
率の変化を示す図である。
の図であり、同図（Ａ）は、ブラッググレーティング形
成工程後のコア軸方向の屈折率分布（実線）及び実効反
射率（破線）を示し、同図（Ｂ）は、トリミング工程後
のコア軸方向の屈折率分布（実線）及び実効反射率（破
線）を示し、同図（Ｃ）は、トリミング工程による透過
率の変化を示す図である。
【００６１】第６の実施形態に係る製造方法は、光誘起
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
屈折率変化を生じる光ファイバーにフェーズマスクを介
して紫外線レーザー光を照射するブラッググレーティン
グ形成工程（図１（Ａ）に対応する工程）と、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射するトリミング工程（図１（Ｂ）に対応する工程）と
を有する。
【００６２】第６の実施形態におけるフェーズマスクの
ラインアンドスペースのピッチは、一定ではなく、最大
値２Λ1から最小値２Λ2まで徐々に増加又は減少してい
る。このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線
レーザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折
率変化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェー
ズマスクのピッチの半分のピッチ（Λ1〜Λ2）で形成さ
れる。その結果、コアにブレーズドチャープドブラッグ
グレーティングを形成することができる。即ち、図１１
（Ａ）に示すように、第６の実施形態の広帯域のブレー
ズドチャープドブラッググレーティングは光誘起屈折率
変化のピッチを最大Λ1から最小Λ2まで連続的に変化さ
せることで形成されており、透過波長帯域はλB1＝２ｎ
effΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2までの連続波長である。
ラインアンドスペースのピッチは、一定ではなく、最大
値２Λ1から最小値２Λ2まで徐々に増加又は減少してい
る。このフェーズマスクを介して光ファイバーに紫外線
レーザー光を照射すると、コアには、コア軸方向に屈折
率変化部分と屈折率が変化しない部分が交互に、フェー
ズマスクのピッチの半分のピッチ（Λ1〜Λ2）で形成さ
れる。その結果、コアにブレーズドチャープドブラッグ
グレーティングを形成することができる。即ち、図１１
（Ａ）に示すように、第６の実施形態の広帯域のブレー
ズドチャープドブラッググレーティングは光誘起屈折率
変化のピッチを最大Λ1から最小Λ2まで連続的に変化さ
せることで形成されており、透過波長帯域はλB1＝２ｎ
effΛ1からλB2＝２ｎeffΛ2までの連続波長である。
【００６３】次のトリミング工程においては、光ファイ
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射する。紫外線レーザー光の照射に際しては、例えば、
光ファイバーを支持するテーブル又は紫外線レーザー光
をコア軸方向に移動させる。この移動速度を変化させる
ことによって、単位面積当たりの照射紫外線エネルギー
の分布をコア軸方向に調整することができる。トリミン
グ工程は、１回でもよいが、複数回のトリミング工程に
よって光ファイバーの反射特性を要求される値に到達さ
せてもよい。尚、単位面積当たりの照射紫外線エネルギ
ーの分布をコア軸方向に調整する方法としては、マスク
を用いる方法もある。
バーにフェーズマスクを介さずに紫外線レーザー光を照
射する。紫外線レーザー光の照射に際しては、例えば、
光ファイバーを支持するテーブル又は紫外線レーザー光
をコア軸方向に移動させる。この移動速度を変化させる
ことによって、単位面積当たりの照射紫外線エネルギー
の分布をコア軸方向に調整することができる。トリミン
グ工程は、１回でもよいが、複数回のトリミング工程に
よって光ファイバーの反射特性を要求される値に到達さ
せてもよい。尚、単位面積当たりの照射紫外線エネルギ
ーの分布をコア軸方向に調整する方法としては、マスク
を用いる方法もある。
【００６４】第６の実施形態においては、ブレーズドチ
ャープドグレーティングが形成された領域の全域に、照
射紫外線エネルギーの分布をあるパターンで変化させな
がら紫外光照射を行う。照射紫外線エネルギーの分布
は、図１２（Ｂ）の実効屈折率ｎeff′として示された
曲線（破線）と同様のプロファイルを示す。図１２
（Ｂ）において、実効屈折率ｎeff′が低下している部
分２１は、照射紫外線エネルギーが低い部分に相当す
る。また、トリミング工程を実行すると、図１２（Ｂ）
に示されるように、ブレーズドチャープドブラッググレ
ーティングの光誘起屈折率差が小さくなる（ΔｎB′に
なる）。トリミング工程によって、ブレーズドチャープ
ドブラッググレーティングの波長域における透過率に
は、その透過波長帯域内におけるある波長（図１２
（Ｂ）における部分２１に対応する波長）に損失（図１
２（Ｃ）のトリミング後の透過スペクトルの部分２２）
が発生する。
ャープドグレーティングが形成された領域の全域に、照
射紫外線エネルギーの分布をあるパターンで変化させな
がら紫外光照射を行う。照射紫外線エネルギーの分布
は、図１２（Ｂ）の実効屈折率ｎeff′として示された
曲線（破線）と同様のプロファイルを示す。図１２
（Ｂ）において、実効屈折率ｎeff′が低下している部
分２１は、照射紫外線エネルギーが低い部分に相当す
る。また、トリミング工程を実行すると、図１２（Ｂ）
に示されるように、ブレーズドチャープドブラッググレ
ーティングの光誘起屈折率差が小さくなる（ΔｎB′に
なる）。トリミング工程によって、ブレーズドチャープ
ドブラッググレーティングの波長域における透過率に
は、その透過波長帯域内におけるある波長（図１２
（Ｂ）における部分２１に対応する波長）に損失（図１
２（Ｃ）のトリミング後の透過スペクトルの部分２２）
が発生する。
【００６５】以上説明したように、第６の実施形態によ
れば、図１２（Ｃ）に示されるように、波長により損失
が連続的に変化する透過スペクトルを得ることができ、
このようなブレーズドチャープドグレーティングは、特
に、光増幅器の利得平坦化素子に有効である。
れば、図１２（Ｃ）に示されるように、波長により損失
が連続的に変化する透過スペクトルを得ることができ、
このようなブレーズドチャープドグレーティングは、特
に、光増幅器の利得平坦化素子に有効である。
【００６６】尚、第６の実施形態のトリミング工程にお
ける照射紫外線エネルギーのコア軸方向の連続的な分布
は、製造された素子の用途に応じて決定すればよい。
ける照射紫外線エネルギーのコア軸方向の連続的な分布
は、製造された素子の用途に応じて決定すればよい。
【００６７】また、第６の実施形態において、上記以外
の点は、上記第１から第５までの実施形態と同じであ
る。
の点は、上記第１から第５までの実施形態と同じであ
る。
【００６８】また、第１から第６までの実施形態におけ
るトリミング方法は、第１から第６までの実施形態にお
けるいずれのブラッググレーティング形成領域にも適用
できる。
るトリミング方法は、第１から第６までの実施形態にお
けるいずれのブラッググレーティング形成領域にも適用
できる。
【００６９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
によれば、ブラッググレーティング形成領域に紫外光照
射を行うトリミング工程によって、ブラッググレーティ
ングの特性を正確に調整することができるという効果が
ある。
によれば、ブラッググレーティング形成領域に紫外光照
射を行うトリミング工程によって、ブラッググレーティ
ングの特性を正確に調整することができるという効果が
ある。
【００７０】また、トリミング工程において照射される
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向の全域にわたっ
て均一である場合は、製造された光導波路素子の反射率
と反射光の中心波長とを調整することができるという効
果がある。
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向の全域にわたっ
て均一である場合は、製造された光導波路素子の反射率
と反射光の中心波長とを調整することができるという効
果がある。
【００７１】また、トリミング工程において照射される
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向の両端部近傍に
おいて徐々に低下する台形型のプロファイルを示す場合
は、製造された光導波路素子におけるファブリペロー干
渉が抑制され、ブラッググレーティングとしてのサイド
ローブ抑圧比を改善できるという効果がある。
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向の両端部近傍に
おいて徐々に低下する台形型のプロファイルを示す場合
は、製造された光導波路素子におけるファブリペロー干
渉が抑制され、ブラッググレーティングとしてのサイド
ローブ抑圧比を改善できるという効果がある。
【００７２】また、トリミング工程をブラッググレーテ
ィング形成領域の一部に実行する場合は、製造された光
導波路素子に、希望する波長において反射率が急に変化
するという特性を持たせることができるという効果があ
る。
ィング形成領域の一部に実行する場合は、製造された光
導波路素子に、希望する波長において反射率が急に変化
するという特性を持たせることができるという効果があ
る。
【００７３】また、トリミング工程において照射される
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向に沿って徐々に
増加又は減少させた場合は、製造された光導波路素子
に、波長の増加に応じて反射率が増加又は低下する特性
を持たせることができるという効果がある。
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向に沿って徐々に
増加又は減少させた場合は、製造された光導波路素子
に、波長の増加に応じて反射率が増加又は低下する特性
を持たせることができるという効果がある。
【００７４】また、トリミング工程において照射される
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向に沿って連続的
に変化させた場合は、製造された光導波路素子に、所望
の反射特性（又は透過率特性）をもたせることができ、
特に、利得平坦化素子に適した特性を持たせることがで
きるという効果がある。
紫外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラ
ッググレーティング形成領域の長手方向に沿って連続的
に変化させた場合は、製造された光導波路素子に、所望
の反射特性（又は透過率特性）をもたせることができ、
特に、利得平坦化素子に適した特性を持たせることがで
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態に係る光導波路素子
の製造方法の工程説明図であり、（Ａ）はブラッググレ
ーティング形成工程を示し、（Ｂ）はトリミング工程を
示す。
の製造方法の工程説明図であり、（Ａ）はブラッググレ
ーティング形成工程を示し、（Ｂ）はトリミング工程を
示す。
【図２】 第１の実施形態に係る光導波路素子の製造方
法を説明するための図であり、（Ａ）はブラッググレー
ティング形成工程後のコアの屈折率分布と有効屈折率を
示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈折率分布と
有効屈折率を示し、（Ｃ）は単位面積当たりの照射紫外
線エネルギーに対する光誘起屈折率変化量が照射紫外線
の積算エネルギーによって変化することを示す説明図で
ある。
法を説明するための図であり、（Ａ）はブラッググレー
ティング形成工程後のコアの屈折率分布と有効屈折率を
示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈折率分布と
有効屈折率を示し、（Ｃ）は単位面積当たりの照射紫外
線エネルギーに対する光誘起屈折率変化量が照射紫外線
の積算エネルギーによって変化することを示す説明図で
ある。
【図３】 第１の実施形態において、トリミング工程を
狭帯域ＦＢＧに複数回実行した場合の反射スペクトルの
変化を示す図である。
狭帯域ＦＢＧに複数回実行した場合の反射スペクトルの
変化を示す図である。
【図４】 第１の実施形態のトリミング工程により、反
射率が低下し、反射中心波長が長波長側にシフトする例
を示す図である。
射率が低下し、反射中心波長が長波長側にシフトする例
を示す図である。
【図５】 第１の実施形態の変形例を説明するための図
でる。
でる。
【図６】 第１の実施形態の変形例におけるトリミング
工程後のコアの屈折率分布を示す図である。
工程後のコアの屈折率分布を示す図である。
【図７】 第１の実施形態の他の変形例におけるトリミ
ング工程後のコアの屈折率分布を示す図である。
ング工程後のコアの屈折率分布を示す図である。
【図８】 本発明の第２の実施形態に係る光導波路素子
の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラッ
ググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有効
屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈折
率分布と有効屈折率を示す。
の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラッ
ググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有効
屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈折
率分布と有効屈折率を示す。
【図９】 本発明の第３の実施形態に係る光導波路素子
の製造方法を説明するため図であり、（Ａ）はブラッグ
グレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有効屈
折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈折率
分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工程を繰
り返すことにより反射スペクトルが変化することを示す
図である。
の製造方法を説明するため図であり、（Ａ）はブラッグ
グレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有効屈
折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈折率
分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工程を繰
り返すことにより反射スペクトルが変化することを示す
図である。
【図１０】 本発明の第４の実施形態に係る光導波路素
子の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラ
ッググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有
効屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈
折率分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工程
による反射スペクトルの変化を示す。
子の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラ
ッググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有
効屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコアの屈
折率分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工程
による反射スペクトルの変化を示す。
【図１１】 本発明の第５の実施形態に係る光導波路素
子の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラ
ッググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有
効屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコア５の
屈折率分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工
程による反射スペクトルの変化を示す。
子の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラ
ッググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有
効屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコア５の
屈折率分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工
程による反射スペクトルの変化を示す。
【図１２】 本発明の第６の実施形態に係る光導波路素
子の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラ
ッググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有
効屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコア５の
屈折率分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工
程による透過率の変化を示す図である。
子の製造方法を説明するための図であり、（Ａ）はブラ
ッググレーティング形成工程後のコアの屈折率分布と有
効屈折率を示し、（Ｂ）はトリミング工程後のコア５の
屈折率分布と有効屈折率を示し、（Ｃ）はトリミング工
程による透過率の変化を示す図である。
【図１３】 光誘起屈折率変化の紫外線強度依存性を示
す図である。
す図である。
１ 光ファイバー、 ２ フェーズマスク、 ３，４
紫外線レーザー光、５ コア、 ６ クラッド、 ７
屈折率変化部分、 ８ 屈折率が変化しない部分、
Λ，Λ1，Λ2 屈折率変化ピッチ、 ｎeff ブラッグ
グレーティング形成工程後の実効屈折率、 ｎeff′
トリミング工程後の実効屈折率、 ΔｎBブラッググレ
ーティング形成工程後の光誘起屈折率差、 ΔｎB′
トリミング工程後の光誘起屈折率差。
紫外線レーザー光、５ コア、 ６ クラッド、 ７
屈折率変化部分、 ８ 屈折率が変化しない部分、
Λ，Λ1，Λ2 屈折率変化ピッチ、 ｎeff ブラッグ
グレーティング形成工程後の実効屈折率、 ｎeff′
トリミング工程後の実効屈折率、 ΔｎBブラッググレ
ーティング形成工程後の光誘起屈折率差、 ΔｎB′
トリミング工程後の光誘起屈折率差。
Claims (13)
- 【請求項１】 光誘起屈折率変化を生じる光導波路に紫
外光を照射してブラッググレーティングを形成する工程
と、 上記光導波路に紫外光を照射してブラッググレーティン
グの特性を調整するトリミング工程とを有することを特
徴とする光導波路素子の製造方法。 - 【請求項２】 上記ブラッググレーティング形成工程
が、光導波路にフェーズマスクを介して紫外光を照射し
てブラッググレーティングを形成する工程であり、 上記トリミング工程が、光導波路にフェーズマスクを介
さずに紫外光を照射して特性を調整する工程であること
を特徴とする請求項１記載の光導波路素子の製造方法。 - 【請求項３】 上記トリミング工程を、上記ブラッググ
レーティング形成工程より先に実施することを特徴とす
る請求項１又は２のいずれか一つに記載の光導波路素子
の製造方法。 - 【請求項４】 上記トリミング工程を、上記ブラッググ
レーティング形成工程より後に実施することを特徴とす
る請求項１又は２のいずれか一つに記載の光導波路素子
の製造方法。 - 【請求項５】 上記紫外光がレーザー光であることを特
徴とする請求項１から４までのいずれか一つに記載の光
導波路素子の製造方法。 - 【請求項６】 上記ブラッググレーティングがチャープ
ドグレーティングであることを特徴とする請求項１から
５までのいずれか一つに記載の光導波路素子の製造方
法。 - 【請求項７】 上記ブラッググレーティングがブレーズ
ドチャープドグレーティングであることを特徴とする請
求項１から５までのいずれか一つに記載の光導波路素子
の製造方法。 - 【請求項８】 上記トリミング工程において、光導波路
に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネルギー
の分布がブラッググレーティング形成領域の長手方向の
全域にわたって均一であることを特徴とする請求項１か
ら７までのいずれか一つに記載の光導波路素子の製造方
法。 - 【請求項９】 上記トリミング工程において、光導波路
に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネルギー
の分布がブラッググレーティング形成領域の長手方向の
両端部近傍において徐々に低下する台形型のプロファイ
ルを示すことを特徴とする請求項１から７までのいずれ
か一つに記載の光導波路素子の製造方法。 - 【請求項１０】 上記ブラッググレーティング形成工程
において、光導波路に照射される紫外光の単位面積当た
りの積算エネルギーがブラッググレーティング形成領域
の長手方向の両端部近傍において徐々に低下しており、 上記トリミング工程において、光導波路に照射される紫
外光の単位面積当たりの積算エネルギーの分布がブラッ
ググレーティング形成領域の長手方向の両端部近傍にお
いて徐々に低下する台形型のプロファイルを示すことを
特徴とする請求項１から７までのいずれか一つに記載の
光導波路素子の製造方法。 - 【請求項１１】 上記トリミング工程をブラッググレー
ティング形成領域の一部に実行することを特徴とする請
求項１から７までのいずれか一つに記載の光導波路素子
の製造方法。 - 【請求項１２】 上記トリミング工程において、光導波
路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネルギ
ーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方向
に沿って徐々に増加又は減少することを特徴とする請求
項１から７までのいずれか一つに記載の光導波路素子の
製造方法。 - 【請求項１３】 上記トリミング工程において、光導波
路に照射される紫外光の単位面積当たりの積算エネルギ
ーの分布がブラッググレーティング形成領域の長手方向
に沿って連続的に変化することを特徴とする請求項１か
ら７までのいずれか一つに記載の光導波路素子の製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35032699A JP3856609B2 (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 光導波路素子の製造方法 |
| US09/699,631 US6456762B1 (en) | 1999-12-09 | 2000-10-31 | Method of fabricating optical waveguide device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35032699A JP3856609B2 (ja) | 1999-12-09 | 1999-12-09 | 光導波路素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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