JP2001162762A

JP2001162762A - 平版印刷機及び平版印刷方法

Info

Publication number: JP2001162762A
Application number: JP34890699A
Authority: JP
Inventors: Koichi Kawamura; 浩一川村
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-12-08
Filing date: 1999-12-08
Publication date: 2001-06-19

Abstract

(57)【要約】【課題】印刷機上で直接作像・製版可能な平版印刷機
及び製版方法を用い、しかも画像部と非画像部の識別性
が十分に維持され、厳しい印刷条件においても、汚れが
生じない印刷物が得られる平版印刷機及び平版印刷方法
を提供する。【解決手段】作像用円筒形版胴４、ブランケット胴
３、圧胴２、作像用版胴４に近接して装備した塗膜塗布
ユニット１２、塗膜硬化ユニット１３、作像ユニット１
４およびクリーニングユニット７を有してなり、該塗膜
塗布ユニット１２によって、熱によりスルホン酸を発生
する官能基を有する高分子化合物を含有する画像形成層
が形成されることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷機及び平
版印刷方法に関するものであり、詳しくは、印刷作業を
行うのと同じ印刷機上で、作像用円筒形版胴上に画像形
成層の形成、該画像形成層上にディジタル信号に基づい
てレーザ光による画像の走査露光による像パターンの形
成および印刷版の製版を行い、その同じ印刷機でその印
刷版を用いて汚れ性に優れた印刷が可能である平版印刷
機及び平版印刷方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷はインキを受容できる親油性部
とインキを受容できない親水性部または疎油性部を有す
る面から印刷する方法であり、現在では広く感光性の平
版印刷用原版（ＰＳ版）が刷版材として用いられてい
る。ＰＳ版は、アルミ板などの金属の表面を研磨処理、
陽極酸化処理、親水化処理などを施した支持体の上に、
感光性のジアゾ樹脂、光重合性組成物、光架橋性組成物
などからなる感光層を設けたものが実用化され広く用い
られている。このようなＰＳ版は、画像露光および現像
により非画像部の感光層を除去し、基板表面の親水性と
画像部の感光層の親油性を利用して印刷が行われてい
る。

【０００３】また、製版用フィルムを使用しないで、原
稿から直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイ
レクト製版は、熟練度を必要としない簡易性、省人化、
短時間で印刷版が得られる迅速性、などの特徴を生かし
て、一般オフセット印刷の分野に進出し始めている。特
に最近では、プリプレスシステムやイメージセッター、
レーザプリンタなどの出力システムの急激な進歩によっ
て、新しいタイプの各種平版印刷材料が開発されてい
る。

【０００４】これらは、印刷機上の版胴に装着されて、
レーザー光の像様照射によって刷版を作製する、いわゆ
る機上製版へと応用できる可能性を有している。しかし
ながら、そのためには現像液を用いた現像処理を行う必
要が有るダイレクト刷版は適さない。現像工程を必要と
しない刷版としてWO99/37481に記載されるような、基板
上に架橋された親水性層を設け、その上に一つ以上のポ
リマーとレーザー放射線を吸収可能な光熱変換色素を含
み、かつアブレーション的に光吸収する有機ポリマー層
からなるインキ受容性表面層を設けたレーザー記録可能
なポジ型アブレーション印刷原版がある。

【０００５】更に、製版方法の動向として、前記印刷機
上直接作像式平版印刷機による、いわゆる印刷作業を行
うのと同じ印刷機上で直接印刷版を作製することが提案
されている。例えば，特開平9-99535号公報には、オフ
セット印刷のための慣用の版胴の代わりにシームレス胴
（継目無し、従って間隙や溝がない）を使用し、シーム
レス胴に塗布された硬化可能なポリマーを硬化した後、
ポリマーの表面を選択的にレーザー照射することによっ
て印刷インキに対する親和性を変化させる。このポリマ
ーの表面だけがレーザーによって選択的に変性されるの
で、ポリマーコーティングの厚さ及び均一性がほとんど
問題にならない。１つの印刷作業が終了した後、胴を洗
浄する。胴自体の表面はインキに露呈されないので、こ
のクリーニングは完璧である必要はないことが記載され
ている。

【０００６】このような印刷機上直接作像方法は、クリ
ーニング後作像用円筒形版胴（作像用版胴）に残された
残留コーチングを許容するような方法を用いることによ
って、コーチングの完璧なクリーニングを必要としない
再使用可能な表面を提供し、再作像するのに要する時間
を短縮することを目的として、解決されたものであり、
ヒートモードの製版・印刷方法の利点を有するものであ
るが、レーザー照射光に対するヒートモードの感度に関
しては、なお十分ではなく、実用的な観点からさらに高
感度化して、それにより画像部と非画像部の識別効果
（露光前後の疎水性／親水性のディスクリミネーショ
ン）を高め、汚れの生じない印刷物が得られる印刷機上
直接製版方法が望まれていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、印刷機上で直接作像・製版可能な平版印刷機及び製
版方法を用い、しかも画像部と非画像部の識別性が十分
に維持され、厳しい印刷条件においても、汚れが生じな
い印刷物が得られる平版印刷機及び平版印刷方法を提供
することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果、作像用円筒形版胴
を備えた平版印刷機上において、前記輻射線感応性層を
形成する感熱性画像形成材料として、加熱により、また
は光熱変換により生じた熱により高感度で画像を形成す
ることができるスルホン酸を発生する官能基を有する高
分子化合物を用いることにより、現像処理等が不要であ
り、厳しい印刷条件においても、汚れが生じない印刷物
が得られることを見いだし本発明に至った．すなわち、
本発明は以下の通りである。

【０００９】（１）作像用版胴、ブランケット胴、圧
胴、作像用版胴に近接して装備した塗膜塗布ユニット、
塗膜硬化ユニット、作像ユニットおよびクリーニングユ
ニットを有してなり、該塗膜塗布ユニットによって、熱
によりスルホン酸を発生する官能基を有する高分子化合
物を含有する画像形成層（輻射線感応性層ともいう）が
形成されることを特徴とする平版印刷機。（２）作像用版胴、ブランケット胴、圧胴、作像用版胴
に近接して装備した塗膜塗布ユニット、塗膜硬化ユニッ
ト、作像ユニットおよびクリーニングユニットを備えた
版印刷機上において、少なくとも（ａ）前記作像用円筒
形版胴を洗浄するクリーニング操作と、（ｂ）表面に熱
によりスルホン酸を発生する官能基を有する高分子化合
物を含有する画像形成層を塗布する塗布操作と、（ｃ）
前記画像形成層を固体状態に硬化させる硬化操作と、
（ｄ）印刷すべきデジタルデータに応じて前記画像形成
層の表面上に親疎水性が変化した像パターンを形成する
表面変換操作を行うことを特徴とする平版印刷方法。

【００１０】本発明において、印刷機上の作像用版胴の
円筒形表面に、輻射線感応性材料として、加熱により、
または光熱変換により生じた熱によりスルホン酸を発生
させる官能基を有する高分子化合物の薄層を、版胴に近
接して装備した塗膜塗布ユニット、塗膜硬化ユニットを
用いてを形成し、作像ユニットに装備した、赤外線を放
射するレーザ又はサーマルヘッドを用いて記録すること
により、デジタルデータから直接作像製版可能である。
また、本発明の上記輻射線感応性層は短時間でのレーザ
光等による画像の走査露光により親疎水性が大きく変化
し極性変換能が発現される。その結果、インキに対する
ディスクリミネーションが発現し、かくして画像非画像
部が形成され、画像露光後湿式現像処理やこすり等の特
別な処理を必要とせず、しかも厳しい印刷条件において
も、汚れが生じない印刷物が得られる印刷版を印刷機上
で直接製版することができる。本発明の上記輻射線感応
性材料は通常塗膜硬化において、塗膜塗布後の経時安定
性に留意する必要があったが、本発明においては、印刷
機上で直接塗布後、直ちに硬化処理が可能であるため経
時安定性についての配慮は不必要となり、印刷機上直接
製版方法に適合性のある輻射線感応性材料である。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に本発明の印刷機上作像・製
版印刷機及び製版方法について詳細に説明する。本発明
の平版印刷機の印刷部を示す図１に基づき説明する。図
１は、本発明の印刷機上で直接作像・製版を行うための
装置の一例の透視図である。シート状又はウエブ状の印
刷用紙（以下、単に「紙」と称する）１は、圧胴２とブ
ランケット胴３の間に挟まれる。ブランケット胴３は、
慣用の印刷機の版胴に代わる作像用円筒形版胴４に接触
しており、作像用円筒形版胴４から後述するインキ付け
像を紙１に転写するための転写手段である。この作像用
円筒形版胴４と在来の版胴（図示せず）との主な相違
は、作像用円筒形版胴４はシームレス胴であることであ
り、従って、このシームレス作像用円筒形版胴４は、版
（印刷版）をクランプするための細長い間隙を有する在
来の版胴（図示せず）に比べて、振動を伴うことなく、
より高い速度で作動することができる。作像用円筒形版
胴４の外周面に塗布された後述する像形成用輻射線官能
性材料の塗膜は、ファンテン溶液ローラ５とインキ付け
ローラ６を用いる水／インキ供給系統によってインキ付
けされる。「統合」インキ供給チェーンと称されるある
種のインキ供給系統では、ローラ５と６が統合される。
あるいは、別法として、この印刷機は、ファンテン溶液
ローラ５を使用しない無水オフセット（「乾式オフセッ
ト」とも称される）モードで作動させることもできる。
以上に述べた点までは、この印刷機の構造は、慣用周知
のものである。

【００１２】作像用円筒形版胴４に近接してクリーニン
グ（洗浄）ユニット７が取り付けられている。クリーニ
ングユニット７は、前の印刷作業で用いられた作像用円
筒形版胴４上のインキ、水及び作像された輻射線感応性
層の大部分を拭い取るためのものである。クリーニング
ユニット７は、１つの印刷作業と次の印刷作業の間でブ
ランケット胴を洗浄するために近代的印刷機で用いられ
る周知の「ブランケットワッシャー」に類似したもので
あるが、作像用円筒形版胴上の作像された輻射線感応性
層の大部分を溶解させるために特別の溶剤を添加しなけ
ればならない場合がある点で異なる。近代的印刷機の設
計によれば、ブランケット胴及びその他の胴を洗浄する
ために追加のクリーニングユニットを用いることができ
る。

【００１３】作像用円筒形版胴４に平行に直線レール９
が固定されており、直線レール９上でモータ１１及び親
ねじ１０の制御により作像用円筒形版胴４に沿って左右
に移動する走行キャリッジ８が設けられている。作像用
円筒形版胴４とモータ１１の運動は、ドラム型作像装置
に類似した態様で軸エンコーダを用いて同期される。ド
ラム型作像装置は周知であり、古くから市販されている
ので、像データ（以下、単に「データ」とも称する）の
同期及び処理の詳細についてはこれ以上説明しない。キ
ャリッジ８上には、塗布ユニット１２、硬化ユニット１
３及び作像ユニット１４が取り付けられており、キャリ
ッジ８と共に作像用円筒形版胴４の全幅に亙って左右に
移動することができるようになされている。

【００１４】塗布ユニット１２は、上述したように作像
用円筒形版胴４がクリーニングユニット７によってクリ
ーニング（洗浄）された後、その作像用円筒形版胴４上
に上述した輻射線感応性材料である高分子化合物溶液
（液状ポリマー）を吹き付ける（スプレーする）。別法
として、そのようなポリマーは、インキ塗布のようにし
てローラによって作像用円筒形版胴４に塗布することも
できる。

【００１５】ポリマーを塗布した後短時間のうちに（通
常、１分未満のうちに）そのポリマーコーチングの表面
に作像しなければならないので、液状ポリマーの固体へ
の硬化を促進しなければならない。ポリマーの硬化は、
硬化ユニット１３によって発せられる放射線又は熱風に
よる熱によって促進される。硬化を促進するために紫外
線を使用することも可能であるが、紫外線による硬化
は、クリーニングユニット７によって洗浄しにくい架橋
ポリマーを生じるので、あまり望ましくはない。作像用
円筒形版胴４上に塗布される輻射線感応性層の厚みは、
通常、１ないし１０μｍであり、従って、硬化すべきポ
リマー材の量は少量であり、迅速な硬化を行うのに必要
とされるエネルギーは少なくてすむ。

【００１６】ポリマーを硬化した後、例えばマルチチャ
ンネルレーザーヘッドから成る作像ヘッド１４によっ
て、硬化したポリマーの表面にインキ受理区域（疎水
性）とインキ反撥区域（親水性）から成る像パターン
（以下、単に「像」又は「パターン」とも称する）を形
成する。ポリマーの全表面に短時間で（１、２分程度
で）像を形成するためには、多数のレーザービームと、
比較的高いパワーが必要とされる。マルチチャンネルレ
ーザーヘッド１４のようなマルチビームレーザー式作像
ユニットは、周知である。米国特許第４，７４３，０９
１号に開示されているレーザーアレーは、その一例であ
る。必要とされるレーザービーム（以下、単に「ビー
ム」とも称する）の数は、所要作像時間、レーザーのパ
ワー、及び作像用円筒形版胴４の最大回転速度に依存す
る。

【００１７】クリーニング（洗浄、拭い取り）、塗布
（コーチング）及び作像が行われる間は、印刷機は、
「刷り動作オフ」モード（印刷動作を行わない作動態
様）におかれている。即ち、この「刷り動作オフ」モー
ドでは、作像用円筒形版胴４は、（刷り動作オフモード
のときの慣用のオフセット又は平版印刷機の版胴と同じ
ように）他のどの胴にも接触していない。作像ユニット
１４による作像が終ると、印刷機は「刷り動作オン」モ
ード（印刷動作を行う作動態様）に切り換えられ、作像
用円筒形版胴４上の作像された輻射線感応性層（画像形
成層）の表面は、慣用のオフセット態様又は無水オフセ
ット態様でインキ付けされる。

【００１８】親水性であり、かつ、シームレスの作像用
円筒形版胴４の素材として適する材料としては、アルマ
イト、クロム、ニッケル、スチール、及びアルミナ（Ａ
ｌ₂Ｏ₃）及びジルコニア（ＺｒＯ₂）のようなセラミッ
クが挙げられる。ジルコニアは、耐久性が高く、親水性
で耐火性であり、しかも、伝熱性が低いので特に好まし
い。伝熱性が低いと、輻射線感応性層の化学的変換を誘
起するためにポリマーコーチングを加熱するのに必要と
されるレーザーエネルギーの量が少なくてすむ。変性さ
れたポリマー区域は親水性であり、作像用円筒形版４の
表面も親水性であるから、輻射線感応性層が摩滅しても
印刷性能にはほとんど変化がない。

【００１９】〔輻射線感応性層（画像形成層）〕次に、
作像用円筒形版胴上に塗布形成される輻射線感応性層に
ついて説明する。本発明の特徴である印刷機上で直接作
像・製版可能な印刷機による製版方法に用いられる本発
明の輻射線感応性性材料（感熱性画像形成材料）は、加
熱によりスルホン酸を発生させる官能基を有する高分子
化合物（以下、スルホン酸発生型高分子化合物という）
を含有していれば、特に制限はない。また、本発明は、
印刷機上で直接作像・製版可能な印刷機の作像用円筒形
版胴上に、画像形成材料として、本発明の上記輻射線感
応性材料を用いることを特徴とする。

【００２０】本発明のスルホン酸発生型高分子化合物
は、加熱によりスルホン酸を発生させる官能基を有して
いれば、特に、制限はなく、スルホン酸を発生させる官
能基を主鎖に有していても、側鎖に有していても良い
が、合成適性の点で、前記一般式（１）、（２）又は
（３）で示される官能基を側鎖に有する高分子化合物が
好ましい。

【００２１】

【化１】

【００２２】（式中、Ｌは一般式（１）、（２）又は
（３）で示される官能基をポリマー骨格に連結するのに
必要な多価の非金属原子から成る有機基を表し、Ｒ¹は
置換若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換
アルキル基又は環状イミド基を示し、Ｒ²、Ｒ³は置換若
しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無置換アル
キル基を示し、Ｒ⁴は置換若しくは無置換のアリール
基、置換若しくは無置換アルキル基又は−ＳＯ₂−Ｒ⁵を
示し、Ｒ⁵は置換若しくは無置換のアリール基又は置換
若しくは無置換アルキル基を示す。）

【００２３】さらに、前記一般式（１）で表される官能
基のＲ¹が、下記一般式（４）で表される２級アルキル
基であることが好ましく、

【００２４】

【化２】

【００２５】（式中、Ｒ⁶，Ｒ⁷は置換もしくは非置換ア
ルキル基を表す。また、Ｒ⁶，Ｒ⁷はそれが結合している
２級炭素原子（ＣＨ）と共に環を形成してもよい。）

【００２６】前記一般式（４）で表される２級アルキル
基が、下記式で表される２級アルキル基であることが特
に好ましい。

【００２７】

【化３】

【００２８】本発明の輻射線感応性層は、さらに光熱変
換物質を含有することが好ましい。

【００２９】一般式（１）で示されるような官能基を側
鎖に有する高分子化合物を含有する感光性組成物として
は、ＵＳＰ３，８３４，９０６号にはポリビニールアリ
ールスルホン酸エステルを含有する層を露光することか
らなる画像形成方法が、特開昭６３−２６６５３号公報
にはポリエチレンスルホン酸オルトニトロベンジルエス
テルからなるフォトレジスト材料が、特開平４−１２１
７４８号公報には光でスルホン酸を発生する基を有する
化合物を含有する感光性組成物が記載されているが、こ
れらの感光性組成物は、いずれも光による画像形成であ
る。本発明者等はこのような化合物が熱により分解して
スルホン酸を発生させることを見出したものであり、本
発明は、これを画像形成材料、さらには平版印刷版用原
版の記録層に用いて、赤外線レーザー照射により発生し
た熱で、あるいはサーマルヘッド等による加熱で、スル
ホン酸を発生させることにより、この部分が高度に親水
化し、現像工程がなくても良好なポジ型画像が得られる
点に特徴がある。

【００３０】また、本発明は、下記式で表される２級ア
ルキル基をアルコール成分に有するスチレンスルホン酸
エステル化合物、およびこれらのスルホン酸エステル化
合物から得られるスチレンスルホン酸エステルポリマー
である。

【００３１】

【化４】

【００３２】一般式（１）で示される官能基を側鎖に有
するスチレンスルホン酸エステル化合物のうち、上記の
式で表される２級アルキル基をアルコール成分に有する
スチレンスルホン酸エステル化合物は新規であり、ま
た、このスルホン酸エステル化合物をモノマーとして、
これから得られるスチレンスルホン酸エステルポリマー
も新規である。これらのスチレンスルホン酸エステルポ
リマーは、高い親水性を示し、メガネや鏡、ガラス等の
防曇剤や自動車の雨滴の拭き取りを必要としないフロン
トガラス等、超親水性機能膜としての応用も可能であ
る。

【００３３】以下に、本発明における前記一般式
（１）、（２）又は（３）で示される官能基の少なくと
もいずれかを有する高分子化合物について、更に、具体
的に説明する。Ｒ¹〜Ｒ⁵がアリール基若しくは置換ア
リール基を表わすとき、アリール基には炭素環式アリー
ル基と複素環式（ヘテロ）アリール基が含まれる。炭素
環式アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ア
ントラセニル基、ピレニル基等の炭素数６から１９のも
のが用いられる。また、複素環式アリール基としては、
ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキ
ノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバ
ゾール基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含
むものが用いられる。Ｒ¹ 〜Ｒ⁵がアルキル基若しくは
置換アルキル基を表わすとき、当該アルキル基としては
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、
シクロヘキシル基等の直鎖状、分岐状若しくは環状の炭
素数１から２５までのものが用いられる。

【００３４】Ｒ¹ 〜Ｒ⁵が置換アリール基、置換ヘテロ
アリール基、置換アルキル基であるとき、置換基として
はメトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜１０までのア
ルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基
のようなハロゲン置換されたアルキル基、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカ
ルボニル基、ｐ−クロロフェニルオキシカルボニル基等
の炭素数２から１５までのアルコキシカルボニル基若し
くはアリールオキシカルボニル基；水酸基；アセチルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−ジフェニルアミノベ
ンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基；ｔ−ブチルオキ
シカルボニルオキシ基等のカルボネート基；ｔ−ブチル
オキシカルボニルメチルオキシ基、２−ピラニルオキシ
基等のエーテル基；アミノ基、ジメチルアミノ基、ジフ
ェニルアミノ基、モルフォリノ基、アセチルアミノ基等
の置換、非置換のアミノ基；メチルチオ基、フェニルチ
オ基等のチオエーテル基；ビニル基、スチリル基等のア
ルケニル基；ニトロ基；シアノ基；ホルミル基、アセチ
ル基、ベンゾイル基等のアシル基；フェニル基、ナフチ
ル基のようなアリール基；ピリジル基のようなヘテロア
リール基等を挙げることができる。またＲ¹〜Ｒ⁵が置換
アリール基、置換ヘテロアリール基であるとき、置換基
として前述の他にもメチル基、エチル基等のアルキル基
を用いることができる。

【００３５】Ｒ¹が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、琥珀酸イミド、フタル酸イミド、シクロヘ
キサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン酸
イミド等の炭素原子４〜２０までのものを用いることが
できる。

【００３６】前記一般式（１）において、Ｒ¹として
は、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアリール基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子
吸引性基で置換されたアルキル基、２級若しくは３級の
分岐状のアルキル基、環状アルキル基及び環状イミドが
好ましく、感度と経時安定性とを両立できるという点
で、前記一般式（４）で表される２級アルキル基がより
好ましい。

【００３７】Ｒ⁶，Ｒ⁷は置換もしくは非置換アルキル，
置換もしくは非置換アリール基を表し、また、Ｒ⁶，Ｒ⁷
はそれが結合している２級炭素原子（CH）と共に環を形
成してもよい。Ｒ⁶，Ｒ⁷が置換もしくは非置換アルキル
基を表すとき、アルキル基としてはメチル基，エチル
基，イソプロピル基，ｔ−ブチル基，シクロヘキシル基
などの直鎖状，分岐状，もしくは環状のアルキル基が挙
げられ、炭素数１から２５までのものが好適に用いられ
る。Ｒ⁶，Ｒ⁷が置換もしくは非置換アリール基を表すと
き、アリール基には炭素環式アリール基と複素環式アリ
ール基が含まれる。炭素環式アリール基としてはフェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、ピレニル基など
炭素数６から１９のものが用いられる。また、複素環式
アリール基としてはピリジル基、フリル基、その他ベン
ゼン環が縮環したキノリル基、ベンゾフリル基、チオキ
サントン基、カルバゾール基などの炭素数３〜２０、ヘ
テロ原子数１〜５を含むものが用いられる。

【００３８】Ｒ⁶，Ｒ⁷が置換アルキル基，置換アリール
基であるとき、置換基としてはメトキシ基、エトキシ基
などの炭素数１〜１０までのアルコキシ基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、トリフル
オロメチル基、トリクロロメチル基のようなハロゲン置
換されたアルキル基、メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基、ｐ−ク
ロロフェニルオキシカルボニルなどの炭素数２から１５
までのアルコキシカルボニル基またはアリールオキシカ
ルボニル基；水酸基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキ
シ、ｐ−ジフェニルアミノベンゾイルオキシなどのアシ
ルオキシ基；ｔ−ブチルオキシカルボニルオキシ基など
のカルボネート基；ｔ−ブチルオキシカルボニルメチル
オキシ基、２−ピラニルオキシ基などのエーテル基；ア
ミノ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、モル
フォリノ基、アセチルアミノ基などの置換、非置換のア
ミノ基；メチルチオ基、フェニルチオ基などのチオエー
テル基；ビニル基、ステリル基などのアルケニル基；ニ
トロ基；シアノ基；ホルミル基、アセチル基、ベンゾイ
ル基などのアシル基；フェニル基、ナフチル基のような
アリール基；ピリジル基のようなヘテロアリール基等を
挙げることができる。また、Ｒ⁶，Ｒ⁷が置換アリール基
であるとき、置換基としては、前述したものの他にもメ
チル基、エチル基などのアルキル基を用いることができ
る。

【００３９】上記のＲ⁶，Ｒ⁷としては、感材の保存安定
性に優れる点で、置換、非置換のアルキル基が好まし
く、経時安定性の点で、アルコキシ基，カルボニル基，
アルコキシカルボニル基，シアノ基，ハロゲン基などの
電子吸引性基で置換された２級のアルキル基，もしくは
シクロヘキシル基、ノルボルニル基などの２級のアルキ
ル基が特に好ましい。物性値としては、重クロロホルム
中、プロトンＮＭＲにおける２級メチン水素のケミカル
シフトが４．４ｐｐｍよりも低磁場に現れる化合物が好
ましく、４．６ｐｐｍよりも低磁場に現れる化合物がよ
り好ましい。このように、電子吸引性基で置換された２
級のアルキル基が特に好ましいのは、熱分解反応時に中
間体として生成していると思われるカルボカチオンが電
子吸引性基により不安定化し、分解が抑制されるためで
あると考えられる。具体的には、−ＣＨＲ⁶Ｒ⁷の構造と
しては、下記式で表される構造が特に好ましい。

【００４０】

【化５】

【００４１】また、前記一般式（２）および（３）にお
いて、Ｒ²〜Ｒ⁵として特に好ましいものは、ハロゲン、
シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール
基、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換
されたアルキル基、及び２級若しくは３級の分岐状のア
ルキル基である。

【００４２】Ｌで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、１から６０個までの炭素原子、０個から１０
個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１
個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。

【００４３】

【化６】

【００４４】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数１から２０ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６
から１６までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数１から６までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数１から６までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数２から７までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。

【００４５】本発明による一般式（１）〜（３）に示す
官能基を側鎖に有する高分子化合物の合成に好適に使用
されるモノマーの具体例を以下に示す。

【００４６】

【化７】

【００４７】

【化８】

【００４８】

【化９】

【００４９】

【化１０】

【００５０】

【化１１】

【００５１】

【化１２】

【００５２】本発明では、好ましくは一般式（１）〜
（３）で表される官能基を有するモノマーの内、少なく
ともいずれか一つをラジカル重合することにより得られ
る高分子化合物を使用する。このような高分子化合物と
して、一般式（１）〜（３）で表される官能基を有する
モノマーの内一種のみを用いた単独重合体を使用しても
よいが、２種以上を用いた共重合体やこれらのモノマー
と他のモノマーとの共重合体を使用してもよい。本発明
において、さらに好適に使用される高分子化合物は、上
記モノマーと他の公知のモノマーとのラジカル重合によ
り得られる共重合体である。

【００５３】他のモノマーとしては、グリシジルメタク
リレート、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、オメガ−
（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、２−
イソシアネートエチルアクリレート等の架橋反応性を有
するモノマーが好ましい。また、共重合体に用いられる
他のモノマーとして、例えば、アクリル酸エステル類、
メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン
酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーも挙げられ
る。

【００５４】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−又は
ｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−
又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレー
ト、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、
５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキ
シベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリ
レート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリ
レート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイル
フェニルアクリレート、２−（ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ）エチルアクリレート等が挙げられる。

【００５５】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、
メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタ
クリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネ
チルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリ
レート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフ
ェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタク
リレート、２−（ヒドロキシフェニルカルボニルオキ
シ）エチルメタクリレート等が挙げられる。

【００５６】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキ
シフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−
Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【００５７】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【００５８】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。

【００５９】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。

【００６０】これらの他のモノマーのうち特に好適に使
用されるのは、Ｃ２０以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル
酸、メタクリル酸、及びアクリロニトリルである。共重
合体の合成に使用される一般式（１）〜（３）で表され
る官能基を含むモノマーの割合は、５〜９９重量％であ
ることが好ましく、さらに好ましくは１０〜９５重量％
である。

【００６１】以下に、一般式（１）〜（３）に示す官能
基を側鎖に有する高分子化合物の具体例を示す。

【００６２】

【化１３】

【００６３】

【化１４】

【００６４】

【化１５】

【００６５】

【化１６】

【００６６】

【化１７】

【００６７】

【化１８】

【００６８】

【化１９】

【００６９】式中の数字は高分子化合物のモル組成を表
す。

【００７０】また、本発明で使用される一般式（１）〜
（３）で表される官能基の少なくともいずれか一つを有
する高分子化合物の重量平均分子量は好ましくは２００
０以上であり、更に好ましくは５０００〜３０万の範囲
であり、数平均分子量は好ましくは８００以上であり、
更に好ましくは１０００〜２５万の範囲である。多分散
度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好まし
く、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。これら
の高分子化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマ
ー、グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポ
リマーであることが好ましい。

【００７１】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物を合成する際に用いられる溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロ
ヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノー
ル、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メト
キシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メト
キシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、
酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホ
キシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は
２種以上混合して用いられる。本発明で使用されるスル
ホン酸発生型高分子化合物を合成する際に用いられるラ
ジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開
始剤等公知の化合物が使用できる。

【００７２】本発明で使用されるスルホン酸発生型高分
子化合物は単独で用いても混合して用いてもよい。これ
らスルホン酸発生型高分子化合物は、画像記録材料全固
形分の５０〜９０重量％、好ましくは７０〜９０重量％
の割合で使用することができる。添加量が５０重量％未
満の場合は、印刷画像が不鮮明になる。また添加量が９
０重量％を越える場合は、レーザ露光による画像形成が
十分できなくなる。

【００７３】また、本発明のスルホン酸発生型高分子化
合物と、特願平９−１０７５５号明細書に記載の酸発生
剤，特願平９ー２６８７７号明細書に記載の塩基発生剤
とを、併用することもできる。

【００７４】［光熱変換物質］本発明の輻射線感応性材
料（感熱性画像形成材料）、あるいは平版印刷版用原版
には、光熱変換物質を含有させることが好ましく、光熱
変換物質としては、紫外線、可視光線、赤外線、白色光
線等の光を吸収して熱に変換し得る物質ならば全て使用
でき、例えば、カーボンブラック、カーボングラファイ
ト、顔料、フタロシアニン系顔料、鉄粉、黒鉛粉末、酸
化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、硫化ク
ロム等が挙げられる。特に、好ましいのは、波長７６０
ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染料、
顔料、または金属である。

【００７５】染料としては、市販の染料及び文献（例え
ば、「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。好ま
しい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６
号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８
２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されている
シアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５
８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に
記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３
号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１
８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２
９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されてい
るナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，
８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。

【００７６】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換アリールベンゾ
（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号
（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチン
チアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５
８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−
８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６
０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピ
リリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載の
シアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５
１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリ
リウム化合物も好ましく用いられる。また、好ましい別
の染料の例として、米国特許第４，７５６，９９３号明
細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外
吸収染料を挙げることができる。これらの染料のうち特
に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウ
ム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げ
られる。

【００７７】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、
「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年
刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年
刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。

【００７８】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリ
ング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔
料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処
理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印
刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最
新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載
されている。

【００７９】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、０．１μｍ〜１μｍの範
囲にあることが特に好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００８０】これらの染料又は顔料は、画像形成材料全
固形分の０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１
０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０重量
％、顔料の場合特に好ましくは３．１〜１０重量％の割
合で使用することができる。顔料又は染料の添加量が
０．０１重量％未満であると感度が低くなり、また５０
重量％を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。

【００８１】［その他の成分］本発明では、上述の２つ
の成分が必須であるが、必要に応じてこれら以外に種々
の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな
吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することがで
きる。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイ
エロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリー
ンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、
オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラ
ックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業（株）
製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２
５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１
４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２００
０）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）等及び特開昭
６２−２９３２４７号公報に記載されている染料を挙げ
ることができる。これらの染料は、レーザ露光後退色
し、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加す
る方が好ましい。尚、添加量は、画像記録材料全固形分
の０．０１〜１０重量％である。

【００８２】また、本発明における輻射線感応性層に
は、印刷条件に対する安定性を広げるため、特開昭６２
−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報
に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５
９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報
に記載されているような両性界面活性剤を添加すること
ができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソル
ビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商
品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像
記録材料中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好
ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。

【００８３】更に本発明の輻射線感応性層には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル
酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。

【００８４】これら以外にも、エポキシ化合物、ビニル
エーテル類、特願平７−１８１２０に記載のヒドロキシ
メチル基を持つフェノール化合物、及びアルコキシメチ
ル基を有するフェノール化合物等を添加してもよい。更
に塗膜の強度を向上させるために他の高分子化合物を添
加してもよい。

【００８５】本発明の作像用円筒形版胴上の輻射線感応
性層は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、作像用円筒
形版胴上に塗布することにより製造することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−
メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピ
ルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エ
チル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロ
リドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチ
ロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこ
れに限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は
混合して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む
全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％であ
る。また塗布、乾燥後に得られる作像用円筒形版胴上の
塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、輻射線感
応性層についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ ²
が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用い
ることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。

【００８６】本発明における輻射線感応性層には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１
７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。これらの添加量は、全
画像記録材料固形分中０．０１〜１重量％が好ましく、
さらに好ましくは０．０５〜０．５重量％である。

【００８７】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。

【００８８】〔実施例１〜４〕下記溶液Ａにおいて下記
表１に示す通りスルホン酸発生型高分子化合物の種類を
変えて４種類の溶液を作製した。この溶液を印刷機上の
作像用円筒形版胴の表面に塗布した後、近接して装備さ
れている赤外線を使用して、１００℃で５分加熱し乾燥
架橋させた。比較例１として、前記印刷機上直接作像式
平版印刷機による直接印刷版の作製を開示している特開
平9-99535号公報記載の極性変換ポリマー、下記Ｒ−
１、米国ミネソタ州の３Ｍコーポレーシヨンから販売さ
れているテトラヒドロピラニル変性アクリル酸メチルを
用いた以外は下記溶液Ａと同じ組成の溶液を調製し、実
施例１〜４と同様の操作を行った。

【００８９】溶液〔Ａ〕スルホン酸発生型高分子化合物（表３）６．０ｇ無水フタル酸０．０５ｇオルトクロロフェノール０．０１ｇ赤外線吸収剤ＮＫ−２２６８０．６ｇ（日本感光色素研究所（株）製）メチルエチルケトン２０ｇメチルアルコール２０ｇ

【００９０】

【表１】

【００９１】

【化２０】

【００９２】次に、使用した作像ヘッドは、カナダのク
レオ・プロダクツ・インコーポレイテッド社製のクレオ
・サーマル・ヘッドである。この作像ヘッドは、出力１
８Ｗの２４０チャンネルレーザーヘッドである。５０，
０００枚以上の刷り量の印刷作業に対して作像感度は、
０．１Ｊ／ｃｍ²であり、作像時間は、８０ｃｍ×１０
０ｃｍの面積（周囲長８０ｃｍ、長さ１００ｃｍ）の作
像面積に対して約１分であった。解像度は、２４００Ｄ
ＰＩであり、データ転送速度は、約１５ＭＢ／秒であっ
た。作像中の作像ドラムの回転数は約４００ＲＰＭとし
た。上記の条件で作像ユニットを用いて画像形成し、何
らの現像処理をすることなく印刷を行った。印刷評価と
しては、６０００枚印刷後の汚れを目視で判定した。結
果を表１に示す。

【００９３】本発明にかかわる各実施例の作像用円筒形
版胴上の印刷版はいずれも、非画像部に汚れのない良好
な印刷物が６，０００枚以上得られ、満足すべき結果を
得た。

【００９４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の平版印刷
機および平版印刷方法は、印刷機上の作像用版胴の円筒
形表面に、輻射線感応性材料として、加熱により、また
は光熱変換により生じた熱によりスルホン酸を発生させ
る官能基を有する高分子化合物の薄層を、版胴に近接し
て装備した塗膜塗布ユニット、塗膜硬化ユニットを用い
てを形成し、作像ユニットに装備した、赤外線を放射す
るレーザ叉はサーマルヘッドを用いて記録することによ
り、デジタルデータから直接作像製版可能である。ま
た、本発明の上記輻射線感応性層（画像形成層）は短時
間でのレーザ光等による画像の走査露光により親疎水性
が大きく変化し極性変換能が発現される。その結果，イ
ンキに対するディスクリミネーションが発現し，かくし
て画像非画像部が形成され、画像露光後湿式現像処理や
こすり等の特別な処理を必要とせず、しかも厳しい印刷
条件においても、汚れが生じない印刷物が得られる印刷
版を印刷機上で直接製版することができるという効果を
奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の印刷機上で直接作像・製版可能な平版
印刷機の透視図である。

【符号の説明】

１：印刷用シート２：圧胴３：ブランケット胴４：作像用円筒形版胴５：ファンテン溶液ローラ６：インキ付けローラ７：クリーニングユニット（ブランケットワッシャー）８：走行キャリッジ９：直線ローラ１０：親ネジ１１：モータ１２：塗布ユニット１３：硬化ユニット１４：作像ユニット（マルチチャンネルレーザーヘッ
ド、変換手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2C034 AA12 BA02 2H084 AA13 AA32 AE05 BB04 BB16 CC05 2H096 AA06 AA07 BA16 BA20 CA12 EA04 EA30 GA60 JA02 LA30 2H114 AA04 AA24 BA05 DA24 DA25 DA26 DA35 DA52 DA59 DA78 EA01 EA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】作像用版胴、ブランケット胴、圧胴、作
像用版胴に近接して装備した塗膜塗布ユニット、塗膜硬
化ユニット、作像ユニットおよびクリーニングユニット
を有してなり、該塗膜塗布ユニットによって、熱により
スルホン酸を発生する官能基を有する高分子化合物を含
有する画像形成層が形成されることを特徴とする平版印
刷機。
【請求項２】作像用版胴、ブランケット胴、圧胴、作
像用版胴に近接して装備した塗膜塗布ユニット、塗膜硬
化ユニット、作像ユニットおよびクリーニングユニット
を備えた版印刷機上において、少なくとも（ａ）前記作
像用円筒形版胴を洗浄するクリーニング操作と、（ｂ）
表面に熱によりスルホン酸を発生する官能基を有する高
分子化合物を含有する画像形成層を塗布する塗布操作
と、（ｃ）前記画像形成層を固体状態に硬化させる硬化
操作と、（ｄ）印刷すべきデジタルデータに応じて前記
画像形成層の表面上に親疎水性が変化した像パターンを
形成する表面変換操作を行うことを特徴とする平版印刷
方法。