JP2001162175A - 窒素酸化物除去用触媒の製造方法およびその製造装置 - Google Patents
窒素酸化物除去用触媒の製造方法およびその製造装置Info
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
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- Catalysts (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 室温から１２０℃程度の低温でのＮＯの還元
（分解）を高効率に行うことが可能な窒素酸化物除去用
触媒の製造方法を提供しようとするものである。 【解決手段】 炭素繊維を二酸化炭素および水蒸気から
選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処理して前記炭素
繊維表面の比表面積を増大させる工程と、前記賦活処理
された炭素繊維を還元処理して前記賦活処理により表面
に導入された含酸素官能基を除去し、活性点であるＣ＝
Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを特徴とする。
（分解）を高効率に行うことが可能な窒素酸化物除去用
触媒の製造方法を提供しようとするものである。 【解決手段】 炭素繊維を二酸化炭素および水蒸気から
選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処理して前記炭素
繊維表面の比表面積を増大させる工程と、前記賦活処理
された炭素繊維を還元処理して前記賦活処理により表面
に導入された含酸素官能基を除去し、活性点であるＣ＝
Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一酸化窒素（Ｎ
Ｏ）を、還元剤を用いて還元し窒素ガスとするための窒
素酸化物除去用触媒の製造方法およびその製造装置に関
する。
Ｏ）を、還元剤を用いて還元し窒素ガスとするための窒
素酸化物除去用触媒の製造方法およびその製造装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】火力発電用ボイラ等の固定排出源から出
される排ガス中のＮＯx （窒素酸化物）の除去には、ア
ンモニアを還元剤とした乾式還元法が多く適用されてい
る。現在実用化されているこの方法は、２５０℃以上の
温度雰囲気下、チタニア−バナジウム系の組成をベース
にした板状またはハニカム状の触媒上で、アンモニアに
よりＮＯx を窒素と水蒸気とに分解する選択接触還元法
（ＳＣＲ）が主流となっている。
される排ガス中のＮＯx （窒素酸化物）の除去には、ア
ンモニアを還元剤とした乾式還元法が多く適用されてい
る。現在実用化されているこの方法は、２５０℃以上の
温度雰囲気下、チタニア−バナジウム系の組成をベース
にした板状またはハニカム状の触媒上で、アンモニアに
よりＮＯx を窒素と水蒸気とに分解する選択接触還元法
（ＳＣＲ）が主流となっている。
【０００３】近年の環境規制から排ガス中のＮＯx濃度
を１ｐｐｍ以下程度に除去するよう求められているが、
前述した従来のＳＣＲによる脱硝処理では一旦温度が下
がったガスを再び触媒作動温度まで加熱する必要がある
ため、装置の巨大化等コストがかかる。低温での脱硝が
可能になれば、再加熱装置や断熱材等が不要になり、ス
リム化を図ることが可能になる。
を１ｐｐｍ以下程度に除去するよう求められているが、
前述した従来のＳＣＲによる脱硝処理では一旦温度が下
がったガスを再び触媒作動温度まで加熱する必要がある
ため、装置の巨大化等コストがかかる。低温での脱硝が
可能になれば、再加熱装置や断熱材等が不要になり、ス
リム化を図ることが可能になる。
【０００４】このようなことから、ＮＯxの除去手段と
して活性炭素繊維（ＡＣＦ）に吸着させる方法も知られ
ている。例えば、特開平１−８５１３７号公報、特開平
２−６９３１１号公報、特開平２−２５３８４４号公報
には、炭素材の表面積を増加させることによりＮＯに対
する吸着性能を高めることが開示されている。特開昭６
４−８５１３７号公報には、炭素繊維表面に、銅、ニッ
ケル、コバルト等の金属水酸化物、銅又はニッケルの酸
化物を担持させた吸着材が開示されている。
して活性炭素繊維（ＡＣＦ）に吸着させる方法も知られ
ている。例えば、特開平１−８５１３７号公報、特開平
２−６９３１１号公報、特開平２−２５３８４４号公報
には、炭素材の表面積を増加させることによりＮＯに対
する吸着性能を高めることが開示されている。特開昭６
４−８５１３７号公報には、炭素繊維表面に、銅、ニッ
ケル、コバルト等の金属水酸化物、銅又はニッケルの酸
化物を担持させた吸着材が開示されている。
【０００５】しかしながら、これらの吸着材はＮＯxを
長期にわたり除去することが困難であり、飽和吸着量に
達する毎に、交換もしくは再生する等、吸着したＮＯx
をいかに処理するかの問題が残る。
長期にわたり除去することが困難であり、飽和吸着量に
達する毎に、交換もしくは再生する等、吸着したＮＯx
をいかに処理するかの問題が残る。
【０００６】一方、ＡＣＦを再度７００℃以上で加熱処
理して再賦活することにより、アンモニアを用いた一酸
化窒素（ＮＯ）の還元反応が１００℃以下で起こること
が見出されている。しかしながら、加熱処理したＡＣＦ
は乾燥雰囲気では９０％程度の脱硝率を示すものの、水
分共存下では脱硝率が極端に低下する問題がある
理して再賦活することにより、アンモニアを用いた一酸
化窒素（ＮＯ）の還元反応が１００℃以下で起こること
が見出されている。しかしながら、加熱処理したＡＣＦ
は乾燥雰囲気では９０％程度の脱硝率を示すものの、水
分共存下では脱硝率が極端に低下する問題がある
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、室温から１
２０℃程度の低温でのＮＯの還元（分解）を高効率に行
うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製造方法を提供
するものである。
２０℃程度の低温でのＮＯの還元（分解）を高効率に行
うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製造方法を提供
するものである。
【０００８】本発明は、室温から１２０℃程度の低温、
更には水分共存条件でのＮＯの還元（分解）を高効率に
行うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製造方法を提
供するものである。
更には水分共存条件でのＮＯの還元（分解）を高効率に
行うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製造方法を提
供するものである。
【０００９】本発明は、前述した特性を有する窒素酸化
物除去用触媒を容易に製造し得る装置を提供するもので
ある。
物除去用触媒を容易に製造し得る装置を提供するもので
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係る窒素酸化物
除去用触媒の製造方法は、炭素繊維を二酸化炭素および
水蒸気から選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処理し
て前記炭素繊維表面の比表面積を増大させる工程と、前
記賦活処理された炭素繊維を還元処理して前記賦活処理
により表面に導入された含酸素官能基を除去し、活性点
であるＣ＝Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを特
徴とするものである。
除去用触媒の製造方法は、炭素繊維を二酸化炭素および
水蒸気から選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処理し
て前記炭素繊維表面の比表面積を増大させる工程と、前
記賦活処理された炭素繊維を還元処理して前記賦活処理
により表面に導入された含酸素官能基を除去し、活性点
であるＣ＝Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを特
徴とするものである。
【００１１】本発明に係る窒素酸化物除去用触媒の製造
方法は、炭素繊維を二酸化炭素および水蒸気から選ばれ
る少なくとも１つの賦活ガスで処理して前記炭素繊維表
面の比表面積を増大させる工程と、前記賦活処理後の炭
素繊維に金属を担持させた後、還元処理して前記賦活処
理により表面に導入された含酸素官能基を除去し、活性
点であるＣ＝Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを
特徴とするものである。
方法は、炭素繊維を二酸化炭素および水蒸気から選ばれ
る少なくとも１つの賦活ガスで処理して前記炭素繊維表
面の比表面積を増大させる工程と、前記賦活処理後の炭
素繊維に金属を担持させた後、還元処理して前記賦活処
理により表面に導入された含酸素官能基を除去し、活性
点であるＣ＝Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを
特徴とするものである。
【００１２】本発明に係る窒素酸化物除去用触媒の製造
装置は、炭素繊維が設置される反応装置と、前記反応装
置に二酸化炭素および水蒸気から選ばれる少なくとも１
つの賦活ガスを供給するための賦活ガス供給手段と、前
記反応装置に還元性ガスを供給するための還元性ガス供
給手段と、前記各供給手段からの賦活ガスおよび還元性
ガスをそれぞれ前記反応装置に供給するための切替手段
とを具備したことを特徴とするものである。
装置は、炭素繊維が設置される反応装置と、前記反応装
置に二酸化炭素および水蒸気から選ばれる少なくとも１
つの賦活ガスを供給するための賦活ガス供給手段と、前
記反応装置に還元性ガスを供給するための還元性ガス供
給手段と、前記各供給手段からの賦活ガスおよび還元性
ガスをそれぞれ前記反応装置に供給するための切替手段
とを具備したことを特徴とするものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る窒素酸化物除
去用触媒の製造方法を図１に示す製造装置を参照して詳
細に説明する。
去用触媒の製造方法を図１に示す製造装置を参照して詳
細に説明する。
【００１４】図１は、本発明に係る窒素酸化物除去用触
媒の製造装置を示す概略図である。例えば二酸化炭素を
供給するための賦活ガス供給装置１および還元性ガスを
供給するための還元性ガス供給装置２は、それぞれ反応
装置、例えば流通式の電気炉３に隣接して配置されてい
る。
媒の製造装置を示す概略図である。例えば二酸化炭素を
供給するための賦活ガス供給装置１および還元性ガスを
供給するための還元性ガス供給装置２は、それぞれ反応
装置、例えば流通式の電気炉３に隣接して配置されてい
る。
【００１５】前記賦活ガス供給装置１は、前記電気炉３
のガス入口に第１配管４および合流配管５を通して接続
されている。第１開閉弁６は、前記第１配管４に介装さ
れている。
のガス入口に第１配管４および合流配管５を通して接続
されている。第１開閉弁６は、前記第１配管４に介装さ
れている。
【００１６】前記還元性ガス供給装置２は、前記電気炉
３のガス入口に第２配管７および前記合流配管５を通し
て接続されている。第２開閉弁８は、前記第２配管７に
介装されている。
３のガス入口に第２配管７および前記合流配管５を通し
て接続されている。第２開閉弁８は、前記第２配管７に
介装されている。
【００１７】なお、本発明に係る窒素酸化物除去用触媒
の製造装置において、前記賦活ガス供給装置は二酸化炭
素を前記電気炉に供給する形態に限らず、例えばヘリウ
ムのような不活性ガスの供給源と、前記第１配管に水を
滴下する水滴下部材と、前記第１配管および合流配管の
外側に巻装され、前記水滴下部材から滴下された水を１
００℃以上に加熱するためのヒータのような加熱部材と
から構成し、賦活ガスとして水蒸気を前記電気炉に供給
する形態にしてもよい。
の製造装置において、前記賦活ガス供給装置は二酸化炭
素を前記電気炉に供給する形態に限らず、例えばヘリウ
ムのような不活性ガスの供給源と、前記第１配管に水を
滴下する水滴下部材と、前記第１配管および合流配管の
外側に巻装され、前記水滴下部材から滴下された水を１
００℃以上に加熱するためのヒータのような加熱部材と
から構成し、賦活ガスとして水蒸気を前記電気炉に供給
する形態にしてもよい。
【００１８】本発明に係る窒素酸化物除去用触媒の製造
装置において、前記反応装置は電気炉に限らず、バーナ
ーによる燃焼炉を用いてもよい。また、反応装置は流通
式に限らず回分式（バッチ式）であってもよい。
装置において、前記反応装置は電気炉に限らず、バーナ
ーによる燃焼炉を用いてもよい。また、反応装置は流通
式に限らず回分式（バッチ式）であってもよい。
【００１９】次に、前述した図１の窒素酸化物除去用触
媒の製造装置を用いて窒素酸化物除去用触媒の製造方法
を説明する。
媒の製造装置を用いて窒素酸化物除去用触媒の製造方法
を説明する。
【００２０】まず、炭素繊維を図１に示す電気炉３内に
設置し、前記炭素繊維を所望温度に加熱し、第１開閉弁
６を開き、第２開閉弁８を閉じた状態で賦活ガス供給装
置１から例えば二酸化炭素ガスを第１配管４および合流
配管５を通して前記電気炉３内に供給し、この中の炭素
繊維を賦活処理する。この時、前記炭素繊維表面が多孔
質化されてその比表面積が増大するとともに、賦活ガス
として例えば二酸化炭素ガスを用いた場合には前記炭素
繊維の表面にＣＯＯＨ基のような含酸素官能基が導入さ
れる。
設置し、前記炭素繊維を所望温度に加熱し、第１開閉弁
６を開き、第２開閉弁８を閉じた状態で賦活ガス供給装
置１から例えば二酸化炭素ガスを第１配管４および合流
配管５を通して前記電気炉３内に供給し、この中の炭素
繊維を賦活処理する。この時、前記炭素繊維表面が多孔
質化されてその比表面積が増大するとともに、賦活ガス
として例えば二酸化炭素ガスを用いた場合には前記炭素
繊維の表面にＣＯＯＨ基のような含酸素官能基が導入さ
れる。
【００２１】なお、前記賦活ガス供給装置１から水蒸気
をへリウムのような不活性ガスと一緒に前記電気炉３に
供給した場合には前記炭素繊維表面の比表面積が増大す
るとともに、前記炭素繊維の表面にＯＨ基のような含酸
素官能基が導入される。
をへリウムのような不活性ガスと一緒に前記電気炉３に
供給した場合には前記炭素繊維表面の比表面積が増大す
るとともに、前記炭素繊維の表面にＯＨ基のような含酸
素官能基が導入される。
【００２２】次いで、前記賦活ガス供給装置１からの二
酸化炭素ガスの供給を停止し、前記電気炉３内の賦活処
理された炭素繊維を所望の温度に加熱し、第１開閉弁６
を閉じ、第２開閉弁８を開いた後、必要に応じて窒素、
ヘリウムのような不活性ガスにより前記電気炉３内の二
酸化炭素ガスのような残留ガスをパージする。つづい
て、還元性ガス供給装置２から還元性ガスを第２配管７
および合流配管５を通して前記電気炉３内に供給し、こ
の中の賦活された炭素繊維を還元処理する。このような
還元処理により前記炭素繊維表面のＣＯＯＨ基，（また
はＯＨ基）のような含酸素官能基が除去されるため、表
面に占める活性点であるＣ＝Ｃ基が増加され、かつ比表
面積が増大された窒素酸化物除去用触媒が製造される。
酸化炭素ガスの供給を停止し、前記電気炉３内の賦活処
理された炭素繊維を所望の温度に加熱し、第１開閉弁６
を閉じ、第２開閉弁８を開いた後、必要に応じて窒素、
ヘリウムのような不活性ガスにより前記電気炉３内の二
酸化炭素ガスのような残留ガスをパージする。つづい
て、還元性ガス供給装置２から還元性ガスを第２配管７
および合流配管５を通して前記電気炉３内に供給し、こ
の中の賦活された炭素繊維を還元処理する。このような
還元処理により前記炭素繊維表面のＣＯＯＨ基，（また
はＯＨ基）のような含酸素官能基が除去されるため、表
面に占める活性点であるＣ＝Ｃ基が増加され、かつ比表
面積が増大された窒素酸化物除去用触媒が製造される。
【００２３】前記賦活ガスによる処理時において前記電
気炉で炭素繊維を加熱する温度は、賦活ガスの種類を問
わず８００〜１０００℃にすることが好ましい。
気炉で炭素繊維を加熱する温度は、賦活ガスの種類を問
わず８００〜１０００℃にすることが好ましい。
【００２４】前記還元処理に用いられる還元性ガスは、
特に限定されないが、水素単独、もしくは窒素、ヘリウ
ムのような不活性ガスが水素を希釈した水素含有ガスが
好ましい。
特に限定されないが、水素単独、もしくは窒素、ヘリウ
ムのような不活性ガスが水素を希釈した水素含有ガスが
好ましい。
【００２５】前記還元処理時の温度は、２５０〜５００
℃であることが好ましく、その処理時間は２時間以上に
することが望ましい。還元処理時の温度を２５０℃未満
にすると、炭素繊維表面のＣＯＯＨ基（またはＯＨ基）
のような含酸素官能基を除去し、活性点であるＣ＝Ｃ基
を増加させることが困難になる。一方、還元処理時の温
度が５００℃を超えると炭素繊維表面の官能基および比
表面積が大幅に変化して触媒としての反応性が低下する
虞がある。
℃であることが好ましく、その処理時間は２時間以上に
することが望ましい。還元処理時の温度を２５０℃未満
にすると、炭素繊維表面のＣＯＯＨ基（またはＯＨ基）
のような含酸素官能基を除去し、活性点であるＣ＝Ｃ基
を増加させることが困難になる。一方、還元処理時の温
度が５００℃を超えると炭素繊維表面の官能基および比
表面積が大幅に変化して触媒としての反応性が低下する
虞がある。
【００２６】次に、本発明に係る別の窒素酸化物除去用
触媒の製造方法を前述した図１の窒素酸化物除去用触媒
の製造装置を用いて詳細に説明する。
触媒の製造方法を前述した図１の窒素酸化物除去用触媒
の製造装置を用いて詳細に説明する。
【００２７】まず、前述した方法により炭素繊維を賦活
処理する。つづいて、この賦活処理された炭素繊維に金
属を担持させる。
処理する。つづいて、この賦活処理された炭素繊維に金
属を担持させる。
【００２８】前記担持する金属は、他成分の存在に影響
されずにＮＯ分子を吸着する効果がある。このような金
属は、ＮＯを吸着するものであればいかなるものでもよ
いが、特に分子状吸着しやすいパラジウム（Ｐｄ）が好
ましい。
されずにＮＯ分子を吸着する効果がある。このような金
属は、ＮＯを吸着するものであればいかなるものでもよ
いが、特に分子状吸着しやすいパラジウム（Ｐｄ）が好
ましい。
【００２９】前記金属の担持方法としては、例えば含浸
法、イオン交換法、ＣＶＤ法、イオン注入法等を採用す
ることができる。
法、イオン交換法、ＣＶＤ法、イオン注入法等を採用す
ることができる。
【００３０】前記担持する金属の濃度は、特に限定され
ないが、賦活処理された炭素繊維表面での炭素原子数に
対する割合で０．１〜２％にすることが好ましい。
ないが、賦活処理された炭素繊維表面での炭素原子数に
対する割合で０．１〜２％にすることが好ましい。
【００３１】次いで、前記金属が担持され、賦活処理さ
れた炭素繊維を図１に示す電気炉３内に設置し、前記金
属担持賦活処理炭素繊維を所望温度に加熱し、第１開閉
弁６を閉じ、第２開閉弁８を開いた状態で還元性ガス供
給装置２から還元性ガスを第２配管７および合流配管５
を通して前記電気炉３内に供給し、前記金属担持賦活処
理炭素繊維を還元処理する。このような還元処理によっ
て、前記賦活処理により前記金属担持賦活処理炭素繊維
表面に導入されたのＣＯＯＨ基，（またはＯＨ基）のよ
うな含酸素官能基が除去されるため、表面に占める活性
点であるＣ＝Ｃ基が増加され、かつ比表面積が増大され
た窒素酸化物除去用触媒が製造される。
れた炭素繊維を図１に示す電気炉３内に設置し、前記金
属担持賦活処理炭素繊維を所望温度に加熱し、第１開閉
弁６を閉じ、第２開閉弁８を開いた状態で還元性ガス供
給装置２から還元性ガスを第２配管７および合流配管５
を通して前記電気炉３内に供給し、前記金属担持賦活処
理炭素繊維を還元処理する。このような還元処理によっ
て、前記賦活処理により前記金属担持賦活処理炭素繊維
表面に導入されたのＣＯＯＨ基，（またはＯＨ基）のよ
うな含酸素官能基が除去されるため、表面に占める活性
点であるＣ＝Ｃ基が増加され、かつ比表面積が増大され
た窒素酸化物除去用触媒が製造される。
【００３２】前記還元処理に用いられる還元性ガスは、
特に限定されないが、水素単独、もしくは窒素、ヘリウ
ムのような不活性ガスが水素を希釈した水素含有ガスが
好ましい。
特に限定されないが、水素単独、もしくは窒素、ヘリウ
ムのような不活性ガスが水素を希釈した水素含有ガスが
好ましい。
【００３３】前記還元処理時の温度は、２５０〜５００
℃であることが好ましく、その処理時間は２時間以上に
することが望ましい。還元処理時の温度を２５０℃未満
にすると、金属担持賦活処理炭素繊維表面のＣＯＯＨ基
（またはＯＨ基）のような含酸素官能基を除去し、活性
点であるＣ＝Ｃ基を増加させることが困難になる。一
方、還元処理時の温度が５００℃を超えると金属担持賦
活処理炭素繊維表面の官能基および比表面積が大幅に変
化して触媒としての反応性が低下する虞がある。
℃であることが好ましく、その処理時間は２時間以上に
することが望ましい。還元処理時の温度を２５０℃未満
にすると、金属担持賦活処理炭素繊維表面のＣＯＯＨ基
（またはＯＨ基）のような含酸素官能基を除去し、活性
点であるＣ＝Ｃ基を増加させることが困難になる。一
方、還元処理時の温度が５００℃を超えると金属担持賦
活処理炭素繊維表面の官能基および比表面積が大幅に変
化して触媒としての反応性が低下する虞がある。
【００３４】以上説明したように本発明によれば、所望
の温度、アンモニアの存在下での脱硝プロセスに適用し
た場合、高い脱硝効率を示す窒素酸化物除去用触媒の製
造方法を提供できる。
の温度、アンモニアの存在下での脱硝プロセスに適用し
た場合、高い脱硝効率を示す窒素酸化物除去用触媒の製
造方法を提供できる。
【００３５】すなわち、本発明者らは上記課題を鋭意検
討した結果、炭素材によるＮＯ還元機構について、
（１）Ｃ＝ＣやＣ＝Ｏのような不飽和結合を持つ官能基
が脱硝反応の活性点である、（２）この活性点上でＮＯ
と雰囲気中のＯ2からＮＯ2が生成し、このＮＯ2にアンモ
ニアが反応し、ニトロソアミン（−Ｎ−Ｎ＝Ｏ）の結合
を経て、脱硝反応が生じる、という知見を得た。
討した結果、炭素材によるＮＯ還元機構について、
（１）Ｃ＝ＣやＣ＝Ｏのような不飽和結合を持つ官能基
が脱硝反応の活性点である、（２）この活性点上でＮＯ
と雰囲気中のＯ2からＮＯ2が生成し、このＮＯ2にアンモ
ニアが反応し、ニトロソアミン（−Ｎ−Ｎ＝Ｏ）の結合
を経て、脱硝反応が生じる、という知見を得た。
【００３６】本発明のように、炭素繊維を二酸化炭素お
よび水蒸気から選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処
理して前記炭素繊維表面を多孔質化し、その比表面積を
増大させ、この賦活処理がなされた炭素繊維を還元処
理、好ましくは水素還元処理することによって、前記賦
活処理により炭素繊維表面に導入された含酸素官能基を
除去でき、表面に占める活性点であるＣ＝Ｃ基を増加で
きる。その結果、表面性状および表面の官能基が改質さ
れた窒素酸化物除去用触媒を製造できる。したがって、
この触媒を所望の温度、アンモニアの存在下での脱硝プ
ロセスに適用することによって、前記（１），（２）の
知見および比表面積の増大、つまり反応面積の増大によ
り高い脱硝効率を実現できる。
よび水蒸気から選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処
理して前記炭素繊維表面を多孔質化し、その比表面積を
増大させ、この賦活処理がなされた炭素繊維を還元処
理、好ましくは水素還元処理することによって、前記賦
活処理により炭素繊維表面に導入された含酸素官能基を
除去でき、表面に占める活性点であるＣ＝Ｃ基を増加で
きる。その結果、表面性状および表面の官能基が改質さ
れた窒素酸化物除去用触媒を製造できる。したがって、
この触媒を所望の温度、アンモニアの存在下での脱硝プ
ロセスに適用することによって、前記（１），（２）の
知見および比表面積の増大、つまり反応面積の増大によ
り高い脱硝効率を実現できる。
【００３７】また、別の本発明によれば所望の温度、ア
ンモニアの存在下での脱硝プロセスに適用した場合、水
分が共存しても高い脱硝効率を示す窒素酸化物除去用触
媒の製造方法を提供できる。
ンモニアの存在下での脱硝プロセスに適用した場合、水
分が共存しても高い脱硝効率を示す窒素酸化物除去用触
媒の製造方法を提供できる。
【００３８】すなわち、本発明者らは炭素材によるＮＯ
還元機構について、前述した（１），（２）の知見に加
えて（３）水は活性点でのＮＯ2の生成を阻害し、脱硝率
を低下させるという知見を得た。
還元機構について、前述した（１），（２）の知見に加
えて（３）水は活性点でのＮＯ2の生成を阻害し、脱硝率
を低下させるという知見を得た。
【００３９】本発明の別の方法のように、炭素繊維を二
酸化炭素および水蒸気から選ばれる少なくとも１つの賦
活ガスで処理して前記炭素繊維表面を多孔質化してその
比表面積を増大させ、この賦活処理がなされた炭素繊維
に金属を担持させた後、金属担持賦活処理炭素繊維を還
元処理、好ましくは水素還元処理することによって、前
記賦活処理により表面に導入された含酸素官能基を除去
でき、表面に占める活性点であるＣ＝Ｃ基を増加でき
る。その結果、表面性状および表面の官能基が改質され
る他に、金属の担持により水のような他成分の存在に影
響されずにＮＯ分子を吸着する効果を示す表面状態に改
質された窒素酸化物除去用触媒を製造することができ
る。したがって、この触媒を所望の温度、アンモニアの
存在下での脱硝プロセスに適用することによって、前記
（１）〜（３）の知見および比表面積の増大、つまり反
応面積の増大により水分が共存してもＮＯ2の生成を低
下させずに高い脱硝効率を実現できる。
酸化炭素および水蒸気から選ばれる少なくとも１つの賦
活ガスで処理して前記炭素繊維表面を多孔質化してその
比表面積を増大させ、この賦活処理がなされた炭素繊維
に金属を担持させた後、金属担持賦活処理炭素繊維を還
元処理、好ましくは水素還元処理することによって、前
記賦活処理により表面に導入された含酸素官能基を除去
でき、表面に占める活性点であるＣ＝Ｃ基を増加でき
る。その結果、表面性状および表面の官能基が改質され
る他に、金属の担持により水のような他成分の存在に影
響されずにＮＯ分子を吸着する効果を示す表面状態に改
質された窒素酸化物除去用触媒を製造することができ
る。したがって、この触媒を所望の温度、アンモニアの
存在下での脱硝プロセスに適用することによって、前記
（１）〜（３）の知見および比表面積の増大、つまり反
応面積の増大により水分が共存してもＮＯ2の生成を低
下させずに高い脱硝効率を実現できる。
【００４０】さらに、本発明に係る窒素酸化物除去用触
媒の製造装置によれば高い脱硝効率を示す窒素酸化物除
去用触媒や、水分が共存してもＮＯ2の生成を低下させ
ずに高い脱硝効率を示す窒素酸化物除去用触媒を製造す
ることができる。
媒の製造装置によれば高い脱硝効率を示す窒素酸化物除
去用触媒や、水分が共存してもＮＯ2の生成を低下させ
ずに高い脱硝効率を示す窒素酸化物除去用触媒を製造す
ることができる。
【００４１】
【実施例】以下、好ましい実施例を前述した図１の窒素
酸化物除去用触媒の製造装置を参照して詳細に説明す
る。
酸化物除去用触媒の製造装置を参照して詳細に説明す
る。
【００４２】（実施例１）まず、ピッチ系炭素繊維８ｇ
を図１に示す電気炉３内に仕込み、第１開閉弁６を開
き、第２開閉弁８を閉じた状態で賦活ガス供給装置１か
ら二酸化炭素ガスを第１配管４および合流配管５を通し
て前記電気炉３内に１Ｌ／ｍｉｎの流量で２時間ないし
３時間供給してピッチ系炭素繊維を賦活処理を行なっ
た。この時の前記炭素繊維の加熱温度を９００℃に設定
した。
を図１に示す電気炉３内に仕込み、第１開閉弁６を開
き、第２開閉弁８を閉じた状態で賦活ガス供給装置１か
ら二酸化炭素ガスを第１配管４および合流配管５を通し
て前記電気炉３内に１Ｌ／ｍｉｎの流量で２時間ないし
３時間供給してピッチ系炭素繊維を賦活処理を行なっ
た。この時の前記炭素繊維の加熱温度を９００℃に設定
した。
【００４３】次いで、前記賦活ガス供給装置１からの二
酸化炭素ガスの供給を停止し、第１開閉弁６を閉じ、第
２開閉弁８を開いた状態で窒素パージで前記電気炉３内
のガスを置換した後、還元性ガス供給装置２から水素が
１容積％の濃度で含有される窒素バッファを第２配管７
および合流配管５を通して前記電気炉３内に２００ｍＬ
／ｍｉｎの流量で６時間供給して賦活された炭素繊維４
ｇを還元処理した。この時の賦活処理されたピッチ系炭
素繊維の加熱温度を３５０℃に設定した。
酸化炭素ガスの供給を停止し、第１開閉弁６を閉じ、第
２開閉弁８を開いた状態で窒素パージで前記電気炉３内
のガスを置換した後、還元性ガス供給装置２から水素が
１容積％の濃度で含有される窒素バッファを第２配管７
および合流配管５を通して前記電気炉３内に２００ｍＬ
／ｍｉｎの流量で６時間供給して賦活された炭素繊維４
ｇを還元処理した。この時の賦活処理されたピッチ系炭
素繊維の加熱温度を３５０℃に設定した。
【００４４】賦活処理および水素還元処理を施した実施
例１のピッチ系炭素繊維と賦活処理のみを施したピッチ
系炭素繊維（比較例１）の表面状態の変化を見るため
に、ＸＰＳ測定を行った。図２は、Ｃ１ｓスペクトルの
結果であり、図３はＯ１ｓスペクトルの結果である。
例１のピッチ系炭素繊維と賦活処理のみを施したピッチ
系炭素繊維（比較例１）の表面状態の変化を見るため
に、ＸＰＳ測定を行った。図２は、Ｃ１ｓスペクトルの
結果であり、図３はＯ１ｓスペクトルの結果である。
【００４５】図２から明らかなように賦活処理および水
素還元処理を施した実施例１のピッチ系炭素繊維と賦活
処理のみを施した比較例１のピッチ系炭素繊維とでは、
２９０．９ｅＶのピークに差が見られる。このピーク
は、炭素グラファイト構造のπ−π*のシェークアップ
に由来し、実施例１のピッチ系炭素繊維は比較例１のピ
ッチ系炭素繊維に比べて強度が増加していることがわか
る。つまり、実施例１のピッチ系炭素繊維ではＣ＝Ｃ基
が増えていることを示している。
素還元処理を施した実施例１のピッチ系炭素繊維と賦活
処理のみを施した比較例１のピッチ系炭素繊維とでは、
２９０．９ｅＶのピークに差が見られる。このピーク
は、炭素グラファイト構造のπ−π*のシェークアップ
に由来し、実施例１のピッチ系炭素繊維は比較例１のピ
ッチ系炭素繊維に比べて強度が増加していることがわか
る。つまり、実施例１のピッチ系炭素繊維ではＣ＝Ｃ基
が増えていることを示している。
【００４６】また、図３では比較例１、実施例１とも、
５３３．３ｅＶと５３１ｅＶにピークが存在するが、５
３３．３ｅＶのピークは高温まで安定なエーテル結合に
由来し、５３１ｅＶのピークは他のＯＨ基，ＣＯＯＨ基
のような含酸素官能基に由来する。実施例１では、５３
１ｅＶのピーク強度の低下がはっきり現れており、含酸
素官能基が減少したことがわかる。
５３３．３ｅＶと５３１ｅＶにピークが存在するが、５
３３．３ｅＶのピークは高温まで安定なエーテル結合に
由来し、５３１ｅＶのピークは他のＯＨ基，ＣＯＯＨ基
のような含酸素官能基に由来する。実施例１では、５３
１ｅＶのピーク強度の低下がはっきり現れており、含酸
素官能基が減少したことがわかる。
【００４７】＜脱硝効率の評価＞前述した賦活処理およ
び水素還元処理を施した実施例１のピッチ系炭素繊維と
賦活処理のみを施した比較例１のピッチ系炭素繊維をそ
れぞれ固定床流通型装置を用いて下記条件下でＮＯ消費
率を測定した。その結果を下記表１に示す。
び水素還元処理を施した実施例１のピッチ系炭素繊維と
賦活処理のみを施した比較例１のピッチ系炭素繊維をそ
れぞれ固定床流通型装置を用いて下記条件下でＮＯ消費
率を測定した。その結果を下記表１に示す。
【００４８】（脱硝条件） 試料量；全量２ｇ（Ｗ／Ｆ＝５×１０-3ｇ・ｍｉｎ／ｃ
ｃ）、 反応温度；２０℃、 ガス全流量；４００ｃｃ／ｍｉｎ（Ａｒバッファー）、 酸素濃度；１０％、 Ｎｏ濃度；１０ｐｐｍ、 アンモニア濃度；２０ｐｐｍ。
ｃ）、 反応温度；２０℃、 ガス全流量；４００ｃｃ／ｍｉｎ（Ａｒバッファー）、 酸素濃度；１０％、 Ｎｏ濃度；１０ｐｐｍ、 アンモニア濃度；２０ｐｐｍ。
【００４９】
【表１】
【００５０】前記表１から明らかなように賦活処理およ
び水素還元処理を施した実施例１のピッチ系炭素繊維
（窒素酸化物除去用触媒）は、反応開始から１６時間以
降において、比較例１（賦活処理のみを施したピッチ系
炭素繊維を触媒として利用）に比べてＮＯ消費率が高
く、脱硝率が向上されていることがわかった。
び水素還元処理を施した実施例１のピッチ系炭素繊維
（窒素酸化物除去用触媒）は、反応開始から１６時間以
降において、比較例１（賦活処理のみを施したピッチ系
炭素繊維を触媒として利用）に比べてＮＯ消費率が高
く、脱硝率が向上されていることがわかった。
【００５１】すなわち、表面官能基とその近傍の反応で
Ｃ＝Ｃ基は酸素共存下のＮＯによりＮＯ2基やＣ＝Ｏ基
を生じ、少なくとも生成したニトロ基はアンモニアと反
応し、ニトロソアミン（−Ｎ−Ｎ＝Ｏ）の結合を経て脱
硝反応を起こす。Ｃ＝Ｏ基には、ＮＯが配位し、Ｃ−Ｏ
−ＮＯのような構造を作る。Ｃ＝Ｏ基により生成したＣ
−Ｏ−ＮＯが、新たに酸化活性点となって、さらにＮＯ
とＯ2の反応を促進する。従って、Ｃ＝Ｏ基の存在は、Ｃ
−Ｏ−ＮＯの生成を経由して、ＮＯ及びＯ2が存在する
ときは、酸化活性点となり、更なるＮｏ2を生じさせる。
さらにアンモニアが存在すると、Ｃ−Ｏ−ＮＯにより生
じたＮＯ2、あるいはＣ−Ｏ−ＮＯ自体と反応すること
で、Ｃ＝Ｏ基は脱硝反応の活性点となる。実施例１では
ＯＨ基やＣＯＯＨ基といった含酸素官能基を減少させ、
活性点となるＣ＝Ｃ基を増加させたことで、一酸化窒素
をより効率よく除去できる。
Ｃ＝Ｃ基は酸素共存下のＮＯによりＮＯ2基やＣ＝Ｏ基
を生じ、少なくとも生成したニトロ基はアンモニアと反
応し、ニトロソアミン（−Ｎ−Ｎ＝Ｏ）の結合を経て脱
硝反応を起こす。Ｃ＝Ｏ基には、ＮＯが配位し、Ｃ−Ｏ
−ＮＯのような構造を作る。Ｃ＝Ｏ基により生成したＣ
−Ｏ−ＮＯが、新たに酸化活性点となって、さらにＮＯ
とＯ2の反応を促進する。従って、Ｃ＝Ｏ基の存在は、Ｃ
−Ｏ−ＮＯの生成を経由して、ＮＯ及びＯ2が存在する
ときは、酸化活性点となり、更なるＮｏ2を生じさせる。
さらにアンモニアが存在すると、Ｃ−Ｏ−ＮＯにより生
じたＮＯ2、あるいはＣ−Ｏ−ＮＯ自体と反応すること
で、Ｃ＝Ｏ基は脱硝反応の活性点となる。実施例１では
ＯＨ基やＣＯＯＨ基といった含酸素官能基を減少させ、
活性点となるＣ＝Ｃ基を増加させたことで、一酸化窒素
をより効率よく除去できる。
【００５２】（実施例２）まず、実施例１と同様な方法
により賦活処理したピッチ系炭素繊維５ｇを、Ｐｄ塩化
物水溶液１Ｌに浸し、５日間放置した後、引き上げて、１
Ｌの純水を４回にわけて濾過洗浄した。含浸液は、Ｐｄ
Ｃｌ2を１Ｍ塩酸水溶液を用いて溶解した５ｍＭのＰｄ
塩化物水溶液を用いた。つづいて、５０℃の空気中で２
４時間乾燥させた。
により賦活処理したピッチ系炭素繊維５ｇを、Ｐｄ塩化
物水溶液１Ｌに浸し、５日間放置した後、引き上げて、１
Ｌの純水を４回にわけて濾過洗浄した。含浸液は、Ｐｄ
Ｃｌ2を１Ｍ塩酸水溶液を用いて溶解した５ｍＭのＰｄ
塩化物水溶液を用いた。つづいて、５０℃の空気中で２
４時間乾燥させた。
【００５３】次いで、得られたＰｄ担持賦活処理ピッチ
系炭素繊維を図１に示す電気炉３内に仕込み、第１開閉
弁６を閉じ、第２開閉弁８を開いた状態で還元性ガス供
給装置２から水素が１容積％の濃度で含有される窒素バ
ッファを第２配管７および合流配管５を通して前記電気
炉３内に２００ｍＬ／ｍｉｎの流量で６時間供給して賦
活された炭素繊維４ｇを還元処理した。この時の賦活処
理されたピッチ系炭素繊維の加熱温度を３５０℃に設定
した。
系炭素繊維を図１に示す電気炉３内に仕込み、第１開閉
弁６を閉じ、第２開閉弁８を開いた状態で還元性ガス供
給装置２から水素が１容積％の濃度で含有される窒素バ
ッファを第２配管７および合流配管５を通して前記電気
炉３内に２００ｍＬ／ｍｉｎの流量で６時間供給して賦
活された炭素繊維４ｇを還元処理した。この時の賦活処
理されたピッチ系炭素繊維の加熱温度を３５０℃に設定
した。
【００５４】得られた賦活処理および水素還元処理が施
されたＰｄ担持ピッチ系炭素繊維の表面状態の変化を見
るために、ＸＰＳ測定を行った。その結果を図４（Ｐｄ
３ｄスペクトル）に示す。
されたＰｄ担持ピッチ系炭素繊維の表面状態の変化を見
るために、ＸＰＳ測定を行った。その結果を図４（Ｐｄ
３ｄスペクトル）に示す。
【００５５】図４から明らかなようにメインピーク（３
３５．３ｅＶ）とスピン軌道相互作用による分裂ピーク
（３４１ｅＶ付近）が観測され、メインピークの結合エ
ネルギー値から、Ｐｄは金属状態（３３５．１ｅＶ）で
あり、酸化されていないことがわかった。また、表面での
炭素原子数との比、Ｐｄ／Ｃは０．１％であった。
３５．３ｅＶ）とスピン軌道相互作用による分裂ピーク
（３４１ｅＶ付近）が観測され、メインピークの結合エ
ネルギー値から、Ｐｄは金属状態（３３５．１ｅＶ）で
あり、酸化されていないことがわかった。また、表面での
炭素原子数との比、Ｐｄ／Ｃは０．１％であった。
【００５６】水の有無による前記賦活処理および水素還
元処理が施されたＰｄ担持ピッチ系炭素繊維のＮＯxの
吸着量変化をさらに詳細に調べるために、ＮＯ＋Ｏ2（＋
Ｈ2Ｏ）の流通後、ＴＰＤ試験を実施した。前述した比較
例１の結果を図５に、実施例２の結果を図６にそれぞれ
示す。ＮＯ2（Ｍ／Ｚ＝４６）のＴＰＤ挙動は、ＮＯと
ほぼ同じであった。図５および図６から明らかなように
実施例２の賦活処理および水素還元処理が施されたＰｄ
担持ピッチ系炭素繊維の脱離挙動は、賦活処理のみを施
したピッチ系炭素繊維（比較例１）と大きく異なる。す
なわち、図６に示す実施例２では、ＮＯの脱離ピークが、
１５０℃と２４０℃に観測されるが、図５に示す比較例
１では１５０℃のピークしか見られないことがわかる。
よって、２４０℃のピークはＰｄに吸着した窒素酸化物
によるもので、水が共存すると１５０℃のピーク強度は
減少するが、２４０℃のピーク強度はほとんど変わらな
い。水の共存下でも強度が減少しないことから、Ｐｄへの
窒素酸化物の吸着は水に阻害されないことがわかる。 ＜脱硝効率の評価＞前述した実施例２の賦活処理および
水素還元処理が施されたＰｄ担持ピッチ系炭素繊維およ
び比較例１の賦活処理のみを施したピッチ系炭素繊維を
それぞれ水が共存された固定床流通型装置を用いて下記
条件下でＮＯ消費率を測定した。その結果を下記表２に
示す。
元処理が施されたＰｄ担持ピッチ系炭素繊維のＮＯxの
吸着量変化をさらに詳細に調べるために、ＮＯ＋Ｏ2（＋
Ｈ2Ｏ）の流通後、ＴＰＤ試験を実施した。前述した比較
例１の結果を図５に、実施例２の結果を図６にそれぞれ
示す。ＮＯ2（Ｍ／Ｚ＝４６）のＴＰＤ挙動は、ＮＯと
ほぼ同じであった。図５および図６から明らかなように
実施例２の賦活処理および水素還元処理が施されたＰｄ
担持ピッチ系炭素繊維の脱離挙動は、賦活処理のみを施
したピッチ系炭素繊維（比較例１）と大きく異なる。す
なわち、図６に示す実施例２では、ＮＯの脱離ピークが、
１５０℃と２４０℃に観測されるが、図５に示す比較例
１では１５０℃のピークしか見られないことがわかる。
よって、２４０℃のピークはＰｄに吸着した窒素酸化物
によるもので、水が共存すると１５０℃のピーク強度は
減少するが、２４０℃のピーク強度はほとんど変わらな
い。水の共存下でも強度が減少しないことから、Ｐｄへの
窒素酸化物の吸着は水に阻害されないことがわかる。 ＜脱硝効率の評価＞前述した実施例２の賦活処理および
水素還元処理が施されたＰｄ担持ピッチ系炭素繊維およ
び比較例１の賦活処理のみを施したピッチ系炭素繊維を
それぞれ水が共存された固定床流通型装置を用いて下記
条件下でＮＯ消費率を測定した。その結果を下記表２に
示す。
【００５７】（脱硝条件） 試料量；全量２ｇ（Ｗ／Ｆ＝５×１０-3ｇ・ｍｉｎ／ｃ
ｃ）、 反応温度；２０℃、 相対湿度;５０％、 ガス全流量；４００ｃｃ／ｍｉｎ（Ａｒバッファー）、 酸素濃度；１０％、 Ｎｏ濃度；１０ｐｐｍ、 アンモニア濃度；２０ｐｐｍ。
ｃ）、 反応温度；２０℃、 相対湿度;５０％、 ガス全流量；４００ｃｃ／ｍｉｎ（Ａｒバッファー）、 酸素濃度；１０％、 Ｎｏ濃度；１０ｐｐｍ、 アンモニア濃度；２０ｐｐｍ。
【００５８】
【表２】
【００５９】前記表２から明らかなように実施例２の賦
活処理および水素還元処理が施されたＰｄ担持ピッチ系
炭素繊維（窒素酸化物除去用触媒）は、比較例１（賦活
処理のみを施したピッチ系炭素繊維を触媒として利用）
に比べては高いＮＯ消費率を維持していることがわか
る。
活処理および水素還元処理が施されたＰｄ担持ピッチ系
炭素繊維（窒素酸化物除去用触媒）は、比較例１（賦活
処理のみを施したピッチ系炭素繊維を触媒として利用）
に比べては高いＮＯ消費率を維持していることがわか
る。
【００６０】これは、賦活処理および水素還元処理が施
されたピッチ系炭素繊維上に担持したＰｄが他成分の存
在に影響されずにＮＯ分子を吸着する効果があり、ＮＯ
2の生成が水に阻害されないためである。
されたピッチ系炭素繊維上に担持したＰｄが他成分の存
在に影響されずにＮＯ分子を吸着する効果があり、ＮＯ
2の生成が水に阻害されないためである。
【００６１】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、室
温から１２０℃程度の低温でのＮＯの還元（分解）を高
効率に行うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製造方
法を提供できる。
温から１２０℃程度の低温でのＮＯの還元（分解）を高
効率に行うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製造方
法を提供できる。
【００６２】また、本発明によれば室温から１２０℃程
度の低温、更には水分共存条件でのＮＯの還元（分解）
を高効率に行うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製
造方法を提供できる。
度の低温、更には水分共存条件でのＮＯの還元（分解）
を高効率に行うことが可能な窒素酸化物除去用触媒の製
造方法を提供できる。
【００６３】さらに、本発明によれば前述した特性を有
する窒素酸化物除去用触媒を容易に製造することが可能
な窒素酸化物除去用触媒の製造装置を提供できる。
する窒素酸化物除去用触媒を容易に製造することが可能
な窒素酸化物除去用触媒の製造装置を提供できる。
【図１】本発明に係る窒素酸化物除去用触媒の製造装置
を示す概略図。
を示す概略図。
【図２】炭素のグラファイト化（Ｃ＝Ｃ基の増加）が進
むことを説明するめの、実施例１と比較例１のＣ１ｓＸ
ＰＳスペクトル図。
むことを説明するめの、実施例１と比較例１のＣ１ｓＸ
ＰＳスペクトル図。
【図３】含酸素官能基（ＯＨ基及びＣＯＯＨ基）の減少
を説明する為の、実施例１と比較例１のＯ１ｓＸＰＳス
ペクトル図。
を説明する為の、実施例１と比較例１のＯ１ｓＸＰＳス
ペクトル図。
【図４】実施例２のＰｄが酸化されていない事を説明す
るためのＰｄ３ｄのＸＰＳスペクトル図。
るためのＰｄ３ｄのＸＰＳスペクトル図。
【図５】比較例１の水分がある時と無いときでのＮＯ脱
離特性を示すための昇温脱離測定スペクトル図。
離特性を示すための昇温脱離測定スペクトル図。
【図６】実施例２の水分がある時と無いときでのＮＯ脱
離特性を示すための昇温脱離測定スペクトル図。
離特性を示すための昇温脱離測定スペクトル図。
１…賦活ガス供給装置、 ２…還元性ガス供給装置、 ３…電気炉、 ６，８…開閉弁。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０１Ｂ 31/10 Ｂ０１Ｄ 53/36 １０２Ｆ Ｄ０６Ｍ 11/76 Ｄ０６Ｍ 11/00 Ｂ 11/83 (72)発明者 野崎 未央 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地１ 三菱重工業株式会社基盤技術研究所内 (72)発明者 田浦 昌純 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地１ 三菱重工業株式会社基盤技術研究所内 Ｆターム(参考） 4D048 AA06 AB02 BA05X BA05Y BA31X BB08 BD02 BD03 4G046 HA07 HC09 HC10 4G069 AA01 AA08 BA08A BA08B BA08C BC72B CA08 CA13 EA03X EA03Y FA01 FA08 FB44 FB79 4L031 AA27 AB01 BA04 CA03 CA06 DA00
Claims (3)
- 【請求項１】 炭素繊維を二酸化炭素および水蒸気から
選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処理して前記炭素
繊維表面の比表面積を増大させる工程と、 前記賦活処理された炭素繊維を還元処理して前記賦活処
理により表面に導入された含酸素官能基を除去し、活性
点であるＣ＝Ｃ基を増加させる工程とを具備したことを
特徴とする窒素酸化物除去用触媒の製造方法。 - 【請求項２】 炭素繊維を二酸化炭素および水蒸気から
選ばれる少なくとも１つの賦活ガスで処理して前記炭素
繊維表面の比表面積を増大させる工程と、 前記賦活処理後の炭素繊維に金属を担持させた後、還元
処理して前記賦活処理により表面に導入された含酸素官
能基を除去し、活性点であるＣ＝Ｃ基を増加させる工程
とを具備したことを特徴とする窒素酸化物除去用触媒の
製造方法。 - 【請求項３】 炭素繊維が設置される反応装置と、 前記反応装置に二酸化炭素および水蒸気から選ばれる少
なくとも１つの賦活ガスを供給するための賦活ガス供給
手段と、 前記反応装置に還元性ガスを供給するための還元性ガス
供給手段と、 前記各供給手段からの賦活ガスおよび還元性ガスをそれ
ぞれ前記反応装置に供給するための切替手段とを具備し
たことを特徴とする窒素酸化物除去用触媒の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34647299A JP2001162175A (ja) | 1999-12-06 | 1999-12-06 | 窒素酸化物除去用触媒の製造方法およびその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34647299A JP2001162175A (ja) | 1999-12-06 | 1999-12-06 | 窒素酸化物除去用触媒の製造方法およびその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001162175A true JP2001162175A (ja) | 2001-06-19 |
Family
ID=18383667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34647299A Withdrawn JP2001162175A (ja) | 1999-12-06 | 1999-12-06 | 窒素酸化物除去用触媒の製造方法およびその製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001162175A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002180379A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 炭素繊維及びその製造方法 |
| JP2009149460A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Osaka Gas Co Ltd | 炭素質材料の表面改質方法、炭素質材料又は活性炭素繊維 |
| JP2014159663A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-09-04 | Japan Fine Ceramics Center | 過熱水蒸気処理炭素繊維及びその製造方法 |
| CN104254385A (zh) * | 2011-11-14 | 2014-12-31 | Cppe碳过程及植物工程公司 | 用于将二氧化碳及氮氧化物从废气作催化去除的方法 |
| CN105399195A (zh) * | 2015-12-01 | 2016-03-16 | 清华大学深圳研究生院 | 一种利用氧化石墨烯催化臭氧的水处理方法 |
| KR101937920B1 (ko) * | 2011-12-28 | 2019-01-14 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 산소 함유 관능기 제거방법 |
-
1999
- 1999-12-06 JP JP34647299A patent/JP2001162175A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US9375681B2 (en) | 2011-11-14 | 2016-06-28 | Cppe Carbon Process & Plant Engineering S.A. | Process for the catalytic removal of carbon dioxide, NOx from exhaust gases |
| KR101937920B1 (ko) * | 2011-12-28 | 2019-01-14 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 산소 함유 관능기 제거방법 |
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