JP2001158758A - 光学活性化合物およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】光学活性なｃｉｓ−４−クミルオキシ−２−シ
クロベンテン−１−オール、およびそれを効率的に大量
合成できる製造方法を提供する。 【解決手段】式１または２の光学活性ｃｉｓ−４−クミ
ルオキシ−２−シクロペンテン−１−オール、およびそ
の製造方法であってラセミ体のｃｉｓ−４−クミルオキ
シ−２−シクロペンテン−１−オールを加水分解酵素の
存在下カルボン酸エステルで処理しエステル交換する方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プロスタグランジ
ン等の生物活性化合物の有用中間体である、ｃｉｓ−４
−クミルオキシ−２−シクロペンテン−１−オール、そ
の誘導体およびそれらの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、光学活性な天然物および医薬品の
合成において、複数の水酸基を有するキラルアルコール
類は、両対称体共に極めて広い有用な用途があり注目を
集めている。その中でも、一方の水酸基が保護された、
１，４−ジヒドロキシ−２−シクロペンテンは、プロス
タグランジンや多くの生理活性物質の合成に重要なビル
ディングブロックとして用いられている。Ｓｔｏｒｋら
は、ラセミ体の４−クミルオキシ−２−シクロペンテン
−１−オールからプロスタグランジンの全合成を行った
（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９７５，９７，６
２６０）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法はシ
ス／トランス体の混合物から出発しているため、必要な
立体配置を持つ化合物の単離操作が必要な上、目的物の
収率が著しく低下するという問題があった。このことか
ら、光学的に純粋なｃｉｓ−４−クミルオキシ−２−シ
クロペンテン−１−オール、およびその誘導体の必要性
は明らかであったが、それらはこれまで開示されていな
かった。

【０００４】本発明者は、ラセミ体の１，４−ジヒドロ
キシ−２−シクロペンタジエンの一方の水酸基が、ｔ−
ブチル基で保護された化合物の効率的合成法を既に見出
している（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ １９８１，１
６，６０５）。さらに、この化合物はベンゼン中加水分
解酵素存在下、酢酸ビニルとのエステル交換によって光
学分割され、キラルなアセテートとアルコールを好収率
で与えることも明らかにした（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １
９９６，１１０１）。しかし、この方法は環境的に好ま
しくない溶媒を用いなければならず、また生成物の光学
純度は必ずしも満足のいくものではなかった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記の問題
を解決するため鋭意検討を行った結果、ラセミ体のｃｉ
ｓ−４−クミルオキシ−２−シクロペンテン−１−オー
ルを、加水分解酵素の存在下、カルボン酸エステルまた
はカルボン酸で処理し、エステル交換もしくはエステル
化させることで、光学活性なｃｉｓ−４−クミルオキシ
−２−シクロペンテン−１−オールを、効率的かつ大量
合成することに初めて成功した。また、本発明に記載の
光学活性アルコールから、プロスタグランジン中間体で
ある、光学活性ラクトンへの新規かつ効率的合成法も見
出し本発明を完成した。

【０００６】即ち、本発明は下記の（１）〜（１０）で
構成される。（１）式（１）

【化１７】 で示される光学活性化合物。

【０００７】（２）式（２）

【化１８】 （式中、Ｒ¹は水素原子、または炭素数が１〜１０の直
鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を示し、そのアルキル基
中の任意の水素原子はハロゲン原子で置換されていても
よい。）で示される光学活性化合物。

【０００８】（３）Ｒ¹がメチル基であることを特徴と
する、前記（２）項に記載の光学活性化合物。

【０００９】（４）式（３）

【化１９】 で示される光学活性化合物。

【００１０】（５）式（４）

【化２０】 で示される、（±）−ｃｉｓ−４−クミルオキシ−２−
シクロペンテン−１−オールに、一般式（５）

【化２１】 （式中、Ｒ¹は水素原子、または炭素数１〜１０の直鎖
もしくは分岐鎖のアルキル基を示し、Ｒ²は水素原子、
炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、ま
たは炭素数２〜１０の直鎖もしくは分岐鎖のアルケニル
基を示し、これらのアルキル基またはアルケニル基中の
任意の水素原子はハロゲン原子で置換されていても良
い。）で示されるカルボン酸エステルまたはカルボン酸
の存在下、加水分解酵素を作用させることを特徴とす
る、前記式（１）で示される光学活性化合物、および前
記式（２）で示される光学活性化合物の製造方法。

【００１１】（６）加水分解酵素がリパーゼであること
を特徴とする、前記（５）項に記載の方法。

【００１２】（７）Ｒ¹がメチル基、Ｒ²がビニル基であ
ることを特徴とする、前記（５）または（６）項に記載
の光学活性化合物の製造方法。

【００１３】（８）下記（ａ１）および（ａ２）の工程
を経ることを特徴とする、式（６）

【化２２】 で示される（−）−オキサビシクロ［３．３．０］オク
ト−６−エン−３−オンの製造方法。

【００１４】（ａ１）前記（１）項に記載の式（１）で
示される化合物を、ジメチルアセトアミドジメチルアセ
タールの存在下で加熱して、式（ａ−１）

【化２３】 で示される化合物を得る工程。

【００１５】（ａ２）工程（ａ１）で得られた化合物
（ａ−１）を溶媒中において酸で処理し、式（６）で示
される化合物を生成させる工程。

【００１６】（９）下記（ｂ１）〜（ｂ５）の工程を経
ることを特徴とする、前記式（６）で示される化合物の
製造方法。

【００１７】（ｂ１）前記（２）項に記載の式（２）で
示される化合物を、アルコール中アルカリで分解して、
前記式（３）で示される化合物とする工程。

【００１８】（ｂ２）工程（ｂ１）で得られた式（３）
で示される化合物の水酸基を保護して、式（ｂ−２）

【化２４】 （式中、Ｘは保護基を示す。）で示される化合物とする
工程。

【００１９】（ｂ３）工程（ｂ２）で得られた式（ｂ−
２）で示される化合物を、液体アンモニア中金属ナトリ
ウムで処理して、式（ｂ−３）

【化２５】 （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）で示される化合
物とする工程。

【００２０】（ｂ４）工程（ｂ３）で得られた式（ｂ−
３）で示される化合物を、ジメチルアセトアミドジメチ
ルアセタールの存在下で加熱して、式（ｂ−４）

【化２６】 （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）で示される化合
物を得る工程。

【００２１】（ｂ５）工程（ｂ４）で得られた式（ｂ−
４）で示される化合物を溶媒中において酸で処理し、式
（６）で示される化合物を生成させる工程。

【００２２】（１０）保護基がｔ−ブチルジメチルシリ
ル基であることを特徴とする、前記（９）項に記載の方
法。

【００２３】

【発明の実施の形態】本発明の光学活性アルコールおよ
びそのカルボン酸エステルは、ジシクロペンタジエンか
ら公知の方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９７
５，９７，６２６０）で得られた、（±）−４−クミル
オキシ−２−シクロペンテノンを、塩化セリウム存在下
水素化ホウ素ナトリウムで還元し、得られた（±）−ｃ
ｉｓ−４−クミルオキシ−２−シクロペンテノン−１−
オールを、加水分解酵素によるエステル交換反応で光学
分割して製造することができる。

【００２４】本発明の光学活性化合物およびその製造方
法において、式（２）のＲ¹で示される部位は、水素原
子、または炭素数が１〜１０の直鎖もしくは分岐鎖のア
ルキル基であれば特に限定されないが、具体的には、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、クロロメ
チル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基が挙げ
られる。ここで、最も好ましいのはメチル基である。

【００２５】本発明の光学活性化合物の製造方法におい
て、一般式（５）中のＲ²で示される部位は、水素原
子、炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル
基、または炭素数２〜１０の直鎖もしくは分岐鎖のアル
ケニル基であり、具体的には水素原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、クロロメチル基、ジクロロメチル
基、トリクロロメチル基、ビニル基、２，２，２−トリ
クロロエチル基等が挙げられる。ここで、最も好ましい
のはビニル基である。

【００２６】本発明の光学活性化合物の製造方法におい
て用いられる酵素は、加水分解酵素であれば特に限定さ
れないが、具体的には、リパーゼ、エステラーゼ、プロ
テアーゼ、リポプロテインリパーゼ等を挙げることがで
き、リパーゼが好ましい。これらの加水分解酵素の起源
は動物由来、植物由来、菌由来のいずれでもよく、市販
の固定化物でも、抽出物を乾燥させたものでも良い。そ
の中で好ましいのは、シュウドモナス菌、カンジダ菌、
パンクレアチン由来の物である。

【００２７】本発明の光学活性化合物の製造方法におい
て用いられる溶媒は、特に限定されないが、具体的に
は、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、トルエン等
の炭化水素系、メタノール、エタノール、プロパノール
等のアルコール系、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン系、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル系、およびジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン性極性溶媒が挙げられる。この
中で好ましいのは、ｔ−ブチルメチルエーテルである。

【００２８】反応温度は０〜１００℃が適当であり、好
ましくは２０〜４０℃である。反応時間は１〜１０００
時間であり、好ましくは２〜１０時間である。

【００２９】下記は、本発明の光学活性化合物（１）
（＋）−ｃｉｓ−４−クミルオキシ−２−シクロペンテ
ン−１−オール、および（２）（−）−ｃｉｓ−４−ク
ミルオキシ−２−シクロペンテン−１−オールのカルボ
ン酸エステルの製造方法を示す反応式である。

【００３０】

【化２７】 即ち、光学活性化合物（１）および（２）は、ラセミ体
（４）をｔ−ブチルメチルエーテル中、室温でセライト
固定化リパーゼ（リパーゼＰＳ、シュードモナスｓｐ、
天野製薬）とカルボン酸エステル（５）で処理し、エス
テル交換反応後、生成物をシリカゲルカラムで分離して
得ることができる。

【００３１】次に、本発明の光学活性アルコール（１）
から、光学活性ラクトンである式（６）で示される化合
物へ導く製造方法について説明するが、その反応式を下
記に示す。

【化２８】

【００３２】即ち、最初の工程（ａ１）で、光学活性化
合物（１）をジメチルアセトアミドジメチルアセタール
の存在下、ジフェニルエーテル等の溶媒中で加熱して、
アミド化と転位を同時に起こさせる、いわゆるエッシェ
ンモーザー（Ｅｓｃｈｅｎｍｏｓｅｒ）反応によって、
（３Ｒ，４Ｓ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−クミルオキシ
シクロペンテニル−３−アセトアミド（ａ−１）とす
る。この工程で使用できる溶媒としては、上記のジフェ
ニルエーテルの他ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン、トルエン等の炭化水素系、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール系、アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン系、ジエチルエーテル、ジメチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル
系、およびジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒を
挙げることができる。反応温度は２００〜３００℃、好
ましくは２５０〜２８０℃であり、採用された温度によ
り反応時間が変化する。例えば２８０℃くらいであれば
３０分くらいの反応時間となるが、範囲としては１０分
〜２時間くらいである。

【００３３】次の工程（ａ２）において、前工程（ａ
１）で得られたアミド体（ａ−１）をジオキサン等の溶
媒中において酸で処理し、アミドの加水分解とＯ−クミ
ル基の脱離・分子内環化を起こさせると、式（６）で示
される（−）−オキサビシクロ［３．３．０］オクト−
６−エン−３−オンが得られる。この反応で用いること
ができる溶媒としては前記のジオキサンが好ましいが、
前工程（ａ１）の説明において挙げた溶媒を用いてもよ
い。酸としては希釈した鉱酸、例えば濃度１０％くらい
の塩酸が好ましいが、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸ピリジン塩などを水溶液として用いる
こともできる。温度は１０〜３０℃が好ましく、また反
応時間は温度によって変動するが１〜２４時間である。

【００３４】次に、本発明の光学活性アルコールのエス
テル誘導体（２）から、光学活性ラクトンである式
（６）で示される化合物へ導く製造方法について説明す
るが、その反応式を下記に示す。

【化２９】

【００３５】即ち、第１の工程（ｂ１）において、化合
物（２）をアルコール中アルカリで処理してエステル基
を分解し、モノヒドロキシ体、（−）−ｃｉｓ−４−ク
ミルオキシ−２−シクロペンテン−１−オール（３）と
する。アルコールとしてはメタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、イソプロパノール等を挙げることがで
き、アルカリとしては水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどを挙げることが
できる。

【００３６】第２の工程（ｂ２）において、工程（ｂ
１）で得られた化合物の水酸基を保護し、化合物（ｂ−
２）とする。保護基としては有機合成の分野においてヒ
ドロキシル基の保護に用いられる基から任意に選択する
ことができるが、そのような保護基としてトリメチルシ
リル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル基（以後、ＴＢＳと略記する。）、ｔ−ブチルジフェ
ニルシリル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメ
チル基などを挙げることができ、ＴＢＳが好ましい。

【００３７】第３の工程（ｂ３）において、工程（ｂ
２）で得られたジエーテル化合物（ｂ−２）を、液体ア
ンモニア中において金属ナトリウムで処理してモノヒド
ロキシ体（ｂ−３）とする。この反応でＴＢＳ基の方が
脱離することはない。

【００３８】第４の工程（ｂ４）において、工程（ｂ
３）で得られたモノヒドロキシ体（ｂ−３）を、ジメチ
ルアセトアミドジメチルアセタールの存在下溶媒中で加
熱して、アミド体（ｂ−４）とする。この工程において
用いる溶媒や、反応温度、反応時間などは前述の工程
（ａ１）の場合と同じでよい。

【００３９】第５の工程（ｂ５）において、工程（ｂ
４）で得られたアミド体（ｂ−４）を、前述の工程（ａ
２）と同様に溶媒中で酸処理することによって、加水分
解、分子内環化が起こり、目的の化合物（６）が得られ
る。この工程において用いる溶媒や、反応温度、反応時
間などは前述の工程（ａ２）の場合と同じでよい。

【００４０】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの例によって限定されるもの
ではない。以下に示される光学純度は、全てダイセル社
製キラルセルＯＤカラムを用いて、ＨＰＬＣ分析（溶出
液、イソプロパノール／ヘキサン＝１／２００）により
決定した。

【００４１】実施例１ 光学活性化合物（１）およびＲ¹がメチル基である光学
活性化合物（２）の製造 １００ｍｌのナスフラスコに、ｔ−ブチルメチルエーテ
ル３０ｍｌをとり、（±）−ｃｉｓ−４−クミルオキシ
−２−シクロペンテノン−１−オール１．０７１ｇ
（４．９１ｍｍｏｌ）と酢酸ビニル２．５ｍｌ、セライ
ト固定化リパーゼＰＳ１．０ｇを加え、室温で２時間攪
拌した。反応終了後酵素をろ別し、溶媒を減圧下留去し
た。残査をシリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝
１／２〜１／４）で精製し、（＋）−ｃｉｓ−４−クミ
ルオキシ−２−シクロペンテン−１−オール（１）５３
５ｍｇ（収率５０％）と、（−）−ｃｉｓ−１−アセト
キシ−４−クミルオキシ−２−シクロペンテン（２）５
４３ｍｇ（収率４３％）を得た。得られた化合物の光学
純度は、いずれも９９％ｅｅ以上であった。

【００４２】（＋）−ｃｉｓ−４−クミルオキシ−２−
シクロペンテン−１−オール：[a]_D ³¹ +27.52ー (c 1.1
1, CHCl₃ ). IR n max (neat) cm^-1 : 3410.¹ H-NMR (300MHz, CDCl₃) d : 1.56 (3H, s), 1.58 (3H,
s),1.61 (1H, ddd, J = 13.8, 7.2, 7.2 Hz), 2.57 (1
H, ddd, J = 13.8, 4.8, 4.8Hz), 4.05-4.12 (1H, m),
4.43-4.52 (1H, m), 5.83 (1H, ddd, J = 5.7, 1.5,1.5
Hz), 5.91 (1H, ddd, J = 5.7, 1.5, 1.5 Hz), 7.23-
7.48 (5H, m) . ¹³C-NMR (75MHz, CDCl₃ ) d : 28.64,
29.60, 43.94, 74.98, 76.20, 77.84, 126.18, 127.17,
128.32, 136.07, 136.17, 146.82. MS m/z : 203 (M + -Me). Exact mass calad for C13H1
5O2 (M + -Me) : 203.1072. Found : 203.1054. Anal.
Calcd. for C14H18O2 (M + ) : C, 77.03, H, 8.31. Fo
und : C, 76.59, H, 8.04.

【００４３】（−）−ｃｉｓ−１−アセトキシ−４−ク
ミルオキシ−２−シクロペンテン：[a]_D ²⁹ 62.02ー (c
0.98, CHCl₃). IR n max (neat) cm^-1 : 1738.¹ H-NMR (300MHz, CDCl₃) d :1.56(3H,s), 1.57 (3H,
s), 1.71 (1H, ddd, J =14.1, 4.8, 4.8 Hz), 2.04 (3
H, s), 2.66 (1H, ddd, J = 14.1, 7.5, 7.5 Hz),4.00-
4.17(1H, m), 5.32-5.38(1H, m), 5.86(1H, ddd, J =
6.0, 1.5, 1.5 Hz),5.94(1H, ddd, J = 6.0, 1.5, 1.5
Hz), 7.23-7.48 (5H, m).¹³ C-NMR (75MHz, CDCl₃) d :21.09, 28.61, 29.49, 4
0.36, 75.92, 76.96, 77.78, 126.12, 127.17, 128.31,
131.65, 138.15, 146.76, 171.06. MSm/z : 260(M+). Exact mass calad for C₁₆H₂₀O₃ (M
+):260.1412. Found : 260.1401. Anal. Calcd. for C16H20O3 (M+) : C, 73.82, H, 7.7
4. Found : C, 73.56, H, 7.79.

【００４４】実施例２ 式（６）の化合物の製造＜１＞ 溶媒としてジフェニルエーテル２０ｍｌを用い、（＋）
−ｃｉｓ−４−クミルオキシ−２−シクロペンテン−１
−オール（１）２．２０ｇ（１０．０８ｍｍｏｌ）とジ
メチルアセトアミドジメチルアセタール３．６７ｍｌ
（２．５１ｍｍｏｌ）とを混合し、２８０℃で３０分還
流下に反応させて、８４％の収率で３Ｒ，４Ｓ−Ｎ，Ｎ
−ジメチル−４−クミルオキシシクロペンチル−３−ア
セトアミド（［α］²⁸ _D −１４０．５７（ｃ１．０
８，ＣＨＣｌ₃））を得た。次いで、得られた化合物を
１０％塩酸およびジオキサンの混合物（１：１）中で室
温にて１２時間攪拌し、下記の物性を有する（−）−オ
キサビシクロ［３．３．０］オクト−６−エン−３−オ
ン（６）を８７％の反応収率で得た。

【００４５】mp 43-44 ℃. [a]_D ²⁹ -103.21°(c 1.02, MeOH). IR n max (neat) cm^-1 : 1772.¹ H-NMR (300MHz, CDCl₃ ) d : 2.37 (1H, dd, J = 18.
0, 1.8 Hz), 2.62-2.67 (2H, m), 2.72 (1H, dd, J = 1
9.0, 9.6 Hz), 3.43-3.50 (1H, m), 5.08 (1H, ddd, J
= 5.4, 5.4, 1.5 Hz), 5.53 (1H, ddd, J = 5.7, 4.2,
1.8 Hz), 5.74 (1H, ddd, J = 5.7, 4.5, 2.1 Hz).¹³ C-NMR (75MHz, CDCl₃ ) d : 33.03, 39.29, 45.36,
82.91, 129.62, 131.26,176.78. MS m/z : 124 (M + ). Exact mass calcd. for C7H8O2
(M + ) : 124.0524 Found : 124.0486.

【００４６】実施例３ 式（６）の化合物の製造＜２＞ （−）−ｃｉｓ−１−アセトキシ−４−クミルオキシ−
２−シクロペンテン（２）１０．１ｇ（３８．８ｍｍｏ
ｌ）をアルカリメタノール（Ｋ₂ＣＯ₃／ＭｅＯＨ）で処
理して、下記の物性データを有する（−）−ｃｉｓ−４
−クミルオキシ−２−シクロペンテン−１−オール
（３）を得た。 [α]_D ³¹ -27.43 (c1.01,CHCl₃) IR n max (neat) cm^-1 : 3410.¹ H-NMR (300MHz, CDCl₃) d : 1.56 (3H, s), 1.58 (3H,
s),1.61 (1H, ddd, J = 13.8, 7.2, 7.2 Hz), 2.57 (1
H, ddd, J = 13.8, 4.8, 4.8Hz), 4.05-4.12 (1H, m),
4.43-4.52 (1H, m), 5.83 (1H, ddd, J = 5.7, 1.5,1.5
Hz), 5.91 (1H, ddd, J = 5.7, 1.5, 1.5 Hz), 7.23-
7.48 (5H, m) . ¹³C-NMR (75MHz, CDCl₃ ) d : 28.64,
29.60, 43.94, 74.98, 76.20, 77.84, 126.18, 127.17,
128.32, 136.07, 136.17, 146.82. MS m/z : 203 (M + -Me). Exact mass calad for C13H1
5O2 (M + -Me) : 203.1072. Found : 203.1054. Anal.
Calcd. for C14H18O2 (M + ) : C, 77.03, H, 8.31. Fo
und : C, 76.59, H, 8.04.

【００４７】次に、得られた化合物（３）に、ＤＭＦ
（ジメチルホルムアミド）溶媒中イミダゾールの存在下
で、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリドを０℃−１８０
分反応させて、この化合物（３）の水酸基をｔ−ブチル
ジメチルシリル基で保護し、次いでアンモニアとＴＨＦ
（テトラヒドロフラン）中において金属ナトリウムで処
理して、モノヒドロキシ体（ｂ−３）（［α］_D ³⁰ −
２４．５３（１．５９，ＣＨ₂Ｃｌ₂））を８３％の収率
で得た。このモノヒドロキシ体（ｂ−３）を、ジフェニ
ルエーテル２０ｍｌ中で、ジメチルアセトアミドジメチ
ルアセタールと共に２８０℃で３０分加熱還流し、３
Ｒ，４Ｓ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシシクロペンテニル−３−アセトアミド（ｂ
−４）（［α］²⁷ _D −５６．５５（ｃ１．０１，ＣＨ
Ｃｌ₃））を７７％の収率で得た。この化合物を、１０
％塩酸とジオキサンの混合物（１：１）中で室温にて１
２時間攪拌し、８４％の収率で目的の化合物（６）を得
た。

【００４８】mp 43-44 ℃. [a]_D ²⁹ -103.21°(c 1.02, MeOH). IR n max (neat) cm^-1 : 1772.¹ H-NMR (300MHz, CDCl₃ ) d : 2.37 (1H, dd, J = 18.
0, 1.8 Hz), 2.62-2.67 (2H, m), 2.72 (1H, dd, J = 1
9.0, 9.6 Hz), 3.43-3.50 (1H, m), 5.08 (1H, ddd, J
= 5.4, 5.4, 1.5 Hz), 5.53 (1H, ddd, J = 5.7, 4.2,
1.8 Hz), 5.74 (1H, ddd, J = 5.7, 4.5, 2.1 Hz).¹³ C-NMR (75MHz, CDCl₃ ) d : 33.03, 39.29, 45.36,
82.91, 129.62, 131.26,176.78. MS m/z : 124 (M + ). Exact mass calcd. for C7H8O2
(M + ) : 124.0524 Found : 124.0486.

【００４９】

【発明の効果】本発明の光学活性アルコールおよびその
誘導体は、多くの生物活性および／または生理活性化合
物の中間体として、特にプロスタグランジン合成におけ
る出発原料として極めて有効である。本発明により、従
来のラセミ体またはシス／トランス混合物から出発する
のに比べて、工程数短縮、収率の向上が期待される。更
に光学活性ラクトン（−）−オキサビシクロ［３．３．
０］オクト−６−エン−３−オンの新規製造方法を提案
することができた。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（１） 【化１】 で示される光学活性化合物。
2. 【請求項２】式（２） 【化２】 （式中、Ｒ¹は水素原子、または炭素数が１〜１０の直
   鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を示し、そのアルキル基
   中の任意の水素原子はハロゲン原子で置換されていても
   よい。）で示される光学活性化合物。
3. 【請求項３】Ｒ¹がメチル基であることを特徴とする、
   請求項２に記載の光学活性化合物。
4. 【請求項４】式（３） 【化３】 で示される光学活性化合物。
5. 【請求項５】式（４） 【化４】 で示される、（±）−ｃｉｓ−４−クミルオキシ−２−
   シクロペンテン−１−オールに、一般式（５） 【化５】 （式中、Ｒ¹は水素原子、または炭素数１〜１０の直鎖
   もしくは分岐鎖のアルキル基を示し、Ｒ²は水素原子、
   炭素数１〜１０の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、ま
   たは炭素数２〜１０の直鎖もしくは分岐鎖のアルケニル
   基を示し、これらのアルキル基またはアルケニル基中の
   任意の水素原子はハロゲン原子で置換されていても良
   い。）で示されるカルボン酸エステルまたはカルボン酸
   の存在下、加水分解酵素を作用させることを特徴とす
   る、式（１） 【化６】 で示される光学活性化合物、および式（２） 【化７】 （式中、Ｒ¹は前記と同じ意味を示す。）で示される光
   学活性化合物の製造方法。
6. 【請求項６】加水分解酵素がリパーゼであることを特徴
   とする、請求項５に記載の方法。
7. 【請求項７】Ｒ¹がメチル基、Ｒ²がビニル基であること
   を特徴とする、請求項５または６に記載の方法。
8. 【請求項８】下記（ａ１）および（ａ２）の工程を経る
   ことを特徴とする、式（６） 【化８】 で示される（−）−オキサビシクロ［３．３．０］オク
   ト−６−エン−３−オンの製造方法。 （ａ１）請求項１に記載の式（１） 【化９】 で示される化合物を、ジメチルアセトアミドジメチルア
   セタールの存在下で加熱して、式（ａ−１） 【化１０】 で示される化合物を得る工程。 （ａ２）工程（ａ１）で得られた化合物（ａ−１）を溶
   媒中において酸で処理し、式（６）で示される化合物を
   生成させる工程。
9. 【請求項９】下記（ｂ１）〜（ｂ５）の工程を経ること
   を特徴とする、式（６） 【化１１】 で示される化合物の製造方法。 （ｂ１）請求項２に記載の式（２） 【化１２】 （式中、Ｒ¹は水素原子、または炭素数が１〜１０の直
   鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を示し、そのアルキル基
   中の任意の水素原子はハロゲン原子で置換されていても
   よい。）で示される化合物を、アルコール中アルカリで
   分解して、式（３） 【化１３】 で示される化合物とする工程。 （ｂ２）工程（ｂ１）で得られた式（３）で示される化
   合物の水酸基を保護して、式（ｂ−２） 【化１４】 （式中、Ｘは保護基を示す。）で示される化合物とする
   工程。 （ｂ３）工程（ｂ２）で得られた式（ｂ−２）で示され
   る化合物を、液体アンモニア中金属ナトリウムで処理し
   て、式（ｂ−３） 【化１５】 （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）で示される化合
   物とする工程。 （ｂ４）工程（ｂ３）で得られた式（ｂ−３）で示され
   る化合物を、ジメチルアセトアミドジメチルアセタール
   の存在下で加熱して、式（ｂ−４） 【化１６】 （式中、Ｘは前記と同じ意味を示す。）で示される化合
   物を得る工程。 （ｂ５）工程（ｂ４）で得られた式（ｂ−４）で示され
   る化合物を溶媒中において酸で処理し、式（６）で示さ
   れる化合物を生成させる工程。
10. 【請求項１０】保護基がｔ−ブチルジメチルシリル基で
    あることを特徴とする、請求項９に記載の方法。