JP2001148285A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本体の大型化を防ぎ、高周波のエネルギーロ
スを抑えて被加熱物を高効率でかつ均一に加熱するので
きる清掃性のよい高周波加熱装置を提供する。 【解決手段】 内部に加熱室１を有し、一方の側に高周
波発振器３を備え、加熱室１の側板１ａに第１の給電口
２１が設けられた本体と、第１の給電口２１に連通し高
周波発振器３からの高周波を加熱室１に伝搬する第１の
導波管２２と、加熱室１の第１の給電口２１の上方に設
置され加熱室１の底板１ｂとの間に第１の導波管２１に
連通する第２の導波管２５を形成する載置台２３と、載
置台２３に設けられ高周波を加熱室１に放射する第２の
給電口２７とを備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、加熱室内に設置さ
れた被加熱物の載置台の下部に導波管の一部と給電口を
設け、加熱室内の下部から高周波を照射して被加熱物を
高効率で加熱する高周波加熱装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図１３は従来の高周波加熱装置（従来例
１）の要部の縦断面図である。図において、１は前面側
に開口部を有する高周波加熱装置の本体（図示せず）内
に形成されたほぼ箱形の加熱室で、前面側が開口されて
おり、右側板１ａの上部および下部には給電口２が設け
られている。なお、本体の前面部側には、ヒンジ部（図
示せず）によって開閉自在に取り付けられたドア（図示
せず）が設けられており、本体の開口部および加熱室１
の開口部を閉塞する。また、本体１の右側の前面には、
加熱調理を行うための表示部および装置部からなる操作
パネル（図示せず）が設けられている。

【０００３】３は加熱室１の一方の側、ここでは右側に
設けられた高周波の発振源である高周波発振器、４は高
周波発振器３を制御する制御部、５は高周波発振器３と
加熱室１の右側板１ａとの間に設けられ、給電口２に連
通する導波管で、高周波発振器３からの高周波を加熱室
１に送出する。

【０００４】６は被加熱物、７は被加熱物６が載置され
る平面形状がほぼ円形状の載置台で、例えばガラス等の
低誘電率材料によって構成されている。８は金属材料に
よって構成され、加熱室１の底板１ｂの近傍に回転可能
に設けられて載置台７を支持する平面形状がほぼ円形状
のロータリプレートで、加熱室１の下部に設けられたモ
ータ９にその軸９ａを介して連結されている。１０は加
熱室１の天板１ｃの上部に設けられたオーブン用の上ヒ
ータ、１１は加熱室１の底板１ｂの下部に設けられたオ
ーブン用の下ヒータである。

【０００５】このように構成された従来例１の高周波加
熱装置において、被加熱物６を加熱調理する場合、ま
ず、ドアを開放して加熱室１内に設置されている載置台
７上に被加熱物６を載置し、ドアと閉じる。ついで、本
体に設けられた操作パネルの操作部を操作して、調理メ
ニューを選択するとともに調理時間を設定し、調理をス
タートさせると、制御部４は高周波発振器３を稼動し、
高周波を発振させる。そして、高周波は導波管５を伝搬
して２つの給電口２から加熱室１内に放射される。これ
と同時にモータ９も駆動してロータリプレート８を回転
させ、ロータリプレート８で支持された載置台７および
被加熱物６を回転させる。

【０００６】加熱調理中、加熱室１内に放射された高周
波は、加熱室１内で拡散して加熱室１の壁面（左右側板
１ａ，１ｄ、底板１ｂ、天板１ｃ、背面板１ｅ）で反射
し、被加熱物６に照射される。これにより、被加熱物６
は加熱調理される。

【０００７】しかしながら、従来例１の高周波加熱装置
は、導波管５が加熱室１の一方の側（右側）に設けられ
ているので、給電口２は加熱室１の右側板１ａに設けら
れ、これにより、加熱室１内のほぼ中心部に配置された
被加熱物６は、給電口２との距離が長くなって給電口２
から離れてしまい、給電口２から加熱室１に入射された
高周波は被加熱物６に直接照射されることが少なかっ
た。また、加熱室１の壁面に反射された高周波は、反射
毎に減衰するため、エネルギーのロスが発生するととも
に、被加熱物６に照射されるときは弱いものとなってし
まうため、加熱効率も悪かった。さらに、高周波は、加
熱室１の右側板１ａに設けられた給電口２から入射され
るため、被加熱物６の側面や上面は、高周波の照射量が
多く加熱されやすい状態であるが、被加熱物６の下面や
中心部は、高周波が載置台７を支持しているロータリプ
レート８に反射されてしまって照射されにくくなるとと
もに、被加熱物６と加熱室１の底板１ｂとの距離が短い
ため、底板１ｂに反射された高周波の被加熱物６への照
射が少なくなって加熱されにくい状態になり、加熱ムラ
が発生など、問題があった。

【０００８】そこで、導波管５を加熱室１の底板１ｂの
下部に設けることが考えられ、図１４にそのような高周
波加熱装置（従来例２）を示す。従来例２の高周波加熱
装置は、加熱室１の一方の側、ここでは右側に設けられ
た高周波発振器３と加熱室１の底板１ｂの左側板１ｄの
近傍との間に導波管５が設けられ、加熱室１の底板１ｂ
の中心部に導波管５に連通する給電口２が設けられてい
る。なお、オーブン用の下ヒータ１１は、加熱室１の底
板１ｂの下部と、導波管５の底板５ａの下部に設けられ
ている。また、ここではロータリプレート８およびその
モータ９は省略されている。

【０００９】このように構成された従来例２の高周波加
熱装置においても、従来例１の高周波加熱装置で説明し
た場合と同様に載置台７に載置された被加熱物６を高周
波によって加熱調理する。加熱調理中、加熱室１の底板
１ｂの下部に設けた導波管５から底板１ｂの中心部に設
けられた給電口２を介して加熱室１に入射された高周波
は、加熱室１内で拡散して加熱室１の壁面で反射し、被
加熱物６の特に下面側に直接照射される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来例２
の高周波加熱装置は、導波管５からの高周波が加熱室１
の底板１ｂの中心部に設けられた給電口２から加熱室１
内に入射されるので、被加熱物６はその下面から高周波
が直接照射され、特に徳利などに入れて加熱される酒な
どの液体の被加熱物６の場合は、下部を集中的に照射加
熱すると、液体の対流が発生して効率よく均一に加熱さ
れ、加熱ムラを改善することが可能となる。

【００１１】しかしながら、導波管５が加熱室１の底板
１ｂの下部に設けられているので、オーブン用の下ヒー
タ１１は、加熱室１の底部１ｂと導波管５の底部５ａと
に取り付けられ、その取付作業が困難であるとともに、
下ヒータ１１と被加熱物６との距離が下ヒータ１１の取
付位置によって異なってしまうため、被加熱物６への加
熱ムラが発生するという問題があった。また、給電口２
が加熱室１の底板１ｂの中心部に設けられいるので、食
品のかすや水等が導波管５に入りやすくなり、導波管５
が汚れやすく清掃性も悪かった。さらに、高周波加熱装
置の本体は、加熱室１の底板１ｂの下部に導波管５を設
けた分、上下方向に大きくなってしまい、広い設置場所
を確保しなければならないなどの問題もあった。

【００１２】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたもので、本体の大型化を防ぎ、高周波のエ
ネルギーロスを抑えて被加熱物を高効率でかつ均一に加
熱するのできる清掃性のよい高周波加熱装置を提供する
ことを目的としたものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明に係る高周波加熱
装置は、内部に加熱室を有し、加熱室の一方の側に高周
波発振器を備え、加熱室の高周波発振器側の側板の下部
に第１の給電口が設けられた本体と、第１の給電口に連
通し、高周波発振器により発振された高周波を加熱室に
伝搬する第１の導波管と、加熱室の第１の給電口の上方
に設置され、加熱室の底板との間に第１の導波管に連通
する第２の導波管を形成する載置台と、載置台に設けら
れ透過により高周波を加熱室に放射する第２の給電口と
を備えたものである。

【００１４】本発明に係る高周波加熱装置は、内部に加
熱室を有し、加熱室の一方の側に高周波発振器を備え、
加熱室の高周波発振器側の側板の下部に第１の給電口が
設けられた本体と、第１の給電口に連通し、高周波発振
器により発振された高周波を加熱室に伝搬する第１の導
波管と、加熱室の第１の給電口の上方に設置され、加熱
室の底板との間に空間部を形成する載置台と、載置台に
設けられ透過により高周波を加熱室に放射する第２の給
電口とを備えてなり、空間部に、第１の給電口から第２
の給電口まで延出され、第１の導波管からの高周波を加
熱室に伝搬する第２の導波管を構成する周壁を設けたも
のである。

【００１５】本発明に係る高周波加熱装置は、空間部に
設けられた第２の導波管を構成する周壁を、載置台と一
体に形成したものである。

【００１６】本発明に係る高周波加熱装置は、載置台の
第２の給電口を除く少なくとも第２の導波管に対応する
部分に、第２の導波管の上面となる高周波の反射体を配
設または埋設したものである。

【００１７】本発明に係る高周波加熱装置は、反射体
を、格子状に形成したものである。

【００１８】本発明に係る高周波加熱装置は、反射体
を、高周波の波長の４分の１以下の間隔で配列した格子
状に形成したものである。

【００１９】本発明に係る高周波加熱装置は、載置台の
一部を回転可能に構成したものである。

【００２０】

【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は本発明の実
施の形態１の要部の縦断面図、図２はそのＡ−Ａ断面図
である。なお、図１３，１４で説明した従来例１，２と
同一部分には同じ符号を付し、説明を省略する。

【００２１】図において、１は右側板１ａの下部に第１
の給電口２１を有する高周波加熱装置の本体内に形成さ
れたほぼ箱形の加熱室で、第１の給電口２１の上端部の
上方から加熱室１の底板１ｂにかけて前面板１ｆが設け
られ、その上部は開口されている。また、加熱室１の一
方の側、ここでは右側には、高周波発振器３およびそれ
を制御する制御部４が設けられている。２２は高周波発
振器３の下方に設けられ第１の給電口２１に連通する第
１の導波管で、高周波発振器３からの高周波を加熱室１
側に送出する。

【００２２】２３は低誘電率材料によって構成された被
加熱物６が載置される載置台で、外周縁部が加熱室１の
壁面（左右側板１ａ，１ｄ、背面板１ｅおよび前面板１
ｆ）に当接する大きさで平面形状が矩形状に形成されて
おり、加熱室１内の第１の給電口２１の上方でかつ前面
板１ｆの上端部に対応する位置に着脱可能に設置されて
いて、加熱室１の底板１ｂとの間に空間部２４を形成し
ている。そして、空間部２４は、第１の給電口２１を介
して第１の導波管２２に連通され、第２の導波管２５を
構成している。また、載置台２３の下面の中心部２３ａ
を除く表面は、図３（ａ）に示すように、高周波を反射
する例えば金属部材の如き反射体２６によって覆われて
おり、その反射体２６は第２の導波管２５の上面２５ａ
を形成し、上面２５ａの中心部（載置台２３の反射体２
６に覆われていない中心部２３ａに対応する部分）は、
平面形状が矩形状の第２の給電口２７を形成している。

【００２３】なお、加熱室１の天板１ｃの上部にはオー
ブン用の上ヒータ１０が設けられ、加熱室１の底板１ｂ
の下部にはオーブン用の下ヒータ１１が設けられてい
る。また、本体の前面部側には、本体の開口部および加
熱室１の開口部を閉塞するドア（図示せず）が開閉自在
に取り付けられている。

【００２４】このように構成された実施の形態１におい
て、被加熱物６を加熱調理する場合、まず、ドアを開放
して加熱室１内に設置された載置台２３上に被加熱物６
を載置し、ドアと閉じる。ついで、本体の右側の前面に
設けられた操作パネルの操作部を操作して、調理メニュ
ーを選択するとともに調理時間を設定し、調理をスター
トさせると、制御部４は高周波発振器３を稼動し、高周
波を発振させる。そして、高周波は第１の導波管２２、
第１の給電口２１および第２の導波管２５を伝搬して第
２の給電口２７から載置台２３を透過し、加熱室１内に
放射される。このとき、第２の導波管２５に伝搬された
高周波は、第２の導波管２５を構成する反射体２６から
なる上面２５ａ、加熱室１の底板１ｂ、左側板１ｄ、背
面板１ｅおよび前面板１ｆに反射され、第２の給電口２
７から加熱室１に入射される。

【００２５】加熱調理中、加熱室１内に放射された高周
波は、加熱室１内で拡散して被加熱物６に直接照射され
るとともに、加熱室１の壁面（左右側板１ａ，１ｄ、天
板１ｃ、背面板１ｅ）および載置台２３の反射体２６で
反射して被加熱物６に照射される。これにより、被加熱
物６は加熱調理される。

【００２６】このように、載置台２３を外周縁部が加熱
室１の壁面に接触する大きさに形成して、加熱室１内の
第１の給電口２１の上方でかつ前面板１ｆの上端部に対
応する位置に設け、加熱室１の底板１ｂとの間に形成さ
れた空間部２４を第２の導波管２５とするとともに、載
置台２３の下面の中心部２３ａを除く表面に反射体２６
を設けて第２の導波管２５の上面２５ａを形成し、その
上面２５ａの中心部に第２の給電口２７を形成したの
で、第２の給電口２７から加熱室１に入射された高周波
の被加熱物６に直接照射される量を多くすることがで
き、加熱室１の壁面に反射される高周波の量を大幅に減
少させることができる。これにより、高周波のエネルギ
ーロスを低減することができるとともに、被加熱物６を
高効率で加熱することができる。また、加熱室１内に第
２の導波管２５が設けられているので、高周波加熱装置
の上下方向の大型化を防ぐとともに、無駄なスペースを
省略して全体構造の小型化を図ることができる。さら
に、オーブン用の下ヒータ１１の取付を容易にすること
ができるとともに、被加熱物６との距離を短くすること
ができ、被加熱物６を加熱ムラがなく均一に加熱するこ
とができる高周波加熱装置を得ることができる。

【００２７】実施の形態２．図４は本発明の実施の形態
２の要部の縦断面図、図５はそのＢ−Ｂ断面図、図６は
本発明の実施の形態２の要部の斜視図である。この実施
の形態２は、実施の形態１に係る高周波加熱装置におい
て、加熱室１の底板１ｂと加熱室１内に設置された載置
台２３との間に形成された空間部２４内に、例えば絞り
加工あるいはリブ等によって形成された第１の導波管２
２に連通する平面形状がほぼＴ字状の第２の導波管２８
を設けたものである。

【００２８】第２の導波管２８は、図６に示すように、
反射体２６に覆われていない載置台２３の下面の中心部
２３ａ、つまり第２の給電口２７の周縁部の下部側をほ
ぼ囲み、さらにその一辺から第１の給電口２１に延出さ
れて、上端部が載置台２３の下面に設けられた反射体２
６に当接するように加熱室１の底板１ｂに突出して設け
られた周壁２９と、載置台２３の下面に設けられた反射
体２６とによって構成されている。また、周壁２９の表
面は反射体２６によって覆われている。

【００２９】このように構成したことにより、実施の形
態１とほぼ同じ作用および効果が得られるとともに、加
熱室１の空間部２４内に設けられた第２の導波管２８
を、載置台２３の下面に設けられた反射体２６と、第１
の給電口２１から第２の給電口２７の周縁部の下部側を
囲むように加熱室１の底板１ｂに設けられた周壁２９と
によって構成したことにより、第１の導波管２２から第
２の導波管２８に送出された高周波を、第２の導波管２
８内で拡散させずに第２の給電口２７に効率よく伝搬す
ることができ、高周波のエネルギーロスを大幅に低減す
ることができる。また、第２の給電口２７から加熱室１
に入射された高周波の被加熱物６に直接照射される量を
多くすることができ、被加熱物６をより高効率で加熱す
ることができる高周波加熱装置を得ることができる。

【００３０】実施の形態３．図７は本発明の実施の形態
３に係る載置台の斜視図で、この実施の形態３は、実施
の形態１に係る高周波加熱装置において、加熱室１に設
置される載置台２３の下面に設けられた反射体２６の下
面側に、実施の形態２に係る第２の導波管２８を構成す
る平面形状がほぼＴ字状の周壁２９を一体に形成したも
のである。

【００３１】このように構成したことにより、実施の形
態１とほぼ同じ作用および効果が得られるとともに、載
置台２３の下面に設けられた反射体２６と、その下面側
と一体に形成された周壁２９と、加熱室１の底板１ｂと
によって構成された第２の導波管２８により、第１の導
波管２２から第２の導波管２８に送出された高周波を第
２の給電口２７に効率よく伝搬することができ、高周波
のエネルギーロスを大幅に低減して、第２の給電口２７
から加熱室１に入射された高周波の被加熱物６に直接照
射される量を多くすることができる。これにより、被加
熱物６をより高効率で加熱することができる。また、第
２の導波管２８を構成する周壁２９を載置台２３の下面
に設けられた反射体２６と一体に形成したので、加熱室
１の底板１ｂをほぼ平坦に形成することができ、載置台
２３を取り外すだけで底板１ｂ等を容易に清掃すること
ができ、清掃性のよい高周波加熱装置を得ることができ
る。

【００３２】実施の形態４．図８は本発明の実施の形態
４に係る載置台の下面図で、この実施の形態４は、実施
の形態１に係る高周波加熱装置において、加熱室１に設
置される載置台２３の下面の中心部２３ａを除く表面
を、高周波の波長λの４分の１、つまり１／４λ以下の
間隔で配列された格子状の反射体２６Ａで覆い、この反
射体２６Ａによって第２の導波管２５の上面２５ａを形
成したものである。

【００３３】ここで、高周波と１／４λ以下の間隔で配
列された格子状の反射体２６Ａとの関係について説明す
る。高周波は正弦波をなしているため、格子間隔が１／
４λ以下になると、その格子を通過しづらくなり、格子
は反射板として作用する。そこで、実施の形態４におい
ては、反射体２６Ａを１／４λ以下の間隔で配列された
格子状に形成し、高周波の反射板として作用するように
構成している。

【００３４】このように構成したことにより、実施の形
態１とほぼ同じ作用および効果が得られるとともに、載
置台２３の下面に設けられた１／４λ以下の間隔で配列
された格子状の反射体２６Ａによって、高周波を確実に
第２の給電口２７まで伝搬させることができ、載置台２
３上の被加熱物６に高周波を集中して照射することがで
きる。また、下ヒータ１１の熱を反射体２６Ａの格子間
を介して被加熱物６に伝搬することができる。これによ
り、高周波およびヒータの熱によって被加熱物６を高効
率で加熱することができる高周波加熱装置を得ることが
できる。

【００３５】実施の形態５．図９は本発明の実施の形態
５の要部の縦断面図、図１０はそのＣ−Ｃ断面図であ
る。この実施の形態５は、実施の形態１に係る高周波加
熱装置の加熱室１内に設置された平面形状が矩形状の載
置台２３に代えて、直径が加熱室１の幅および奥行きよ
り小さい平面形状が円形状の載置台３０を、加熱室１の
下部に設けられたモータ３１にその軸３１ａを介して連
結し、加熱室１の第１の給電口２１の上方でかつ前面板
１ｆの上端部に対応する位置に回転可能に設置したもの
である。また、外周縁部が加熱室１の壁面（左右側板１
ａ，１ｄ、背面板１ｅおよび前面板１ｆ）に当接し内周
縁部が載置台３０の外周縁部との間にわずかな間隙を有
する仕切り板３２が、その上面が載置台３０の上面とほ
ぼ同一面になるように加熱室１に設けられている。そし
て、載置台３０および仕切り板３２と加熱室１の底板１
ｂとの間に第２の導波管２５となる空間部２４が形成さ
れている。

【００３６】また、載置台３０の下面の中心部３０ａを
除く表面は、反射体２６によって覆われており、その反
射体２６は第２の導波管２５の上面２５ａを形成し、上
面２５ａの中心部（載置台３０の反射体２６に覆われて
いない中心部３０ａに対応する部分）は、平面形状が円
形状の第２の給電口２７を形成している。

【００３７】このように構成したことにより、実施の形
態１とほぼ同じ作用および効果が得られ、載置台３０を
回転可能に構成することにより、載置台３０上に載置さ
れた被加熱物６を回転させることができ、高効率でかつ
加熱ムラのない加熱を行うことができる高周波加熱装置
を得ることができる。

【００３８】なお、上述の実施の形態１乃至５では載置
台２３，３０の下面の中心部２３ａ，３０ａ（第２の給
電口２７）を除く表面に、反射体２６または２６Ａを設
けた場合を示したが、図３（ｂ）に示すように、載置台
２３，３０の内部に反射体２６または２６Ａを埋設した
り、載置台２３，３０の上面の中心部を除く表面に設け
てもよく、実施の形態２，３の場合は、図１２に示すよ
うに、第２の導波管２８に対応する載置台２３の下面の
みに設けてもよい。これらの場合も同様の効果を奏す
る。また、第２の給電口２７の形状、個数および設置位
置は、これに限定するものではなく、例えば図１１に示
すように載置台２３の中心部近傍に平面形状が円形状の
第２の給電口２７を複数個設けるなど、適宜変更するこ
とができる。これらの場合も同様の効果を奏するととも
に、被加熱物６に対応した形状、個数および設置位置の
第２の給電口２７を有する載置台２３等を使用すること
によって、被加熱物６をさらに均一にかつ効率よく加熱
することができる。

【００３９】また、実施の形態４は実施の形態１にその
発明を実施した場合を示したが、実施の形態１乃至３お
よび５にその発明を実施することができる。この場合も
同様の効果を奏する。

【００４０】さらに、上述の実施の形態５では載置台３
０と仕切り板３２を両者３０，３２の上面がほぼ同一面
になるように加熱室１に設け、載置台３０および仕切り
板３２と加熱室１の底板１ｂとの間に、第２の導波管２
５となる空間部２４を形成した場合を示したが、仕切り
板３２を省略し、載置台３０と加熱室１の底板１ｂとの
間に形成された空間部に、実施の形態２，３に係る第２
の導波管２８を構成する周壁２９を設けてもよく、載置
台３２の外周縁部の下部側をほぼ囲み、その一部から第
１の給電口２１に延出されて第１の給電口２１に連通す
る加熱室１の底板１ｂに設けられまたは載置台３０と一
体に形成されて、第２の導波管を構成する周壁を設けて
もよい。これらの場合も同様の効果を奏する。

【００４１】

【発明の効果】以上のように本発明に係る高周波加熱装
置は、内部に加熱室を有し、加熱室の一方の側に高周波
発振器を備え、加熱室の高周波発振器側の側板の下部に
第１の給電口が設けられた本体と、第１の給電口に連通
し、高周波発振器により発振された高周波を加熱室に伝
搬する第１の導波管と、加熱室の第１の給電口の上方に
設置され、加熱室の底板との間に第１の導波管に連通す
る第２の導波管を形成する載置台と、載置台に設けられ
透過により高周波を加熱室に放射する第２の給電口とを
備えたので、被加熱物に直接照射される高周波の量を多
くすることができるとともに、加熱室の壁面に反射され
る高周波の量を大幅に減少させて、高周波のエネルギー
ロスを低減させることができる。これにより、被加熱物
を高効率で加熱することができる。また、第２の導波管
が加熱室内に設けられているので、高周波加熱装置の大
型化を防ぐとともに、無駄なスペースを省略して全体構
造の小型化を図ることができる。さらに、加熱室の底板
の下部にヒータを取り付ける場合でもその取付が容易で
あるとともに、ヒータと被加熱物との距離を短くするこ
とができ、被加熱物を加熱ムラのない均一に加熱するこ
とができる高周波加熱装置を得ることができる。

【００４２】本発明に係る高周波加熱装置は、内部に加
熱室を有し、加熱室の一方の側に高周波発振器を備え、
加熱室の高周波発振器側の側板の下部に第１の給電口が
設けられた本体と、第１の給電口に連通し、高周波発振
器により発振された高周波を加熱室に伝搬する第１の導
波管と、加熱室の第１の給電口の上方に設置され、加熱
室の底板との間に空間部を形成する載置台と、載置台に
設けられ透過により高周波を加熱室に放射する第２の給
電口とを備えてなり、空間部に、第１の給電口から第２
の給電口まで延出され、第１の導波管からの高周波を加
熱室に伝搬する第２の導波管を構成する周壁を設けたの
で、第１の導波管から第２の導波管に送出された高周波
を、第２の給電口に効率よく伝搬することができ、高周
波のエネルギーロスを大幅に低減することができる。ま
た、第２の給電口から加熱室１に入射された高周波の被
加熱物に直接照射される量を多くすることができ、被加
熱物をより高効率で加熱することができる高周波加熱装
置を得ることができる。

【００４３】本発明に係る高周波加熱装置は、空間部に
設けられた第２の導波管を構成する周壁を、載置台と一
体に形成したので、高周波のエネルギーロスを大幅に低
減して、被加熱物に直接照射される高周波の量を多くす
ることができ、被加熱物をより高効率で加熱することが
できるとともに、加熱室の底板をほぼ平坦に形成するこ
とができ、載置台を取り外すだけで底板等を容易に清掃
でき、清掃性のよい高周波加熱装置を得ることができ
る。

【００４４】本発明に係る高周波加熱装置は、載置台の
第２の給電口を除く少なくとも第２の導波管に対応する
部分に、第２の導波管の上面となる高周波の反射体を配
設または埋設したので、第２の導波管に送出された高周
波を、第２の導波管内で拡散させずに第２の給電口に効
率よく伝搬することができ、高周波のエネルギーロスを
大幅に低減することができる高周波加熱装置を得ること
ができる。

【００４５】本発明に係る高周波加熱装置は、反射体を
格子状に形成した、あるいは、反射体を高周波の波長の
４分の１以下の間隔で配列した格子状に形成したので、
高周波を確実に第２の給電口まで伝搬させることがで
き、載置台上の被加熱物に高周波を集中して照射するこ
とができる。また、加熱室の底板の下部に設けられたヒ
ータの熱を反射体の格子間を介して被加熱物に伝搬する
ことができる。これにより、高周波およびヒータの熱に
よって被加熱物を高効率で加熱することができる高周波
加熱装置を得ることができる。

【００４６】本発明に係る高周波加熱装置は、載置台の
一部を回転可能に構成したので、被加熱物を回転させる
ことができ、高効率でかつ加熱ムラのない加熱を行うこ
とができる高周波加熱装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態１の要部の縦断面図であ
る。

【図２】 図１のＡ−Ａ断面図である。

【図３】 本発明の実施の形態１に係る載置台の断面図
およびその変形例の断面図である。

【図４】 本発明の実施の形態２の要部の縦断面図であ
る。

【図５】 図４のＢ−Ｂ断面図である。

【図６】 本発明の実施の形態２の要部の斜視図であ
る。

【図７】 本発明の実施の形態３に係る載置台の斜視図
である。

【図８】 本発明の実施の形態４に係る載置台の下面図
である。

【図９】 本発明の実施の形態５の要部の縦断面図であ
る。

【図１０】 図９のＣ−Ｃ断面図である。

【図１１】 本発明の実施の形態１に係る載置台の変形
例の下面図である。

【図１２】 本発明の実施の形態２に係る載置台の変形
例の下面図である。

【図１３】 従来の高周波加熱装置（従来例１）の要部
の縦断面図である。

【図１４】 従来の高周波加熱装置（従来例２）の要部
の縦断面図である。

【符号の説明】

１ 加熱室、１ａ 右側板、１ｂ 底板、３ 高周波発
振器、６ 被加熱物、２１ 第１の給電口、２２ 第１
の導波管、２３，３０ 載置台、２３ａ，３０ａ 中心
部 ２４ 空間部、２５，２８ 第２の導波管、２６，
２６Ａ 反射体、２７ 第２の給電口、２９ 周壁、３
２ 仕切り板。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長田 正史 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 斉藤 毅 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内 Ｆターム(参考） 3K090 AA02 AB02 BA01 CA02 DA01 DA19 EA02 3L086 AA02 BA08 BB04 BB08 BB09 BF07 DA06

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内部に加熱室を有し、該加熱室の一方の
   側に高周波発振器を備え、前記加熱室の高周波発振器側
   の側板の下部に第１の給電口が設けられた本体と、 前記第１の給電口に連通し、前記高周波発振器により発
   振された高周波を前記加熱室に伝搬する第１の導波管
   と、 前記加熱室の第１の給電口の上方に設置され、前記加熱
   室の底板との間に第１の導波管に連通する第２の導波管
   を形成する載置台と、 該載置台に設けられ透過により高周波を加熱室に放射す
   る第２の給電口とを備えたことを特徴とする高周波加熱
   装置。
2. 【請求項２】 内部に加熱室を有し、該加熱室の一方の
   側に高周波発振器を備え、前記加熱室の高周波発振器側
   の側板の下部に第１の給電口が設けられた本体と、 前記第１の給電口に連通し、前記高周波発振器により発
   振された高周波を前記加熱室に伝搬する第１の導波管
   と、 前記加熱室の第１の給電口の上方に設置され、前記加熱
   室の底板との間に空間部を形成する載置台と、 該載置台に設けられ透過により高周波を加熱室に放射す
   る第２の給電口とを備えてなり、 前記空間部に、前記第１の給電口から第２の給電口まで
   延出され、前記第１の導波管からの高周波を前記加熱室
   に伝搬する第２の導波管を構成する周壁を設けたことを
   特徴とする高周波加熱装置。
3. 【請求項３】 空間部に設けられた第２の導波管を構成
   する周壁を、載置台と一体に形成したことを特徴とする
   請求項２記載の高周波加熱装置。
4. 【請求項４】 載置台の第２の給電口を除く少なくとも
   第２の導波管に対応する部分に、前記第２の導波管の上
   面を構成する高周波の反射体を配設または埋設したこと
   を特徴とする請求項１乃至３のいずれか記載の高周波加
   熱装置。
5. 【請求項５】 反射体を、格子状に形成したことを特徴
   とする請求項４記載の高周波加熱装置。
6. 【請求項６】 反射体を、高周波の波長の４分の１以下
   の間隔で配列した格子状に形成したことを特徴とする請
   求項４記載の高周波加熱装置。
7. 【請求項７】 載置台の一部を回転可能に構成したこと
   を特徴とする請求項１，２，４乃至６のいずれか記載の
   高周波加熱装置。