JPH0148629B2 - - Google Patents
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- JPH0148629B2 JPH0148629B2 JP8219284A JP8219284A JPH0148629B2 JP H0148629 B2 JPH0148629 B2 JP H0148629B2 JP 8219284 A JP8219284 A JP 8219284A JP 8219284 A JP8219284 A JP 8219284A JP H0148629 B2 JPH0148629 B2 JP H0148629B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- heating
- oscillator
- excitation port
- waveguide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 71
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 21
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
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- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電子レンジ等の高周波加熱装置の加
熱効率の改善に関するものである。
熱効率の改善に関するものである。
従来例の構成とその問題点
一般にマイクロ波を用いて食品等の誘電体を加
熱する電子レンジ等の高周波加熱装置はマイクロ
波個有の波長と加熱室や被加熱物の大きさや形と
の相互関係によつて加熱室内に定在波を生じ被加
熱物の加熱にむらが生じるという問題を有してい
る。この加熱むらを改善するのに被加熱物を回転
させるターンテーブル方式や、加熱室内の電界を
乱すスタラー方式が用いられている。このスタラ
ー方式を用いて加熱室底面にマイクロ波の励振口
を設ける従来例の高周波加熱装置を第１図に示
す。図において１はマイクロ波を発生する発振
器、２は前記発振器１で発生したマイクロ波を伝
送する導波管、３は被加熱物を加熱する加熱室、
４は前記導波管２によつて伝送されたマイクロ波
で前記加熱室３を励振する励振口、５はアンテ
ナ、６は前記励振口４から供給されたマイクロ波
を前記加熱室３内の特定の方向から放出するため
その端部に開口６ａを有した回転導波管、７は被
加熱物をその上に置くために前記加熱室３内に設
けられたテーブル、８は前記回転導波管６を回転
するためのモータである。前記回転導波管６は前
記励振口４を覆うような箱形で前記加熱室３の底
壁面との間に隙間を有し端部に加熱室に向う開口
６ａを有している。このような電波撹拌のための
構成をとつている理由は被加熱物を加熱する際に
前記励振口４からのマイクロ波が直接被加熱物の
底面の中央部に到達し、その部分を強く加熱する
のを防ぐためである。すなわち前記励振口４から
のマイクロ波の大部分は前記導波管６の開口６ａ
を通り、誘電体で構成された前記テーブル７を介
して前記加熱室３内に放射される。加熱室の形状
は加工性や空間の有効活用の点から直方体である
のが通常である。一方前記回転導波管６は前記加
熱室３の底面と平行に回転するため前記励振口４
から前記開口６ａに対向する前記加熱室３の垂直
壁面までの距離が前記回転導波管６の回転に伴つ
て大きく変化する。前記加熱室３の壁面は電波の
反射体であり、従つて前記回転導波管６の回転に
伴つてマイクロ波の反射する位相が大きく変化し
前記発振器１から見た加熱室のインピーダンスの
変化が大きく前記発振器が効率の低い動作点で動
作する時間が長くなり装置全体の効率が低い。従
来の高周波加熱装置は以上のような欠点を有して
いた。
熱する電子レンジ等の高周波加熱装置はマイクロ
波個有の波長と加熱室や被加熱物の大きさや形と
の相互関係によつて加熱室内に定在波を生じ被加
熱物の加熱にむらが生じるという問題を有してい
る。この加熱むらを改善するのに被加熱物を回転
させるターンテーブル方式や、加熱室内の電界を
乱すスタラー方式が用いられている。このスタラ
ー方式を用いて加熱室底面にマイクロ波の励振口
を設ける従来例の高周波加熱装置を第１図に示
す。図において１はマイクロ波を発生する発振
器、２は前記発振器１で発生したマイクロ波を伝
送する導波管、３は被加熱物を加熱する加熱室、
４は前記導波管２によつて伝送されたマイクロ波
で前記加熱室３を励振する励振口、５はアンテ
ナ、６は前記励振口４から供給されたマイクロ波
を前記加熱室３内の特定の方向から放出するため
その端部に開口６ａを有した回転導波管、７は被
加熱物をその上に置くために前記加熱室３内に設
けられたテーブル、８は前記回転導波管６を回転
するためのモータである。前記回転導波管６は前
記励振口４を覆うような箱形で前記加熱室３の底
壁面との間に隙間を有し端部に加熱室に向う開口
６ａを有している。このような電波撹拌のための
構成をとつている理由は被加熱物を加熱する際に
前記励振口４からのマイクロ波が直接被加熱物の
底面の中央部に到達し、その部分を強く加熱する
のを防ぐためである。すなわち前記励振口４から
のマイクロ波の大部分は前記導波管６の開口６ａ
を通り、誘電体で構成された前記テーブル７を介
して前記加熱室３内に放射される。加熱室の形状
は加工性や空間の有効活用の点から直方体である
のが通常である。一方前記回転導波管６は前記加
熱室３の底面と平行に回転するため前記励振口４
から前記開口６ａに対向する前記加熱室３の垂直
壁面までの距離が前記回転導波管６の回転に伴つ
て大きく変化する。前記加熱室３の壁面は電波の
反射体であり、従つて前記回転導波管６の回転に
伴つてマイクロ波の反射する位相が大きく変化し
前記発振器１から見た加熱室のインピーダンスの
変化が大きく前記発振器が効率の低い動作点で動
作する時間が長くなり装置全体の効率が低い。従
来の高周波加熱装置は以上のような欠点を有して
いた。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので加熱
むらの少なく加熱効率の高い高周波加熱装置を提
供することを目的とする。
むらの少なく加熱効率の高い高周波加熱装置を提
供することを目的とする。
発明の構成
上記目的を達するため、本発明の高周波加熱装
置は、被加熱物を加熱する加熱室と、マイクロ波
を発生する発振器と、前記加熱室の壁面に設け前
記発振器の出力を前記加熱室に供給する励振口と
この励振口を覆い、この励振口を中心として前記
加熱室壁面と平行に回転し、端部に開口を有する
回転導波管とを備え、前記励振口を有する加熱室
壁面は前記回転導波管の回転中心を中心として形
成した円形の凹状部を有する構成であり、前記励
振口から前記回転導波管の開口に対向する前記加
熱室壁面までの距離が前記回転導波管の回転に伴
つて変化せず、従つて前記発振器から見た加熱室
のインピーダンスの変化が小さく加熱効率が高い
という効果を有するものである。
置は、被加熱物を加熱する加熱室と、マイクロ波
を発生する発振器と、前記加熱室の壁面に設け前
記発振器の出力を前記加熱室に供給する励振口と
この励振口を覆い、この励振口を中心として前記
加熱室壁面と平行に回転し、端部に開口を有する
回転導波管とを備え、前記励振口を有する加熱室
壁面は前記回転導波管の回転中心を中心として形
成した円形の凹状部を有する構成であり、前記励
振口から前記回転導波管の開口に対向する前記加
熱室壁面までの距離が前記回転導波管の回転に伴
つて変化せず、従つて前記発振器から見た加熱室
のインピーダンスの変化が小さく加熱効率が高い
という効果を有するものである。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について図面に基づい
て説明する。
て説明する。
第２図は本発明の一実施例である高周波加熱装
置の一部切り欠いた斜視図、第３図は第２図のＡ
−A′面に沿つて切つた断面図、第４図は第３図
のＢ−B′面に沿つて切つた断面図である。図に
おいて１はマイクロ波を発生する発振器、２は前
記発振器１で発生したマイクロ波を伝送する導波
管３は被加熱物を加熱する加熱室、４は前記導波
管２によつて伝送されたマイクロ波で前記加熱室
３を励振する前記加熱室３の底壁面３ａに設けた
励振口、５はアンテナである。６は前記励振口４
を覆い。この励振口４を中心として前記加熱室壁
面と平行に回転し、端部に開口６ａを有する回転
導波管である。この回転導波管６は金属体で構成
し前記アンテナ５に固定しモータ８によつて駆動
される。７は被加熱物を受けるためのテーブルで
ガラス等の誘電体で構成されている。前記加熱室
壁面３ａは前記回転導波管６の回転の中心を中心
として形成した円形の凹状部を有している。９は
被加熱物を出し入れするドア、１０は加熱時間、
加熱出力等を設定する操作パネルである。
置の一部切り欠いた斜視図、第３図は第２図のＡ
−A′面に沿つて切つた断面図、第４図は第３図
のＢ−B′面に沿つて切つた断面図である。図に
おいて１はマイクロ波を発生する発振器、２は前
記発振器１で発生したマイクロ波を伝送する導波
管３は被加熱物を加熱する加熱室、４は前記導波
管２によつて伝送されたマイクロ波で前記加熱室
３を励振する前記加熱室３の底壁面３ａに設けた
励振口、５はアンテナである。６は前記励振口４
を覆い。この励振口４を中心として前記加熱室壁
面と平行に回転し、端部に開口６ａを有する回転
導波管である。この回転導波管６は金属体で構成
し前記アンテナ５に固定しモータ８によつて駆動
される。７は被加熱物を受けるためのテーブルで
ガラス等の誘電体で構成されている。前記加熱室
壁面３ａは前記回転導波管６の回転の中心を中心
として形成した円形の凹状部を有している。９は
被加熱物を出し入れするドア、１０は加熱時間、
加熱出力等を設定する操作パネルである。
以下上記構成における作用について説明する。
前記発振器１より放射されたマイクロ波は前記導
波管２を通つて、前記励振口４と前記アンテナ５
とで構成された結合部から、前記加熱室３内の回
転導波管６と加熱室壁面３ａとで囲まれた空間に
放射される。前記結合部より放射されたマイクロ
波は前記回転導波管６の端部に設けられた開口６
ａ及びテーブル７を通つて加熱室３に置かれた被
加熱物を加熱する。上記回転導波管６は前記モー
タ８によつて回転駆動され、前記結合部を中心に
回転する。従つてマイクロ波の供給口である開口
６ａが回転移動し加熱室底部の種々の位置からマ
イクロ波が供給されるため比較的均一な被加熱物
の加熱分布を得ることができる。ここで前記加熱
室壁面３ａは前記回転導波管６の回転の中心を中
心として形成した円形の凹状部を有しているの
で、前記回転導波管６の開口６ａに対向する加熱
室壁の傾斜部３ｂと前記回転導波管５の回転の中
心にある前記結合部との距離は前記回転導波管６
の回転に伴つて変化せず常に一定である。前記加
熱室壁面３ａはマイクロ波を閉じ込めるため金属
体で構成されており電波の反射体であるが、上記
のように前記傾斜部３ｂと前記結合部との距離が
一定であるため、前記開口部６ａに対向する前記
傾斜部３ｂで反射して前記発振器１の方へ戻つて
行く反射波の位相は前記回転導波管６の回転に伴
つて変化せず一定である。従つて前記発振器１か
ら見た負荷側のインピーダンスの変化が少なく、
このことによつて前記発振器１が効率の高い動作
点で動作でき、前記発振器１の動作が安定し耐久
性が向上するとともに前記発振器１からの不要輻
射が減少する。又前記凹部を絞り加工によつて形
成しているので前記加熱室壁面を構成する材料が
少なくてすむ。
前記発振器１より放射されたマイクロ波は前記導
波管２を通つて、前記励振口４と前記アンテナ５
とで構成された結合部から、前記加熱室３内の回
転導波管６と加熱室壁面３ａとで囲まれた空間に
放射される。前記結合部より放射されたマイクロ
波は前記回転導波管６の端部に設けられた開口６
ａ及びテーブル７を通つて加熱室３に置かれた被
加熱物を加熱する。上記回転導波管６は前記モー
タ８によつて回転駆動され、前記結合部を中心に
回転する。従つてマイクロ波の供給口である開口
６ａが回転移動し加熱室底部の種々の位置からマ
イクロ波が供給されるため比較的均一な被加熱物
の加熱分布を得ることができる。ここで前記加熱
室壁面３ａは前記回転導波管６の回転の中心を中
心として形成した円形の凹状部を有しているの
で、前記回転導波管６の開口６ａに対向する加熱
室壁の傾斜部３ｂと前記回転導波管５の回転の中
心にある前記結合部との距離は前記回転導波管６
の回転に伴つて変化せず常に一定である。前記加
熱室壁面３ａはマイクロ波を閉じ込めるため金属
体で構成されており電波の反射体であるが、上記
のように前記傾斜部３ｂと前記結合部との距離が
一定であるため、前記開口部６ａに対向する前記
傾斜部３ｂで反射して前記発振器１の方へ戻つて
行く反射波の位相は前記回転導波管６の回転に伴
つて変化せず一定である。従つて前記発振器１か
ら見た負荷側のインピーダンスの変化が少なく、
このことによつて前記発振器１が効率の高い動作
点で動作でき、前記発振器１の動作が安定し耐久
性が向上するとともに前記発振器１からの不要輻
射が減少する。又前記凹部を絞り加工によつて形
成しているので前記加熱室壁面を構成する材料が
少なくてすむ。
このように本実施例によれば、前記発振器１か
ら見た負荷側のインピーダンスの変化が少なくな
ることによつて、被加熱物の加熱分布にすぐれた
回転導波管を用いた構成において加熱効率が改善
され、コストが少なく耐久性のすぐれた不要輻射
の少ない高周波加熱装置を提供することができる
という効果を有する。
ら見た負荷側のインピーダンスの変化が少なくな
ることによつて、被加熱物の加熱分布にすぐれた
回転導波管を用いた構成において加熱効率が改善
され、コストが少なく耐久性のすぐれた不要輻射
の少ない高周波加熱装置を提供することができる
という効果を有する。
発明の効果
以上のように本発明によれば次の効果をあげる
ことができる。
ことができる。
(1) 被加熱物の加熱分布にすぐれた回転導波管を
用いた構成において加熱効率が改善される。
用いた構成において加熱効率が改善される。
(2) 発振器の動作が安定し耐久性を向上する。
(3) 不要輻射が減少する。
(4) コストの低減ができる。
第１図は従来の高周波加熱装置の断面図、第２
図は本発明の一実施例である高周波加熱装置の一
部切り欠いた斜視図、第３図は同装置の第２図に
おけるＡ−A′断面図、第４図は同装置の第３図
におけるＢ−B′断面図である。 １……発振器、２……導波管、３……加熱室、
３ａ……加熱室壁面、３ｂ……傾斜部、４……励
振口、５……アンテナ、６……回転導波管、６ａ
……開口、７……テーブル、８……モータ、９…
…ドア、１０……操作パネル。
図は本発明の一実施例である高周波加熱装置の一
部切り欠いた斜視図、第３図は同装置の第２図に
おけるＡ−A′断面図、第４図は同装置の第３図
におけるＢ−B′断面図である。 １……発振器、２……導波管、３……加熱室、
３ａ……加熱室壁面、３ｂ……傾斜部、４……励
振口、５……アンテナ、６……回転導波管、６ａ
……開口、７……テーブル、８……モータ、９…
…ドア、１０……操作パネル。
Claims (1)
- １ 被加熱物を加熱する加熱室と、マイクロ波を
発生する発振器と、前記加熱室の壁面に設け前記
発振器の出力を前記加熱室に供給する励振口と、
この励振口を覆い、この励振口を中心として前記
加熱室壁面と平行に回転し、端部に開口を有する
回転導波管とを備え、前記励振口を有する加熱室
壁面は前記回転導波管の回転中心を中心として形
成した円形の凹状部を有する構成とした高周波加
熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8219284A JPS60225393A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8219284A JPS60225393A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60225393A JPS60225393A (ja) | 1985-11-09 |
| JPH0148629B2 true JPH0148629B2 (ja) | 1989-10-19 |
Family
ID=13767566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8219284A Granted JPS60225393A (ja) | 1984-04-24 | 1984-04-24 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60225393A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996013140A1 (en) * | 1994-10-20 | 1996-05-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | High-frequency heating device |
-
1984
- 1984-04-24 JP JP8219284A patent/JPS60225393A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996013140A1 (en) * | 1994-10-20 | 1996-05-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | High-frequency heating device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60225393A (ja) | 1985-11-09 |
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