JP2001142021A - 光源装置 - Google Patents

光源装置

Info

Publication number
JP2001142021A
JP2001142021A JP32125099A JP32125099A JP2001142021A JP 2001142021 A JP2001142021 A JP 2001142021A JP 32125099 A JP32125099 A JP 32125099A JP 32125099 A JP32125099 A JP 32125099A JP 2001142021 A JP2001142021 A JP 2001142021A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding member
lens holding
axis direction
axis
lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32125099A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Nagashima
厚 長島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP32125099A priority Critical patent/JP2001142021A/ja
Publication of JP2001142021A publication Critical patent/JP2001142021A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光走査装置等の光源装置が適用される装置に
搭載された状態でも、第1ビームを基準として第2のビ
ーム発生手段から出射される第2ビームを光軸方向及び
光軸方向と直交する2方向へそれぞれ精度良く光軸調整
する。 【解決手段】 位置調整ねじ126を回転させると、カ
ム部94が従節部材88のカム面108と摺動し、カム
従節部88及びレンズ保持部材56がX軸方向に沿って
移動する。また位置調整ねじ144を回転させると、板
ばね136により上方へ付勢されたレンズ保持部材56
が連結ピン100を中心として揺動し、これにより、レ
ンズ保持部材56がY軸方向に沿って移動する。また位
置調整ねじ126を回転させると、コイルスプリング1
30によりベース基板48側へ付勢されたレンズ保持部
材56がZ軸方向に沿って移動する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、2本の光ビームに
より感光体上を走査して静電潜像を形成するマルチビー
ム式の光走査装置等に適用され、光源として2個の半導
体レーザを有する光源装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レーザプリンタ、デジタル複写機等の画
像形成装置としては、高画質(高解像度)及び高速化に
対応するために、近年、複数本のレーザビームにより感
光体上の複数のラインを同時に走査するマルチビーム式
のものが開発されている。このような画像形成装置に用
いられる光源装置としては、例えば、2本のレーザビー
ムを同時に出射できるデュアルスポットレーザダイオー
ドを用いたものや、複数の半導体レーザをコリメータレ
ンズ等と共に1ユニットとしたものが用いられる。デュ
アルスポットレーザダイオードを用いた光源装置では、
2本のレーザビーム間の相対的な位置(角度)調整を不
要にできることから、2本のレーザビームの光軸調整を
簡単に精度よく行えるが、その反面、製造できるメーカ
が限られたり、比較的高値であるという問題がある。
【0003】一方、複数の半導体レーザを用いた光源装
置では、2本のレーザビームにより感光体上にそれぞれ
形成されるビームスポットの位置を所望の位置とすると
共に、2本のレーザビームの光量バランスを取りつつ相
対的なビーム間の位置関係を狙いとする位置関係となる
ように、2本のレーザビームそれぞれについて光軸調整
する必要がある。このため、2個の半導体レーザを用い
た光源装置では光軸調整作業が煩瑣となるという問題が
ある。
【0004】上記のような光源装置としては、例えば、
半導体レーザから出射された発散光をコリメータレンズ
により平行光とする2個のビーム発生部と、これらのビ
ーム発生部から出射された2本のレーザビームが互いに
近接した光路上を進行するように2本のレーザビームを
合成するビーム合成素子とを備えたものがある。このよ
うな光源装置における光軸調整に係る構成は、例えば、
特開平9−45323号公報及び特開平9−24396
3号公報にそれぞれ開示されている。
【0005】特開平9−45323号公報には、ビーム
合成素子により合成された2本のレーザビームが基準と
なるレーザビームの光軸回りに回動調整可能とされてお
り、2本のレーザビームを光軸回りに回動させることに
より、感光体上での2本のレーザビーム(ビームスポッ
ト)の副走査方向に沿った間隔が調整される半導体レー
ザが開示されている。また特開平9−243963号公
報には、2個の半導体レーザが取り付けられる基体のレ
ンズ取付穴内に挿入されたコリメータレンズを基体の外
側から位置調整し、位置調整後にコリメータレンズを接
着剤により接着固定する半導体レーザ装置が開示されて
いる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、2本のレーザ
ビームを光軸回りに回動させて感光体上での2本のレー
ザビームの副走査方向に沿った間隔を調整する光源装置
では、感光体上における2本のレーザビームによる書出
し位置にずれが生じる。このため、光走査装置では、2
本のレーザビームの書出し位置のずれを何らかの電気的
な方法により補正しなければならない。これに加えて、
2本のレーザビームそれぞれついてSOS信号(スター
ト・オブ・スキャン信号:書出し同期信号)を得るため
に、レーザビームが走査領域外の所定位置へ達したこと
を検出するSOSセンサが2個必要となることから、セ
ンサ数が増加すると共にその信号処理回路が複雑になっ
て装置のコストアップを招く。また、光走査装置がUnd
erfilled光学系を採用している場合には、2本のレーザ
ビームを光軸回りに回転させてビーム間隔を調整する
と、主走査方向に沿って2ビームの間隔が広がってポリ
ゴンミラーの反射面を大型化しなければ対応できなくな
るおそれがある。このため、ポリゴンミラー及びその駆
動機構を含む光偏向器全体が大型化して光走査装置が大
型化する要因となる。
【0007】また、レンズ取付穴内に挿入されたコリメ
ータレンズを接着固定する光源装置では、近年、コリメ
ータレンズ固定用の接着剤として乾燥及び放置時間の殆
ど不要な紫外線硬化型の接着剤(以下、UV接着剤とい
う)による接着固定が主流となっているが、光源装置が
光走査装置に搭載されている状態では、紫外線照射時に
光学箱等が干渉してコリメータレンズの周囲に漏れなく
紫外線を照射することが困難になる。従って、このよう
な光源装置では、光走査装置への搭載前にコリメータレ
ンズの位置調整及び接着固定を完了させておく必要があ
り、光走査装置への搭載後に接着剤の熱膨張や光源装置
の取付位置の誤差等によって光軸調整が再度必要になる
と、特開平9−45323号公報に示されているような
公知の方法によって2本のレーザビームそれぞれついて
光軸調整を行わなければならない。
【0008】本発明は、上記事実を考慮し、光走査装置
等の光源装置が適用される装置に搭載された状態でも、
第1ビームを基準として第2のビーム発生手段から出射
される第2ビームを光軸方向及び光軸方向と直交する2
方向へそれぞれ精度良く光軸調整できる光源装置を提供
することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の光源装置
は、半導体レーザから出射された発散光をコリメータレ
ンズにより略平行光である第1ビームとする第1のビー
ム発生手段と、半導体レーザから出射された発散光をコ
リメータレンズにより略平行光である第2ビームとする
第2のビーム発生手段と、前記第1及び第2のビーム発
生手段におけるコリメータレンズをそれぞれ保持する第
1及び第2のレンズ保持部材と、前記第2のレンズ保持
部材を前記第2のビーム発生手段の光軸と平行なZ軸方
向へ位置調整可能とするフォーカス調整手段と、前記第
2のレンズ保持部材を前記第1のレンズ保持部材に対し
て前記Z軸方向と直交するX軸方向へ相対的に位置調整
可能とするX軸調整手段と、前記第2のレンズ保持部材
を前記第1のレンズ保持部材に対して前記第2のビーム
発生手段の光軸と略平行な揺動軸を中心とする揺動方向
へ相対的に移動可能とし、前記Z軸方向及びX軸方向と
直交するY軸方向へ位置調整可能とするY軸調整手段
と、を有するものである。
【0010】上記構成の光源装置によれば、フォーカス
調整手段が第2のレンズ保持部材を第2のビーム発生手
段の光軸と平行なZ軸方向へ位置調整可能とすることに
より、フォーカス調整手段によって第2のビーム発生手
段における半導体レーザからコリメータレンズまでの光
軸方向に沿った距離を変えることができるので、例え
ば、結像光学系を通過する第2ビームの光軸方向に沿っ
た結像位置を変化させ、第2ビームが感光体上で所定サ
イズのビームスポットとして結像するように第2ビーム
をフォーカス調整できる。
【0011】また、X軸調整手段が第2のレンズ保持部
材を第1のレンズ保持部材に対してZ軸方向と直交する
X軸方向へ相対的に位置調整可能とすることにより、X
軸調整手段によって第2ビームの第1ビームに対する相
対位置をX軸方向に沿って変えることができるので、例
えば、X軸方向を感光体上の副走査方向に対応する方向
となるように設定すれば、第2ビームの第1ビームに対
する相対位置をX軸方向に沿って変えれば、感光体上に
おける第1ビームから第2ビームまでの副走査方向に沿
った間隔を所望の長さに調整できる。
【0012】また、Y軸調整手段が第2のレンズ保持部
材を第1のレンズ保持部材に対して第2のビーム発生手
段の光軸と平行な揺動軸を中心とする揺動方向へ相対的
に移動可能とし、Z軸方向及びX軸方向と直交するY軸
方向へ位置調整可能とすることにより、Y軸調整手段に
よって第2ビームの第1ビームに対する相対位置をY軸
方向に沿って変えることができるので、例えば、Y軸方
向を感光体上の主走査方向に対応する方向となるように
設定すれば、第2ビームの第1ビームに対する相対位置
をY軸方向に沿って変えれば、感光体上の第2ビームが
第1ビームと主走査査方向において同一位置となるよう
に、すなわち第1ビーム及び第2ビームが副走査方向と
平行な同一直線上に配列するように第2ビームの主走査
方向における位置を調整できる。
【0013】このとき、Y軸調整手段は第2のレンズ保
持部材を第2のビーム発生手段の光軸と平行な揺動軸を
中心として揺動可能としていることから、Y軸調整手段
により第2のレンズ保持部材を揺動させると、第2のレ
ンズ保持部材はY軸方向へ移動すると同時にX軸方向へ
も移動するが、例えば、第2のレンズ保持部材の揺動軸
をY軸方向において第2のビーム発生手段の光軸と略同
一位置としておけば、第2のレンズ保持部材の揺動範囲
が十分小さいことを考慮すると、X軸方向への移動量
(Cosine成分)は微小となり第2のレンズ保持部材の移
動方向は近似的にY軸方向への移動であると見なせる。
【0014】請求項2記載の光源装置は、請求項1記載
の光源装置において、前記Y軸調整手段は前記第2のレ
ンズ保持部材に当接した状態で該第2のレンズ保持部材
を前記揺動方向に沿って移動させる位置調整部材を有
し、前記第1のビーム発生手段の光軸と前記第2のビー
ム発生手段の光軸との前記X軸方向に沿った中心点に対
して、前記揺動軸を前記第1のビーム発生手段の光軸よ
り外側に設け、かつ前記位置調整部材を前記第2のビー
ム発生手段の光軸より外側に設けたものである。
【0015】上記構成の光源装置によれば、第1のビー
ム発生手段の光軸と第2のビーム発生手段の光軸とのX
軸方向に沿った中心点に対して、第2のレンズ保持部材
の揺動軸を第1のビーム発生手段の光軸より外側に設
け、かつ位置調整部材を第2のビーム発生手段の光軸よ
り外側に設けたことにより、揺動軸から第2のビーム発
生手段のコリメータレンズまでのX軸方向に沿った寸法
及び揺動軸から位置調整部材までのX軸方向に沿った寸
法をそれぞれ十分長くできるので、Y軸調整手段によっ
て第2のレンズ保持部材を揺動させた際のコリメータレ
ンズのX軸方向への移動量(Cosine成分)をY軸方向に
沿った移動量(Sine成分)に対して十分小さくでき、か
つ位置調整部材の移動量(操作量)に対するコリメータ
レンズのY軸方向に沿った移動量を十分小さくできる。
【0016】この結果、コリメータレンズのY軸方向へ
の調整量が大きくなっても、これに伴うコリメータレン
ズのX軸方向への大きく偏移量が過大にならないので、
Y軸方向への位置調整後のコリメータレンズのX軸方向
への位置調整を容易にでき、又は不要にできる。また位
置調整部材の操作量に対するコリメータレンズのY軸方
向に沿った移動量を十分小さくできるので、コリメータ
レンズのY軸方向に沿った微調整が容易になる。
【0017】請求項3記載の光源装置は、請求項2記載
の光源装置において、前記Y軸調整手段は、前記揺動方
向に沿って前記第2のレンズ保持部材を前記位置調整部
材の方向へ付勢して該第2のレンズ保持部材を前記位置
調整部材に圧接させる付勢部材を有するものである。
【0018】上記構成の光源装置によれば、Y軸調整手
段の付勢部材が揺動方向に沿って第2のレンズ保持部材
をY軸調整手段の位置調整部材の方向へ付勢して該第2
のレンズ保持部材を前記位置調整部材に圧接させること
により、第2のレンズ保持部材とY軸調整手段の位置調
整部材との間にがたが生じなくなるので、第2のレンズ
保持部材のY軸方向に沿った位置決め精度を向上でき、
またY軸調整手段による位置調整後に外部からの振動や
衝撃等により第2のレンズ保持部材がY軸方向に沿って
偏移しても、付勢部材の付勢力により偏移前の位置に自
動的に復帰させることができる。
【0019】請求項4記載の光源装置は、請求項1、2
又は3記載の光源装置において、前記X軸調整手段は、
軸心回りに回転すると共に前記第2のレンズ保持部材に
対し前記X軸方向と略直交する作動方向に沿って相対的
に移動する位置調整ねじと、前記位置調整ねじの前記作
動方向への移動時に該位置調整ねじの一部と相対的に摺
動するカム面が設けられ、前記位置調整ねじの前記作動
方向への従って前記第2のレンズ保持部材と一体となっ
て前記X軸方向へ移動する従節部材と、を有するもので
ある。
【0020】上記構成の光源装置によれば、従節部材が
位置調整ねじの作動方向への移動に従って第2のレンズ
保持部材と一体となってX軸方向へ移動することによ
り、X軸調整手段の位置調整ねじをねじ込み方向又は抜
き取り方向へ回転させて作動方向に沿って移動させれ
ば、ねじ調整部材の一部から従節部材のカム面に作用す
る力により第2のレンズ保持部材をX軸方向に沿って位
置調整ねじの回転方向へ対応する方向へ移動(直線移
動)させることができる。
【0021】このとき、カム面の作動方向に対する傾き
を十分小さくすれば、位置調整ねじの移動量(操作量)
に対するコリメータレンズのX軸方向に沿った移動量を
十分小さくできるので、コリメータレンズのX軸方向に
沿った微調整が容易になる。
【0022】請求項5記載の光源装置は、請求項4記載
の光源装置いおいて、前記X軸調整手段は、前記X軸方
向に沿って前記従節部材を前記位置調整ねじの方向へ付
勢して前記カム面を前記位置調整ねじの一部に圧接させ
る付勢部材を有するものである。
【0023】上記構成の光源装置によれば、第2のレン
ズ保持部材とY軸調整手段の位置調整ねじとの間にがた
が生じなくなるので、第2のレンズ保持部材のX軸方向
に沿った位置決め精度を向上でき、またX軸調整手段に
よる位置調整後に外部からの振動や衝撃等により第2の
レンズ保持部材がX軸方向に沿って偏移しても、付勢部
材の付勢力により偏移前の位置に自動的に復帰させるこ
とができる。
【0024】請求項6記載の光源装置は、請求項1、
2、3又は4記載の光源装置において、前記フォーカス
調整手段は、前記Z軸方向に沿って前記第2のレンズ保
持部材を一方向へ付勢する付勢部材と、前記Z軸付勢部
材の付勢力に抗して前記第2のレンズホルダを前記Z軸
方向に沿って移動させ、かつ位置決めする位置調整部材
とを有するものである。
【0025】上記構成の光源装置によれば、フォーカス
調整手段の付勢部材がZ軸方向に沿って第2のレンズ保
持部材を一方向へ付勢し、位置調整部材がZ軸付勢部材
の付勢力に抗して第2のレンズホルダを前記Z軸方向に
沿って移動させ、かつ位置決めすることにより、第2の
レンズ保持部材とフォーカス調整手段の位置調整部材と
の間にがたが生じなくなるので、位置調整部材による第
2のレンズ保持部材のZ軸方向に沿った位置決め精度を
向上でき、またY軸調整手段による位置調整後に外部か
らの振動や衝撃等により第2のレンズ保持部材がZ軸方
向に沿って偏移しても、付勢部材の付勢力により偏移前
の位置に自動的に復帰させることができる。
【0026】請求項7記載の光源装置は、半導体レーザ
から出射された発散光をコリメータレンズにより略平行
光である第1ビームとする第1のビーム発生手段と、半
導体レーザから出射された発散光をコリメータレンズに
より略平行光である第2ビームとする第2のビーム発生
手段と、前記第1のビーム発生手段のコリメータレンズ
を保持した第1のレンズ保持部材と、前記第2のビーム
発生手段のコリメータレンズを保持した第2のレンズ保
持部材と、前記第2のレンズ保持部材により支持される
と共に、前記第2のビーム発生手段のコリメータレンズ
を半導体レーザの光軸に対して偏心するように支持した
回転鏡筒と、前記第2のレンズ保持部材を前記第1のレ
ンズ保持部材に対して前記第2のビーム発生手段の光軸
と平行なZ軸方向へ相対的に位置調整可能とするフォー
カス調整手段と、前記第2のレンズ保持部材を前記第1
のレンズ保持部材に対して前記Z軸方向と直交するY軸
方向へ相対的に位置調整可能とするY軸調整手段と、前
記回転鏡筒を前記第2のビーム発生手段における半導体
レーザの光軸を中心とする回転方向へ位置調整可能とす
るX軸調整手段と、を有するものである。
【0027】上記構成の光源装置によれば、請求項1記
載の光源装置と同様に、フォーカス調整手段によって第
2のビーム発生手段における半導体レーザからコリメー
タレンズまでの光軸方向に沿った距離を変えることがで
き、かつY軸調整手段によって第2ビームの第1ビーム
に対する相対位置をY軸方向に沿って変えることができ
る。
【0028】また、X軸調整手段がコリメータレンズを
半導体レーザの光軸に対して偏心した位置に保持した回
転鏡筒を回転方向へ位置調整可能とすることにより、X
軸調整手段によって回転鏡筒を回転させれば、第2ビー
ムの第1ビームに対する相対位置をX軸方向に沿って変
えることができるので、例えば、Y軸方向を感光体上の
主走査方向に対応する方向となるように設定すれば、第
2ビームの第1ビームに対する相対位置をY軸方向に沿
って変えれば、感光体上の第2ビームが第1ビームと主
走査査方向において同一位置となるように、すなわち第
1ビーム及び第2ビームが副走査方向と平行な同一直線
上に配列するように第2ビームの主走査方向における位
置を調整できる。
【0029】このとき、X軸調整手段により回転鏡筒を
回転させる第2のレンズ保持部材はX軸方向へ移動する
と同時にY軸方向へも移動するが、このY軸方向への移
動が光軸調整へ影響しないようにY軸調整手段により第
2のレンズ保持部材を位置調整可能である。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
光源装置について図面を参照して説明する。
【0031】(第1の実施の形態)図1(A)には第1の
実施の形態に係る光源装置が搭載された2ビーム式の光
走査装置が示されている。この光走査装置10は2本の
レーザビームL1,L2によりドラム状の感光体12の外
周面(像担持面)を走査(主走査)することにより、こ
の感光体12の像担持面に画像信号に対応する静電潜像
を形成するものである。ここで、レーザビームL1,L2
は、図1(B)に示されるように感光体12上の副走査
方向に沿って所定のラインピッチだけ異なる位置をそれ
ぞれ主走査する。具体的には、例えば、600dpiの
印字密度で感光体12上に画像形成する場合には、レー
ザビームL1,L2の副走査方向に沿った間隔は42.3
±5μmとし、レーザビームL1,L2により感光体12
上に形成されるビームスポットのサイズは14μm以下
とする必要がある。
【0032】光走査装置10に搭載されている光源装置
14は、図1(A)に示されるように2個の半導体レー
ザ(以下、LDという)16,18が取り付けられるL
D基板51を備えている。光源装置14には、2個のL
D16,18から出射されるレーザビームL1,L2の光
路上にそれぞれコリメータレンズ20,22が配置され
ている。ここで、一方のLD16及びコリメータレンズ
20はビーム発生部24を構成し、他方のLD18及び
コリメータレンズ22はビーム発生部26を構成してい
る。
【0033】光源装置14には、コリメータレンズ2
0,22から出射されたレーザビームL1,L2を互いに
近接した光路上を進行するよう合成するビーム合成素子
28及びビーム合成素子28から出射されたレーザビー
ムL1,L2を整形するアパーチャー30が設けられてい
る。ビーム合成素子28は2個のプリズム32,34を
張り合わせて構成されており、これらのプリズム32,
34の貼合面は一方のレーザビームL1を透過すると共
に他方のレーザビームL2を反射するビーム合成面36
とされている。
【0034】また光源装置14が搭載された光走査装置
10には、アパーチャー30から出射されるレーザビー
ムL1,L2の光路に沿って多角柱状の回転多面鏡38、
結像光学系40、折り返しミラー42等が光学箱44
(図2参照)内に配置されており、これらを介してレー
ザビームL1,L2は感光体12上にビームスポットとし
て結象する。また回転多面鏡38は主走査方向への走査
速度に対応する角速度で回転し、これにより、レーザビ
ームL1,L2により形成されたビームスポットが感光体
12上で主走査方向に沿って一方向へ移動する。
【0035】光源装置14は、図2に示される光学箱4
4の外壁面における光源取付部46に密着するようにビ
ス(図示省略)によって固定されるベース基板48を備
えている。このベース基板48の外側の面には、ビーム
合成素子28が収納される凹状の収納部50が形成され
ている。この収納部50内に収納されたビーム合成素子
28は板ばね状の留め金具52により所定の位置に位置
決めされ、かつ固定されるようになっている。
【0036】光源装置14には、図3に示されるように
ビーム合成素子28から出射されるレーザビームL1
2の光軸方向(Z軸方向)におけるベース基板48と
LD基板51との中間部に2個のレンズ保持部材54,
56が配置されている。ここで、前記光軸方向に沿って
一方のレンズ保持部材54はベース基板48側に配置さ
れ、他方のレンズ保持部材56はLD基板51側に配置
されている。
【0037】一方のレンズ保持部材54の上端部及び下
端部には、図3に示されるように光軸方向に貫通する一
対の挿通穴58(図3では上端部側の挿通穴のみを示
す)がそれぞれ穿設され、ベース基板48の外側の面に
は、収納部50の上部に一対の挿通穴58にそれぞれ対
応する一対のねじ穴60(図3では上端部側のねじ穴の
みを示す)が穿設されている。レンズ保持部材54にお
ける一対の挿通穴58にLD基板51側からそれぞれビ
ス62が挿入され、これらのビス62はベース基板48
の一対のねじ穴60にそれぞれねじ込まれている。これ
により、レンズ保持部材54は2個のビス62によって
ベース基板48に締結固定される。
【0038】レンズ保持部材54には、光軸方向へ貫通
する円筒状のレンズホルダ部64が一体的に設けられて
おり、このレンズホルダ部64の内周面はねじ山が形成
された雌ねじ部66(図5参照)とされている。またレ
ンズホルダ部64はLD基板51に取り付けられた一方
のLD16と略同軸的になるように設けられ、このレン
ズホルダ部64内には円筒状の鏡筒68がねじ込まれて
いる。鏡筒68には、外周面にレンズホルダ部64の雌
ねじ部66に対応するねじ山が形成されたねじ部70が
設けられると共に、LD基板51側の端部に径方向へ延
出する鍔状の従動ギヤ部72が一体的に形成されてい
る。また図4に示されるように、鏡筒68内における軸
方向中間部にはコリメータレンズ20が同軸的に固定さ
れている。
【0039】レンズホルダ部64内にねじ込まれる鏡筒
68の外周面にはコイルスプリング74が嵌挿されてお
り、このコイルスプリング74は、図4に示されるよう
に鏡筒68の従動ギヤ部72とレンズホルダ部64との
端面との間に配置され、光軸方向に沿って圧縮状態とさ
れる。これにより、鏡筒68は常にLD基板51側(図
4の右側)へ付勢され、雌ねじ部66とねじ部70との
がたの影響による鏡筒68の光軸方向への偏移が防止さ
れている。
【0040】またレンズホルダ部64の上部側には、略
肉厚円筒状の支軸部76がレンズホルダ部64と平行軸
的に設けられ、レンズ保持部材54には、図3に示され
るようにベース基板48側の壁部に支軸部76と同軸的
に支軸穴78が光軸方向に沿って穿設されている。支軸
部76及び支軸穴78内には、図6に示されるようにL
D基板51側から調整軸80が回転可能に挿入されてい
る。この調整軸80には、軸方向中間部に円板状の駆動
ギヤ部82が一体的に設けられており、この駆動ギヤ部
82は鏡筒68の従動ギヤ部72と噛み合っている。
【0041】従って、調整軸80の端部に設けられた係
合溝84にドライバ等の工具を係合させて調整軸80を
回転させると、鏡筒68が調整軸80とは反対の方向へ
回転する。このとき、鏡筒68は時計方向へ回転すると
光軸方向に沿ってベース基板48側へ移動し、反時計方
向へ回転すると光軸方向に沿ってLD基板51側へ移動
する。従って、鏡筒68を回転させることにより、コリ
メータレンズ20が鏡筒68の回転方向に対応する方向
へ回転量に対応する距離だけ光軸方向に沿って移動し、
LD16から出射されるレーザビームL1のフォーカス
調整が可能になる。
【0042】レンズ保持部材54の片側(図4の右側)
の端部には、光軸方向に沿った両外側面に凹状のガイド
部86が形成されている。このガイド部86には、図3
に示される長手方向に沿ってコ字状に屈曲した従節部材
88の先端部付近が挿入される。これにより、従節部材
88は2個のLD16,18の配列方向(X軸方向)に
沿ってスライド可能となる。またレンズ保持部材54に
は、一端がLD基板51側のガイド部86内へ開口する
ように光軸方向に貫通する一対の雌ねじ穴90が穿設さ
れている。一方、従節部材88には雌ねじ穴90と略同
軸的に雌ねじ部90よより大径とされた挿通部91が穿
設されている。レンズ保持部材54の雌ねじ部90には
丸棒状の位置調整ねじ92のねじ部93がねじ込まれ、
この位置調整ねじ92の両端部は挿通部91を通して従
節部材88の外側へ突出している。また位置調整ねじ9
2のベース基板48側の端部は、ベース基板48に設け
られた支軸穴(図示省略)内に回転可能に挿入されてい
る。位置調整ねじ92の中央部付近には一対のカム部9
4が一体的に設けられている。これらのカム部94は外
周側へ延出する鍔状とされており、それぞれ軸方向にお
ける異なる位置に配置されている。
【0043】従節部材88の両端部にはそれぞれ光軸方
向に貫通する挿通穴96が穿設されており、従節部材8
8の両端部間にはレンズ保持部材56の端部が挿入され
る。このレンズ保持部材56の端部には、従節部材88
の挿通穴96に対応して光軸方向に貫通する挿通穴98
が穿設されている。これらの挿通穴96,98内には連
結ピン100が挿通し、この連結ピン100はその両端
部にそれぞれ嵌挿されたCリング102により挿通穴9
6,98からの脱落が防止されている。これにより、従
節部材88とレンズ保持部材56とは連結ピン100を
中心として互いに揺動可能となるように連結される。ま
たレンズ保持部材56の挿通穴98とは逆側の端部付近
には、図4に示されるように光軸方向へ貫通するレンズ
収納部104が穿設されている。このレンズ収納部10
4内にはLD18からのレーザビームL1が入射するコ
リメータレンズ22が固着されている。
【0044】レンズ保持部材54の従節部材88側の外
側面には、図3に示されるようにコ字状の板ばね106
が一対のビス107により締結固定されており、この板
ばね106の上方へ延出する両端部は従節部材88の外
側面に弾接して従節部材88を常にX軸方向に沿ってL
D18側へ付勢している。従節部材88の内側面には、
X軸及びY軸により規定される平面(X‐Y平面)に対
して傾斜した一対のカム面108が形成されている。こ
れらのカム面108には、図5に示されるように位置調
整ねじ92における一対のカム部94がそれぞれ接して
いる。
【0045】ここで、位置調整ねじ92のLD基板51
側の端部に設けられた係合溝110にドライバ等の工具
を係合させて位置調整ねじ92を反時計方向へ回転させ
ると、位置調整ねじ92は光軸方向に沿ってLD基板5
1側へ直線移動する。これにより、一対のカム部94が
それぞれカム面108と相対的に摺動し、カム部94か
らの加圧力の一部がカム面108によりX軸方向に沿っ
た分力に変換され、従節部材88がレンズ保持部材56
と一体となってX軸方向に沿って位置調整ねじ92側へ
スライドする。また位置調整ねじ92を時計方向へ回転
させると、位置調整ねじ92は光軸方向に沿ってベース
基板48側へ直線移動する。これにより、一対のカム部
94がそれぞれカム面108と相対的に摺動し、板ばね
106からの付勢力により従節部材88がレンズ保持部
材56と一体となって位置調整ねじ92から離れる方向
へ移動する。従って、位置調整ねじ92を回転させるこ
とにより、コリメータレンズ22がX軸方向に沿って位
置調整ねじ92の回転方向へ対応する方向へ回転量に対
応する距離だけ移動するので、コリメータレンズ22の
X軸方向に沿った位置調整が可能になる。
【0046】レンズ保持部材54の下面には、図7に示
されるように略L字状に屈曲された板ばね112がビス
114により締結固定されており、この板ばね112の
先端部はレンズ保持部材56と従節部材88との間に挿
入されてレンズ保持部材56の外側面に弾接し、レンズ
保持部材56を位置調整ねじ92から離れる方向へ付勢
している。これにより、連結ピン100と挿通穴96,
98とのがたによる影響が吸収されてX軸方向に沿った
位置決め精度が向上する。
【0047】レンズ保持部材56のガイド部86とは逆
側(図6の左側)の外側面には、長手方向に沿ってL字
状に屈曲された肉厚板状の支持部材116がビス118
により締結固定されている。この支持部材116の先端
側はレンズ保持部材56のLD基板51側の後端面に沿
って内側に延出している。この支持部材116の先端側
とレンズ保持部材54のベース基板48側の壁部との間
には、図6に示されるようにレンズ保持部材56が配置
されている。
【0048】支持部材116の先端側には、レンズ保持
部材56の後端面に面して光軸方向へ貫通するねじ穴1
20が穿設されている。また、レンズ保持部材54,5
6には、それぞれ支持部材116のねじ穴120と同軸
的になるようにそれぞれ支軸穴122及び支軸穴124
(図6参照)が穿設されている。支持部材116のねじ
穴120には、図6に示されるように略丸棒状の位置調
整ねじ126のねじ部128がねじ込まれている。位置
調整ねじ126の外周面にはコイルスプリング130が
嵌挿され、このコイルスプリング130は支持部材11
6とレンズ保持部材56との間に介装されて圧縮状態と
されている。これにより、レンズ保持部材56は常にベ
ース基板48側へ付勢されている。
【0049】位置調整ねじ126の軸方向中間部はレン
ズ保持部材56の支軸穴124に回転及び摺動可能に挿
入され、また位置調整ねじ126のねじ部128とは逆
側の端部はレンズ保持部材54の支軸穴122内に回転
可能に挿入されている。位置調整ねじ126にはレンズ
保持部材56のベース基板48の前端面に当接するよう
に外周方向へ延出する鍔部132が形成され、この鍔部
132はコイルスプリング130からの付勢力を支持し
てレンズ保持部材56の光軸方向に沿った移動を制限し
ている。またレンズ保持部材56の従節部材88側の端
部は、図6に示されるように光軸方向に沿った寸法が従
節部材88の両端部間の間隔より短くなっている。これ
により、この寸法差に対応する範囲でレンズ保持部材5
6は光軸方向に沿って移動可能になる。
【0050】位置調整ねじ126のLD基板51側の端
部に設けられた係合溝134にドライバ等の工具を係合
させて位置調整ねじ126を回転させると、位置調整ね
じ126が光軸方向に沿って直線移動する。このとき、
位置調整ねじ126を時計方向へ回転させると、光軸方
向に沿って位置調整ねじ126はベース基板48側へ移
動し、これに従ってレンズ保持部材56もコリメータレ
ンズ22と一体なってベース基板48側へ移動する。ま
た位置調整ねじ126を反時計方向へ回転させると、光
軸方向に沿って位置調整ねじ126はLD基板51側へ
移動し、これに従ってレンズ保持部材56もコリメータ
レンズ22と一体なってLD基板51側へ移動する。従
って、位置調整ねじ126を回転させることにより、L
D18から出射されるレーザビームL2をフォーカス調
整することが可能になる。
【0051】ベース基板48の下面には、図8に示され
るように光軸方向に沿って細長い板ばね136の端部が
ビス137により締結固定されている。この板ばね13
6の先端側はレンズ保持部材56の下方まで延出してお
り、板ばね136の先端部にはレンズ保持部材56の下
面に面してねじ穴138が穿設されている。このねじ穴
138には調整スクリュー140がねじ込まれ、この調
整スクリュー140を介して板ばね136はレンズ保持
部材56の下面に弾接しレンズ保持部材56を常に上方
へ付勢している。ここで、調整スクリュー140を回転
させて板ばね136からレンズ保持部材56側への突出
長を変えることにより、板ばね136のレンズ保持部材
56への付勢力を調整できるようになっている。
【0052】レンズ保持部材54の頂部には、図7に示
されるようにレンズ保持部材56の上面に面してY軸方
向へ貫通するねじ穴142が穿設されている。このねじ
穴142には位置調整ねじ144がねじ込まれ、この位
置調整ねじ144の先端部はレンズ保持部材56の上面
における揺動端付近に当接している。
【0053】ここで、位置調整ねじ144の上端部に設
けられた係合溝146にドライバ等の工具を係合させて
位置調整ねじ144を回転させると、位置調整ねじ14
4がY軸方向に沿って直線移動する。このとき、位置調
整ねじ144を時計方向へ回転させると、Y軸方向に沿
って位置調整ねじ144は下方へ移動し、これに従って
レンズ保持部材56は、コリメータレンズ22と一体な
って連結ピン100を中心として下方へ揺動する。また
位置調整ねじ144を反時計方向へ回転させると、Y軸
方向に沿って位置調整ねじ144は上方へ移動し、これ
に従ってレンズ保持部材56は、板ばね136の付勢力
によりコリメータレンズ22と一体なって連結ピン10
0を中心として上方へ揺動する。
【0054】従って、位置調整ねじ144を回転させる
ことによりコリメータレンズ22をY軸方向に沿って位
置調整することが可能になる。このとき、コリメータレ
ンズ22が連結ピン100を中心とする揺動方向へ移動
してY軸方向への位置調整が行われることから、コリメ
ータレンズ22はY軸方向へ移動すると共にX軸方向へ
も移動することとなるが、コリメータレンズ22のY軸
方向への調整量は通常僅かであり、Y軸方向への移動量
に対するX軸方向への移動量が小さくなることから、コ
リメータレンズ22の連結ピン100を中心として揺動
は近似的にY軸方向への直線移動と見なすことができ
る。
【0055】特に、本実施の形態では、図6に示される
ようにレンズ保持部材56の揺動中心SがX軸方向に沿
ってレーザビームL1,L2の光軸を結ぶ直線上にあり、
この揺動中心S(連結ピン100)がレーザビーム
1,L2のX軸方向に沿った中心位置を基準として一方
のコリメータレンズ20の外側に配置されているので、
揺動中心Sから他方のコリメータレンズ22の光軸まで
の距離が十分大きくなっている。このため、Y軸方向へ
の移動量に対するX軸方向への移動量が十分小さくなっ
ている。
【0056】LD基板51には、図3に示されるように
光軸方向へ貫通する一対のLD収納部148,150が
穿設されている。これらのLD収納部148,150の
X軸方向に沿った間隔は、感光体12上でのレーザビー
ムL1,L2の副走査方向に沿った間隔に対応する長さと
されている。LD収納部148,150内にはそれぞれ
LD16,18が挿入される。LD基板51の後端面に
は板状のスペーサ152を介して固定板154がビス1
55により締結固定され、これにより、LD収納部14
8,150内のLD16,18がLD基板51に対して
固定される。またLD16,18はFPC(フレキシブ
ル・プリント基板)158を介して光学箱44上に設置
されたLDドライバ基板158(図2参照)に接続され
るようになっている。
【0057】LD基板51には、上端部及び下端部の対
角線に沿った上端側及び下端側のコーナ部にそれぞれ光
軸方向へ貫通する挿通穴160が穿設されており、一
方、ベース基板48には一対の挿通穴160にそれぞれ
対応する位置にねじ穴162が穿設されている。一対の
挿通穴160にはそれぞれビス164が挿通され、これ
らのビス164の先端部が一対のねじ穴162にそれぞ
れねじ込まれることにより、LD基板51はベース基板
48に締結固定されるようになっている。ここで、LD
基板51の挿通穴160の内径はビス162の外径より
長くされており、これにより、内外径の差に等しい範囲
でLD基板51はX軸及びY軸方向へ、すなわちX−Y
平面に沿って移動可能なっている。
【0058】次に、第1の実施の形態に係る光源装置1
4によるレーザビームL1,L2の光軸調整方法について
説明する。本実施の形態の光源装置14ではレーザビー
ムL 1の光軸調整を先行して行う。レーザビームL1の光
軸調整を行う際には、先ず、ビーム発生部24のLD2
4を発光させた状態でLD支持基板51を光軸方向と直
交するX−Y平面に沿って移動させることにより、アパ
ーチャー30を通過したレーザビームL1が所定の入射
位置に入射するように位置調整する。このとき、レーザ
ビームL1の入射位置は、例えば、回転多面鏡38の反
射面の中心点に対応する位置に設定され、この位置に置
かれた受光素子等からなる光パワーメータ(図示省略)
によりレーザビームL1の光量をモニタすることで、レ
ーザビームL1と入射位置との一致を検出する。X−Y
平面に沿った光軸調整が完了すると、ドライバ等により
調整軸80を回転させて鏡筒68を回転させる。これに
より、コリメータレンズ20を鏡筒68と共に光軸方向
に沿って移動させ、レーザビームL1が感光体12上で
所定サイズのビームスポット(14μm以下)として結
象するようにコリメータレンズ20のフォーカス調整を
行い、レーザビームL1の光軸調整を完了させる。この
とき、レーザビームL1により形成されたビームスポッ
トの感光体12上での位置を測定しておく。
【0059】レーザビームL1の光軸調整が完了する
と、レーザビームL2の光軸調整を行う。このとき、レ
ーザビームL2により感光体12上に形成されるビーム
スポットとレーザビームL1により形成されるビームス
ポットとの相対的な位置関係を測定しつつ、先ず、位置
調整ねじ126を回転させてレンズ保持部材56をコリ
メータレンズ22と共にX軸方向に沿って移動させる。
これにより、図9(A)〜(B)に示されるように、レ
ーザビームL2のビームスポットB2が感光体12上で副
走査方向(矢印V方向)に沿って移動し、このビームス
ポットB2とレーザビームL1のビームスポットB1との
副走査方向に沿った間隔Wを目標とする値(例えば、4
2.3μm)に精度よく調整できる。
【0060】次いで、位置調整ねじ144を回転させて
レンズ保持部材56をコリメータレンズ22と共にY軸
方向に沿って移動(揺動)させる。これにより、図9
(B)〜(C)に示されるように、レーザビームL2
ビームスポットB2が感光体12上で主走査方向(矢印
H方向)に沿って移動し、このビームスポットB2とビ
ームスポットB1との主走査方向のずれDを消失させ、
ビームスポットB2とビームスポットB1とを主走査方向
において精度よく一致させることができる。この結果、
感光体12に対するレーザビームL1,L2の書き出し位
置が一致するので、書き出し位置の誤差を電気的に補正
したり、1個のSOSセンサによってレーザビーム
1,L2の双方のSOS信号を得ることができる。
【0061】また、上記のレーザビームL2のX−Y平
面に光軸直交面に沿った位置調整と平行し、位置調整ね
じ126を回転させてレンズ保持部材56を光軸方向に
沿って移動させることにより、レーザビームL2が感光
体12上で所定サイズ(14μm以下)のビームスポッ
トB2として結象するようにコリメータレンズ22を光
軸方向へ位置調整(フォーカス調整)する。
【0062】以上説明した本実施の形態に係る光源装置
14では、レーザビームL1をフォーカス調整するため
の調整軸80の先端部が光学箱44とは逆側の後端側へ
突出し、この調整軸80の先端部にドライバ等を係合さ
せて調整軸80を回転でき、かつレーザビームL1をX
軸方向及びY軸方向への位置調整するためのLD基板5
1が光学箱44から十分離れた装置端部に配置され、光
学箱44により干渉されることなくLD基板51をX軸
及びY軸方向へ位置調整できる。この結果、光源装置1
4が光走査装置10に搭載された状態でも、レーザビー
ムL1の光軸調整を簡単に行うことができる。
【0063】またレーザビームL2をフォーカス調整す
るための位置調整ねじ126の先端部及びレーザビーム
2をX軸方向へ光軸調整するための位置調整ねじ92
の先端部が共に光学箱44とは逆側の後端側へ突出し、
これらの位置調整軸92,126の先端部にドライバ等
を係合させて調整軸92,126を回転でき、かつレー
ザビームL2をY軸方向へ光軸調整するための位置調整
ねじ144の先端部が上方へ突出していることから、光
学箱44により干渉されることなく、レーザビームL2
のフォーカス調整及びX軸及びY軸方向への光軸調整を
簡単に行うことができる。
【0064】(第2の実施の形態)図10には第2の実
施の形態に係る光源装置170が示されている。なお、
第1の実施の形態に係る光源装置14と共通の部材につ
いては同一符号を付して説明を省略する。
【0065】本実施の形態の光源装置170が第1の実
施の形態に係る光源装置14と異なる点は、レンズ保持
部材54により回転鏡筒172が回転可能に支持されて
いる点である。この回転鏡筒172はレンズ保持部材5
4に設けられた円形の開口部174(図11参照)内に
ベース基板48側から回転可能に挿入されている。回転
鏡筒172の開口部174からLD基板51側へ突出し
た先端部にはその外周面にCリング176が嵌挿され、
これにより、回転鏡筒172の開口部174からの脱落
が防止されている。また回転鏡筒172はLD18の光
軸Mと同軸的になるように配置されている。
【0066】回転鏡筒172内には、図11に示される
ようにコリメータレンズ22が配置されている。コリメ
ータレンズ22は、その光軸NがLD18の光軸Mに対
して所定の偏心量Pだけ偏心するように配置されてい
る。これにより、回転鏡筒172を回転させると、コリ
メータレンズ22が偏心量Pの範囲内でX軸方向へ移動
すると共にY軸方向へも移動する。このとき生じるY軸
方向への変位は、第1の実施の形態に係る光源装置14
でのY軸方向へ光軸調整と同様に、レンズ保持部材56
を揺動方向へ移動させることで打ち消すことができる。
【0067】本実施の形態の光源装置170によれば、
第1の実施の形態に係る光源装置14と比較すると、構
造が複雑なX軸方向へ光軸調整機構の構造を簡単にでき
るので、部品点数の減少及び組立工程の簡素化によりコ
スト低減が可能となる。
【0068】また、図12に示されるように回転鏡筒1
72のLD基板51側の端部に大径の従動ギヤ180を
同軸的に固定し、これに噛み合う小径の駆動ギヤ182
を有する調整部材184をレンズ保持部材56に回転可
能に配置するようにしてもよい。このような構成を採用
した場合には減速比を十分大きくできるので、X軸方向
への光軸調整を精度よく行うことができる。
【0069】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る光源装
置によれば、光走査装置等の光源装置が適用される装置
に搭載された状態でも、第1ビームを基準として第2の
ビーム発生手段から出射される第2ビームを光軸方向及
び光軸方向と直交する2方向へそれぞれ精度良く光軸調
整できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による第1の実施の形態に係る光源装
置が用いられた光走査装置の概略構成を示す斜視図及び
感光体上における2本のレーザビームの位置関係を説明
するための模式図である。
【図2】 本発明による第1の実施の形態に係る光源装
置及び光源装置が取り付けられる光学箱を示す分解斜視
図である。
【図3】 本発明による第1の実施の形態に係る光源装
置を示す分解斜視図である。
【図4】 本発明による第1の実施の形態に係るレンズ
保持部材及び鏡筒のZ−X平面に沿った断面図である。
【図5】 本発明による第1の実施の形態に係る光源装
置を上方から見た平面図である。
【図6】 本発明による第1の実施の形態に係る光軸調
整方法により光軸調整された状態を示すビーム発生部の
平面図である。
【図7】 本発明による第1の実施の形態に係るレンズ
保持部材及び鏡筒のX−Y平面に沿った断面図である。
【図8】 本発明による第1の実施の形態に係るレンズ
保持部材及び鏡筒のY−Z平面に沿った断面図である。
【図9】 本発明による第1の実施の形態に係る光源装
置における光軸調整方法を説明するためのビームスポッ
トの模式図である。
【図10】 本発明による第2の実施の形態に係る光源
装置及び光源装置が取り付けられる光学箱を示す分解斜
視図である。
【図11】 本発明による第2の実施の形態に係るレン
ズ保持部材及び回転鏡筒を軸方向から見た側面図であ
る。
【図12】 本発明による第2の実施の形態に係る回転
鏡筒を回転調整するための従動ギヤ及び調整部材の斜視
図である。
【符号の説明】
10 光走査装置 14 光源装置 16 半導体レーザ(第1のビーム発生手段) 18 半導体レーザ(第2のビーム発生手段) 20 コリメータレンズ(第1のビーム発生手段) 22 コリメータレンズ(第2のビーム発生手段) 24 ビーム発生部(第1のビーム発生手段) 26 ビーム発生部(第2のビーム発生手段) 54 レンズ保持部材(第1のレンズ保持部材) 56 レンズ保持部材(第2のレンズ保持部材) 88 従節部材(X軸調整手段) 92 位置調整ねじ(X軸調整手段、位置調整部材) 106 板ばね(X軸調整手段、付勢部材) 108 カム面(X軸調整手段) 126 位置調整ねじ(フォーカス調整手段、位置調
整部材) 130 コイルスプリング(フォーカス調整手段、付
勢部材) 136 板ばね(Y軸調整手段、付勢部材) 140 調整スクリュー(Y軸調整手段、付勢部材) 144 位置調整ねじ(Y軸調整手段、位置調整部
材) 172 回転鏡筒 180 従動ギヤ(X軸調整手段) 184 位置調整部材(X軸調整手段)

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザから出射された発散光をコ
    リメータレンズにより略平行光である第1ビームとする
    第1のビーム発生手段と、 半導体レーザから出射された発散光をコリメータレンズ
    により略平行光である第2ビームとする第2のビーム発
    生手段と、 前記第1及び第2のビーム発生手段におけるコリメータ
    レンズをそれぞれ保持する第1及び第2のレンズ保持部
    材と、 前記第2のレンズ保持部材を前記第2のビーム発生手段
    の光軸と平行なZ軸方向へ位置調整可能とするフォーカ
    ス調整手段と、 前記第2のレンズ保持部材を前記第1のレンズ保持部材
    に対して前記Z軸方向と直交するX軸方向へ相対的に位
    置調整可能とするX軸調整手段と、 前記第2のレンズ保持部材を前記第1のレンズ保持部材
    に対して前記第2のビーム発生手段の光軸と略平行な揺
    動軸を中心とする揺動方向へ相対的に移動可能とし、前
    記Z軸方向及びX軸方向と直交するY軸方向へ位置調整
    可能とするY軸調整手段と、 を有することを特徴する光源装置。
  2. 【請求項2】 前記Y軸調整手段は前記第2のレンズ保
    持部材に当接した状態で該第2のレンズ保持部材を前記
    揺動方向に沿って移動させる位置調整部材を有し、 前記第1のビーム発生手段の光軸と前記第2のビーム発
    生手段の光軸との前記X軸方向に沿った中心点に対し
    て、前記揺動軸を前記第1のビーム発生手段の光軸より
    外側に設け、かつ前記位置調整部材を前記第2のビーム
    発生手段の光軸より外側に設けたことを特徴とする請求
    項1記載の光源装置。
  3. 【請求項3】 前記Y軸調整手段は、前記揺動方向に沿
    って前記第2のレンズ保持部材を前記位置調整部材の方
    向へ付勢して該第2のレンズ保持部材を前記位置調整部
    材に圧接させる付勢部材を有することを特徴とする請求
    項2記載の光源装置。
  4. 【請求項4】 前記X軸調整手段は、軸心回りに回転す
    ると共に前記第2のレンズ保持部材に対して前記X軸方
    向と略直交する作動方向に沿って相対的に移動する位置
    調整ねじと、前記位置調整ねじの前記作動方向への移動
    時に該位置調整ねじの一部と相対的に摺動するカム面が
    設けられ、前記位置調整ねじの前記作動方向への従って
    前記第2のレンズ保持部材と一体となって前記X軸方向
    へ移動する従節部材と、を有することを特徴とする請求
    項1、2又は3記載の光源装置。
  5. 【請求項5】 前記X軸調整手段は、前記X軸方向に沿
    って前記従節部材を前記位置調整ねじの方向へ付勢して
    前記カム面を前記位置調整ねじの一部に圧接させる付勢
    部材を有することを特徴とする請求項4記載の光源装
    置。
  6. 【請求項6】 前記フォーカス調整手段は、前記Z軸方
    向に沿って前記第2のレンズ保持部材を一方向へ付勢す
    る付勢部材と、前記Z軸付勢部材の付勢力に抗して前記
    第2のレンズホルダを前記Z軸方向に沿って移動させ、
    かつ位置決めする位置調整部材とを有することを特徴と
    する請求項1、2、3又は4記載の光源装置。
  7. 【請求項7】 半導体レーザから出射された発散光をコ
    リメータレンズにより略平行光である第1ビームとする
    第1のビーム発生手段と、 半導体レーザから出射された発散光をコリメータレンズ
    により略平行光である第2ビームとする第2のビーム発
    生手段と、 前記第1のビーム発生手段のコリメータレンズを保持し
    た第1のレンズ保持部材と、 前記第2のビーム発生手段のコリメータレンズを保持し
    た第2のレンズ保持部材と、 前記第2のレンズ保持部材により支持されると共に、前
    記第2のビーム発生手段のコリメータレンズを半導体レ
    ーザの光軸に対して偏心するように支持した回転鏡筒
    と、 前記第2のレンズ保持部材を前記第1のレンズ保持部材
    に対して前記第2のビーム発生手段の光軸と平行なZ軸
    方向へ相対的に位置調整可能とするフォーカス調整手段
    と、 前記第2のレンズ保持部材を前記第1のレンズ保持部材
    に対して前記Z軸方向と直交するY軸方向へ相対的に位
    置調整可能とするY軸調整手段と、 前記回転鏡筒を前記第2のビーム発生手段における半導
    体レーザの光軸を中心とする回転方向へ位置調整可能と
    するX軸調整手段と、 を有することを特徴する光源装置。
JP32125099A 1999-11-11 1999-11-11 光源装置 Pending JP2001142021A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32125099A JP2001142021A (ja) 1999-11-11 1999-11-11 光源装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32125099A JP2001142021A (ja) 1999-11-11 1999-11-11 光源装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001142021A true JP2001142021A (ja) 2001-05-25

Family

ID=18130490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32125099A Pending JP2001142021A (ja) 1999-11-11 1999-11-11 光源装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001142021A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007206707A (ja) * 2007-02-23 2007-08-16 Ricoh Co Ltd 光源装置、光走査装置および画像形成装置
CN100371765C (zh) * 2004-12-24 2008-02-27 兄弟工业株式会社 光学扫描设备和成像装置
JP2010135597A (ja) * 2008-12-05 2010-06-17 Alps Electric Co Ltd レーザー光源装置
US7990572B2 (en) 2003-02-17 2011-08-02 Seiko Epson Corporation Device adapted for adjustment of scan position of light beam
JP2013125257A (ja) * 2011-12-16 2013-06-24 Sharp Corp 光走査装置、及び画像形成装置
US8953010B2 (en) 2011-12-02 2015-02-10 Sharp Kabushiki Kaisha Light scanning device and image forming apparatus

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7990572B2 (en) 2003-02-17 2011-08-02 Seiko Epson Corporation Device adapted for adjustment of scan position of light beam
CN100371765C (zh) * 2004-12-24 2008-02-27 兄弟工业株式会社 光学扫描设备和成像装置
JP2007206707A (ja) * 2007-02-23 2007-08-16 Ricoh Co Ltd 光源装置、光走査装置および画像形成装置
JP4579260B2 (ja) * 2007-02-23 2010-11-10 株式会社リコー 光走査装置および画像形成装置
JP2010135597A (ja) * 2008-12-05 2010-06-17 Alps Electric Co Ltd レーザー光源装置
US8953010B2 (en) 2011-12-02 2015-02-10 Sharp Kabushiki Kaisha Light scanning device and image forming apparatus
JP2013125257A (ja) * 2011-12-16 2013-06-24 Sharp Corp 光走査装置、及び画像形成装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7518627B2 (en) Image forming apparatus
JP3538651B2 (ja) 2ビーム光走査装置を有する画像形成装置
JP2000105347A (ja) マルチビ―ム光源装置、マルチビ―ム走査装置および画像形成装置
JPH0792413A (ja) 円筒内面走査装置
US20040165237A1 (en) Scanner having a light beam incident position adjusting device
JP6504450B2 (ja) 光源装置及びこの光源装置を用いた光走査装置、物体検出装置
JP2001142021A (ja) 光源装置
JP4109878B2 (ja) 走査光学装置
TW200844478A (en) MEMS oscillating laser scanning unit and assembly method of the same
JPH11223785A (ja) 光学部品の取付構造
JP2001296490A (ja) 光走査装置及びこの光走査装置に用いられる光源装置
JP4390477B2 (ja) レーザ走査装置
KR20050042311A (ko) 멀티-빔 광원 유닛과, 이를 구비하는 레이저 스캐닝 유닛및 그조립방법
JP3648391B2 (ja) マルチビーム走査装置およびその光源装置
JP2004240275A (ja) レーザ走査装置
JP3283217B2 (ja) 走査光学系の走査位置補正装置
JP3721836B2 (ja) 光走査装置
JPH11326797A (ja) 光ビ―ム走査装置
JP2001100137A (ja) 走査光学装置
JPH10319336A (ja) マルチビーム光源装置およびこれを用いた光偏向走査装置
JP4501999B2 (ja) 画像形成装置
JP4085560B2 (ja) 画像形成装置
JP2002311368A (ja) 光走査装置、及び光走査装置のレジ調整・左右倍率調整方法
JP2001228417A (ja) 光源ユニット、光源ユニットを用いた画像形成装置及び光源ユニットの生産方法
JP2001142014A (ja) 光学走査装置及び光軸調整方法