JP2001133650A - 光導波路基板、光導波路基板の製造方法、光導波路部品、及び光導波路部品の製造方法 - Google Patents
光導波路基板、光導波路基板の製造方法、光導波路部品、及び光導波路部品の製造方法Info
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- JP2001133650A JP2001133650A JP31780799A JP31780799A JP2001133650A JP 2001133650 A JP2001133650 A JP 2001133650A JP 31780799 A JP31780799 A JP 31780799A JP 31780799 A JP31780799 A JP 31780799A JP 2001133650 A JP2001133650 A JP 2001133650A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プレス成形法を用いて中間クラッド層を形成
し、且つ熱膨張に起因する転写精度の低下を防止し、微
細パターンのコア部を有する光導波路基板の製造方法、
及び光ファイバを接続するための光導波路部品の製造方
法を実現すること。 【解決手段】 平面ガラス基板10からなる下部クラッ
ド層上11に、熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからなる
プレート12を載せる。コア形状の線状凸部を有するプ
レス型を用いて、プレート12を加熱軟化させてプレス
し、溝部14を有する中間クラッド層13を形成する。
次に屈折率の異なる透明樹脂15を溝部14に充填し、
コア18を形成する。そしてその上に平面ガラス基板1
2からなる上部クラッド層17を固定し、光導波路基板
を製作する。
し、且つ熱膨張に起因する転写精度の低下を防止し、微
細パターンのコア部を有する光導波路基板の製造方法、
及び光ファイバを接続するための光導波路部品の製造方
法を実現すること。 【解決手段】 平面ガラス基板10からなる下部クラッ
ド層上11に、熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからなる
プレート12を載せる。コア形状の線状凸部を有するプ
レス型を用いて、プレート12を加熱軟化させてプレス
し、溝部14を有する中間クラッド層13を形成する。
次に屈折率の異なる透明樹脂15を溝部14に充填し、
コア18を形成する。そしてその上に平面ガラス基板1
2からなる上部クラッド層17を固定し、光導波路基板
を製作する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、安価な方法で製造
できる高精度で信頼性の高い光導波路基板、及び光導波
路基板の製造方法、光ファイバを接続するための光導波
路部品、及び光導波路部品の製造方法に関するものであ
る。
できる高精度で信頼性の高い光導波路基板、及び光導波
路基板の製造方法、光ファイバを接続するための光導波
路部品、及び光導波路部品の製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図13は一般的な石英系シングルモード
の光導波路基板の構造を示す断面図である。この光導波
路基板は、下部クラッド層121及び上部クラッド層1
23よりも屈折率の高いコア122aの部分に光ビーム
が案内されて、光ビームが光導波路の軸方向に伝搬する
構成となっている。
の光導波路基板の構造を示す断面図である。この光導波
路基板は、下部クラッド層121及び上部クラッド層1
23よりも屈折率の高いコア122aの部分に光ビーム
が案内されて、光ビームが光導波路の軸方向に伝搬する
構成となっている。
【0003】このような従来の光導波路基板の製造方法
を図14を用いて説明する。図14(a)に示すよう
に、下部クラッド層121を兼ねた石英基板上に、火炎
堆積法などを用いて、下部クラッド層121よりも屈折
率の高い光学材料122を成膜し、図14(b)のよう
な状態にする。次にフォトリソグラフ法並びにドライエ
ッチング法により、所定のコアのパターンに光学材料1
22を加工し、図14(c)のようにコア122aを形
成する。最後に図14(d)に示すように、コア122
aを覆うよう上部クラッド層123を形成して、光導波
路基板に仕上げる。(このような製造方法は、参考文献
として、河内著、オプトロニクス、No.8、85、1
988に記載されている。)
を図14を用いて説明する。図14(a)に示すよう
に、下部クラッド層121を兼ねた石英基板上に、火炎
堆積法などを用いて、下部クラッド層121よりも屈折
率の高い光学材料122を成膜し、図14(b)のよう
な状態にする。次にフォトリソグラフ法並びにドライエ
ッチング法により、所定のコアのパターンに光学材料1
22を加工し、図14(c)のようにコア122aを形
成する。最後に図14(d)に示すように、コア122
aを覆うよう上部クラッド層123を形成して、光導波
路基板に仕上げる。(このような製造方法は、参考文献
として、河内著、オプトロニクス、No.8、85、1
988に記載されている。)
【0004】一方、樹脂材料は、石英に比べて光の透過
性能や信頼性が劣るが、成形が容易である。このため光
導波路基板の低コスト化を図るべく、樹脂を用いた光導
波路基板も検討されている。樹脂製の光導波路基板の製
造方法は、クラッド層及びコア層を順次形成し、石英製
の光導波路基板の製造と同様に、コアをドライエッチン
グ法によりパターニングして製造する。
性能や信頼性が劣るが、成形が容易である。このため光
導波路基板の低コスト化を図るべく、樹脂を用いた光導
波路基板も検討されている。樹脂製の光導波路基板の製
造方法は、クラッド層及びコア層を順次形成し、石英製
の光導波路基板の製造と同様に、コアをドライエッチン
グ法によりパターニングして製造する。
【0005】しかしながら、コアのパターニングにフォ
トリソグラフ法及びドライエッチング法を用いた場合、
複雑で高精度な設備が多数必要となる。従って、このよ
うな方法で光導波路基板を製造していたのでは、材料は
安価であるが、実質的に光導波路基板を安価に製造する
ことが困難となる。
トリソグラフ法及びドライエッチング法を用いた場合、
複雑で高精度な設備が多数必要となる。従って、このよ
うな方法で光導波路基板を製造していたのでは、材料は
安価であるが、実質的に光導波路基板を安価に製造する
ことが困難となる。
【0006】そこで最近では、特開平8−320420
号公報に開示されているように、図15に示したような
光導波路基板の製造方法が用いられている。この製造方
法では、図15(a)に示すように、ガラスのような熱
可塑性材料からなる被成形物131を加熱軟化させて平
板状にする。次に図15(b)で示すように、コアパタ
ーンの反転形状(凸部)を有するプレス型でプレス成形
し、冷却後に成形物を取り出す。こうするとコアパター
ンの転写が行われ、凹部131aが形成される。この平
板状部材を光導波路基板にするには、図15(c)に示
すように、屈折率の異なる樹脂132を凹部131aに
埋め込む。次に図15(d)に示すように、上部クラッ
ド層133となる基板を下部クラッド層134の上面に
形成して光導波路基板を作製する。
号公報に開示されているように、図15に示したような
光導波路基板の製造方法が用いられている。この製造方
法では、図15(a)に示すように、ガラスのような熱
可塑性材料からなる被成形物131を加熱軟化させて平
板状にする。次に図15(b)で示すように、コアパタ
ーンの反転形状(凸部)を有するプレス型でプレス成形
し、冷却後に成形物を取り出す。こうするとコアパター
ンの転写が行われ、凹部131aが形成される。この平
板状部材を光導波路基板にするには、図15(c)に示
すように、屈折率の異なる樹脂132を凹部131aに
埋め込む。次に図15(d)に示すように、上部クラッ
ド層133となる基板を下部クラッド層134の上面に
形成して光導波路基板を作製する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな転写方法では、加熱軟化した被成形物をプレス型と
接触させて冷却するので、被成形物とプレス型との熱膨
張係数の差に起因して熱応力が発生する。その結果、被
成形物に転写されるパターンの精度が低下する。特に、
プレス型の中心から外周に向けて距離が長くなるほど、
パターンずれが大きくなる。特に、被成形物に樹脂材料
を用いた場合は、型の材料として用いられる石英などの
材料と比べると、1〜2桁程度も熱膨張係数が大きいの
で、ひどい場合には、プレス型で樹脂材料がえぐられる
ようになる。
うな転写方法では、加熱軟化した被成形物をプレス型と
接触させて冷却するので、被成形物とプレス型との熱膨
張係数の差に起因して熱応力が発生する。その結果、被
成形物に転写されるパターンの精度が低下する。特に、
プレス型の中心から外周に向けて距離が長くなるほど、
パターンずれが大きくなる。特に、被成形物に樹脂材料
を用いた場合は、型の材料として用いられる石英などの
材料と比べると、1〜2桁程度も熱膨張係数が大きいの
で、ひどい場合には、プレス型で樹脂材料がえぐられる
ようになる。
【0008】実際、本発明者が具体的に検討したところ
によると、プレス型を用いて樹脂基板に転写すると、ミ
クロンオーダのレベルで溝の幅が広がり、溝形状が乱れ
てしまった。この現象は、冷却時に樹脂基板がプレス型
よりも大きく収縮し、樹脂基板がその転写中央部に向か
って収縮した結果であると考えられる。このように樹脂
材料は低温で成形できる長所があり、製造コスト上も有
利であるにもかかわらず、プレス成形によりパターンを
転写しようとすると、微細なパターンを正確に転写でき
なくなるという問題があった。
によると、プレス型を用いて樹脂基板に転写すると、ミ
クロンオーダのレベルで溝の幅が広がり、溝形状が乱れ
てしまった。この現象は、冷却時に樹脂基板がプレス型
よりも大きく収縮し、樹脂基板がその転写中央部に向か
って収縮した結果であると考えられる。このように樹脂
材料は低温で成形できる長所があり、製造コスト上も有
利であるにもかかわらず、プレス成形によりパターンを
転写しようとすると、微細なパターンを正確に転写でき
なくなるという問題があった。
【0009】また、光導波路基板全体を樹脂で構成した
場合、熱膨張係数が大きいために、周囲の温度変化によ
り光導波路パターンが変形し、信頼性が十分確保されな
くなるという課題があった。
場合、熱膨張係数が大きいために、周囲の温度変化によ
り光導波路パターンが変形し、信頼性が十分確保されな
くなるという課題があった。
【0010】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたものであって、プレス成形法を用いて中間ク
ラッド層を形成し、且つ熱膨張に起因する転写精度の低
下を防止し、微細パターンのコアを有する光導波路基
板、光導波路基板の製造方法、光ファイバを接続するた
めの光導波路部品、光導波路部品の製造方法を実現する
ことを目的とする。
てなされたものであって、プレス成形法を用いて中間ク
ラッド層を形成し、且つ熱膨張に起因する転写精度の低
下を防止し、微細パターンのコアを有する光導波路基
板、光導波路基板の製造方法、光ファイバを接続するた
めの光導波路部品、光導波路部品の製造方法を実現する
ことを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本願の請求項1の発明
は、光ビームをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬
させる光導波路基板の製造方法であって、屈折率n1の
ガラス基板を所定形状に加工して、一方の平面を光学的
接合面とする下部クラッド層を得る工程(1)と、前記
下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n2を有する
熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプレートを載置
する工程(2)と、前記コアと同一形状を有する線状凸
部が形成されたプレス型を用いて前記プレートを押圧
し、前記プレス型と前記下部クラッド層とを加熱するこ
とにより前記プレート素材を軟化させ、前記プレス型の
線状凸部が前記下部クラッド層の光学的接合面に当たる
まで押圧と加熱を続ける工程(3)と、前記工程(3)
の完了後に前記プレス型を冷却すると共に、前記プレー
トへの押圧状態から前記プレス型を開放し、前記コアの
空間となる溝部が形成された中間クラッド層を得る工程
(4)と、前記中間クラッド層の前記溝部に、屈折率n
3(n3>n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬
化させることによりコアを得る工程(5)と、前記工程
(5)後の中間クラッド層の上面に、屈折率n4(n4
<n3)を有する平面ガラス基板を接合することにより
上部クラッド層を形成する工程(6)と、を有すること
を特徴とするものである。
は、光ビームをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬
させる光導波路基板の製造方法であって、屈折率n1の
ガラス基板を所定形状に加工して、一方の平面を光学的
接合面とする下部クラッド層を得る工程(1)と、前記
下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n2を有する
熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプレートを載置
する工程(2)と、前記コアと同一形状を有する線状凸
部が形成されたプレス型を用いて前記プレートを押圧
し、前記プレス型と前記下部クラッド層とを加熱するこ
とにより前記プレート素材を軟化させ、前記プレス型の
線状凸部が前記下部クラッド層の光学的接合面に当たる
まで押圧と加熱を続ける工程(3)と、前記工程(3)
の完了後に前記プレス型を冷却すると共に、前記プレー
トへの押圧状態から前記プレス型を開放し、前記コアの
空間となる溝部が形成された中間クラッド層を得る工程
(4)と、前記中間クラッド層の前記溝部に、屈折率n
3(n3>n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬
化させることによりコアを得る工程(5)と、前記工程
(5)後の中間クラッド層の上面に、屈折率n4(n4
<n3)を有する平面ガラス基板を接合することにより
上部クラッド層を形成する工程(6)と、を有すること
を特徴とするものである。
【0012】本願の請求項2の発明は、光ビームをコア
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
であって、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部ク
ラッド層と、屈折率n4の平面ガラス基板からなる上部
クラッド層と、前記下部クラッド層と前記上部クラッド
層とに挟持され、屈折率n2を有する熱可塑性樹脂又は
低融点ガラスからなるプレートに対して、前記コアの空
間となる溝部が設けられた中間クラッド層と、前記中間
クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n4,n2,
n1)を有する透明樹脂を充填して硬化させたコアと、
を有することを特徴とするものである。
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
であって、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部ク
ラッド層と、屈折率n4の平面ガラス基板からなる上部
クラッド層と、前記下部クラッド層と前記上部クラッド
層とに挟持され、屈折率n2を有する熱可塑性樹脂又は
低融点ガラスからなるプレートに対して、前記コアの空
間となる溝部が設けられた中間クラッド層と、前記中間
クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n4,n2,
n1)を有する透明樹脂を充填して硬化させたコアと、
を有することを特徴とするものである。
【0013】本願の請求項3の発明は、光ビームをコア
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品の製造方法で
あって、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工し
て、一方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基
板を得る工程(1)と、前記光ファイバの固定溝を形成
するための線状山型突起が形成された第1のプレス型を
用いて前記被成形用ガラス基板を押圧し、前記被成形用
ガラス基板を加熱することにより軟化させ、前記被成形
用ガラス基板の一部に前記光ファイバの固定溝を形成す
ると共に、前記被成形用ガラス基板の他の部分に下部ク
ラッド層を形成する工程(2)と、前記被成形用ガラス
基板の下部クラッド層の上面に、屈折率n2を有する熱
可塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプレートを載置す
る工程(3)と、前記コアと同一形状を有する線状凸部
が形成された第2のプレス型を用い、前記線状凸部と前
記固定溝との中心線が一致するよう前記プレートを押圧
し、前記プレートを加熱することにより軟化させ、前記
第2のプレス型の線状凸部が前記被成形用ガラス基板の
平面部分に当たるまで押圧と加熱を続ける工程(4)
と、前記工程(4)の完了後に前記第2のプレス型を冷
却すると共に、前記プレートへの押圧状態から前記第2
のプレス型を開放し、前記コアの空間となる溝部が形成
された中間クラッド層を得る工程(5)と、前記中間ク
ラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n2,n1)を
有する透明樹脂を充填して硬化させることによりコアを
得る工程(6)と、前記工程(6)後の中間クラッド層
の上面に、屈折率n4(n4<n3)を有する平面ガラ
ス基板を接合することにより上部クラッド層を形成する
工程(7)と、を有することを特徴とするものである。
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品の製造方法で
あって、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工し
て、一方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基
板を得る工程(1)と、前記光ファイバの固定溝を形成
するための線状山型突起が形成された第1のプレス型を
用いて前記被成形用ガラス基板を押圧し、前記被成形用
ガラス基板を加熱することにより軟化させ、前記被成形
用ガラス基板の一部に前記光ファイバの固定溝を形成す
ると共に、前記被成形用ガラス基板の他の部分に下部ク
ラッド層を形成する工程(2)と、前記被成形用ガラス
基板の下部クラッド層の上面に、屈折率n2を有する熱
可塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプレートを載置す
る工程(3)と、前記コアと同一形状を有する線状凸部
が形成された第2のプレス型を用い、前記線状凸部と前
記固定溝との中心線が一致するよう前記プレートを押圧
し、前記プレートを加熱することにより軟化させ、前記
第2のプレス型の線状凸部が前記被成形用ガラス基板の
平面部分に当たるまで押圧と加熱を続ける工程(4)
と、前記工程(4)の完了後に前記第2のプレス型を冷
却すると共に、前記プレートへの押圧状態から前記第2
のプレス型を開放し、前記コアの空間となる溝部が形成
された中間クラッド層を得る工程(5)と、前記中間ク
ラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n2,n1)を
有する透明樹脂を充填して硬化させることによりコアを
得る工程(6)と、前記工程(6)後の中間クラッド層
の上面に、屈折率n4(n4<n3)を有する平面ガラ
ス基板を接合することにより上部クラッド層を形成する
工程(7)と、を有することを特徴とするものである。
【0014】本願の請求項4の発明は、光ビームをコア
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品であって、屈
折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部
に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記
ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成
された光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベ
ース基板の下部クラッド層の光学的接合面に設けられ、
屈折率n2を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスから
なるプレートに対して、前記コアの空間となる溝部が前
記光ファイバの固定溝の延長線上に設けられた中間クラ
ッド層と、前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3
(n3>n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化
させたコアと、前記コアと中間クラッド層の上面に、屈
折率n4(n4<n3)を有する平面ガラス基板を接合
して形成された上部クラッド層と、を有することを特徴
とするものである。
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品であって、屈
折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部
に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記
ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成
された光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベ
ース基板の下部クラッド層の光学的接合面に設けられ、
屈折率n2を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスから
なるプレートに対して、前記コアの空間となる溝部が前
記光ファイバの固定溝の延長線上に設けられた中間クラ
ッド層と、前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3
(n3>n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化
させたコアと、前記コアと中間クラッド層の上面に、屈
折率n4(n4<n3)を有する平面ガラス基板を接合
して形成された上部クラッド層と、を有することを特徴
とするものである。
【0015】本願の請求項5の発明は、光ビームをコア
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
の製造方法であって、屈折率n1のガラス基板を所定形
状に加工して、一方の平面を光学的接合面とする下部ク
ラッド層を得る工程(1)と、前記下部クラッド層の光
学的接合面に、屈折率n2(n2>n1)を有する熱可
塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプレートを載置する
工程(2)と、前記コアと同一形状を有する線状凹部を
形成したプレス型を用いて前記プレートを押圧し、前記
プレス型と前記下部クラッド層とを加熱することによ
り、前記プレート素材を軟化させ、前記プレス型の線状
凹部を除く平面部が前記下部クラッド層の光学的接合面
に当たるまで押圧と加熱を続ける工程(3)と、前記工
程(3)の完了後に前記プレス型を冷却すると共に、前
記プレートへの押圧状態から前記プレス型を開放するこ
とにより、前記下部クラッド層の上面にコアを形成する
工程(4)と、前記コアを包み込むように屈折率n3
(n3<n2)を有する樹脂を塗布することにより、平
板状の上部クラッド層を形成する工程(5)と、前記上
部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板を形成する
工程(6)と、を有することを特徴とするものである。
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
の製造方法であって、屈折率n1のガラス基板を所定形
状に加工して、一方の平面を光学的接合面とする下部ク
ラッド層を得る工程(1)と、前記下部クラッド層の光
学的接合面に、屈折率n2(n2>n1)を有する熱可
塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプレートを載置する
工程(2)と、前記コアと同一形状を有する線状凹部を
形成したプレス型を用いて前記プレートを押圧し、前記
プレス型と前記下部クラッド層とを加熱することによ
り、前記プレート素材を軟化させ、前記プレス型の線状
凹部を除く平面部が前記下部クラッド層の光学的接合面
に当たるまで押圧と加熱を続ける工程(3)と、前記工
程(3)の完了後に前記プレス型を冷却すると共に、前
記プレートへの押圧状態から前記プレス型を開放するこ
とにより、前記下部クラッド層の上面にコアを形成する
工程(4)と、前記コアを包み込むように屈折率n3
(n3<n2)を有する樹脂を塗布することにより、平
板状の上部クラッド層を形成する工程(5)と、前記上
部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板を形成する
工程(6)と、を有することを特徴とするものである。
【0016】本願の請求項6の発明は、光ビームをコア
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
であって、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部ク
ラッド層と、前記下部クラッド層の上面に、屈折率n2
(n2>n1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラス
を用いて凸状に形成されたコアと、前記コアを包み込む
ように屈折率n3(n3<n2)を有する樹脂を塗布す
ることにより平板状に形成された上部クラッド層と、前
記上部クラッド層の上面に形成された保護用平面ガラス
基板と、を有することを特徴とするものである。
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
であって、屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部ク
ラッド層と、前記下部クラッド層の上面に、屈折率n2
(n2>n1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラス
を用いて凸状に形成されたコアと、前記コアを包み込む
ように屈折率n3(n3<n2)を有する樹脂を塗布す
ることにより平板状に形成された上部クラッド層と、前
記上部クラッド層の上面に形成された保護用平面ガラス
基板と、を有することを特徴とするものである。
【0017】本願の請求項7の発明は、光ビームをコア
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品の製造方法で
あって、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工し
て、一方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基
板を得る工程(1)と、前記光ファイバの固定溝を形成
するための線状山型突起が形成された第1のプレス型を
用いて前記被成形用ガラス基板を押圧し、前記被成形用
ガラス基板を加熱することにより軟化させ、前記被成形
用ガラス基板の一部に前記光ファイバの固定溝を形成す
ると共に、前記被成形用ガラス基板の他の部分に下部ク
ラッド層を形成する工程(2)と、前記被成形用ガラス
基板の下部クラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n
1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプ
レートを載置する工程(3)と、前記コアと同一形状を
有する溝部を形成した第2のプレス型を用いて前記プレ
ートを押圧し、前記プレートを加熱することによって軟
化させ、前記第2のプレス型の溝部を除く平面部が前記
下部クラッド層の上面に当たるまで押圧と加熱を続ける
工程(4)と、前記工程(4)の完了後に前記第2のプ
レス型を冷却すると共に、前記プレートへの押圧状態か
ら前記第2のプレス型を開放し、前記下部クラッド層の
上面にコアを形成する工程(5)と、前記コアを包み込
むように屈折率n3(n3<n2)を有する樹脂を塗布
することにより、平板状の上部クラッド層を形成する工
程(6)と、前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガ
ラス基板を形成する工程(7)と、を有することを特徴
とするものである。
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品の製造方法で
あって、屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工し
て、一方の平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基
板を得る工程(1)と、前記光ファイバの固定溝を形成
するための線状山型突起が形成された第1のプレス型を
用いて前記被成形用ガラス基板を押圧し、前記被成形用
ガラス基板を加熱することにより軟化させ、前記被成形
用ガラス基板の一部に前記光ファイバの固定溝を形成す
ると共に、前記被成形用ガラス基板の他の部分に下部ク
ラッド層を形成する工程(2)と、前記被成形用ガラス
基板の下部クラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n
1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプ
レートを載置する工程(3)と、前記コアと同一形状を
有する溝部を形成した第2のプレス型を用いて前記プレ
ートを押圧し、前記プレートを加熱することによって軟
化させ、前記第2のプレス型の溝部を除く平面部が前記
下部クラッド層の上面に当たるまで押圧と加熱を続ける
工程(4)と、前記工程(4)の完了後に前記第2のプ
レス型を冷却すると共に、前記プレートへの押圧状態か
ら前記第2のプレス型を開放し、前記下部クラッド層の
上面にコアを形成する工程(5)と、前記コアを包み込
むように屈折率n3(n3<n2)を有する樹脂を塗布
することにより、平板状の上部クラッド層を形成する工
程(6)と、前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガ
ラス基板を形成する工程(7)と、を有することを特徴
とするものである。
【0018】本願の請求項8の発明は、光ビームをコア
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品であって、屈
折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部
に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記
ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成
された光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベ
ース基板の下部クラッド層の上面に、前記光ファイバの
固定溝の延長線と一致するよう設けられ、屈折率n2
(n2>n1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラス
を用いて凸状に形成されたコアと、前記コアを包み込む
ように屈折率n3(n3<n2)を有する樹脂を塗布す
ることにより、平板状に形成された上部クラッド層と、
前記上部クラッド層の上面にガラス基板を接合すること
により形成された保護用平面ガラス基板と、を有するこ
とを特徴とするものである。
内で拘束してコアの軸に沿って伝搬させる光導波路基板
と光ファイバとを結合させる光導波路部品であって、屈
折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一部
に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前記
ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形成
された光ファイバ接合部を有するベース基板と、前記ベ
ース基板の下部クラッド層の上面に、前記光ファイバの
固定溝の延長線と一致するよう設けられ、屈折率n2
(n2>n1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラス
を用いて凸状に形成されたコアと、前記コアを包み込む
ように屈折率n3(n3<n2)を有する樹脂を塗布す
ることにより、平板状に形成された上部クラッド層と、
前記上部クラッド層の上面にガラス基板を接合すること
により形成された保護用平面ガラス基板と、を有するこ
とを特徴とするものである。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。 (実施の形態1)本発明の実施の形態1における光導波
路基板の構造と、その製造方法について、図1〜図4を
用いて説明する。光導波路基板とは、光ビームをコア内
で拘束してコアの軸に沿って伝搬させるものである。図
1は本実施の形態における光導波路基板の製造方法の概
略工程図である。図1(a)に示すように、屈折率n1
の平面ガラス基板10からなる下部クラッド層11を水
平に固定し、図1(b)に示すように熱可塑性樹脂又は
低融点ガラスからなるプレート12を下部クラッド層1
1の光学的接合面である上面に載せる。この熱可塑性樹
脂又は低融点ガラスは、屈折率n2を有するものであ
る。
いて図面を参照しながら説明する。 (実施の形態1)本発明の実施の形態1における光導波
路基板の構造と、その製造方法について、図1〜図4を
用いて説明する。光導波路基板とは、光ビームをコア内
で拘束してコアの軸に沿って伝搬させるものである。図
1は本実施の形態における光導波路基板の製造方法の概
略工程図である。図1(a)に示すように、屈折率n1
の平面ガラス基板10からなる下部クラッド層11を水
平に固定し、図1(b)に示すように熱可塑性樹脂又は
低融点ガラスからなるプレート12を下部クラッド層1
1の光学的接合面である上面に載せる。この熱可塑性樹
脂又は低融点ガラスは、屈折率n2を有するものであ
る。
【0020】次に、コアに相当する位置に、線状凸部を
有するプレス型(図示せず)を予め作成しておき、プレ
ート12を加熱軟化させてプレス成形した。そうする
と、図1(c)に示すように、コアと同一厚みで、コア
に相当する溝部14を有する中間クラッド層13が形成
された。そして図1(d)に示すように、溝部14に屈
折率n3(n3>n2,n1)の透明樹脂15を充填
し、コア18を形成した。その上に屈折率n4(n4<
n3)を有する平面ガラス基板17からなる上部クラッ
ド層16を設けると、図1(e)の状態となり、光導波
路基板が完成した。
有するプレス型(図示せず)を予め作成しておき、プレ
ート12を加熱軟化させてプレス成形した。そうする
と、図1(c)に示すように、コアと同一厚みで、コア
に相当する溝部14を有する中間クラッド層13が形成
された。そして図1(d)に示すように、溝部14に屈
折率n3(n3>n2,n1)の透明樹脂15を充填
し、コア18を形成した。その上に屈折率n4(n4<
n3)を有する平面ガラス基板17からなる上部クラッ
ド層16を設けると、図1(e)の状態となり、光導波
路基板が完成した。
【0021】図2は、本実施の形態の製造方法に用いる
プレス成形工程を示し、特に成形前の状態を示すプレス
成形機20の断面図である。プレス型23はコアを形成
するための線状凸部23aを有している石英製の型であ
る。この線状凸部23aは、厚さ5mm、縦5mm×横
5mmの石英ガラス基板を平面に研磨した後、通常のフ
ォトレジストを用いたパターニング法により形成され
た。ここでは、石英ガラス基板に対して帯状のパターン
を形成した後、ドライエッチング法を用いて石英ガラス
基板表面に線状凸部23a(断面形状;高さ8μm×幅
8μmの突起)を250μm間隔で4本設けた。
プレス成形工程を示し、特に成形前の状態を示すプレス
成形機20の断面図である。プレス型23はコアを形成
するための線状凸部23aを有している石英製の型であ
る。この線状凸部23aは、厚さ5mm、縦5mm×横
5mmの石英ガラス基板を平面に研磨した後、通常のフ
ォトレジストを用いたパターニング法により形成され
た。ここでは、石英ガラス基板に対して帯状のパターン
を形成した後、ドライエッチング法を用いて石英ガラス
基板表面に線状凸部23a(断面形状;高さ8μm×幅
8μmの突起)を250μm間隔で4本設けた。
【0022】一方、平面ガラス基板10は、厚さ2m
m、縦5mm×横5mmの平面に研磨したもので、屈折
率n1=1.5、熱膨張係数70×10-7/Kの特性を
有している。このガラス基板10にn1と同じ屈折率n
2を有するポリオレフィン系の熱可塑性樹脂製からなる
プレート12を載せた。続いて、前述した石英製のプレ
ス型23に離型剤を塗布した後、プレート12上にプレ
ス型23を載せて、ヒーターが内蔵された下ヒーターブ
ロック24上に置いた。
m、縦5mm×横5mmの平面に研磨したもので、屈折
率n1=1.5、熱膨張係数70×10-7/Kの特性を
有している。このガラス基板10にn1と同じ屈折率n
2を有するポリオレフィン系の熱可塑性樹脂製からなる
プレート12を載せた。続いて、前述した石英製のプレ
ス型23に離型剤を塗布した後、プレート12上にプレ
ス型23を載せて、ヒーターが内蔵された下ヒーターブ
ロック24上に置いた。
【0023】この状態で、上ヒーターブロック25及び
下ヒーターブロック24を180℃に昇温させ、上ヒー
ターブロック25を徐々に下降させ、圧力を加えてプレ
スした。図3に示すように、石英製のプレス型23の線
状凸部23aの先端が、下部クラッド層11となる平面
ガラス基板10の表面に接するまでプレスを続け、その
ままの状態で冷却した。そして、室温となったところ
で、プレス型23によるプレスを解放して、成形された
基板を取り出した。このときの基板は図3に示すよう
に、下部クラッド層11上に、コアと同一厚みで、コア
に相当する溝部を有する中間クラッド層13が形成され
た。この基板では、中間クラッド層13がコアで互いに
分離されて帯状になっている。さらに帯状の中間クラッ
ド層13は、下部クラッド層11に強固に接着されてい
るので、プレス型23と中間クラッド層13との熱収縮
差によるパターンずれが非常に小さくなり、プレス型2
3の形状がそのまま良好に転写されたものとなる。
下ヒーターブロック24を180℃に昇温させ、上ヒー
ターブロック25を徐々に下降させ、圧力を加えてプレ
スした。図3に示すように、石英製のプレス型23の線
状凸部23aの先端が、下部クラッド層11となる平面
ガラス基板10の表面に接するまでプレスを続け、その
ままの状態で冷却した。そして、室温となったところ
で、プレス型23によるプレスを解放して、成形された
基板を取り出した。このときの基板は図3に示すよう
に、下部クラッド層11上に、コアと同一厚みで、コア
に相当する溝部を有する中間クラッド層13が形成され
た。この基板では、中間クラッド層13がコアで互いに
分離されて帯状になっている。さらに帯状の中間クラッ
ド層13は、下部クラッド層11に強固に接着されてい
るので、プレス型23と中間クラッド層13との熱収縮
差によるパターンずれが非常に小さくなり、プレス型2
3の形状がそのまま良好に転写されたものとなる。
【0024】引き続いて、図1(c)、(d)に示すよ
うに、形成された溝部14に、中間クラッド層13より
も0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシ製の透
明樹脂15を埋め込み、図1(d)のようにコア18を
形成した。そして更にその上部から下部クラッド層11
と同一の平面ガラス基板17からなる上部クラッド層1
6を貼り合わせた。このようにして、図4に示す光導波
路基板を作製した。
うに、形成された溝部14に、中間クラッド層13より
も0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシ製の透
明樹脂15を埋め込み、図1(d)のようにコア18を
形成した。そして更にその上部から下部クラッド層11
と同一の平面ガラス基板17からなる上部クラッド層1
6を貼り合わせた。このようにして、図4に示す光導波
路基板を作製した。
【0025】この光導波路基板は、エポキシ樹脂をコア
18とし、平面ガラス基板を上部クラッド層16及び下
部クラッド層11とし、ポリオレフィン樹脂を中間クラ
ッド層13として備えている。このように上下のクラッ
ド層の平面ガラス基板により、透明樹脂からなるコア1
8と中間クラッド層13を強固に挟み込む構造となって
いる。このため、周囲環境の温度変化によって形状変化
がほとんど生じないことが判った。従って、この光導波
路基板は十分な実用性を備えているといえる。
18とし、平面ガラス基板を上部クラッド層16及び下
部クラッド層11とし、ポリオレフィン樹脂を中間クラ
ッド層13として備えている。このように上下のクラッ
ド層の平面ガラス基板により、透明樹脂からなるコア1
8と中間クラッド層13を強固に挟み込む構造となって
いる。このため、周囲環境の温度変化によって形状変化
がほとんど生じないことが判った。従って、この光導波
路基板は十分な実用性を備えているといえる。
【0026】(実施の形態2)次に本発明の実施の形態
2における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図5及び図6を用いて説明する。光導波路部品と
は、光ビームをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬
させる光導波路基板と、光ファイバとを結合させるもの
である。まず超硬合金素材を用いて第1のプレス型(図
示せず)を製作した。第1のプレス型を得るには、光フ
ァイバを固定するV字状の固定溝と、光導波路基板を形
成するための平面部(光学的接合面)とを一体化するよ
うなプレス面が必要である。このため、固定溝を形成す
るための複数の線状山型突起と、線状山型突起に隣接し
た平面部とが同時に形成されるよう、硬合金素材に加工
を施した。ここでは外形寸法が厚さ10mm、縦10m
m×横5mmとし、線状山型突起の間隔は250μmで
4本形成した。この第1のプレス型のプレス面に離型用
保護膜として貴金属合金膜を成膜した。
2における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図5及び図6を用いて説明する。光導波路部品と
は、光ビームをコア内で拘束してコアの軸に沿って伝搬
させる光導波路基板と、光ファイバとを結合させるもの
である。まず超硬合金素材を用いて第1のプレス型(図
示せず)を製作した。第1のプレス型を得るには、光フ
ァイバを固定するV字状の固定溝と、光導波路基板を形
成するための平面部(光学的接合面)とを一体化するよ
うなプレス面が必要である。このため、固定溝を形成す
るための複数の線状山型突起と、線状山型突起に隣接し
た平面部とが同時に形成されるよう、硬合金素材に加工
を施した。ここでは外形寸法が厚さ10mm、縦10m
m×横5mmとし、線状山型突起の間隔は250μmで
4本形成した。この第1のプレス型のプレス面に離型用
保護膜として貴金属合金膜を成膜した。
【0027】次に図5(a)に示すように、ベース基板
として被成形用ガラス基板50(屈折率n1=1.5、
熱膨張係数70×10-7/K、厚さ2mm、縦10mm
×横5mm)を用意し、前述した第1のプレス型の下に
被成形用ガラス基板50が位置するよう固定した。次に
被成形用ガラス基板50と第1のプレス型とを加熱し、
被成形用ガラス基板50を700℃で加熱軟化させてプ
レス成形を行った。この結果、図5(b)に示すよう
に、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝51が
光ファイバ接合部として形成され、下部クラッド層の光
学的接合面となる平面部52とが一体化されたベース基
板53が形成された。
として被成形用ガラス基板50(屈折率n1=1.5、
熱膨張係数70×10-7/K、厚さ2mm、縦10mm
×横5mm)を用意し、前述した第1のプレス型の下に
被成形用ガラス基板50が位置するよう固定した。次に
被成形用ガラス基板50と第1のプレス型とを加熱し、
被成形用ガラス基板50を700℃で加熱軟化させてプ
レス成形を行った。この結果、図5(b)に示すよう
に、光ファイバを固定するためのV字状の固定溝51が
光ファイバ接合部として形成され、下部クラッド層の光
学的接合面となる平面部52とが一体化されたベース基
板53が形成された。
【0028】次に、予めコア部分に相当する線状凸部を
有する第2のプレス型(図示せず)を以下の方法で作製
した。厚さ5mm、縦5mm×横5mmの石英ガラスの
基板を平面に研磨した後、通常のフォトレジストを用い
たパターニング法により、コア部分のパターンを形成し
た。そして、ドライエッチング法を用いて石英ガラス基
板の表面であって、コアに相当する位置に線状凸部(断
面形状;高さ8μm×幅8μmの突起)を250μm間
隔で4本形成した。
有する第2のプレス型(図示せず)を以下の方法で作製
した。厚さ5mm、縦5mm×横5mmの石英ガラスの
基板を平面に研磨した後、通常のフォトレジストを用い
たパターニング法により、コア部分のパターンを形成し
た。そして、ドライエッチング法を用いて石英ガラス基
板の表面であって、コアに相当する位置に線状凸部(断
面形状;高さ8μm×幅8μmの突起)を250μm間
隔で4本形成した。
【0029】次に図5(b)、(c)に示すように、ベ
ース基板53の平面部52に、屈折率n2(n2=n
1)のポリオレフィン系の熱可塑性樹脂からなるプレー
ト54を載せた。そして第2のプレス型の表面に離型剤
を塗布し、図2に示すプレス成形機20にセットした。
このとき、固定溝51の中心線と線状凸部の中心線が一
致するように第2のプレス型をガイドを用いて固定し
た。この状態で、上ヒーターブロック25、下ヒーター
ブロック24を夫々180℃に昇温させ、上ヒーターブ
ロック25を徐々に下降させ、圧力を加えてプレスし
た。図2に示す第2のプレス型23の線状凸部23aの
先端が、図5(d)に示す下部クラッド層59となるベ
ース基板53の表面に接するまでプレスを続けた。
ース基板53の平面部52に、屈折率n2(n2=n
1)のポリオレフィン系の熱可塑性樹脂からなるプレー
ト54を載せた。そして第2のプレス型の表面に離型剤
を塗布し、図2に示すプレス成形機20にセットした。
このとき、固定溝51の中心線と線状凸部の中心線が一
致するように第2のプレス型をガイドを用いて固定し
た。この状態で、上ヒーターブロック25、下ヒーター
ブロック24を夫々180℃に昇温させ、上ヒーターブ
ロック25を徐々に下降させ、圧力を加えてプレスし
た。図2に示す第2のプレス型23の線状凸部23aの
先端が、図5(d)に示す下部クラッド層59となるベ
ース基板53の表面に接するまでプレスを続けた。
【0030】そしてそのままの状態で第2のプレス型
と、上ヒーターブロック25及び下ヒーターブロック2
4とを冷却し、室温となったところでプレスを解放し
て、成形された基板を取り出した。このときの基板は図
5(d)に示すように、下部クラッド層59の上面に、
コアと同一厚みで、コア部分に相当する溝部55aを有
する中間クラッド層55が形成された。
と、上ヒーターブロック25及び下ヒーターブロック2
4とを冷却し、室温となったところでプレスを解放し
て、成形された基板を取り出した。このときの基板は図
5(d)に示すように、下部クラッド層59の上面に、
コアと同一厚みで、コア部分に相当する溝部55aを有
する中間クラッド層55が形成された。
【0031】引き続いて、形成された溝部55aに対し
て、図6(e)に示すようにプレート54よりも屈折率
が0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシの透明
樹脂56を埋め込んだ。更にその上部から、屈折率n4
(n4=n1)の平面ガラス基板57を上部クラッド層
60として貼り合わせ、図6(f)に示すような状態、
即ちベース基板に光ファイバ接合部と光導波路基板とを
合体した状態にした。このようにして光ファイバ接合部
と、下部クラッド層59、中間クラッド層55、コア6
1、上部クラッド層60からなる光導波路基板とを有す
る光導波路部品を作製した。
て、図6(e)に示すようにプレート54よりも屈折率
が0.3%程度高い屈折率n3を有するエポキシの透明
樹脂56を埋め込んだ。更にその上部から、屈折率n4
(n4=n1)の平面ガラス基板57を上部クラッド層
60として貼り合わせ、図6(f)に示すような状態、
即ちベース基板に光ファイバ接合部と光導波路基板とを
合体した状態にした。このようにして光ファイバ接合部
と、下部クラッド層59、中間クラッド層55、コア6
1、上部クラッド層60からなる光導波路基板とを有す
る光導波路部品を作製した。
【0032】本実施の形態の製造方法により作製した光
導波路部品では、帯状の中間クラッド層55がコア61
を介して互いに分離され、更に下部クラッド層59に強
固に接着されている。このため、第2のプレス型と中間
クラッド層55と、コア61の材料との収縮差によるパ
ターンずれが非常に小さくなり、第2のプレス型の形状
をそのまま良好に転写することができる。しかも、光フ
ァイバを固定するためのV字状の固定溝51が、光導波
路基板のコアと高精度に位置合わせされているので、光
ファイバを固定溝に並べるだけで、容易に光導波路部品
を分波器等に組み込むことができる。
導波路部品では、帯状の中間クラッド層55がコア61
を介して互いに分離され、更に下部クラッド層59に強
固に接着されている。このため、第2のプレス型と中間
クラッド層55と、コア61の材料との収縮差によるパ
ターンずれが非常に小さくなり、第2のプレス型の形状
をそのまま良好に転写することができる。しかも、光フ
ァイバを固定するためのV字状の固定溝51が、光導波
路基板のコアと高精度に位置合わせされているので、光
ファイバを固定溝に並べるだけで、容易に光導波路部品
を分波器等に組み込むことができる。
【0033】(実施の形態3)次に本発明の実施の形態
3における光導波路基板の構造とその製造方法につい
て、図7〜図10を用いて説明する。図7は光導波路基
板の製造方法を示す工程図である。図7(a)に示すよ
うに、屈折率n1の平面ガラス基板70からなる下部ク
ラッド層71を用意した。次に図7(b)に示すよう
に、下部クラッド層71の光学的接合面に屈折率n2
(n2>n1)の熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからな
るプレート72を載せた。
3における光導波路基板の構造とその製造方法につい
て、図7〜図10を用いて説明する。図7は光導波路基
板の製造方法を示す工程図である。図7(a)に示すよ
うに、屈折率n1の平面ガラス基板70からなる下部ク
ラッド層71を用意した。次に図7(b)に示すよう
に、下部クラッド層71の光学的接合面に屈折率n2
(n2>n1)の熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからな
るプレート72を載せた。
【0034】一方、コア部分に相当する位置に線状凹部
が形成されたプレス型(図示せず)を用意し、プレート
72を加熱軟化させてプレス成形すると、図7(c)の
ように互いに独立した帯状のコア73が複数本形成され
た。次に、コア73の部分を包み込むように屈折率n3
(n3<n2)を有する樹脂76を塗布することによ
り、図7(d)に示すような上部クラッド層74が形成
された。そして上部クラッド層74上に保護用平面ガラ
ス基板75を接合することにより、図7(e)に示すよ
うな構造の光導波路基板が得られた。
が形成されたプレス型(図示せず)を用意し、プレート
72を加熱軟化させてプレス成形すると、図7(c)の
ように互いに独立した帯状のコア73が複数本形成され
た。次に、コア73の部分を包み込むように屈折率n3
(n3<n2)を有する樹脂76を塗布することによ
り、図7(d)に示すような上部クラッド層74が形成
された。そして上部クラッド層74上に保護用平面ガラ
ス基板75を接合することにより、図7(e)に示すよ
うな構造の光導波路基板が得られた。
【0035】図8は、本実施の形態の製造方法に用いら
れるプレス成形機80を構造を示す断面であり、特に成
形前の状態を示す。このプレス成形機80は、実施の形
態1のプレス成形機と同様に、上下動可能な上ヒータブ
ロック81と、固定の下ヒータブロック82を有し、内
蔵ヒータによりプレス温度を制御するようになってい
る。
れるプレス成形機80を構造を示す断面であり、特に成
形前の状態を示す。このプレス成形機80は、実施の形
態1のプレス成形機と同様に、上下動可能な上ヒータブ
ロック81と、固定の下ヒータブロック82を有し、内
蔵ヒータによりプレス温度を制御するようになってい
る。
【0036】プレス型83はコア部分に相当する位置に
線状凹部83aを有するものである。この線状凹部83
aを形成するには、厚さ5mm、縦5mm×横5mmの
超硬合金基板を用意し、平面に研磨した後、通常のフォ
トレジストを用いたパターニング法とドライエッチング
法とを用いてコア部分に相当する位置をエッチングし
た。こうして断面形状として深さ8μm×幅8μmの線
状凹部83aを250μm間隔で4本形成した。そして
プレス面に貴金属合金保護膜を成膜してプレス型83と
した。
線状凹部83aを有するものである。この線状凹部83
aを形成するには、厚さ5mm、縦5mm×横5mmの
超硬合金基板を用意し、平面に研磨した後、通常のフォ
トレジストを用いたパターニング法とドライエッチング
法とを用いてコア部分に相当する位置をエッチングし
た。こうして断面形状として深さ8μm×幅8μmの線
状凹部83aを250μm間隔で4本形成した。そして
プレス面に貴金属合金保護膜を成膜してプレス型83と
した。
【0037】次に厚さ2mm、縦5mm×横5mmの平
面に研磨した平面ガラス基板70(屈折率n1=1.
5、熱膨張係数70×10-7/K、耐熱温度700℃)
を下部クラッド層71として用意し、下ヒータブロック
82に載置した。そして屈折率がn1より0.3%程度
高い屈折率n2を有する低融点ガラスからなるプレート
72を平面ガラス基板70の上面に載せた。続いて、前
述した超硬合金製のプレス型83をプレート72の上面
に載せた。図8はこの状態を示す。
面に研磨した平面ガラス基板70(屈折率n1=1.
5、熱膨張係数70×10-7/K、耐熱温度700℃)
を下部クラッド層71として用意し、下ヒータブロック
82に載置した。そして屈折率がn1より0.3%程度
高い屈折率n2を有する低融点ガラスからなるプレート
72を平面ガラス基板70の上面に載せた。続いて、前
述した超硬合金製のプレス型83をプレート72の上面
に載せた。図8はこの状態を示す。
【0038】次に、上ヒーターブロック81、下ヒータ
ーブロック82を夫々550℃に昇温させ、上ヒーター
ブロック81を徐々に下降させて圧力を加えてプレスし
た。図9に示すように、超硬合金製のプレス型83の先
端が、下部クラッド層となる平面ガラス基板70の表面
に接するまでプレスを続け、そのままの状態で冷却し
た。室温となったところでプレスを解放して、成形され
た基板を取り出した。この状態で図7(c)に示したよ
うに下部クラッド層71上に複数本のコア73が形成さ
れた。ここでは各コア73が250μm間隔で分離さ
れ、更に下部クラッド層71に強固に接着された。この
ため、プレス型83とコア材料との熱収縮差によるパタ
ーンずれが非常に小さくなり、プレス型83の形状をそ
のまま良好に転写することができた。
ーブロック82を夫々550℃に昇温させ、上ヒーター
ブロック81を徐々に下降させて圧力を加えてプレスし
た。図9に示すように、超硬合金製のプレス型83の先
端が、下部クラッド層となる平面ガラス基板70の表面
に接するまでプレスを続け、そのままの状態で冷却し
た。室温となったところでプレスを解放して、成形され
た基板を取り出した。この状態で図7(c)に示したよ
うに下部クラッド層71上に複数本のコア73が形成さ
れた。ここでは各コア73が250μm間隔で分離さ
れ、更に下部クラッド層71に強固に接着された。この
ため、プレス型83とコア材料との熱収縮差によるパタ
ーンずれが非常に小さくなり、プレス型83の形状をそ
のまま良好に転写することができた。
【0039】引き続いて、プレス成形された基板に、下
部クラッド層71と同一屈折率を有するエポキシの樹脂
76をコア73を包み込むように塗布し、更にその上部
から保護用平面ガラス基板75を貼り合わせた。このよ
うにして、図10に示すような光導波路基板を作製し
た。
部クラッド層71と同一屈折率を有するエポキシの樹脂
76をコア73を包み込むように塗布し、更にその上部
から保護用平面ガラス基板75を貼り合わせた。このよ
うにして、図10に示すような光導波路基板を作製し
た。
【0040】この光導波路基板は、樹脂76を上部クラ
ッド層74とし、平面ガラス基板70を下部クラッド層
71とし、プレート72の一部をコア73とし、更に、
上部クラッド層74の上に保護用平面ガラス基板75を
備えた構造となっている。このように上下の平面ガラス
基板により、エポキシ樹脂からなる上部クラッド層74
を強固に挟み込んでいるので、周囲環境の温度変化によ
る形状変化はほとんど生じないことが判った。従って、
この光導波路基板は十分な実用性を備えていると言え
る。
ッド層74とし、平面ガラス基板70を下部クラッド層
71とし、プレート72の一部をコア73とし、更に、
上部クラッド層74の上に保護用平面ガラス基板75を
備えた構造となっている。このように上下の平面ガラス
基板により、エポキシ樹脂からなる上部クラッド層74
を強固に挟み込んでいるので、周囲環境の温度変化によ
る形状変化はほとんど生じないことが判った。従って、
この光導波路基板は十分な実用性を備えていると言え
る。
【0041】(実施の形態4)次に本発明の実施の形態
4における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図11及び図12を用いて説明する。まず、超硬合
金素材を用いて第1のプレス型(図示せず)を製作す
る。このため光ファイバを固定するためのV字状の固定
溝と、光導波路基板を形成するための平面部とを一体化
するようプレス面を形成しなければならない。ここで用
意した第1のプレス型は、超硬合金素材に加工を施し、
V字状の固定溝に対する型として線状山型突起を複数本
形成し、更にその横に平面部を形成した。ここではプレ
ス型の外形は厚さ10mm、縦10mm×横5mmの寸
法を有するものとし、線状山型突起の間隔は250μm
で4本形成した。この第1のプレス型のプレス面に離型
用保護膜として貴金属合金膜を成膜した。
4における光導波路部品の構造とその製造方法につい
て、図11及び図12を用いて説明する。まず、超硬合
金素材を用いて第1のプレス型(図示せず)を製作す
る。このため光ファイバを固定するためのV字状の固定
溝と、光導波路基板を形成するための平面部とを一体化
するようプレス面を形成しなければならない。ここで用
意した第1のプレス型は、超硬合金素材に加工を施し、
V字状の固定溝に対する型として線状山型突起を複数本
形成し、更にその横に平面部を形成した。ここではプレ
ス型の外形は厚さ10mm、縦10mm×横5mmの寸
法を有するものとし、線状山型突起の間隔は250μm
で4本形成した。この第1のプレス型のプレス面に離型
用保護膜として貴金属合金膜を成膜した。
【0042】次に図11(a)に示すように、被成形用
ガラス基板110(屈折率n1=1.5、熱膨張係数7
0×10-7/K、厚さ2mm、縦10mm×横5mm)
を用意し、前述した第1のプレス型の下方に固定した。
そして第1のプレス型を加熱し、被成形用ガラス基板1
10を750℃で加熱軟化させてプレス成形を行った。
この結果、図11(b)に示すように、光ファイバを固
定するためのV字状の固定溝111と、光導波路基板を
形成するための平面部112とが一体化されたベース基
板113が形成された。
ガラス基板110(屈折率n1=1.5、熱膨張係数7
0×10-7/K、厚さ2mm、縦10mm×横5mm)
を用意し、前述した第1のプレス型の下方に固定した。
そして第1のプレス型を加熱し、被成形用ガラス基板1
10を750℃で加熱軟化させてプレス成形を行った。
この結果、図11(b)に示すように、光ファイバを固
定するためのV字状の固定溝111と、光導波路基板を
形成するための平面部112とが一体化されたベース基
板113が形成された。
【0043】次に、予めコア部分に相当する位置に溝部
を有する第2のプレス型(図示せず)を以下の方法で作
製した。厚さ5mm、縦5mm×横5mmの超硬合金基
板を平面に研磨した後、通常のフォトレジストを用いた
パターニング法により、コア部分のパターンを形成し
た。そして、ドライエッチング法を用いて超硬合金基板
の表面にコア部分に相当する位置に溝部(断面形状;高
さ8μm×幅8μmの溝)を250μm間隔で4本形成
した。そして、プレス面に貴金属合金保護膜を成膜し
た。
を有する第2のプレス型(図示せず)を以下の方法で作
製した。厚さ5mm、縦5mm×横5mmの超硬合金基
板を平面に研磨した後、通常のフォトレジストを用いた
パターニング法により、コア部分のパターンを形成し
た。そして、ドライエッチング法を用いて超硬合金基板
の表面にコア部分に相当する位置に溝部(断面形状;高
さ8μm×幅8μmの溝)を250μm間隔で4本形成
した。そして、プレス面に貴金属合金保護膜を成膜し
た。
【0044】次に図11(b)、(c)に示すように、
ベース基板113の平面部112(光学的接合面)上
に、n1より0.3%程度高い屈折率n2の低融点ガラ
スからなるプレート114を載せた。そして溝部を有す
る第2のプレス型の表面に離型剤を塗布し、図8に示す
プレス成形機80にセットした。このとき、固定溝11
1の中心線と溝部の中心線が一致するように第2のプレ
ス型をガイドを用いて固定した。この状態で、上ヒータ
ーブロック81、下ヒーターブロック82を夫々550
℃に昇温させ、上ヒーターブロック81を徐々に下降さ
せ、圧力を加えてプレスした。図8に示す超硬合金製の
第2のプレス型83の先端面が、図11(d)に示す下
部クラッド層116の表面に接するまでプレスを続け
た。
ベース基板113の平面部112(光学的接合面)上
に、n1より0.3%程度高い屈折率n2の低融点ガラ
スからなるプレート114を載せた。そして溝部を有す
る第2のプレス型の表面に離型剤を塗布し、図8に示す
プレス成形機80にセットした。このとき、固定溝11
1の中心線と溝部の中心線が一致するように第2のプレ
ス型をガイドを用いて固定した。この状態で、上ヒータ
ーブロック81、下ヒーターブロック82を夫々550
℃に昇温させ、上ヒーターブロック81を徐々に下降さ
せ、圧力を加えてプレスした。図8に示す超硬合金製の
第2のプレス型83の先端面が、図11(d)に示す下
部クラッド層116の表面に接するまでプレスを続け
た。
【0045】そしてそのままの状態で第2のプレス型及
び上ヒーターブロック81、下ヒーターブロック82を
冷却し、室温となったところでプレスを解放して、成形
された基板を取り出した。このときの基板は図11
(d)に示すように、下部クラッド層116の光学的接
合面に4本のコア115が形成された。
び上ヒーターブロック81、下ヒーターブロック82を
冷却し、室温となったところでプレスを解放して、成形
された基板を取り出した。このときの基板は図11
(d)に示すように、下部クラッド層116の光学的接
合面に4本のコア115が形成された。
【0046】引き続いて取り出した基板全体に対して、
図12(e)に示すように、下部クラッド層116と同
一屈折率n3のエポキシの樹脂117をコア115を包
み込むように塗布して上部クラッド層119を形成し
た。更にその上部から保護用平面ガラス基板118を貼
り合わせ、図12(f)に示すように、光ファイバ接合
部と、下部クラッド層113、コア115、上部クラッ
ド層119からなる光導波路基板とを有する光導波路部
品を作製した。
図12(e)に示すように、下部クラッド層116と同
一屈折率n3のエポキシの樹脂117をコア115を包
み込むように塗布して上部クラッド層119を形成し
た。更にその上部から保護用平面ガラス基板118を貼
り合わせ、図12(f)に示すように、光ファイバ接合
部と、下部クラッド層113、コア115、上部クラッ
ド層119からなる光導波路基板とを有する光導波路部
品を作製した。
【0047】本実施の形態の製造方法により作製した光
導波路部品は、図12(f)に示すように、4本のコア
115が互いに分離され、更に下部クラッド層116に
強固に接着されている。このため、第2のプレス型とコ
ア材料との熱収縮差によるパターンずれが非常に小さく
なり、プレス型の形状をそのまま良好に転写することが
できる。しかも、光ファイバを固定するためのV字状の
固定溝111が高精度に光導波路基板のコアと位置合わ
せされる。このため、光ファイバを固定溝111に並べ
るだけで、容易に光導波路部品を分波器等に組み込むこ
とができる。
導波路部品は、図12(f)に示すように、4本のコア
115が互いに分離され、更に下部クラッド層116に
強固に接着されている。このため、第2のプレス型とコ
ア材料との熱収縮差によるパターンずれが非常に小さく
なり、プレス型の形状をそのまま良好に転写することが
できる。しかも、光ファイバを固定するためのV字状の
固定溝111が高精度に光導波路基板のコアと位置合わ
せされる。このため、光ファイバを固定溝111に並べ
るだけで、容易に光導波路部品を分波器等に組み込むこ
とができる。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
プレス型材と被成形物の熱膨張係数の差により、成形時
の冷却工程で発生する熱収縮によるパターンずれを著し
く小さくできる。このため、効率良く精度の高いコアパ
ターンの成形が可能となる。従って、安価な光導波路基
板及び光導波路部品を効率よく製造することができる。
また、本発明の光導波路基板及び光導波路部品は、周囲
温度の変化に対する形状変化が小さくなり、非常に信頼
性の高いものが得られる。
プレス型材と被成形物の熱膨張係数の差により、成形時
の冷却工程で発生する熱収縮によるパターンずれを著し
く小さくできる。このため、効率良く精度の高いコアパ
ターンの成形が可能となる。従って、安価な光導波路基
板及び光導波路部品を効率よく製造することができる。
また、本発明の光導波路基板及び光導波路部品は、周囲
温度の変化に対する形状変化が小さくなり、非常に信頼
性の高いものが得られる。
【図1】本発明の実施の形態1における光導波路基板の
製造方法の概略工程図である。
製造方法の概略工程図である。
【図2】実施の形態1の光導波路基板の製造に用いられ
るプレス成形機において、プレス型をセットした状態を
示す概略図である。
るプレス成形機において、プレス型をセットした状態を
示す概略図である。
【図3】実施の形態1の光導波路基板の製造に用いられ
るプレス成形機において、プレス成形工程が完了した状
態を示す概略図である。
るプレス成形機において、プレス成形工程が完了した状
態を示す概略図である。
【図4】実施の形態1の製造方法で製造された光導波路
基板の断面構成図である。
基板の断面構成図である。
【図5】本発明の実施の形態2における光導波路部品の
製造方法の概略工程図(その1)である。
製造方法の概略工程図(その1)である。
【図6】実施の形態2における光導波路部品の製造方法
の概略工程図(その2)である。
の概略工程図(その2)である。
【図7】本発明の実施の形態3における光導波路基板の
製造方法の概略工程図である。
製造方法の概略工程図である。
【図8】実施の形態3の光導波路基板の製造に用いられ
るプレス成形機において、プレス型をセットした状態を
示す概略図である。
るプレス成形機において、プレス型をセットした状態を
示す概略図である。
【図9】実施の形態3の光導波路基板の製造に用いられ
るプレス成形機において、プレス成形工程が完了した状
態を示す概略図である。
るプレス成形機において、プレス成形工程が完了した状
態を示す概略図である。
【図10】実施の形態3における光導波路基板の断面構
成図である。
成図である。
【図11】本発明の実施の形態4における光導波路部品
の製造方法の概略工程図(その1)である。
の製造方法の概略工程図(その1)である。
【図12】実施の形態4における光導波路部品の製造方
法の概略工程図(その2)である。
法の概略工程図(その2)である。
【図13】従来の一般的な光導波路基板の断面構成図で
ある。
ある。
【図14】従来の一般的な光導波路基板の製造方法の概
略工程図である。
略工程図である。
【図15】従来のプレス成形による光導波路基板の製造
方法の概略工程図である。
方法の概略工程図である。
10,17,57,70 平面ガラス基板 11,59,71,116 下部クラッド層 12,54,72,114 プレート 13,55 中間クラッド層 14,55a 溝部 15,56 透明樹脂 16,60,74,119 上部クラッド層 18,61,73,115 コア 20,80 プレス成形機 23,83 プレス型 23a 線状凸部 24,82 下ヒーターブロック 25,81 上ヒーターブロック 50,110 被成形用ガラス基板 51,111 固定溝 52,112 平面部 53,113 ベース基板 75,118 保護用平面ガラス基板 76,117 樹脂 83a 線状凹部
Claims (8)
- 【請求項1】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板の製造方法であって、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工程
(1)と、 前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n2を有
する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからなるプレートを
載置する工程(2)と、 前記コアと同一形状を有する線状凸部が形成されたプレ
ス型を用いて前記プレートを押圧し、前記プレス型と前
記下部クラッド層とを加熱することにより前記プレート
素材を軟化させ、前記プレス型の線状凸部が前記下部ク
ラッド層の光学的接合面に当たるまで押圧と加熱を続け
る工程(3)と、 前記工程(3)の完了後に前記プレス型を冷却すると共
に、前記プレートへの押圧状態から前記プレス型を開放
し、前記コアの空間となる溝部が形成された中間クラッ
ド層を得る工程(4)と、 前記中間クラッド層の前記溝部に、屈折率n3(n3>
n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化させるこ
とによりコアを得る工程(5)と、 前記工程(5)後の中間クラッド層の上面に、屈折率n
4(n4<n3)を有する平面ガラス基板を接合するこ
とにより上部クラッド層を形成する工程(6)と、を有
することを特徴とする光導波路基板の製造方法。 - 【請求項2】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板であって、 屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層
と、 屈折率n4の平面ガラス基板からなる上部クラッド層
と、 前記下部クラッド層と前記上部クラッド層とに挟持さ
れ、屈折率n2を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラス
からなるプレートに対して、前記コアの空間となる溝部
が設けられた中間クラッド層と、 前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n
4,n2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化させ
たコアと、を有することを特徴とする光導波路基板。 - 【請求項3】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結合さ
せる光導波路部品の製造方法であって、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得る工
程(1)と、 前記光ファイバの固定溝を形成するための線状山型突起
が形成された第1のプレス型を用いて前記被成形用ガラ
ス基板を押圧し、前記被成形用ガラス基板を加熱するこ
とにより軟化させ、前記被成形用ガラス基板の一部に前
記光ファイバの固定溝を形成すると共に、前記被成形用
ガラス基板の他の部分に下部クラッド層を形成する工程
(2)と、 前記被成形用ガラス基板の下部クラッド層の上面に、屈
折率n2を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスからな
るプレートを載置する工程(3)と、 前記コアと同一形状を有する線状凸部が形成された第2
のプレス型を用い、前記線状凸部と前記固定溝との中心
線が一致するよう前記プレートを押圧し、前記プレート
を加熱することにより軟化させ、前記第2のプレス型の
線状凸部が前記被成形用ガラス基板の平面部分に当たる
まで押圧と加熱を続ける工程(4)と、 前記工程(4)の完了後に前記第2のプレス型を冷却す
ると共に、前記プレートへの押圧状態から前記第2のプ
レス型を開放し、前記コアの空間となる溝部が形成され
た中間クラッド層を得る工程(5)と、 前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n
2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化させること
によりコアを得る工程(6)と、 前記工程(6)後の中間クラッド層の上面に、屈折率n
4(n4<n3)を有する平面ガラス基板を接合するこ
とにより上部クラッド層を形成する工程(7)と、を有
することを特徴とする光導波路部品の製造方法。 - 【請求項4】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結合さ
せる光導波路部品であって、 屈折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一
部に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前
記ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形
成された光ファイバ接合部を有するベース基板と、 前記ベース基板の下部クラッド層の光学的接合面に設け
られ、屈折率n2を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラ
スからなるプレートに対して、前記コアの空間となる溝
部が前記光ファイバの固定溝の延長線上に設けられた中
間クラッド層と、 前記中間クラッド層の溝部に、屈折率n3(n3>n
2,n1)を有する透明樹脂を充填して硬化させたコア
と、 前記コアと中間クラッド層の上面に、屈折率n4(n4
<n3)を有する平面ガラス基板を接合して形成された
上部クラッド層と、を有することを特徴とする光導波路
部品。 - 【請求項5】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板の製造方法であって、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする下部クラッド層を得る工程
(1)と、 前記下部クラッド層の光学的接合面に、屈折率n2(n
2>n1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスから
なるプレートを載置する工程(2)と、 前記コアと同一形状を有する線状凹部を形成したプレス
型を用いて前記プレートを押圧し、前記プレス型と前記
下部クラッド層とを加熱することにより、前記プレート
素材を軟化させ、前記プレス型の線状凹部を除く平面部
が前記下部クラッド層の光学的接合面に当たるまで押圧
と加熱を続ける工程(3)と、 前記工程(3)の完了後に前記プレス型を冷却すると共
に、前記プレートへの押圧状態から前記プレス型を開放
することにより、前記下部クラッド層の上面にコアを形
成する工程(4)と、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する樹脂を塗布することにより、平板状の上部クラッ
ド層を形成する工程(5)と、 前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板を形
成する工程(6)と、を有することを特徴とする光導波
路基板の製造方法。 - 【請求項6】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板であって、 屈折率n1の平面ガラス基板からなる下部クラッド層
と、 前記下部クラッド層の上面に、屈折率n2(n2>n
1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガラスを用いて凸
状に形成されたコアと、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する樹脂を塗布することにより平板状に形成された上
部クラッド層と、 前記上部クラッド層の上面に形成された保護用平面ガラ
ス基板と、を有することを特徴とする光導波路基板。 - 【請求項7】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結合さ
せる光導波路部品の製造方法であって、 屈折率n1のガラス基板を所定形状に加工して、一方の
平面を光学的接合面とする被成形用ガラス基板を得る工
程(1)と、 前記光ファイバの固定溝を形成するための線状山型突起
が形成された第1のプレス型を用いて前記被成形用ガラ
ス基板を押圧し、前記被成形用ガラス基板を加熱するこ
とにより軟化させ、前記被成形用ガラス基板の一部に前
記光ファイバの固定溝を形成すると共に、前記被成形用
ガラス基板の他の部分に下部クラッド層を形成する工程
(2)と、 前記被成形用ガラス基板の下部クラッド層の上面に、屈
折率n2(n2>n1)を有する熱可塑性樹脂又は低融
点ガラスからなるプレートを載置する工程(3)と、 前記コアと同一形状を有する溝部を形成した第2のプレ
ス型を用いて前記プレートを押圧し、前記プレートを加
熱することによって軟化させ、前記第2のプレス型の溝
部を除く平面部が前記下部クラッド層の上面に当たるま
で押圧と加熱を続ける工程(4)と、 前記工程(4)の完了後に前記第2のプレス型を冷却す
ると共に、前記プレートへの押圧状態から前記第2のプ
レス型を開放し、前記下部クラッド層の上面にコアを形
成する工程(5)と、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する樹脂を塗布することにより、平板状の上部クラッ
ド層を形成する工程(6)と、 前記上部クラッド層の上面に保護用平面ガラス基板を形
成する工程(7)と、を有することを特徴とする光導波
路部品の製造方法。 - 【請求項8】 光ビームをコア内で拘束してコアの軸に
沿って伝搬させる光導波路基板と光ファイバとを結合さ
せる光導波路部品であって、 屈折率n1のガラス基板からなり、前記ガラス基板の一
部に光学的接合面が形成された下部クラッド層、及び前
記ガラス基板の他の部分に前記光ファイバの固定溝が形
成された光ファイバ接合部を有するベース基板と、 前記ベース基板の下部クラッド層の上面に、前記光ファ
イバの固定溝の延長線と一致するよう設けられ、屈折率
n2(n2>n1)を有する熱可塑性樹脂又は低融点ガ
ラスを用いて凸状に形成されたコアと、 前記コアを包み込むように屈折率n3(n3<n2)を
有する樹脂を塗布することにより、平板状に形成された
上部クラッド層と、 前記上部クラッド層の上面にガラス基板を接合すること
により形成された保護用平面ガラス基板と、を有するこ
とを特徴とする光導波路部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31780799A JP2001133650A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 光導波路基板、光導波路基板の製造方法、光導波路部品、及び光導波路部品の製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP31780799A JP2001133650A (ja) | 1999-11-09 | 1999-11-09 | 光導波路基板、光導波路基板の製造方法、光導波路部品、及び光導波路部品の製造方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2001133650A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2006039974A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Hata Kensaku:Kk | 光シート体およびその製造方法、並びに光カードおよび複合メモリカード |
US7155103B2 (en) | 2001-09-28 | 2006-12-26 | Omron Corporation | Optical wave guide and method for producing the same |
KR100943561B1 (ko) | 2003-06-03 | 2010-02-22 | 엘지전자 주식회사 | 파장 필터 제조 방법 |
-
1999
- 1999-11-09 JP JP31780799A patent/JP2001133650A/ja active Pending
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