JP2001131759A - 無電解めっきの前処理方法および無電解めっき処理方法 - Google Patents

無電解めっきの前処理方法および無電解めっき処理方法

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JP2001131759A
JP2001131759A JP31959399A JP31959399A JP2001131759A JP 2001131759 A JP2001131759 A JP 2001131759A JP 31959399 A JP31959399 A JP 31959399A JP 31959399 A JP31959399 A JP 31959399A JP 2001131759 A JP2001131759 A JP 2001131759A
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ozone
electroless plating
aqueous solution
roughening treatment
hydrogen carbonate
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Shoji Yamaguchi
昌二 山口
Junji Hirotsuji
淳二 廣辻
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 プラスチック成形品に対して良好な無電解め
っきを行うことができ、かつ、有害なクロムを含む排水
を出さないうえに、オゾン処理後の排水の中和処理の必
要がなく、紫外線照射設備や加熱設備などの付帯設備も
必要なくプラスチック成形品の表面粗化処理ができる無
電解めっきの前処理方法および無電解めっき処理方法を
提供する。 【解決手段】 無電解めっきの前処理方法は、炭酸水素
化合物水溶液とオゾンとを用いてプラスチック成形品３
の表面を粗化処理する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は無電解めっきに関
し、特に、プラスチック成形品の無電解めっきの前処理
としての表面粗化処理方法および前処理後の無電解めっ
き処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック成形品の無電解めっき前処
理は、硫酸・クロム酸による表面粗化処理がよく行われ
ている。オゾンを用いたプラスチック成形品の無電解め
っき前処理は、特開昭６３−２５０４６８号公報、特開
平１−９２３７７号公報、特開平１−２７５７６９号公
報がある。特開昭６３−２５０４６８号公報によれば、
プラスチック成形品を単にオゾン処理、さらにオゾン処
理後に硫酸洗浄している。特開平１−９２３７７号公報
によれば、紫外線照射かつ加熱下でオゾン処理、さらに
オゾン処理後に硫酸洗浄している。特開平１−２７５７
６９号公報によれば、硫酸下でオゾン処理し、硫酸と水
の混合比は１：１〜１：１０としている。さらに、オゾ
ン処理温度は８０℃以下としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】硫酸・クロム酸による
表面粗化処理を行なった後の排水は、有害なクロムを含
んでいる。通常、クロムを含む排水処理は次のように行
われる。まず、硫酸酸性下（ｐＨ３．５以下）で還元剤
を添加し、有害なＣｒ（VI）をＣｒ（III）に還元す
る。次いでアルカリ性薬品を添加して中和し、少量の凝
集剤を添加してＣｒ（ＯＨ）3を沈殿させる。このよう
に排水処理に手間がかかるうえ、沈殿物もクロムを含む
ため特別管理物質に指定されており容易に廃棄できな
い。
【０００４】また、単にオゾン処理する表面粗化処理で
は、エッチング深さが浅く、前処理後の無電解めっきに
よるめっきの長期耐久性が劣り、良好な無電解めっきが
施せない。紫外線照射や加熱下でオゾン処理すればエッ
チング深さは深くなるが、付帯設備が必要となる。
【０００５】更にまた、硫酸酸性下でオゾン処理する場
合にはエッチング深さは深くなるが、オゾン処理後の排
水は中和処理が必要である。
【０００６】この発明は、上述のような課題を解決する
ためになされたものであり、プラスチック成形品に対し
て良好な無電解めっきを行うことができ、かつ、有害な
クロムを含む排水を出さないうえに、オゾン処理後の排
水の中和処理の必要がなく、紫外線照射設備や加熱設備
などの付帯設備も必要なくプラスチック成形品の表面粗
化処理ができる無電解めっきの前処理方法および無電解
めっき処理方法を提供することを目的とするものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る無電解め
っきの前処理方法は、炭酸水素化合物水溶液とオゾンと
を用いてプラスチック成形品の表面を粗化処理する。ま
た、粗化処理は、粗化処理槽に供給された炭酸水素化合
物水溶液にプラスチック成形品を浸漬させ、炭酸水素化
合物水溶液が供給された粗化処理槽にオゾンを含んだガ
スを散気させる。また、粗化処理は、オゾンを予め溶解
させた炭酸水素化合物水溶液を粗化処理槽に供給し、炭
酸水素化合物水溶液が供給された粗化処理槽にプラスチ
ック成形品を浸漬させる。また、粗化処理は、オゾンを
予め溶解させた炭酸水素化合物水溶液を粗化処理槽に供
給し、炭酸水素化合物水溶液が供給された粗化処理槽に
プラスチック成形品を浸漬させ、炭酸水素化合物水溶液
にオゾンを含んだガスを散気させる。また、粗化処理に
おいて、粗化処理槽からの排オゾン含有ガスは、排オゾ
ン分解装置によって酸素あるいは二酸化炭素に分解され
る。また、粗化処理槽からの排水は、排オゾン分解槽に
供給されて、排オゾンが分解された後、下水放流あるい
は無電解めっきの前処理に再利用される。さらに、粗化
処理の後、プラスチック成形品をアルカリ性液に浸漬さ
せる。この発明に係る無電解めっき処理方法は、炭酸水
素化合物水溶液とオゾンとを用いた粗化処理後のプラス
チック成形品の表面に化学的処理によって金属皮膜を析
出させて無電解めっきさせる。
【０００８】
【発明の実施の形態】実施の形態１．この発明は、プラ
スチック成形品表面に化学的処理によって金属皮膜を析
出させる無電解めっきの前処理として、プラスチック成
形品の表面を炭酸水素化合物水溶液とオゾンを用いて粗
化処理する無電解めっきの前処理方法である。
【０００９】無電解めっきされるプラスチックの種類と
しては、ＡＢＳ樹脂、ポリプロピレン、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリアセタール、ポリエステル、ノリ
ルなどの樹脂があるが、これらに限定されるものではな
い。ＡＢＳ樹脂は引張強さ、曲げ強さ、衝撃強さなどバ
ランスのとれたプラスチックとして知られており、無電
解めっきされることの最も多いプラスチックである。
【００１０】オゾンとは、酸素分子の同素体で酸素原子
３個からなり、強い酸化力を有する。水溶液系における
酸化電位は、クロム酸の１．３５Ｖに対してオゾンは
２．０７Ｖと高い。したがって、水溶液系においてオゾ
ンは、プラスチック表面の構成成分を酸化分解し、さら
に酸化反応後は酸素に分解されるので残留毒性がない。
ちなみに、オゾンガスの酸化電位は１．２４Ｖしかな
く、水溶液系と比較して酸化力が弱い。
【００１１】水溶液系でプラスチック表面がオゾンと接
触すると、表面の構成成分が酸化分解されて凹凸が形成
される。とくにＡＢＳ樹脂や高衝撃性ポリスチレンはゴ
ム成分を含んでおり、このゴム成分とオゾンの反応速度
が速いために選択的に酸化分解され、効果的な凹凸形成
が可能である。しかしながら、オゾンによるプラスチッ
ク表面の酸化反応後に遊離される酸素原子は、水と反応
して過酸化水素となる。過酸化水素が水素イオン
（Ｈ+）とヒドロペルオキシイオン（ＨＯ2 -）に分解
し、ＨＯ2 -とオゾンが反応してヒドロキシラジカル（Ｏ
Ｈラジカル）とオゾニドイオン（Ｏ3 -）を生成する。Ｏ
Ｈラジカルは反応性が高く、プラスチック表面をアタッ
クしようとしているオゾンの分解反応を促進させるた
め、ＯＨラジカルの存在下では、オゾンとプラスチック
表面の反応効率の低下をもたらしていた。
【００１２】炭酸水素イオンはＯＨラジカルを捕捉する
機能を有している。したがって、炭酸水素イオンを含む
水溶液系では、ＯＨラジカルによるオゾンの分解反応が
ほとんどなくなり、オゾンとプラスチック表面の反応効
率が高まる。このため、室温で速やかなプラスチック表
面の粗化処理が実現できる。
【００１３】炭酸水素化合物として、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水
素カルシウム、炭酸水素アンモニウムなどがあるが、無
毒で安価な炭酸水素ナトリウムが好ましい。炭酸水素ナ
トリウムは重曹の俗称を持ち、広く用いられている。
【００１４】オゾンによって粗化されたプラスチック表
面には、カルボキシル基やカルボニル基が存在する。こ
れらの官能基は場合として、無電解めっきの核となるパ
ラジウム触媒の不活化をもたらすことがある。パラジウ
ム触媒は金属パラジウムの状態でめっき核として機能す
るが、前記官能基がパラジウムを酸化状態に誘導するこ
とが不活化の原因である。
【００１５】オゾンによって粗化処理を行なったプラス
チック成形品をアルカリ性液に浸漬させると、表面のカ
ルボキシル基やカルボニル基を含む低分子断片が洗浄除
去され、パラジウム触媒の不活化を防ぐことができる。
【００１６】図１は、この発明の実施の形態１の炭酸水
素化合物とオゾンを用いた無電解めっきの前処理のため
の装置を示した図である。図において、１は炭酸水素化
合物水溶液の供給装置、２は粗化処理槽、３はプラスチ
ック成形品、４はオゾン発生器、５は排オゾン分解装
置、６は排オゾン分解槽、７は活性炭である。図１の装
置では、プラスチック成形品３を炭酸水素化合物水溶液
に浸漬させ、その水溶液にオゾン含有ガスを散気させて
いる。炭酸水素化合物水溶液の供給装置１からの炭酸水
素化合物水溶液が入った粗化処理槽２にプラスチック成
形品３を浸漬し、オゾン発生器４で生成されたオゾン含
有ガスを散気する。粗化処理槽２からの排オゾン含有ガ
スは、排オゾン分解装置５に送られ、排オゾンは酸素あ
るいは二酸化炭素に分解処理される。粗化処理槽２から
の排水は、定期的または連続的に排オゾン分解槽６に送
られ、排オゾンは分解処理される。排オゾン分解槽６で
の処理後の排水は下水放流される。
【００１７】図２は、この発明の実施の形態１の炭酸水
素化合物とオゾンを用いた無電解めっきの前処理のため
の他の装置を示した図である。図において、Ｐはポンプ
を示す。図２において、その他の符号は、図１で示され
たものと同一あるいは相当するものである。この装置で
は、排オゾン分解槽６での処理後の排水を再利用してお
り、排水は、ポンプを介して、供給装置１へ供給され
る。図１および図２に示された各装置において、炭酸水
素化合物水溶液の供給装置１からの水溶液が、排水量に
合わせて定期的または連続的に粗化処理槽２へ供給され
る。図１および図２に示された装置による処理方法で
は、複雑な形状のプラスチック成形品に対してでも均一
な粗化面が得られ、排水処理が容易であるという特徴を
有する。
【００１８】この方法における炭酸水素化合物の濃度
は、ＯＨラジカルを効果的に捕捉するために０．０１ｍ
ｏｌ／ｌ以上が好ましい。上限はとくにないが、飽和濃
度を超えることはできない。
【００１９】散気ガスのオゾン濃度は、２０ｇ／ｍ3以
上であることが好ましい。２０ｇ／ｍ3未満の場合、表
面の粗化が充分でない傾向がある。上限はとくにない
が、オゾン発生器４の能力は現在のところ最大３００ｇ
／ｍ3程度である。
【００２０】実施の形態２．図３は、この発明の実施の
形態２の炭酸水素化合物とオゾンを用いた無電解めっき
の前処理のための装置を示した図である。図において、
８はオゾン溶解装置である。その他の符号は、図１で示
されたものと同一あるいは相当するものである。図３で
示された装置では、予めオゾンを溶解させた炭酸水素化
合物水溶液を粗化処理槽２に送り、プラスチック成形品
３をその水溶液に浸漬させている。オゾン発生器４で生
成されたオゾンを、オゾン溶解装置８で炭酸水素化合物
水溶液に溶解させて粗化処理槽２に送り、プラスチック
成形品３を浸漬させる。排オゾン含有ガスは、排オゾン
分解装置５に送られ、排オゾンは酸素あるいは二酸化炭
素に分解処理される。粗化処理槽２からの排水は、定期
的または連続的に排オゾン分解槽６に送られて、排オゾ
ンは分解処理される。処理後の排水は下水放流される。
【００２１】図４は、この発明の実施の形態２の炭酸水
素化合物とオゾンを用いた無電解めっきの前処理のため
の他の装置を示した図である。図において、Ｐはポンプ
を示す。図４において、その他の符号は、図１および図
３で示されたものと同一あるいは相当するものである。
この装置では、排オゾン分解槽６で処理後の排水を再利
用しており、排水は、ポンプを介して、供給装置１へ供
給される。図３および図４に示された各装置において、
炭酸水素化合物水溶液の供給装置１からの水溶液が、オ
ゾン溶解装置８の排水量に合わせて、定期的または連続
的にオゾン溶解装置８へ供給される。図３および図４に
示された装置による処理方法では、複雑な形状のプラス
チック成形品に対してでも均一な粗化面が得られ、排水
処理が容易であるという特徴を有する。
【００２２】この方法における炭酸水素化合物の濃度
は、ＯＨラジカルを効果的に捕捉するために０．０１ｍ
ｏｌ／ｌ以上が好ましい。上限はとくにないが、飽和濃
度を超えることはできない。
【００２３】溶存オゾン濃度は、５ｇ／ｍ3以上である
ことが好ましい。５ｇ／ｍ3未満の場合、表面の粗化が
充分でない傾向がある。上限はとくにないが、飽和濃度
を超えることはできない。
【００２４】実施の形態３．図５は、この発明の実施の
形態３の炭酸水素化合物とオゾンを用いた無電解めっき
の前処理のための装置を示した図である。図に示されて
いる符号は、図１乃至図４で述べたものと同一あるいは
相当するものである。この実施の形態では、オゾン溶解
装置８により、予めオゾンを溶解させた炭酸水素化合物
水溶液を粗化処理槽２に送り、プラスチック成形品３を
その水溶液に浸漬させ、かつ上記水溶液にオゾン含有ガ
スを散気させている。オゾン発生器４で生成されたオゾ
ンを、オゾン溶解装置８で炭酸水素化合物水溶液に溶解
させて粗化処理槽２に送り、プラスチック成形品３を浸
漬させる。オゾン溶解装置８から排出されるオゾン含有
ガスは、粗化処理槽２に散気される。粗化処理槽２から
排出される排オゾン含有ガスは、排オゾン分解装置５に
送られ、排オゾンは酸素あるいは二酸化炭素に分解処理
される。粗化処理槽２からの排水は定期的または連続的
に排オゾン分解槽６に送られ、排オゾンは分解処理され
る。処理後の排水は下水放流される。
【００２５】図６は、この発明の実施の形態３の炭酸水
素化合物とオゾンを用いた無電解めっきの前処理のため
の他の装置を示した図である。図において、Ｐはポンプ
を示す。図６において、その他の符号は、図１乃至図５
で示されたものと同一あるいは相当するものである。こ
の装置では、排オゾン分解槽６での処理後の排水を再利
用しており、排水は、ポンプを介して、供給装置１へ供
給される。図５および図６の装置において、炭酸水素化
合物水溶液の供給装置１からの水溶液が、オゾン溶解装
置８の排水量に合わせて、定期的または連続的に、オゾ
ン溶解装置８へ供給される。図５および図６に示された
装置による処理方法では、複雑な形状のプラスチック成
形品に対してでも均一な粗化面が得られ、オゾン溶解装
置８からの排オゾンを有効に利用でき、さらに排水処理
が容易であるという特徴を有する。
【００２６】この方法における炭酸水素化合物の濃度
は、ＯＨラジカルを効果的に捕捉するために０．０１ｍ
ｏｌ／ｌ以上が好ましい。上限はとくにないが、飽和濃
度を超えることはできない。
【００２７】溶存オゾン濃度は、５ｇ／ｍ3以上である
ことが好ましい。５ｇ／ｍ3未満の場合、表面の粗化が
充分でない傾向がある。上限はとくにないが、飽和濃度
を超えることはできない。
【００２８】上記各実施の形態により炭酸水素化合物と
オゾンを用いて表面粗化処理されたプラスチック成形品
は、水洗、触媒付与工程（プラスチック成形品の表面に
めっき核となるパラジウム触媒を付与する工程）を経て
無電解めっきされる。あるいは水洗、アルカリ性液浸
漬、水洗、触媒付与工程（プラスチック成形品の表面に
めっき核となるパラジウム触媒を付与する工程）を経て
無電解めっきされる。無電解めっきは、一般に溶液中の
金属イオンを化学薬品によって還元析出させ、被めっき
物の上に金属皮膜を作る方法である。
【００２９】
【実施例】次に、この発明を実施例に基づいて説明する
が、この発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。プラスチック成形品には、図７に示すＡＢＳ樹脂か
らなる平板成形品を用いた。
【００３０】実施例１ 図１に示すように、予め炭酸水素ナトリウム水溶液の入
った粗化処理槽２にプラスチック成形品３を１０個浸漬
し、炭酸水素ナトリウム水溶液の供給装置１から該水溶
液５リットル／ｍｉｎで供給し、オゾン発生器４から生
成したオゾン含有ガスを粗化処理槽２に５リットル／ｍ
ｉｎで散気した。排オゾン含有ガスは、排オゾン分解装
置５に送って排オゾンは分解処理した。粗化処理槽２か
らの排水は、排オゾン分解槽６に送って排オゾンを分解
処理し、下水放流した。オゾン処理したＡＢＳ樹脂から
なる平板成形品を水洗した後に、無電解銅めっきを行っ
た。めっきを終えた直後と、−４０℃で１時間と＋８０
℃で１時間の熱衝撃試験を１００サイクルを終えた後の
銅めっき密着性評価を行なった結果を図８に示す。銅め
っき密着性は、めっき面に１ｍｍ間隔に切り目を入れて
１００個の格子を作成し、粘着テープを貼り付けて垂直
に引き剥がし、プラスチック側にめっきが残った数（め
っき密着数）の平均値で評価した。
【００３１】実施例２ 実施例１と同様にオゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる平
板成形品を、０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液に５ｍ
ｉｎ浸漬処理して水洗した後に無電解銅めっきを行い、
実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結果を
図９に示す。
【００３２】実施例３ 図２に示すように、予め炭酸水素ナトリウム水溶液の入
った粗化処理槽２にプラスチック成形品３を１０個浸漬
し、炭酸水素ナトリウム水溶液の供給装置１から該水溶
液５リットル／ｍｉｎで供給し、オゾン発生器４から生
成したオゾン含有ガスを粗化処理槽２に５リットル／ｍ
ｉｎで散気した。排オゾン含有ガスは、排オゾン分解装
置５に送って排オゾンは分解処理した。粗化処理槽２か
らの排水は、排オゾン分解槽６に送って排オゾンを分解
処理し、炭酸水素ナトリウム水溶液の供給装置１に送っ
て再利用した。オゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる平板
成形品を水洗した後に無電解銅めっきを行い、実施例１
と同様に銅めっき密着性評価を行なった結果を図１０に
示す。
【００３３】実施例４ 実施例３と同様にオゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる平
板成形品を、０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液に５ｍ
ｉｎ浸漬処理して水洗したのちに無電解銅めっきを行
い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結
果を図１１に示す。
【００３４】実施例５ 図３に示すように、予め炭酸水素ナトリウム水溶液の入
った粗化処理槽２にプラスチック成形品３を１０個浸漬
し、オゾン溶解装置８から溶存オゾンを含む炭酸水素ナ
トリウム水溶液を５リットル／ｍｉｎを粗化処理槽２に
供給した。オゾン溶解装置８へは炭酸水素ナトリウム水
溶液の供給装置１から該水溶液５リットル／ｍｉｎと、
オゾン発生器４から生成したオゾン含有ガス５リットル
／ｍｉｎが供給され、溶存オゾンを含む炭酸水素ナトリ
ウム水溶液が生成される。排オゾン含有ガスは排オゾン
分解装置５に送って排オゾンは分解処理した。粗化処理
槽２からの排水は排オゾン分解槽６に送って排オゾンを
分解処理し、下水放流した。オゾン処理したＡＢＳ樹脂
からなる平板成形品を水洗したのちに無電解銅めっきを
行い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった
結果を図１２に示す。
【００３５】実施例６ 実施例５と同様にオゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる平
板成形品を、０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液に５ｍ
ｉｎ浸漬処理して水洗したのちに無電解銅めっきを行
い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結
果を図１３に示す。
【００３６】実施例７ 図４に示すように、予め炭酸水素ナトリウム水溶液の入
った粗化処理槽２にプラスチック成形品３を１０個浸漬
し、オゾン溶解装置８から溶存オゾンを含む炭酸水素ナ
トリウム水溶液を５リットル／ｍｉｎを粗化処理槽２に
供給した。オゾン溶解装置８へは炭酸水素ナトリウム水
溶液の供給装置１から該水溶液５リットル／ｍｉｎと、
オゾン発生器４から生成したオゾン含有ガス５リットル
／ｍｉｎが供給され、溶存オゾンを含む炭酸水素ナトリ
ウム水溶液が生成される。排オゾン含有ガスは排オゾン
分解装置５に送って排オゾンは分解処理した。粗化処理
槽２からの排水は排オゾン分解槽６に送って排オゾンを
分解処理し、炭酸水素ナトリウム水溶液の供給装置１に
送って再利用した。オゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる
平板成形品を水洗した後に無電解銅めっきを行い、実施
例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結果を図１
４に示す。
【００３７】実施例８ 実施例７と同様にオゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる平
板成形品を、０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液に５ｍ
ｉｎ浸漬処理して水洗したのちに無電解銅めっきを行
い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結
果を図１５に示す。
【００３８】実施例９ 図５に示すように、予め炭酸水素ナトリウム水溶液の入
った粗化処理槽２にプラスチック成形品３を１０個浸漬
し、オゾン溶解装置８から溶存オゾンを含む炭酸水素ナ
トリウム水溶液を５リットル／ｍｉｎを粗化処理槽２に
供給するとともに、オゾン溶解装置８においてオゾンが
溶解しきれなかったオゾン含有ガスを粗化処理槽２に散
気した。オゾン溶解装置８へは炭酸水素ナトリウム水溶
液の供給装置１から該水溶液５リットル／ｍｉｎと、オ
ゾン発生器４から生成したオゾン含有ガス５リットル／
ｍｉｎが供給され、溶存オゾンを含む炭酸水素ナトリウ
ム水溶液が生成される。排オゾン含有ガスは排オゾン分
解装置５に送って排オゾンは分解処理した。粗化処理槽
２からの排水は排オゾン分解槽６に送って排オゾンを分
解処理し、下水放流した。オゾン処理したＡＢＳ樹脂か
らなる平板成形品を水洗したのちに無電解銅めっきを行
い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結
果を図１６に示す。
【００３９】実施例１０ 実施例９と同様にオゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる平
板成形品を、０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液に５ｍ
ｉｎ浸漬処理して水洗したのちに無電解銅めっきを行
い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結
果を図１７に示す。
【００４０】実施例１１ 図６に示すように、予め炭酸水素ナトリウム水溶液の入
った粗化処理槽２にプラスチック成形品３を１０個浸漬
し、オゾン溶解装置８から溶存オゾンを含む炭酸水素ナ
トリウム水溶液を５リットル／ｍｉｎを粗化処理槽２に
供給するとともに、オゾン溶解装置８においてオゾンが
溶解しきれなかったオゾン含有ガスを粗化処理槽２に散
気した。オゾン溶解装置８へは炭酸水素ナトリウム水溶
液の供給装置１から該水溶液５リットル／ｍｉｎと、オ
ゾン発生器４から生成したオゾン含有ガス５リットル／
ｍｉｎが供給され、溶存オゾンを含む炭酸水素ナトリウ
ム水溶液が生成される。排オゾン含有ガスは排オゾン分
解装置５に送って排オゾンは分解処理した。粗化処理槽
２からの排水は排オゾン分解槽６に送って排オゾンを分
解処理し、炭酸水素ナトリウム水溶液の供給装置１に送
って再利用した。オゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる平
板成形品を水洗したのちに無電解銅めっきを行い、実施
例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結果を図１
８に示す。
【００４１】実施例１２ 実施例１１と同様にオゾン処理したＡＢＳ樹脂からなる
平板成形品を、０．１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液に５
ｍｉｎ浸漬処理して水洗したのちに無電解銅めっきを行
い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結
果を図１９に示す。
【００４２】実施例１〜１２において、めっき直後はも
ちろんのこと熱衝撃後もめっき密着性は良好であった。
また、排水中に有害なクロムを含まないので排水処理が
容易であり、周辺水域に与える悪影響もない。
【００４３】続いて比較例を説明する。実施例と同様に
プラスチック成形品には、図７に示すＡＢＳ樹脂からな
る平板成形品を用いた。
【００４４】比較例．炭酸水素ナトリウム水溶液の代わ
りに水を用いた。実施例１と同様に図１に示すように、
予め水の入った粗化処理槽２にプラスチック成形品３を
１０個浸漬し、炭酸水素ナトリウム水溶液の供給装置１
から水を５リットル／ｍｉｎで供給し、オゾン発生器４
から生成したオゾン含有ガスを粗化処理槽２に５リット
ル／ｍｉｎで散気した。排オゾン含有ガスは排オゾン分
解装置５に送って排オゾンは分解処理した。粗化処理槽
２からの排水は排オゾン分解槽６に送って排オゾンを分
解処理し、下水放流した。オゾン処理したＡＢＳ樹脂か
らなる平板成形品を水洗したのちに無電解銅めっきを行
い、実施例１と同様に銅めっき密着性評価を行なった結
果を図２０に示す。
【００４５】比較例では、めっき直後のめっき密着性は
良好であったが、エッチング深さが不十分なため熱衝撃
後はめっき密着性が低下した。
【００４６】
【発明の効果】以上のように、この発明による無電解め
っきの前処理方法および無電解めっき処理方法により、
めっき密着性が高く、良好なめっきを行うことができ
る。また、排水中に有害なクロムを含まないので排水処
理が容易であり、周辺水域に与える影響も無くなるとい
う効果が得られる。さらにまた、オゾン処理後の排水の
中和処理が不要となり、紫外線照射設備や加熱設備など
の付帯設備も不要となるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の実施の形態１の炭酸水素化合物と
オゾンを用いた無電解めっきの前処理のための装置を示
した図である。
【図２】 この発明の実施の形態１の炭酸水素化合物と
オゾンを用いた無電解めっきの前処理のための他の装置
を示した図である。
【図３】 この発明の実施の形態２の炭酸水素化合物と
オゾンを用いた無電解めっきの前処理のための装置を示
した図である。
【図４】 この発明の実施の形態２の炭酸水素化合物と
オゾンを用いた無電解めっきの前処理のための他の装置
を示した図である。
【図５】 この発明の実施の形態３の炭酸水素化合物と
オゾンを用いた無電解めっきの前処理のための装置を示
した図である。
【図６】 この発明の実施の形態３の炭酸水素化合物と
オゾンを用いた無電解めっきの前処理のための他の装置
を示した図である。
【図７】 プラスチック成形品の形状を示す図である。
【図８】 実施例１における銅めっき密着性評価を行っ
た結果を示した図である。
【図９】 実施例２における銅めっき密着性評価を行っ
た結果を示した図である。
【図１０】 実施例３における銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１１】 実施例４における銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１２】 実施例５における銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１３】 実施例６における銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１４】 実施例７における銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１５】 実施例８における銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１６】 実施例９における銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１７】 実施例１０における銅めっき密着性評価を
行った結果を示した図である。
【図１８】 実施例１１おける銅めっき密着性評価を行
った結果を示した図である。
【図１９】 実施例１２における銅めっき密着性評価を
行った結果を示した図である。
【図２０】 比較例における銅めっき密着性評価を行っ
た結果を示した図である。
【符号の説明】
１ 炭酸水素化合物水溶液の供給装置、 ２ 粗化処理
槽、 ３ プラスチック成形品、 ４ オゾン発生器、
５ 排オゾン分解装置、 ６ 排オゾン分解槽、 ７
活性炭、 ８ オゾン溶解装置。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 プラスチック成形品の表面に化学的処理
    によって金属皮膜を析出させる無電解めっき処理の前処
    理方法において、炭酸水素化合物水溶液とオゾンとを用
    いて前記プラスチック成形品の表面を粗化処理すること
    を特徴とする無電解めっきの前処理方法。
  2. 【請求項２】 前記粗化処理は、粗化処理槽に供給され
    た前記炭酸水素化合物水溶液に前記プラスチック成形品
    を浸漬させ、前記炭酸水素化合物水溶液が供給された前
    記粗化処理槽に前記オゾンを含んだガスを散気させるこ
    とを特徴とする請求項１記載の無電解めっきの前処理方
    法。
  3. 【請求項３】 前記粗化処理は、前記オゾンを予め溶解
    させた前記炭酸水素化合物水溶液を粗化処理槽に供給
    し、前記炭酸水素化合物水溶液が供給された前記粗化処
    理槽に前記プラスチック成形品を浸漬させることを特徴
    とする請求項１記載の無電解めっきの前処理方法。
  4. 【請求項４】 前記粗化処理は、前記オゾンを予め溶解
    させた前記炭酸水素化合物水溶液を粗化処理槽に供給
    し、前記炭酸水素化合物水溶液が供給された前記粗化処
    理槽に前記プラスチック成形品を浸漬させ、前記炭酸水
    素化合物水溶液に前記オゾンを含んだガスを散気させる
    ことを特徴とする請求項１記載の無電解めっきの前処理
    方法。
  5. 【請求項５】 前記粗化処理において、前記粗化処理槽
    からの排オゾン含有ガスは、排オゾン分解装置によって
    酸素あるいは二酸化炭素に分解されることを特徴とする
    請求項２乃至請求項４のいずれかに記載の無電解めっき
    の前処理方法。
  6. 【請求項６】 前記粗化処理槽からの排水は、排オゾン
    分解槽に供給されて、排オゾンが分解された後、下水放
    流あるいは無電解めっきの前処理に再利用されることを
    特徴とする請求項２乃至請求項５のいずれかに記載の無
    電解めっきの前処理方法。
  7. 【請求項７】 前記粗化処理の後、前記プラスチック
    成形品をアルカリ性液に浸漬させることを特徴とする請
    求項１乃至請求項６のいずれかに記載の無電解めっきの
    前処理方法。
  8. 【請求項８】 炭酸水素化合物水溶液とオゾンとを用い
    た粗化処理後のプラスチック成形品の表面に化学的処理
    によって金属皮膜を析出させて無電解めっきを行うこと
    を特徴とする無電解めっき処理方法。
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