JP2001121421A - 用水回収装置 - Google Patents
用水回収装置Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
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- Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】分離膜の処理水量と分離膜の寿命を高いレベル
で維持するとともに、濃縮液の排出頻度と量を大幅に低
減し、用水の回収率を高めることが可能な用水回収装置
を提供すること。 【解決手段】半導体製造工程から排出される微粒子懸濁
排水を貯める原水槽と、前記原水槽にポンプを介して接
続され、原水槽の微粒子懸濁排水を微粒子スラッジと処
理水とに分離する膜分離装置と、前記膜分離装置により
捕捉された懸濁微粒子を逆圧洗浄により取り除く手段を
具え、前記逆圧洗浄手段からの逆洗浄水を再度原水槽に
戻すようにしてなる用水回収装置において、前記逆圧洗
浄手段と原水槽の間に逆洗浄水中の懸濁微粒子を捕捉分
離する手段を設けた用水回収装置により処理する。
で維持するとともに、濃縮液の排出頻度と量を大幅に低
減し、用水の回収率を高めることが可能な用水回収装置
を提供すること。 【解決手段】半導体製造工程から排出される微粒子懸濁
排水を貯める原水槽と、前記原水槽にポンプを介して接
続され、原水槽の微粒子懸濁排水を微粒子スラッジと処
理水とに分離する膜分離装置と、前記膜分離装置により
捕捉された懸濁微粒子を逆圧洗浄により取り除く手段を
具え、前記逆圧洗浄手段からの逆洗浄水を再度原水槽に
戻すようにしてなる用水回収装置において、前記逆圧洗
浄手段と原水槽の間に逆洗浄水中の懸濁微粒子を捕捉分
離する手段を設けた用水回収装置により処理する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置か
ら排出されるゲル化しやすい微粒子懸濁液（以下スラリ
と称す）、特にＣＭＰ装置から排出される微粒子を含む
研磨排水から、濃縮されたスラリと再利用できる用水と
を分離処理する技術に関する。
ら排出されるゲル化しやすい微粒子懸濁液（以下スラリ
と称す）、特にＣＭＰ装置から排出される微粒子を含む
研磨排水から、濃縮されたスラリと再利用できる用水と
を分離処理する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子を形成したウエハ表面の平坦
化の手法として化学機械的研磨（ＣＭＰ）が用いられる
ようになってきている。この方法は、粒径が１μｍ以下
の研磨性微粒子を１〜１０質量％含むスラリを研磨パッ
ドと半導体ウエハとの間に連続的に供給しながら行うも
ので、懸濁微粒子を含む排水が大量に発生する。ＣＭＰ
装置から排出される研磨排水から、微粒子と再利用可能
な用水とを分離処理する技術としては、図５に示すよう
に単純に原水槽２に受けた研磨排水１を、限外ろ過(Ｕ
Ｆ)膜などの膜分離装置４を用いてろ過したろ液を回収
する方法や、図６に示すように、一段目の膜分離装置４
で濃縮された研磨排水１を、二段目の膜分離装置４’で
更に濃縮することにより、一段目の膜分離装置の長寿命
化と用水回収の高効率化を図る方法(特開明６２-８３０
８６号公報)や、図７に示すように、膜分離装置４で濃
縮された原水槽２中のスラリを、脱水機など膜分離以外
の分離装置１６で除去し、原水槽２内のスラリ濃度を低
減することにより、膜分離装置の長寿命化と処理水量の
維持を図る方法(特開平０７-６００７１号公報)などが
ある。
化の手法として化学機械的研磨（ＣＭＰ）が用いられる
ようになってきている。この方法は、粒径が１μｍ以下
の研磨性微粒子を１〜１０質量％含むスラリを研磨パッ
ドと半導体ウエハとの間に連続的に供給しながら行うも
ので、懸濁微粒子を含む排水が大量に発生する。ＣＭＰ
装置から排出される研磨排水から、微粒子と再利用可能
な用水とを分離処理する技術としては、図５に示すよう
に単純に原水槽２に受けた研磨排水１を、限外ろ過(Ｕ
Ｆ)膜などの膜分離装置４を用いてろ過したろ液を回収
する方法や、図６に示すように、一段目の膜分離装置４
で濃縮された研磨排水１を、二段目の膜分離装置４’で
更に濃縮することにより、一段目の膜分離装置の長寿命
化と用水回収の高効率化を図る方法(特開明６２-８３０
８６号公報)や、図７に示すように、膜分離装置４で濃
縮された原水槽２中のスラリを、脱水機など膜分離以外
の分離装置１６で除去し、原水槽２内のスラリ濃度を低
減することにより、膜分離装置の長寿命化と処理水量の
維持を図る方法(特開平０７-６００７１号公報)などが
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現在、ＣＭＰ用のスラ
リとしては様々な性状をもったスラリが上市されてきて
いる。しかし、薬液メーカは、ウエハの平坦化に関して
性能の良いスラリの開発を目標としているため、スラリ
使用後に排出される懸濁微粒子を大量に含む排水の処理
を考えた場合、処理しにくいスラリも多々上市されてい
る。この様なスラリの中に本発明で処理対象としている
ゲル化しやすいスラリがある。このゲル化しやすいスラ
リを、分離膜を使用して濃縮されたスラリと処理水に分
離する場合、分離膜により分離されたスラリは、逆圧洗
浄により原水槽に戻されるので原水槽のスラリ濃度が高
くなるとともに、分離膜の分離面において圧密化を起こ
し、分離面でゲル化し処理水量の低下を引き起こす。
リとしては様々な性状をもったスラリが上市されてきて
いる。しかし、薬液メーカは、ウエハの平坦化に関して
性能の良いスラリの開発を目標としているため、スラリ
使用後に排出される懸濁微粒子を大量に含む排水の処理
を考えた場合、処理しにくいスラリも多々上市されてい
る。この様なスラリの中に本発明で処理対象としている
ゲル化しやすいスラリがある。このゲル化しやすいスラ
リを、分離膜を使用して濃縮されたスラリと処理水に分
離する場合、分離膜により分離されたスラリは、逆圧洗
浄により原水槽に戻されるので原水槽のスラリ濃度が高
くなるとともに、分離膜の分離面において圧密化を起こ
し、分離面でゲル化し処理水量の低下を引き起こす。
【０００４】このゲル化したスラリは逆圧洗浄により分
離面から剥離することができるが、従来の単純に原水槽
に受けた研磨排水を分離膜を使用してろ過する方法（図
５）や、一段目の分離膜で濃縮された研磨排水を、二段
目の分離膜で更に濃縮する方法(図６）は、逆洗浄水が
原水槽に戻るため、原水槽内のゲル化しやすいスラリ濃
度が高まる。そのため、処理が進むにつれてスラリのゲ
ル化の影響が大きくなり、処理水量の低下や分離膜の寿
命が短くなる問題がある。そのため、処理水量の維持や
分離膜の寿命を確保するために、濃縮スラリ液を定期的
に排出する必要がある。分離膜で濃縮された原水槽中の
スラリを、脱水機などの分離膜以外の分離装置で除去す
る方法(図７）もあるが、ゲル化したスラリは撹絆する
と再び分散するため、原水槽内の濃縮液を引き抜いて脱
水機などで除去しようとしても、微粒子が既に分散して
おり、効率よく原水槽中のスラリを除去できないといっ
た問題がある。本発明はかかる実状に鑑みなされたもの
で、分離膜の処理水量と分離膜の寿命を高いレベルで維
持するとともに、濃縮スラリ液の排出頻度と量を大幅に
低減し、用水の回収率を高めることが可能な用水回収装
置を提供することを目的とする。
離面から剥離することができるが、従来の単純に原水槽
に受けた研磨排水を分離膜を使用してろ過する方法（図
５）や、一段目の分離膜で濃縮された研磨排水を、二段
目の分離膜で更に濃縮する方法(図６）は、逆洗浄水が
原水槽に戻るため、原水槽内のゲル化しやすいスラリ濃
度が高まる。そのため、処理が進むにつれてスラリのゲ
ル化の影響が大きくなり、処理水量の低下や分離膜の寿
命が短くなる問題がある。そのため、処理水量の維持や
分離膜の寿命を確保するために、濃縮スラリ液を定期的
に排出する必要がある。分離膜で濃縮された原水槽中の
スラリを、脱水機などの分離膜以外の分離装置で除去す
る方法(図７）もあるが、ゲル化したスラリは撹絆する
と再び分散するため、原水槽内の濃縮液を引き抜いて脱
水機などで除去しようとしても、微粒子が既に分散して
おり、効率よく原水槽中のスラリを除去できないといっ
た問題がある。本発明はかかる実状に鑑みなされたもの
で、分離膜の処理水量と分離膜の寿命を高いレベルで維
持するとともに、濃縮スラリ液の排出頻度と量を大幅に
低減し、用水の回収率を高めることが可能な用水回収装
置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる目的は本発明によ
れば、半導体製造工程から排出される微粒子懸濁排水を
貯める原水槽と、前記原水槽にポンプを介して接続さ
れ、原水槽の微粒子懸濁排水を濃縮されたスラリと処理
水とに分離する膜分離装置と、前記膜分離装置により捕
捉された懸濁微粒子を逆圧洗浄により取り除く手段を具
え、前記逆圧洗浄手段からの逆洗浄水を再度原水槽に戻
すようにしてなる用水回収装置において、前記逆圧洗浄
手段と原水槽の間に逆洗浄水中の懸濁微粒子を捕捉分離
する手段を設けたことを特徴とする用水回収装置により
達成される。以下、本発明を実施例を示す図面を参照し
ながら説明する。
れば、半導体製造工程から排出される微粒子懸濁排水を
貯める原水槽と、前記原水槽にポンプを介して接続さ
れ、原水槽の微粒子懸濁排水を濃縮されたスラリと処理
水とに分離する膜分離装置と、前記膜分離装置により捕
捉された懸濁微粒子を逆圧洗浄により取り除く手段を具
え、前記逆圧洗浄手段からの逆洗浄水を再度原水槽に戻
すようにしてなる用水回収装置において、前記逆圧洗浄
手段と原水槽の間に逆洗浄水中の懸濁微粒子を捕捉分離
する手段を設けたことを特徴とする用水回収装置により
達成される。以下、本発明を実施例を示す図面を参照し
ながら説明する。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例を示したも
ので、半導体製造工程から排出される微粒子懸濁排水
（研磨排水）１を貯める原水槽２と、前記原水槽２にポ
ンプ３を介して接続され、原水槽の研磨排水を濃縮され
たスラリと処理水とに分離する膜分離装置４と、前記膜
分離装置４により捕捉された濃縮スラリを逆洗浄により
取り除く手段を具え、前記逆洗浄手段からの逆洗浄水を
再度原水槽２に戻すようにしてなる用水回収装置におい
て、前記逆洗浄手段と原水槽２の間に逆洗浄水中の懸濁
微粒子を捕捉分離する手段６を設けてなる。膜分離装置
４に使用する膜としては、ポリアクリロニトリル、ポリ
オレフィン、ポリスルホン、酢酸セルロース誘導体、ポ
リビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド等の高分
子素材、アルミナ、多孔性ガラス等の無機セラミック素
材からなる精密ろ過膜、限外ろ過膜等が用いられる。そ
して、粒子を分離させる膜は、除去対象とする懸濁粒子
の径の１／２以下の径を有する膜を用いるのが好まし
い。逆圧洗浄する手段とては、膜分離装置４から回収さ
れた回収水８を逆圧洗浄ポンプ１０を介して膜分離装置
４へ導入することによって行う。逆洗浄水中の懸濁微粒
子を捕捉分離する手段６としては、特に制約はないが、
図２に示すようなスラッジ受け網あるいは図４に示すよ
うなスクリ−ンベルト、あるいはバグフィルタ等を用い
ることができる。
ので、半導体製造工程から排出される微粒子懸濁排水
（研磨排水）１を貯める原水槽２と、前記原水槽２にポ
ンプ３を介して接続され、原水槽の研磨排水を濃縮され
たスラリと処理水とに分離する膜分離装置４と、前記膜
分離装置４により捕捉された濃縮スラリを逆洗浄により
取り除く手段を具え、前記逆洗浄手段からの逆洗浄水を
再度原水槽２に戻すようにしてなる用水回収装置におい
て、前記逆洗浄手段と原水槽２の間に逆洗浄水中の懸濁
微粒子を捕捉分離する手段６を設けてなる。膜分離装置
４に使用する膜としては、ポリアクリロニトリル、ポリ
オレフィン、ポリスルホン、酢酸セルロース誘導体、ポ
リビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド等の高分
子素材、アルミナ、多孔性ガラス等の無機セラミック素
材からなる精密ろ過膜、限外ろ過膜等が用いられる。そ
して、粒子を分離させる膜は、除去対象とする懸濁粒子
の径の１／２以下の径を有する膜を用いるのが好まし
い。逆圧洗浄する手段とては、膜分離装置４から回収さ
れた回収水８を逆圧洗浄ポンプ１０を介して膜分離装置
４へ導入することによって行う。逆洗浄水中の懸濁微粒
子を捕捉分離する手段６としては、特に制約はないが、
図２に示すようなスラッジ受け網あるいは図４に示すよ
うなスクリ−ンベルト、あるいはバグフィルタ等を用い
ることができる。
【０００７】図１〜４に示した本発明の用水回収装置に
おいて、スラリを含む研磨排水１は原水槽２で受けら
れ、ポンプ３により膜分離装置４へ送られ濃縮スラリと
処理水に分離される。膜分離装置４の分離膜により分離
された濃縮スラリは、逆洗浄により原水槽２に戻される
が、この戻りにより原水槽２内のスラリ濃度は高くなる
とともに、膜分離装置４の分離面において圧密化を起こ
し、分離面でスラリの濃厚なスラッジ層を形成するため
透過抵抗が増加し、膜分離装置の処理水量が徐々に低下
する。この時、ゲル化しやすいスラリがゲル化して分離
面を覆う。低下した処理水量を回復するため、定期的に
逆圧洗浄ンプ１０により逆洗浄水８を膜分離装置４の処
理水側から送液し、分離面に付着しているスラッジを分
離面から剥離する。逆圧洗浄水８と剥離したゲル化状態
のスラリは、クロスフローあるいは全量ろ過の流路を介
して原水槽２へ流れるが、切替バルブ５を切り替えるこ
とにより、原水槽２へは直接流れず分離手段６に排出さ
れる。この時スラリはゲル化しているため、比較的簡単
な分離手段でも分離でき、スラッジが除かれた逆洗浄水
８が原水槽２に戻る。本発明では、逆圧洗浄時に処理水
側から膜分離装置を通過した逆洗浄水が、クロスフロー
あるいは全量ろ過の流路を介して直接原水槽へ戻らない
ように流路を切り替え、逆洗浄水に含まれるゲル化した
スラリを分離手段で分離した後、原水槽へ戻すことで、
効率的にスラッジを除去することにより、原水槽中のス
ラリ濃度を低減し、膜分離装置の処理水量と膜分離装置
の寿命を高いレベルで維持するとともに、濃縮液の排出
頻度と量を低減し、用水の回収率を高めることができ
る。
おいて、スラリを含む研磨排水１は原水槽２で受けら
れ、ポンプ３により膜分離装置４へ送られ濃縮スラリと
処理水に分離される。膜分離装置４の分離膜により分離
された濃縮スラリは、逆洗浄により原水槽２に戻される
が、この戻りにより原水槽２内のスラリ濃度は高くなる
とともに、膜分離装置４の分離面において圧密化を起こ
し、分離面でスラリの濃厚なスラッジ層を形成するため
透過抵抗が増加し、膜分離装置の処理水量が徐々に低下
する。この時、ゲル化しやすいスラリがゲル化して分離
面を覆う。低下した処理水量を回復するため、定期的に
逆圧洗浄ンプ１０により逆洗浄水８を膜分離装置４の処
理水側から送液し、分離面に付着しているスラッジを分
離面から剥離する。逆圧洗浄水８と剥離したゲル化状態
のスラリは、クロスフローあるいは全量ろ過の流路を介
して原水槽２へ流れるが、切替バルブ５を切り替えるこ
とにより、原水槽２へは直接流れず分離手段６に排出さ
れる。この時スラリはゲル化しているため、比較的簡単
な分離手段でも分離でき、スラッジが除かれた逆洗浄水
８が原水槽２に戻る。本発明では、逆圧洗浄時に処理水
側から膜分離装置を通過した逆洗浄水が、クロスフロー
あるいは全量ろ過の流路を介して直接原水槽へ戻らない
ように流路を切り替え、逆洗浄水に含まれるゲル化した
スラリを分離手段で分離した後、原水槽へ戻すことで、
効率的にスラッジを除去することにより、原水槽中のス
ラリ濃度を低減し、膜分離装置の処理水量と膜分離装置
の寿命を高いレベルで維持するとともに、濃縮液の排出
頻度と量を低減し、用水の回収率を高めることができ
る。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、水酸化カリウム
ベースでシリカを研磨粒子とした、酸化膜ＣＭＰ用のス
ラリの研磨排水の場合を例に取り、図２に基づいて説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。本実
施例で使用したスラリは、平均孔径が０．１μｍのセラ
ミック製メンブレンフィルタでろ過すると、メンブレン
フィルタに捕捉されたスラリがゲル化し、厚さ数ｍｍの
白色半透明のゲルを生成した。このゲル化したスラリは
水中に入れて攪拌すると再び分散する性状である。図２
は本実施例の概略フロー図であり、ＣＭＰ装置(図示せ
ず)から排出されたスラリを含む研磨排水１は原水槽２
に流入した後、分離ポンプ３により膜分離装置４へ送ら
れ、クロスフローろ過により処理される。本実施例では
膜分離装置としてセラミックフィルタを使用したが、ス
ラリを除去できる膜分離装置であれば、精密ろ過(ＭＦ)
膜や限外ろ過(ＵＦ)膜などいずれの膜分離装置を使用し
てもよい。
ベースでシリカを研磨粒子とした、酸化膜ＣＭＰ用のス
ラリの研磨排水の場合を例に取り、図２に基づいて説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。本実
施例で使用したスラリは、平均孔径が０．１μｍのセラ
ミック製メンブレンフィルタでろ過すると、メンブレン
フィルタに捕捉されたスラリがゲル化し、厚さ数ｍｍの
白色半透明のゲルを生成した。このゲル化したスラリは
水中に入れて攪拌すると再び分散する性状である。図２
は本実施例の概略フロー図であり、ＣＭＰ装置(図示せ
ず)から排出されたスラリを含む研磨排水１は原水槽２
に流入した後、分離ポンプ３により膜分離装置４へ送ら
れ、クロスフローろ過により処理される。本実施例では
膜分離装置としてセラミックフィルタを使用したが、ス
ラリを除去できる膜分離装置であれば、精密ろ過(ＭＦ)
膜や限外ろ過(ＵＦ)膜などいずれの膜分離装置を使用し
てもよい。
【０００９】処理開始時の処理水量は０．２ｍ3／ｍ2／
ｈであったが、処理開始直後から、スラリの圧密化によ
って徐々に処理水量が低下し、１０分程度経過すると処
理水量は０．０５ｍ3／ｍ2／ｈで一定となった。この時
点で、圧密化によってゲル化したスラリの厚みが一定に
なったと判断し、切替バルブ５を逆洗浄水８がスラッジ
受け網１２に流れるように切り替えて、処理水を逆洗浄
水８として使用し逆圧洗浄を行なった。逆洗浄水８は膜
分離装置４上部から排出され、排出された逆洗浄水８中
には直径数ｍｍのゲル化したスラッジが確認でき、２０
メッシュのスラッジ受け網１２により十分に捕捉可能で
あった。スラッジ受け網１２に捕捉したスラッジは、ス
ラッジ受け網１２を反転させることによりスラッジ槽１
３へ排出した。以後１０分毎に逆圧洗浄を行ない、スラ
ッジ受け網１２によりゲル化したスラリを除去しながら
濃縮処理を行なった。その結果、原水槽中のスラリ濃度
を低減することができ、スラッジ受け網を用いずに原水
槽に戻した場合と比較して、同じ濃縮倍率における処理
水量を大幅に高めることが可能であった。本実施例で
は、クロスフローにより処理を行なったが、図３に示す
ような全量ろ過でも同様の効果を得ることができる。
ｈであったが、処理開始直後から、スラリの圧密化によ
って徐々に処理水量が低下し、１０分程度経過すると処
理水量は０．０５ｍ3／ｍ2／ｈで一定となった。この時
点で、圧密化によってゲル化したスラリの厚みが一定に
なったと判断し、切替バルブ５を逆洗浄水８がスラッジ
受け網１２に流れるように切り替えて、処理水を逆洗浄
水８として使用し逆圧洗浄を行なった。逆洗浄水８は膜
分離装置４上部から排出され、排出された逆洗浄水８中
には直径数ｍｍのゲル化したスラッジが確認でき、２０
メッシュのスラッジ受け網１２により十分に捕捉可能で
あった。スラッジ受け網１２に捕捉したスラッジは、ス
ラッジ受け網１２を反転させることによりスラッジ槽１
３へ排出した。以後１０分毎に逆圧洗浄を行ない、スラ
ッジ受け網１２によりゲル化したスラリを除去しながら
濃縮処理を行なった。その結果、原水槽中のスラリ濃度
を低減することができ、スラッジ受け網を用いずに原水
槽に戻した場合と比較して、同じ濃縮倍率における処理
水量を大幅に高めることが可能であった。本実施例で
は、クロスフローにより処理を行なったが、図３に示す
ような全量ろ過でも同様の効果を得ることができる。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、効率的にスラッジを濃
縮液中から除去できるため、分離膜の処理水量と分離膜
の寿命を高いレベルで維持するとともに、濃縮液の排出
頻度と量を大幅に低減し、用水の回収率を高めることが
可能となった。
縮液中から除去できるため、分離膜の処理水量と分離膜
の寿命を高いレベルで維持するとともに、濃縮液の排出
頻度と量を大幅に低減し、用水の回収率を高めることが
可能となった。
【図１】本発明の実施の１形態を示す用水回収装置の概
略フロー図。
略フロー図。
【図２】本発明のクロスフロー方式の一実施例を示す用
水回収装置の概略フロー図。
水回収装置の概略フロー図。
【図３】本発明の全量ろ過方式の一実施例を示す用水回
収装置の概略フロー図。
収装置の概略フロー図。
【図４】分離手段としてぺ一パーフィルタを使用した一
実施例を示す用水回収装置の概略フロー図。
実施例を示す用水回収装置の概略フロー図。
【図５】分離膜を使用した従来例の概略フロー図
【図６】二段処理をした従来例の概略フロー図
【図７】分離装置を使用した従来例の概略フロー図
１ 研磨排水 ２ 原水槽 ３ 分離ポンプ ４ 膜分離装置 ５ 切替バルブ ６ 分離手段 ７ 処理水切替バルブ ８ 逆洗浄水 ９ 濃縮液 １０ 逆圧洗浄ポンプ １１ 回収水槽 １２ スラッジ受け網 １３ スラッジ槽 １４ スクリ−ンベルト １５ 濃縮槽 １６ 分離装
置
置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坪井 秀文 茨城県下館市大字下江連1250番地 日立化 成テクノプラント株式会社内 Ｆターム(参考） 3C011 BB34 3C047 FF19 GG14 GG17 4D006 GA06 GA07 JA53A JA56A JA67A JA70A KA63 KC03 KC13 KE02Q KE02R MA22 PB08 PB15 PC01
Claims (1)
- 【請求項１】半導体製造工程から排出される微粒子懸濁
排水を貯める原水槽と、前記原水槽にポンプを介して接
続され、原水槽の微粒子懸濁排水を濃縮されたスラリと
処理水とに分離する膜分離装置と、前記膜分離装置によ
り捕捉された懸濁微粒子を逆圧洗浄により取り除く手段
を具え、前記逆圧洗浄手段からの逆洗浄水を再度原水槽
に戻すようにしてなる用水回収装置において、前記逆圧
洗浄手段と原水槽の間に逆洗浄水中の懸濁微粒子を捕捉
分離する手段を設けたことを特徴とする用水回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30751599A JP2001121421A (ja) | 1999-10-28 | 1999-10-28 | 用水回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30751599A JP2001121421A (ja) | 1999-10-28 | 1999-10-28 | 用水回収装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001121421A true JP2001121421A (ja) | 2001-05-08 |
Family
ID=17970019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30751599A Pending JP2001121421A (ja) | 1999-10-28 | 1999-10-28 | 用水回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001121421A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003300070A (ja) * | 2002-04-09 | 2003-10-21 | Ngk Insulators Ltd | メタル系ｃｍｐ排水の処理方法 |
| CN100374245C (zh) * | 2003-12-29 | 2008-03-12 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 研磨液再利用装置及其系统 |
| JP2009113148A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-05-28 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 研磨スラリーのろ過方法並びに研磨材の回収方法及び回収装置 |
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