CN100374245C - 研磨液再利用装置及其系统 - Google Patents
研磨液再利用装置及其系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100374245C CN100374245C CNB2003101229170A CN200310122917A CN100374245C CN 100374245 C CN100374245 C CN 100374245C CN B2003101229170 A CNB2003101229170 A CN B2003101229170A CN 200310122917 A CN200310122917 A CN 200310122917A CN 100374245 C CN100374245 C CN 100374245C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- lapping liquid
- circulation line
- lapping
- waste discharge
- filter element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Abstract
一种研磨液再利用装置及其系统，应用于化学机械研磨工艺，该系统包含研磨液循环管路、至少一个连接该研磨液循环管路的研磨液供给单元、若干个连接该研磨液循环管路的研磨液再利用装胃、及若干个分别连接该研磨液再利用装置的化学机械研磨单元；其中该装置包括回收已过滤的研磨液的回收泵、及抛弃过滤排出的废液与废气的排废单元。
Description
技术领域
本发明是关于一种研磨液再利用装置及其系统，特别是一种应用于化学机械研磨流程的研磨液再利用装置及其系统。
背景技术
随着半导体组件线宽缩减及层数的增加，平坦化工艺已是不可或缺，化学机械研磨(Chemical Machine Polishing，CMP)是目前平坦化工艺的主要技术，其利用研磨垫及研磨液，进行机械移除与化学侵蚀的双重研磨，来移除晶片表面的物质，可让产品表面达到全面性的平坦化，以利后续薄膜沉积的进行。
公知化学机械研磨流程里还包括有过滤单元，是在化学机械研磨单元之前过滤该研磨液，将研磨液里所含过大的、沉淀的(settling)、或结块(agglomeration)的研磨颗粒滤出，以保持该研磨液的稳定性(stability)与连续性(consistency)，避免产品于研磨过程中被刮伤。如图1所示，是公知化学机械研磨液的流程示意图，研磨液导入过滤单元11a，滤出该研磨液中过大的研磨颗粒后，输送至化学机械研磨单元12a，对产品进行平坦化的研磨后并排出废液；当自动化生产作业进行时，该过滤单元11a不断滤出该研磨液中的研磨颗粒，以供给该化学机械研磨单元12a使用。
半导体厂中为了生产作业的顺利与机台寿命的延长，会对机台定期进行预防保养(Prevention Maintenance，PM)，以下简称PM作业；一般而言，PM作业的程序大概包括机台(Chamber)开启、机台擦拭、零组件拆卸与擦拭、管件拆卸与擦拭、零组件及管件的浸泡与清洗、更换新零组件与机台复原。当该化学机械研磨单元12a进行PM作业时，该过滤单元11a及该化学机械研磨单元12a均需停机接受保养，是以，前次生产所留存在该过滤单元11a中已完成过滤、但尚未传送至该化学机械研磨单元12a的该研磨液，亦皆按照PM作业的一般流程而被清除处理掉。然而，PM作业时清理研磨液所造成的操作不便，亦会拉长PM作业的时间而影响产能；另外，在实际使用中，已过滤的研磨液可以重复使用却被清除，是某种程度的资源浪费；另一方面，最重要的是，清除可用的研磨液无法符合绿色工艺的环保要求。
发明内容
本发明的主要目的，在于提供一种研磨液再利用装置及其系统，在化学机械研磨工艺中，能够简便进行预防保养。
本发明的次要目的，在于提供一种研磨液再利用装置及其系统，在化学机械研磨工艺中，能够提高该研磨液的使用率，避免产生资源浪费及符合环保要求。
为了达成上述目的，本发明提供一种研磨液再利用装置及其系统，应用于化学机械研磨工艺，该系统包含研磨液循环管路、至少一个连接该研磨液循环管路的研磨液供给单元、若干个连接该研磨液循环管路的研磨液再利用装置、及若干个分别连接该研磨液再利用装置的化学机械研磨单元；其中该装置包括：
本体，具有连接该研磨液循环管路的研磨液入口、排气口、排废口、及连接于该化学机械研磨单元的研磨液出口：
过滤单元，设置于该本体内、并滤出由该研磨液入口导入的研磨液所含的研磨颗粒；
排废单元，分别连接该本体的该排废口及于外部处理系统，用以抛弃由该本体排出的废液；
其特征在于，
该本体具有研磨液回收口、贮存空间，该贮存空间容置经由该过滤单元滤出研磨颗粒后的该研磨液；
回收泵，一端连接该本体的该研磨液回收口、另一端连接于该研磨液循环管路，该回收泵由该研磨液回收口抽回该贮存空间中已过滤的该研磨液，并传送至该研磨液循环管路，以供该工艺的重复使用。
采用上述装置和系统可顺利回收已过滤的该研磨液至该研磨液循环管路，达到该研磨液再利用的目的；从而减少PM作业时清理该研磨液所造成的操作不便及时间；而且，已过滤的该研磨液可以充分利用，并可达到重复使用的环保要求。
附图说明
为了能更进一步了解本发明特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明，并非用来对本发明加以限制。
图1为公知化学机械研磨液的流程示意图；
图2为本发明研磨液再利用装置及其系统的流程示意图；及
图3为本发明研磨液再利用装置及其系统的结构示意图。
附图标记说明
公知化学机械研磨流程
过滤单元 11a 化学机械研磨单元 12a
本发明研磨液再利用系统 1
研磨液循环管路 2 研磨液供给单元 3
研磨液再利用装置 4 化学机械研磨单元 5
本体 41 研磨液入口 411
研磨液回收口 412 研磨液出口 413
排废口 414 过滤单元 42
回收泵 43 排废单元 44
一号阀 451 二号阀 452
三号阀 453 排气管 46
外部处理系统 47
具体实施方式
请参考图2所示，本发明提供一种研磨液再利用系统1，应用于化学机械研磨工艺，该系统包含研磨液循环管路2、至少一个连接该研磨液循环管路2的研磨液供给单元3、若干个连接该研磨液循环管路2的研磨液再利用装置4、及若干个分别连接于该研磨液再利用装置4的化学机械研磨单元5。
本发明在该化学机械研磨工艺中，利用研磨液供给单元3提供含有研磨颗粒的浆料(abrasive)，注入该研磨液循环管路2，通过该研磨液循环管路2可传送该研磨液至多个该化学机械研磨单元5(如，化学机械研磨机)：同公知，该研磨液循环管路2与该化学机械研磨单元5中间，以该研磨液再利用装置4滤出该研磨液中过大的研磨颗粒；当进行PM作业时，该研磨液再利用装置4回收已过滤的该研磨液至该研磨液循环管路2，用以供应其它的该化学机械研磨单元5使用：从而减少PM作业时清理该研磨液所造成的操作不便及时间，兼顾延长机台使用寿命的效果及提高该工艺产能的目的。
其中，该研磨液再利用装置4具有本体41、设置于该本体41内的过滤单元42、分别连接至该化学机械研磨单元5与该本体41的回收泵43、及分别连接该本体41及外部处理系统47的排废单元。该本体41具有连接该研磨液循环管路2的研磨液入口411、连接该回收泵43的研磨液回收口412、连接于该化学机械研磨单元5的研磨液出口413、排气口(未标示)、连接该排废单元44的排废口414、及贮存空间(未标示)，容置经由该过滤单元42滤出研磨颗粒后的该研磨液，并分别将该研磨液导向该研磨液回收口412及该研磨液出口413；该回收泵43由该研磨液回收口412抽回该贮存空间中已过滤的该研磨液，并传送至该研磨液循环管路2，以供该工艺的重复使用；该排废单元44还包括连接该本体41的该排气口的排气管46，当进行PM作业程序时，需更换该过滤单元42，该排气管46用以排出更换过该过滤单元42后该本体41中残留的空气。
该研磨液再利用装置4还包括至少三个手动阀，分别为控制该研磨液入口411的一号阀51、该研磨液出口413的二号阀52、及该排气管46的三号阀53；这样，当更换该过滤单元42时，控制该手动阀为关闭状态，激活该回收泵43，即可顺利回收已过滤的该研磨液至该研磨液循环管路2，达到该研磨液再利用的目的；从而减少PM作业时清理该研磨液所造成的操作不便及时间；而且，已过滤的该研磨液可以被充分利用，并可达到重复使用的环保要求。
Claims (3)
1.一种研磨液再利用系统，应用于化学机械研磨工艺，该系统包含研磨液循环管路、至少一个连接该研磨液循环管路的研磨液供给单元、若干个连接该研磨液循环管路的研磨液再利用装置、及若干个分别连接该研磨液再利用装置的化学机械研磨单元；该装置包括：
本体，具有连接该研磨液循环管路的研磨液入口、排气口、排废口及连接于该化学机械研磨单元的研磨液出口；
过滤单元，设置于该本体内，并滤出由该研磨液入口导入的研磨液所含的研磨颗粒；
排废单元，分别连接该本体的该排废口及于外部处理系统用以抛弃由该本体排出的废液；
其特征在于，
该本体具有研磨液回收口和贮存空间，该贮存空间容置经由该过滤单元滤出研磨颗粒后的该研磨液；
回收泵，一端连接该本体的该研磨液回收口，另一端连接于该研磨液循环管路，该回收泵由该研磨液回收口抽回该贮存空间中已过滤的该研磨液，并传送至该研磨液循环管路，以供该工艺的重复使用。
2.如权利要求1所述的研磨液再利用系统，该排废单元还包括连接该本体的该排废口的排气管，当该过滤单元进行更换后，该排气管排出该本体中的空气。
3.如权利要求2所述的研磨液再利用系统，还包括至少三个手动阀，分别控制该研磨液入口、该研磨液出口及该排气管的开关；藉此，当更换该过滤单元时，控制该手动阀为关闭状态，使该回收泵顺利回收已过滤的该研磨液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2003101229170A CN100374245C (zh) | 2003-12-29 | 2003-12-29 | 研磨液再利用装置及其系统 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2003101229170A CN100374245C (zh) | 2003-12-29 | 2003-12-29 | 研磨液再利用装置及其系统 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1634682A CN1634682A (zh) | 2005-07-06 |
| CN100374245C true CN100374245C (zh) | 2008-03-12 |
Family
ID=34844673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2003101229170A Expired - Fee Related CN100374245C (zh) | 2003-12-29 | 2003-12-29 | 研磨液再利用装置及其系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN100374245C (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10150202B2 (en) | 2011-07-22 | 2018-12-11 | Wenzhou Focusee Vision Care Technologies Co., Ltd. | Small automatic polishing liquid cleaning device for rigid gas permeable contact lens |
| CN103639885B (zh) * | 2013-10-29 | 2017-02-08 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | 玻璃研磨装置及研磨方法 |
| CN104551976B (zh) * | 2013-10-29 | 2017-04-12 | 上海上冶阀门制造有限公司 | 一种多功能自适应球阀研磨机 |
| CN104476383B (zh) * | 2014-11-21 | 2017-05-31 | 深圳市力合材料有限公司 | 一种硅晶片循环抛光装置及循环抛光方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1176864A (zh) * | 1996-07-29 | 1998-03-25 | 集成工艺设备有限公司 | 化学－机械研磨设备中的浆料再循环 |
| TW383269B (en) * | 1998-03-30 | 2000-03-01 | Speedfam Co Ltd | Slurry recycling system of CMP apparatus and method of same |
| JP2000277470A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Nec Corp | 研磨後ウェハの保管方法および装置 |
| JP2001121421A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-05-08 | Hitachi Chemical Techno-Plant Co Ltd | 用水回収装置 |
| CN1384061A (zh) * | 2001-05-08 | 2002-12-11 | 栗田工业株式会社 | 用于回收磨料的设备 |
| CN1423307A (zh) * | 2001-12-05 | 2003-06-11 | 富士通Vlsi株式会社 | 化学溶液输送装置和制备悬浮液的方法 |
-
2003
- 2003-12-29 CN CNB2003101229170A patent/CN100374245C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1176864A (zh) * | 1996-07-29 | 1998-03-25 | 集成工艺设备有限公司 | 化学－机械研磨设备中的浆料再循环 |
| TW383269B (en) * | 1998-03-30 | 2000-03-01 | Speedfam Co Ltd | Slurry recycling system of CMP apparatus and method of same |
| JP2000277470A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Nec Corp | 研磨後ウェハの保管方法および装置 |
| JP2001121421A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-05-08 | Hitachi Chemical Techno-Plant Co Ltd | 用水回収装置 |
| CN1384061A (zh) * | 2001-05-08 | 2002-12-11 | 栗田工业株式会社 | 用于回收磨料的设备 |
| CN1423307A (zh) * | 2001-12-05 | 2003-06-11 | 富士通Vlsi株式会社 | 化学溶液输送装置和制备悬浮液的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1634682A (zh) | 2005-07-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2301653A1 (en) | Filtration method, method of purifying abrasive composition using the same, method of regenerating filter for use in filtration, and apparatus for regenerating filter | |
| US20040016705A1 (en) | Filtering method of a colloidal solution | |
| CN102001044B (zh) | 化学机械抛光的研磨液供给系统 | |
| CN100374245C (zh) | 研磨液再利用装置及其系统 | |
| CN103286073A (zh) | 一种混合射流清洗的介质回收供应方法 | |
| JP2003011031A (ja) | 環境対応型クーラント装置 | |
| KR100985861B1 (ko) | 반도체용 슬러리 공급장치 및 슬러리 공급방법 | |
| CN101108472B (zh) | 研浆分配系统及研浆供给方法 | |
| CN108262691A (zh) | 晶片抛光系统 | |
| US7059943B2 (en) | Method and apparatus for recycling slurry | |
| CN210286847U (zh) | 插片机用水系统及硅片清洗系统 | |
| CN212039386U (zh) | 一种半导体制造研磨废水回收装置 | |
| CN102806526A (zh) | 研磨液供应系统 | |
| CN202200170U (zh) | 研磨头及化学机械研磨设备 | |
| CN209383520U (zh) | 湿式抛丸机的工作液循环净化设备及湿式抛丸机 | |
| CN210026702U (zh) | 一种墨盒的清洗供排控制系统 | |
| CN102580953A (zh) | 清洗研磨液供给系统的方法 | |
| CN206156822U (zh) | 一种再生塑料颗粒清洗污水处理器 | |
| CN201046545Y (zh) | 研磨液清洗装置 | |
| CN212609662U (zh) | 在线式切削液净化过滤系统 | |
| CN203725034U (zh) | 一种陶瓷过滤系统 | |
| CN114603397B (zh) | 一种工业冷却液用的移动升降式过滤器及其工作方法 | |
| CN214132194U (zh) | 一种磨床磨削油过滤装置 | |
| CN210462487U (zh) | 一种基于酵母处理的管道系统 | |
| CN215855613U (zh) | 一种除鳞悬浮液的过滤回收系统 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: SEMICONDUCTOR MANUFACTURING INTERNATIONAL (BEIJING Effective date: 20111205 |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20111205 Address after: 201203 Shanghai Zhangjiang Road, Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area No. 18 Co-patentee after: Semiconductor Manufacturing International (Beijing) Corporation Patentee after: Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation Address before: 201203 Shanghai Zhangjiang Road, Zhangjiang High Tech Park of Pudong New Area No. 18 Patentee before: Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20080312 Termination date: 20181229 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |