JP2001115279A - 塩化銅エッチング液電解再生システム - Google Patents
塩化銅エッチング液電解再生システムInfo
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Abstract
の掻き落とし及び陰極室からの銅粉の排出を安定して行
うことができる改良型の電解再生処理システムを提供す
る。 【解決手段】 陰極室23でオーバーフローにより陰極
液を循環する経路を通る陰極液の塩酸濃度を検出するた
めの手段18と、上記循環経路に塩酸を補充する手段と
を設け、塩酸濃度検出手段による塩酸濃度検出結果に基
づいて、循環陰極液に塩酸を補充して塩酸濃度を一定範
囲内に制御する。
Description
リードフレーム等の電子部品の製造工程において劣化し
たエッチング液を所謂隔膜電解法を利用して再生処理す
るためのシステムに関するものである。
工程において、塩化銅、塩化鉄を主成分とするエッチン
グ液により銅箔を腐食させ、所望のパターンを形成する
ことが工業的に行われている。銅箔を腐食させることで
劣化するエッチング液に対しては、一般的には過酸化水
素水等の酸化剤を注入して、素材の溶解に伴い生成する
1価の銅イオン又は2価の鉄イオンを酸化して再生が図
られるとともに、同じく素材の溶解に伴い増加する比重
(銅濃度)を水で希釈し、減少する塩素イオンを補充す
ることが行われている。
ン又は鉄イオンの酸化力を回復することはできるが、別
途塩素イオン補充のための塩酸添加が必要で且つ溶解し
た銅成分を除去できず水で希釈することから、余剰とな
るエッチング液を廃液として処分する必要がある。
明の発明者らは、特開平5−125564号、特開平5
−117879号において隔膜電解法による再生方法を
提案し、これらの電解再生プロセスに使用する電解槽の
構造については特開平6−158359号で提案して実
用化もしている。
適条件に保持するためにはエッチング工程における銅の
溶解速度と電解再生の速度を一致させる必要があるが、
電流一定の条件で、電解再生の速度はほぼ一定にするこ
とができるのに対して、エッチング工程における銅の溶
解速度は銅箔の厚み、パターンの違いや生産状況に伴っ
て変動するため、銅の溶解スピードと電解再生のスピー
ドを一致させることが困難であるという問題がある。
ン、2価の鉄イオンは、容易に空気中の酸素でも酸化さ
れる。酸素による酸化が起こると、電解で発生した塩素
ガスが余剰となって放出されるため、塩素イオンの損失
となり、塩酸の補充量が増えるとともに放出される塩素
ガスの処理も必要となる。
平11−140671号において電解再生法を組み込ん
だエッチング液組成の管理方法について提案し実用化し
ている。
ッチング液の電解再生を工業的に行うためには、電解槽
からの銅粉の排出の安定性の点で問題があり、この問題
を解決する必要条件として、銅粉の析出状態を一定に管
理すること、このために電解槽内の液組成と電圧を制御
することが重要であることが判った。
で、陰極板からの銅粉の掻き落とし及び陰極室からの銅
粉の排出を安定して行うことができる改良型の電解再生
処理システムを提供することを課題とする。
あたり、銅粉の析出状態に影響する因子としては、電解
における電流密度や電圧や温度、更には陰極液中の銅濃
度があることが知られている。そして電解槽内の液が電
気抵抗による損失熱で温度上昇することも公知である。
維持することを困難にする電圧上昇に着目した。電圧上
昇の原因をなすものに塩酸濃度がある。つまり、陰極
液、陽極液中の塩酸濃度は連続供給されるエッチング液
中の塩酸濃度で決まるものの、運転条件によっては徐々
に低下し、特に塩化銅法のエッチング液を再生処理する
場合、30g/リットル以下に低下すると電圧が上昇し
て実用的な電流密度で電解することができなくなるとと
もに陰極板への析出状態も変化し、剥落に支障をきたす
ことが判った。そこで陰極液の循環機構を付属させ、陰
極液を均一に攪拌するとともに、陰極液の塩酸濃度検出
手段を設置し、陰極液中の塩酸濃度に応じて塩酸添加を
行うようにする。その際、電解槽内の液温が変動すると
液の導電率が変動し、これに伴い電圧も変化してしまう
ので、陰極液の循環経路に温度検出手段及び冷却器を設
けて温度を一定にに制御するのが好適である。循環する
陰極液を電解槽の陰極室からオーバーフロー方式で抜き
出せば、電解槽の液面レベルを一定に保持でき、液面レ
ベル変動による電流密度の変動を防ぐこととなる。
うにしても良い。更に上記電圧上昇対策としては、塩素
ガス発生により塩酸濃度が低下した陽極液を定期的に引
き抜くやり方もある。
の陰極室内の液(陰極液)中の銅濃度が20g/リット
ル以下、好ましくは5〜20g/リットルの範囲内で析
出すると電流効率が最も高く、陰極板から剥落しやすい
銅粉が得られることを本発明者らは既に見出しており、
陰極液中の銅濃度をかかる範囲内に制御する方法として
は、液比重検出機構を電解槽に付属させ、検出する陰極
液の比重に応じて電解槽に供給するエッチング液の供給
量を制御する方法が有効である。
エッチング液電解再生循環システムの概念的な全体図を
示す。当該システムは、基本的にエッチング槽1、電解
槽2、再生液槽3、排ガス洗浄塔5、これらの間で液送
するためのポンプなどからなっている。なお発明的には
必須でないが、本例では、陰極液槽4も備えられ、上記
電解槽2と再生液槽3との間に配されている。
ッチング液は、エッチング液供給ポンプ8により電解槽
2に、再生液槽送液ポンプ9により排ガス吸収塔5を介
して再生液槽3に各々供給されるようになっている。
で取り囲むようにして構成された電解槽2に供給された
エッチング液は、陰極室23で銅析出により銅濃度を減
じ、陰極室上部の陰極液流出管26からオーバーフロー
して陰極液槽4へ流入する。一方、例えば織布で構成さ
れた隔膜22を介して陰極室23からエッチング液が流
入するようになっている陽極室21内には、陽極板(図
示せず)表面での塩素ガス発生により塩素濃度を減じた
陽極液が滞留し、塩素ガスは塩素ガス流出管24から排
出されるが、液中を塩素イオンが移動する速度よりもガ
ス発生により減少する速度の方が速いため、陽極液中の
塩素イオン濃度(塩酸濃度)は減少する。このため、濃
度減少を抑えるために、滞留する陽極液は、陰極液槽に
付設された液面レベル検出手段42による検出結果に基
づいて抜き出され、陽極液流出管28を介して再生液槽
3へ排出される。陰極液槽が設置されていない場合に
は、陰極室に付設される液面レベル検出手段による検出
結果に基づいて陽極液の抜き出しが行われる。既述のよ
うに、陽極室と陰極室とを隔てる隔膜は織布のような液
透過が容易な材質でなっているので、液面レベルを検出
するのにその検出手段は陰極室側に設けることができる
ものである。勿論、陽極室側に設けられていても良い。
抜き出された陽極液は、エッチング槽1や陰極液槽4に
送液されるようになっていてもよい。
バタフライ弁の開閉動作によって銅粉排出管25を経て
銅粉スラリーとして排出される。排出された銅粉スラリ
ーは回収銅受槽10に入り、銅粉とともに排出される付
着液は銅粉フィルタ11及び付着液ポンプ12で分離回
収され、陰極液槽4へ送液される。付着液分離後の銅粉
は、回収銅受槽10ごと定期的に搬出、回収されるよう
になっている。
ローにより排出された陰極液を戻すための陰極液流入口
27が設置され、陰極液槽4から陰極液ポンプ41で陰
極液をポンプアップし、冷却器14を備えた陰極液還流
配管を経て上記流入口27から電解槽2へ返送する。上
記陰極液ポンプ41は常時稼動している。冷却器14は
電解時の、電気抵抗による発熱を冷却するものであっ
て、陰極液の温度を液温検出手段15を用いて計測し、
設定温度より液温が上昇したときに冷却器14に冷媒
(例えば冷却水)を供給し、陰極液温度を一定の範囲に
制御するようになっている。上記設定温度は、50℃±
5℃〜70℃±5℃の範囲で決定される。高温にすれば
液の電気抵抗が低下するので好ましいが、電極の耐久性
も低下するので、液組成毎に、適切な値が設定される。
液槽4へいったん送った上で電解槽2へ戻すことで陰極
液循環を実現して液組成を均一化するとともに、陰極液
槽2に付設された陰極液ポンプ41の吐出側を分岐して
バルブ開閉により必要に応じて陰極液流通を可能にし
た、冷却器流通経路とは別の平行な経路に液比重検出手
段17を設け、測定された液比重が設定下限値を下回っ
たときに前記エッチング液供給ポンプ8を起動し(また
は供給液量を増加させ)、設定上限値以上となった段階
で停止する(または供給液量を減少させる、設定下限値
と設定上限値は同値であってもよい)。エッチング液の
供給はこのように電解槽に直接行ってもよいが、間接的
に陰極液槽に供給することもできる。
手段18を設け、測定された塩酸濃度が設定値を下回っ
たときに塩酸を陰極液流通経路中に配量補充する。上記
設定値は30g/リットルである。塩酸濃度は当該下限
値を上回り、最大でも120g/リットル程度に調整さ
れるべきである。あるいは陰極液、陽極液中の塩素イオ
ン濃度減少に伴って電解電圧が上昇するので、電解電流
を供給する直流電源装置(図示せず)に電圧検出手段を
設け、電解電圧が設定値に上昇すると電圧上限信号を発
信し、塩酸を補充するようにしてもよい。
検出手段42が付設されており、当該陰極液槽4に受け
入れる液の量から電解槽2へ補充返送する液量を差し引
いた増量分が、陰極液槽4の液面レベルが一定範囲内に
収まるように、液面レベルが設定上限値に達すると上記
液面レベル検出手段42から上限信号が発信され、陽極
室21から陽極液排出管28を介して液を再生液槽3へ
抜き出すようになっている。陽極液が抜き出されること
により、陽極室21の液面レベルが低下し、陰極液が隔
膜22を介して陽極室21に流入し、塩酸濃度の低下し
た陽極液の入れ替えが実現する。陰極液槽4の液面レベ
ルが設定下限値に達すると上記陽極液の抜き出しが中止
される。再生液槽3のエッチング槽1からのエッチング
液の受け入れは、洗浄塔5を介して再生液槽3へ至る洗
浄塔ルートの他、エゼクタ31を介して再生液槽3へ至
るエゼクタルートや、再生液槽3への直接ルートによっ
ても、可能である。再生液槽3にも液面レベル検出手段
33、返送ポンプ34が付設され、エッチング槽1へ再
生液を戻すことができるようになっている。
管24を介して塩素ガスが、下部からは排出管28を介
して陽極液が各々分離されて排出されるようになってい
る。塩素ガスは、再生液槽3に付設されたエゼクタ31
で発生する負圧により吸引され、エゼクタ駆動液として
エゼクタポンプ32により再生液槽3からエゼクタ31
を経て再生液槽3へ自己循環するエッチング液と接触し
吸収される。既述のように、陽極液は陰極液槽4の液面
レベル上限信号により抜き出されるようになっている
が、タイマ等により一定時間毎に抜き出しても、電解電
圧の上限信号により抜き出しても良く、更にはこれらの
手段を組み合わせるようにしても良い。抜き出される陽
極液は既述のように、図示の例では再生液槽3に送液さ
れるが、エッチング槽1や再生液槽3に送液されても良
く、陰極液が抜き出される場合はエッチング槽1又は陰
極液槽4に送液される。
液槽4のそれぞれ上部には排気管29,39,49が設
置されており、これら排気管からの排ガスは排ガス洗浄
塔5で、エッチング槽1から再生液槽3へ受け入れるべ
きエッチング液と接触し、エゼクタ31で吸収されない
塩素ガスがあればエッチング液中に吸収される。
浄塔6につながり、当該排気管51からの排ガスは、場
合によってはエゼクタ31及び排ガス洗浄塔5で吸収さ
れない塩素ガスがあれば当該塩素ガスも、既述の回収銅
受槽10で銅粉とともに排出され付着液ポンプ12によ
って分離回収された付着液の一部により洗浄・吸収され
る。排ガス洗浄後、2次洗浄塔6から排出される液は回
収銅受槽10へ環流される。環流された液は回収銅と接
触し、その一部を溶解することにより塩素ガスを吸収す
るための塩化第1銅含有液となるので、塩素ガスの余剰
が多い場合、再度吸収に使用することが可能である。排
ガス洗浄塔5を省略して陰極室、再生液槽、陰極液槽か
らの排ガスを直接2次洗浄塔6で洗浄するようなことも
可能である。
る陰極液の塩酸濃度を検出するための手段と、循環経路
に塩酸を補充する手段とを設け、塩酸濃度検出手段によ
る塩酸濃度検出結果に基づいて、循環陰極液に塩酸を補
充して塩酸濃度を一定範囲内に制御することによって、
塩酸濃度を一定の範囲内にでき、銅粉の析出状態を一定
に保つことができ、陰極板からの銅粉の掻き落とし及び
陰極室からの銅粉の排出を安定して行うことができる。
け、液温検出手段による循環陰極液の温度検知結果に基
づいて、冷却器で液温を一定範囲内に制御することによ
って、電流密度や温度を一定範囲内にでき、銅粉の析出
状態をなお一定に保つことが保証される。
液を一時滞留するための陰極液槽を、前記循環経路にし
てエッチング槽への液戻し路に配設し、当該陰極液槽に
液面レベル検出手段を付設し、当該液面レベル検出手段
の検出結果に基づいて、上記陰極液槽に滞留した液をエ
ッチング槽へ返送して陰極液槽の液面レベルを一定範囲
内に制御すれば、システム全体の運転自動化、無人化を
実現可能である。
したり、タイマーを備えて、これらに基づいて、陽極室
から陽極液を抜き出すようにすれば、塩酸濃度の低下を
抑制できる。
システムの全体的な概念図である。
液槽 4:陰極液槽、 5:排ガス洗浄塔、 6:排
ガス2次洗浄塔、10:回収銅受槽、 11:銅粉
フィルタ、 14:冷却器、31:エゼクタ
Claims (8)
- 【請求項1】 塩化銅エッチング液を有するエッチング
槽と、当該エッチング槽との間でエッチング液を送受す
る電解槽とを備えてなり、上記電解槽が隔膜を介して陰
極室と陽極室とに分かれ、受け入れるエッチング液を陰
極室へ連続的に供給し当該陰極室でオーバーフローによ
り陰極液循環しながら電気分解して陽極室からエッチン
グ槽へ返すようになっているエッチング液電解再生シス
テムにおいて、 前記陰極室での循環経路を通る陰極液の塩酸濃度を検出
するための手段と、循環経路に塩酸を補充する手段とを
設け、塩酸濃度検出手段による塩酸濃度検出結果に基づ
いて、循環陰極液に塩酸を補充して塩酸濃度を一定範囲
内に制御することを特徴とするエッチング液電解再生シ
ステム。 - 【請求項2】 上記循環経路に液温検出手段と冷却器と
を設け、液温検出手段による循環陰極液の温度検知結果
に基づいて、冷却器で液温を一定範囲内に制御すること
を特徴とする請求項1に記載のエッチング液電解再生シ
ステム。 - 【請求項3】 前記陰極室からオーバーフローで排出さ
れる陰極液を一時滞留するための陰極液槽を、上記循環
経路に配設し、当該陰極液槽に液面レベル検出手段を付
設し、当該液面レベル検出手段の検出結果に基づいて、
陽極室から陽極液を引き出すことを特徴とする請求項1
に記載のエッチング液電解再生システム。 - 【請求項4】 循環陰極液の塩酸濃度検出値が30g/
リットルを下回った時点で当該陰極液への塩酸補充を行
うことを特徴とする請求項1に記載のエッチング液電解
再生システム。 - 【請求項5】 塩化銅エッチング液を有するエッチング
槽と、当該エッチング槽との間でエッチング液を送受す
る電解槽とを備えてなり、上記電解槽が隔膜を介して陰
極室と陽極室とに分かれ、受け入れるエッチング液を陰
極室へ連続的に供給し当該陰極室でオーバーフローによ
り陰極液循環しながら電気分解して陽極室からエッチン
グ槽へ返すようになっているエッチング液電解再生シス
テムにおいて、 上記電解槽へ塩酸を補充する手段を設け、上記電解槽へ
電解電流を供給する電源装置に電圧検出手段を付設し、
当該電圧検出手段による検出結果に基づいて、電解槽に
塩酸を補充することを特徴とするエッチング液電解再生
システム。 - 【請求項6】 塩化銅エッチング液を有するエッチング
槽と、当該エッチング槽との間でエッチング液を送受す
る電解槽とを備えてなり、上記電解槽が隔膜を介して陰
極室と陽極室とに分かれ、受け入れるエッチング液を陰
極室へ連続的に供給し当該陰極室でオーバーフローによ
り陰極液循環しながら電気分解して陽極室からエッチン
グ槽へ返すようになっているエッチング液電解再生シス
テムにおいて、 前記陰極液槽に液面レベル検出手段を付設し、当該液面
レベル検出手段による検出値が所定上限値に達したとき
に上記陽極室から陽極液を抜き出し、所定の下限値に達
したときに当該陽極液抜き出しを中止することを特徴と
するエッチング液電解再生システム。 - 【請求項7】 塩化銅エッチング液を有するエッチング
槽と、当該エッチング槽との間でエッチング液を送受す
る電解槽とを備えてなり、上記電解槽が隔膜を介して陰
極室と陽極室とに分かれ、受け入れるエッチング液を陰
極室へ連続的に供給し当該陰極室でオーバーフローによ
り陰極液循環しながら電気分解して陽極室からエッチン
グ槽へ返すようになっているエッチング液電解再生シス
テムにおいて、 タイマーを備え、当該タイマーに基づいて一定時間毎に
上記陽極室から陽極液を抜き出すことを特徴とするエッ
チング液電解再生システム。 - 【請求項8】 塩化銅エッチング液を有するエッチング
槽と、当該エッチング槽との間でエッチング液を送受す
る電解槽とを備えてなり、上記電解槽が隔膜を介して陰
極室と陽極室とに分かれ、受け入れるエッチング液を陰
極室へ連続的に供給し当該陰極室でオーバーフローによ
り陰極液循環しながら電気分解して陽極室からエッチン
グ槽へ返すようになっているエッチング液電解再生シス
テムにおいて、 タイマーを備えると共に前記陰極液槽に液面レベル検出
手段を付設し、上記タイマーに基づいて一定時間毎に上
記陽極室から陽極液を抜き出しながら、液面レベル検出
手段による検出値が所定上限値に達したときには上記陽
極室から陽極液を抜き出し、所定の下限値に達したとき
に当該陽極液抜き出しを中止することを特徴とするエッ
チング液電解再生システム。
Priority Applications (1)
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JP29403299A JP4143235B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 塩化銅エッチング液電解再生システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP29403299A Expired - Fee Related JP4143235B2 (ja) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | 塩化銅エッチング液電解再生システム |
Country Status (1)
Country | Link |
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Cited By (3)
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CN109881216A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-06-14 | 深圳市泓达环境科技有限公司 | 一种酸性电解槽及应用其的电解产线 |
CN111101157A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-05-05 | 合肥恒力装备有限公司 | 一种pcb蚀刻废液零排放处理工艺 |
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1999
- 1999-10-15 JP JP29403299A patent/JP4143235B2/ja not_active Expired - Fee Related
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