JP2001113125A - 排ガス処理装置及び処理方法 - Google Patents

排ガス処理装置及び処理方法

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JP2001113125A
JP2001113125A JP29351499A JP29351499A JP2001113125A JP 2001113125 A JP2001113125 A JP 2001113125A JP 29351499 A JP29351499 A JP 29351499A JP 29351499 A JP29351499 A JP 29351499A JP 2001113125 A JP2001113125 A JP 2001113125A
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哲哉 佐久間
Mitsuhiro Horaguchi
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 例えば都市ゴミ焼却炉,産業廃棄物焼却炉,
汚泥焼却炉等の各種焼却炉、熱分解炉、溶融炉等から排
出される排排ガス中に含有されるダイオキシン類等のハ
ロゲン化芳香族化合物等の有害物質の環境ホルモンを無
害化するための排ガス処理装置及び処理方法を提供する
ことを課題とする。 【解決手段】 排ガス11中のダスト成分を除去する第
1の吸着剤12を排ガス通過方法と略直交する方向に移
動自在なダスト除去層13と、該ダスト除去層13を通
過した排ガス11中の有害物質を吸着する第2の吸着剤
14を充填した固定式吸着層15と、 上記第2の吸着
剤の後流側に設け、微粉を吸着する第3の吸着剤16を
排ガス通過方法と略直交する方向に移動自在な捕集層1
7と、第1の吸着剤に付着したダスト成分を系外で除去
し、吸着剤を再利用する篩手段18とを具備してなる排
ガス吸着装置19を少なくとも2台(19A,19B)
設けてなるものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば都市ゴミ焼
却炉,産業廃棄物焼却炉,汚泥焼却炉等の各種焼却炉、
熱分解炉、溶融炉等から排出される排ガスを浄化する技
術に関し、特に排ガス中に含有される窒素酸化物やダイ
オキシン類等のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮合度
芳香族炭化水素,環境ホルモンを無害化するための排ガ
ス処理装置及び処理方法に関する。
【0002】
【背景技術】例えば都市ゴミ焼却炉,産業廃棄物焼却
炉,汚泥焼却炉等の各種焼却炉から排出される排ガス中
には、窒素酸化物の他、ダイオキシン類やPCB類に代
表される有害なハロゲン化芳香族化合物、高縮合度芳香
族炭化水素、環境ホルモン等の有害物質が含有され、人
体や動植物に被害をもたらし、自然環境を破壊するもの
として、深刻な社会問題化している。
【0003】従来、排ガス中に含まれる上記有害物質の
除去のためには、触媒を用いて該有害物質を分解処理す
る方法や、有害物質を吸着剤で吸着し、別途廃棄処分す
る方法等が提案されている。
【0004】このうち、吸着剤(活性炭等)を用いて吸
着処理する方法においては、排ガス中の有害物質を吸着
剤で吸着した後、有害物質を吸着した活性炭を高温で燃
焼してダイオキシン類等の有害物質を分解処理する必要
があるが、この燃焼の際に活性炭も同時に燃焼され、吸
着剤を再利用することができないという、問題がある。
【0005】また、ダイオキシン類を吸着処理した活性
炭を再利用する場合においては、吸着塔内で排ガスの通
過方向と直交する方向に活性炭を移動させ、吸着能が低
下した活性炭を順次系外へ取り出し、取り出したダイオ
キシン類を吸着した活性炭の再生を行うことが提案され
ている(特開平4−277005号公報参照)。
【0006】しかしながら、上記提案技術では、活性炭
の再生は300〜450℃の高い温度で処理する必要が
あるので、装置が大がかりとなるという問題がある。ま
た、当該温度範囲においては、脱離したダイオキシン類
前駆体の再合成によりダイオキシン類が発生するという
問題もある。
【0007】本発明は、上記問題に鑑み、排ガス中のダ
イオキシン類等の有害物質の処理を高効率でしかもコン
パクトな構成で処理することができる排ガス処理装置及
び処理方法を提供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の[請求項1]の発明は、焼却炉,熱分解炉,溶融炉
等から排出される排ガス中の有害物質を吸着除去する排
ガス処理装置であって、排ガス中のダスト成分を除去す
る第1の吸着剤を排ガス通過方法と略直交する方向に移
動自在なダスト除去層と、該ダスト除去層を通過した排
ガス中の有害物質を吸着する第2の吸着剤を充填した固
定式吸着層と、第1の吸着剤に付着したダスト成分を系
外で除去し、吸着剤を再利用する篩手段とを具備してな
る排ガス吸着装置を少なくとも2台設けてなり、1台の
排ガス処理装置で排ガス中の有害物質の吸着をしている
間に、他の排ガス吸着装置の上記有害物質を吸着した第
2の吸着剤に高温の不活性ガスを導入し、該第2の吸着
剤から有害物質を脱離して吸着剤を再生すると共に、上
記脱離した有害物質を含んだ加熱再生排ガスを触媒作用
により分解処理することを特徴とする。
【0009】[請求項2]の発明は、請求項1におい
て、上記第2の吸着剤の後流側に、微粉を吸着する第3
の吸着剤を排ガス通過方法と略直交する方向に移動自在
な捕集層を具備してなることを特徴とする。
【0010】[請求項3]の発明は、請求項1におい
て、上記固定式吸着層を2以上備えてなることを特徴と
する。
【0011】[請求項4]の発明は、請求項1におい
て、上記第1の吸着剤と第2の吸着剤14とが活性炭で
あることを特徴とする。
【0012】[請求項5]の発明は、請求項1におい
て、上記第2の吸着剤が活性炭と活性炭以外の吸着剤と
の混合物であることを特徴とする。
【0013】[請求項6]の発明は、請求項1におい
て、上記第2の吸着剤が活性炭と活性炭以外の吸着剤と
の混合比率が90:10〜50:50であることを特徴
とする。
【0014】[請求項7]の発明は、請求項1又は2に
おいて、上記第2の吸着剤の加熱処理を250〜300
℃で行うことを特徴とする。
【0015】[請求項8]の発明は、焼却炉,熱分解
炉,溶融炉等から排出される排ガス中の有害物質を吸着
除去する排ガス処理方法であって、排ガス中のダスト成
分を除去する第1の吸着剤を排ガス通過方法と略直交す
る方向に移動自在なダスト除去層と、該ダスト除去層を
通過した排ガス中の有害物質を吸着する第2の吸着剤を
充填した固定式吸着層と、第1の吸着剤に付着したダス
ト成分を系外で除去し、吸着剤を再利用する篩手段とを
具備してなる排ガス吸着装置を少なくとも2台設けてな
り、1台の排ガス吸着装置で排ガス中のダスト成分を吸
着している間に、他の排ガス吸着装置の排ガス中の有害
物質を吸着した吸着剤に高温の不活性ガスを導入して吸
着剤から有害物質を脱離させると共に吸着剤を再生させ
ることを特徴とする。
【0016】[請求項9]の発明は、請求項8におい
て、上記排ガス中の有害物質がダイオキシン類,ポリハ
ロゲン化ビフェニル類,ハロゲン化ベンゼン類,ハロゲ
ン化フェノール類及びハロゲン化トルエン類から選ばれ
る少なくとも一種のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮
合度芳香族炭化水素,環境ホルモンであることを特徴と
する。
【0017】[請求項10]の発明は、請求項9におい
て、上記ダイオキシン類が、ポリ塩化ジベンゾ−p−ダ
イオキシン類(PCDDs)、ポリ塩化ジベンゾフラン
類(PCDFs)、ポリ臭化ジベンゾ−p−ダイオキシ
ン類(PBDDs)、ポリ臭化ジベンゾフラン類(PB
DFs)、ポリ弗化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(P
FDDs)、ポリ弗化ジベンゾフラン類(PFDF
s)、ポリ沃素化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(PI
DDs)、ポリ沃素化ジベンゾフラン類(PIDFs)
であることを特徴とする。
【0018】[請求項11]の排ガス処理システムの発
明は、排ガス中の有害物質を浄化する排ガス処理システ
ムであって、排ガス中の煤塵を除塵する除塵装置と、請
求項1又は2の排ガス処理装置とからなることを特徴と
する。また、排ガス中の窒素酸化物を処理する脱硝装置
を設けるようにしてもよい。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0020】図1は上記触媒を用いた排ガス処理装置の
概略図であり、図2はその詳細図であり、図3は上記処
理装置を組み込んだ排ガス浄化システムの概略図であ
る。先ず、図3に示すように、排ガス浄化システム10
0は、都市ゴミ焼却炉,産業廃棄物焼却炉,汚泥焼却炉
等の各種焼却炉101から排出される排ガス11を冷却
するガス冷却装置102と、排ガス11中の煤塵を除去
する除塵装置103と、ハロゲン化芳香族化合物,高縮
合度芳香族炭化水素,環境ホルモン等の有害物質を含ん
だ排ガスを吸着処理する吸着剤を設けた排ガス処理装置
104と、浄化された排ガスを外部へ排出する煙突10
5とから構成されている。この排ガス浄化システムによ
れば、先ず除塵装置103で排ガス中の煤塵を除き、そ
の後、上記排ガス処理装置104において除塵された排
ガス11中の有害物質を吸着剤の吸着作用により除くこ
とができ、排ガスの浄化をすることができる。
【0021】本実施の形態にかかる上記排ガス処理装置
104の一例を図1に示す。図1に示すように、上記排
ガス処理装置104は、焼却炉,熱分解炉,溶融炉等か
ら排出される排ガス中の有害物質を吸着除去する排ガス
処理装置であって、排ガス11中のダスト成分を除去す
る第1の吸着剤12を排ガス通過方法と略直交する方向
に移動自在なダスト除去層13と、該ダスト除去層13
を通過した排ガス11中の有害物質を吸着する第2の吸
着剤14を充填した固定式吸着層15と、 上記第2の
吸着剤の後流側に設け、微粉を吸着する第3の吸着剤1
6を排ガス通過方法と略直交する方向に移動自在な捕集
層17と、第1の吸着剤に付着したダスト成分を系外で
除去し、吸着剤を再利用する篩手段18とを具備してな
る排ガス吸着装置19を少なくとも2台(19A,19
B)設けてなるものである。
【0022】そして、図1に示す場合では、バルブB
1,B2,B5,B6を閉鎖し、バルブB3,B4,B
7,B8を開放しており、一方の排ガス吸着装置19A
で排ガス11中の有害物質の吸着をしている間に、他方
の排ガス吸着装置19Bで既に上記有害物質を吸着した
第2の吸着剤14に高温の不活性ガス(例えばN2 ガス
等)を導入し、該第2の吸着剤14から有害物質を脱離
すると共に、吸着剤を再生することができる。また、脱
離された有害物質を含む加熱再生排ガス20は触媒装置
21において触媒作用によりダイオキシン類を分解処理
するようにしている。一方、上述した状態での排ガスの
処理により、吸着剤が吸着許容量以上となった場合に
は、直ちにバルブB1,B2,B5,B6を開放し、バ
ルブB3,B4,B7,B8を閉鎖することで、一の排
ガス吸着装置19Aでの吸着剤の再生を行うと共に、他
の排ガス吸着装置19Bで有害物質の吸着を行うように
する。
【0023】上記装置によれば、排ガス吸着装置19A
において、排ガス11中のダスト成分をダスト除去層1
3で除去した後、排ガス11中の有害物質を排ガス通過
方法と略直交する方向に移動自在な第2の吸着剤14で
吸着させている。また、一方の排ガス吸着装置19Bに
おいては、N2 ガスをヒータ等の加熱手段22により加
熱し、該有害物質を吸着した第2の吸着剤14を加熱
し、加熱された第2の吸着剤14から有害物質を脱離さ
せると共に吸着剤を再生させ、再利用可能とすると共
に、上記脱離した有害物質をダイオキシン類触媒を充填
した触媒装置21の触媒作用により分解することができ
る。加熱されたN2 ガスはブロワ23により巡回させる
ことで吸着剤の再生効率及び脱離効率を向上させてい
る。よって排ガス吸着装置19A,19Bを交互に運転
することで効率的な排ガス処理が可能となる。また、一
方の装置のメンテナンス作業を行う場合においても他方
において排ガス処理を行うことができるので、排ガス処
理を停止することないので連続操業が可能となる。
【0024】ここで、上記ダスト除去層13は、上述し
た除塵装置103を通過してもなお存在する排ガス11
中の細かなダスト成分を除去し、後流側に設けた固定式
吸着層15の吸着剤14の劣化及び目詰まり等を防止し
ている。この除去層13内を移動する第1の吸着剤はダ
スト成分を分離するために、系外において篩手段18に
より分離され、再利用がなされている。なお、篩手段1
8により分離したダスト成分においてもダストに付着又
は包含されている有害物質を除去するために、別途高温
焼却等の公知の手段による有害物質処理がなされてい
る。
【0025】本実施の形態では、上記固定式の固定式吸
着層15は2段設けており、排ガス中の有害物質を順次
吸着し、吸着効率の向上を図っている。また、3段以上
の複数段としてさらに吸着効率を向上させるようにして
もよい。また、複数段の固定式吸着層15を設ける場合
には、上流側よりも下流側につれて吸着剤の粒径を漸次
細かくなるようにして目詰まりを防止するようにしても
よい。
【0026】また、本実施の形態では、上記第2の吸着
剤14を排気ガスが通過する際に発生する微粉を吸着す
る第3の吸着剤16を排ガス通過方法と略直交する方向
に移動自在な捕集層17を設けており、第2の吸着剤1
4が排ガスの通過による振動により発生する細かな塵
(例えば活性炭の場合には炭塵)を捕集し、外部への排
出を防止するようにしている。また、上記第3の吸着剤
16は図2に示すように、第1の吸着剤12と混合し
て、篩手段18により篩にかけられ、再利用している。
【0027】また、本実施の形態においては、上記ダス
ト除去層13、固定式吸着層15及び捕集層17は同一
の容器22に内装されてなり、排ガスが順次通過するよ
うにしているが、別々の容器としてそれらを管により連
結するようにしてもよい。
【0028】本実施の形態では、上記第1の吸着剤1
2、第2の吸着剤14及び第3の吸着剤16は、活性炭
を用いている。該活性炭としては、コール炭,やしがら
炭,樹脂炭,木質炭,又はピート炭等を挙げることがで
きるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0029】また、上記活性炭以外には、ダイオキシン
類を吸着する多孔性吸着剤として、例えば火山灰,シリ
カゲル,シラス,クロモソルブ等のシリカ系物質,ゼオ
ライト,モルデナイト等の粘土鉱物,アパタイト,骨
炭,リン酸アンモニウムマグネシウム造粒物等のリン酸
化合物,サンゴ化石,炭酸カルシウム等の炭酸系化合
物,アルミナ,結晶性シリケート,シリカアルミナ等が
用いられ、特にシリカゲル,結晶性シリケート,リン酸
アンモニウムマグネシウム造粒物,サンゴ化石,ゼオラ
イト及び火山灰を用いるのが好適である。
【0030】また、再生利用する第2の吸着剤14に用
いる活性炭としては、活性炭と上記活性炭以外の吸着剤
とを混合するようにしてもよい。これは、活性炭単独の
場合において、後述するように、有害物質を脱離する工
程で高温とする場合、上記活性炭以外の吸着剤が熱を逃
がし、スポット的な着火を防止するためである。
【0031】この配合比率は、上記第2の吸着剤14が
活性炭と活性炭以外の吸着剤との混合比率は90:10
〜50:50とするのがよい。これは、50:50以上
の割合とすると活性炭の配合量が減少し、活性炭による
吸着効果が低減するからである。
【0032】上記第2の吸着剤の加熱再生処理は、N2
ガスを導入しつつ行い、250〜300℃で行うように
している。これは、250℃未満での加熱は脱離効率が
好ましくなく、一方300℃を超える場合には、活性炭
の着火・火災が起きやすくなる上に加熱設備が大がかり
とな、コンパクトな設備とすることができなくなるから
である。
【0033】ここで、本発明の触媒で分解処理する排ガ
ス中の有害物質とは、ダイオキシン類やPXB(Xはハ
ロゲンを表す。)類に代表される有害なハロゲン化芳香
族化合物、高縮合度芳香族炭化水素等の有害物質をいう
が、本発明の酸化触媒作用により分解できる排ガス中の
有害物質(又は環境ホルモン)であればこれらに限定さ
れるものではない。
【0034】本発明で分解処理する芳香族ハロゲン系化
合物としては、ダイオキシン類やPCB類に代表される
有害な物質(例えば環境ホルモン)であればこれらに限
定されるものではない。ここで、前記ダイオキシン類と
は、ポリハロゲン化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(P
XDDs)及びポリハロゲン化ジベンゾフラン類(PX
DFs)の総称であり(Xはハロゲンを示す)、ハロゲ
ン系化合物とある種の有機ハロゲン化合物の燃焼時に微
量発生するといわれる。ハロゲンの数によって一ハロゲ
ン化物から八ハロゲン化物まであり、これらのうち、特
に四塩化ジベンゾ−p−ダイオキシン(T4 CDD)
は、最も強い毒性を有するものとして知られている。な
お、有害なハロゲン化芳香族化合物としては、ダイオキ
シン類の他にその前駆体となる種々の有機ハロゲン化合
物(例えば、フェノール,ベンゼン等の芳香族化合物
(例えばハロゲン化ベンゼン類,ハロゲン化フェノール
及びハロゲン化トルエン等)、ハロゲン化アルキル化合
物等)が含まれており、除去する必要がある。すなわ
ち、ダイオキシン類とは塩素化ダイオキシン類のみなら
ず、臭素化ダイオキシン類等のハロゲン化ダイオキシン
類を表す。また、PXB類(ポリハロゲン化ビフェニル
類)はビフェニルにハロゲン原子が数個付加した化合物
の総称であり、ハロゲンの置換数、置換位置により異性
体があるが、PCB(ポリ塩化ビフェニル)の場合で
は、2,6−ジクロロビフェニル、2,2'−ジクロロビ
フェニル、2,3,5−トリクロロビフェニル等が代表
的なものであり、毒性が強く、焼却した場合にはダイオ
キシン類が発生するおそれがあるものとして知られてお
り、除去する必要がある。なお、PXB類には当然コプ
ラナーPXBも含まれるのはいうまでもない。
【0035】また、高縮合度芳香族炭化水素は多核芳香
族化合物の総称であり、単数又は複数のOH基を含んで
もよく、発癌性物質として認められており、排ガス中か
ら除去する必要がある。
【0036】また、多くの製造工程においては、煤塵に
加えて、例えばホルムアルデヒド,ベンゼン又はフェノ
ールのような気体状有機化合物を含む排ガスが発生する
こともある。これらの有機化合物もまた、環境汚染物質
であり、人間の健康を著しく損ねるので、排ガスから除
去する必要がある。
【0037】また、本発明で処理される窒素酸化物と
は、通常NO及びNO2 の他、これらの混合物をいい、
NOxとも称されている。しかし、該NOxにはこれら
以外に各種酸化数の、しかも不安定な窒素酸化物も含ま
れている場合が多い。従ってxは特に限定されるもので
はないが通常1〜2の値である。雨水等で硝酸、亜硝酸
等になり、またはNOは光化学スモッグの主因物質の一
つであるといわれており、人体には有害な化合物であ
る。
【0038】本発明により、先ず一方の排ガス吸着装置
19Aの吸着剤で有害物質を吸着している間に、他方の
排ガス吸着装置19Bでは加熱再生手段22からのN2
ガスの供給により第2の吸着剤14から有害物質を分離
し、その後触媒装置21の触媒作用により、上述した有
害物質であるハロゲン化芳香族化合物,高縮合度芳香族
炭化水素等の有害物質や気体状有機化合物を接触的に分
解して無害化処理することができる。このように本発明
によれば、排ガス中の有害物質を直接分解せずに、先ず
吸着剤で吸着し、排ガス成分を浄化すると共に、吸着し
た有害物質を別途脱離させて加熱再生排ガス20中に含
まれる有害物質を分解除去するので、排ガス中に存在す
る重金属等のような影響を受けることなく、触媒性能を
効率的に発揮することができる。すなわち、除塵装置か
らの排ガスには細かなダスト成分に重金属が付着してお
り、この重金属と塩素及びダイオキシン類の前駆体とが
相乗的に反応し、ダイオキシン類の再合成がなされる
が、本発明のように、先ず有害物質を吸着し、その後、
別途有害物質を脱離して触媒装置によりダイオキシン類
等の有害物質のみを分解することができるので、分解効
率が向上することになる。ここで、ダイオキシン類分解
触媒としては、公知のダイオキシン類分解触媒を用いれ
ばよい。
【0039】ここで、ダイオキシン類分解触媒として
は、例えばチタン(Ti),シリコン(Si),アルミ
ニウム(Al),Zr(ジルコニウム),P(リン),
B(ボロン)から選ばれる少なくとも一種からなる担体
又はこれらの二種以上の元素を含む複合酸化物からなる
担体に、例えばバナジウム(V),タングステン
(W),モリブデン(Mo),ニオブ(Nb)又はタン
タル(Ta)の酸化物のうち少なくとも一種類の酸化物
からなる活性成分を担持してなるもの等の触媒や公知の
ダイオキシン類分解触媒を用いることができ、特に限定
されるものではない。
【0040】上記ダイオキシン類分解触媒の触媒作用に
より、上記有害物質の内排ガス中のハロゲン化芳香族化
合物,ハロゲン化芳香族化合物の前駆体,PXB等のハ
ロゲン化芳香族化合物、高縮合度芳香族炭化水素、環境
ホルモンを分解処理することができる。
【0041】また、ダイオキシン類分解触媒として例え
ばピリジン吸着酸量を0.30mmol/g以上とした酸
化触媒の酸化分解によりより効果的に無害化処理をなす
ことができる。
【0042】図4に上記吸着剤を用いた排ガス処理シス
テムの概略の他の一例を示すが、本発明の排ガス処理装
置を用いた処理システムはこれに何ら限定されるもので
はない。
【0043】図4に示すように、他の処理システムとし
ては、図3に示すシステムにおいて、排ガス処理装置1
03の後流側に、別途脱硝装置106を設け、排ガス処
理装置103でダイオキシン類等の有害物質を吸着除去
した後に、窒素酸化物等を分解除去するようにしてい
る。
【0044】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の[請求項
1]の発明によれば、焼却炉,熱分解炉,溶融炉等から
排出される排ガス中の有害物質を吸着除去する排ガス処
理装置であって、排ガス中のダスト成分を除去する第1
の吸着剤を排ガス通過方法と略直交する方向に移動自在
なダスト除去層と、該ダスト除去層を通過した排ガス中
の有害物質を吸着する第2の吸着剤を充填した固定式吸
着層と、第1の吸着剤に付着したダスト成分を系外で除
去し、吸着剤を再利用する篩手段とを具備してなる排ガ
ス吸着装置を少なくとも2台設けてなるので、1台の排
ガス処理装置で排ガス中の有害物質の吸着をしている間
に、他の排ガス吸着装置の上記有害物質を吸着した第2
の吸着剤に高温の不活性ガスを導入し、該第2の吸着剤
から有害物質を脱離して吸着剤を再生すると共に、上記
脱離した有害物質を含んだ加熱再生排ガスを触媒作用に
より分解処理することができる。
【0045】[請求項2]の発明によれば、請求項1に
おいて、上記第2の吸着剤の後流側に、微粉を吸着する
第3の吸着剤を排ガス通過方法と略直交する方向に移動
自在な捕集層を具備してなるので、第2の吸着剤の細か
な塵を捕集することでさらに浄化された排ガスとなる。
【0046】[請求項3]の発明によれば、請求項1に
おいて、上記固定式吸着層を2以上備えてなるので、吸
着効率が向上する。
【0047】[請求項4]の発明によれば、請求項1に
おいて、上記第1の吸着剤と第2の吸着剤14とが活性
炭であるので、排ガス中の有害物質の吸着効率が向上す
る。
【0048】[請求項5]の発明によれば、請求項1に
おいて、上記第2の吸着剤が活性炭と活性炭以外の吸着
剤との混合物であるので、上記活性炭以外の吸着剤が熱
を逃がし、スポット的な着火等を防止することができ
る。
【0049】[請求項6]の発明によれば、請求項1に
おいて、上記第2の吸着剤が活性炭と活性炭以外の吸着
剤との混合比率が90:10〜50:50であるので、
上記活性炭以外の吸着剤が熱を逃がし、スポット的な着
火等を防止することができる。
【0050】[請求項7]の発明によれば、請求項1又
は2において、上記第2の吸着剤の加熱処理を250〜
300℃で行うので、有害物質の脱離が効率的に行われ
る。
【0051】[請求項8]の発明によれば、焼却炉,熱
分解炉,溶融炉等から排出される排ガス中の有害物質を
吸着除去する排ガス処理方法であって、排ガス中のダス
ト成分を除去する第1の吸着剤を排ガス通過方法と略直
交する方向に移動自在なダスト除去層と、該ダスト除去
層を通過した排ガス中の有害物質を吸着する第2の吸着
剤を充填した固定式吸着層と、第1の吸着剤に付着した
ダスト成分を系外で除去し、吸着剤を再利用する篩手段
とを具備してなる排ガス吸着装置を少なくとも2台設け
てなり、1台の排ガス吸着装置で排ガス中のダスト成分
を吸着している間に、他の排ガス吸着装置の排ガス中の
有害物質を吸着した吸着剤に高温の不活性ガスを導入し
て吸着剤から有害物質を脱離させると共に吸着剤を再生
させるので、吸着剤の吸着処理とは別に吸着した有害物
質を触媒作用により分解処理することができ、効率的と
なる。
【0052】[請求項9]の発明によれば、上記排ガス
中の有害物質がダイオキシン類,ポリハロゲン化ビフェ
ニル類,ハロゲン化ベンゼン類,ハロゲン化フェノール
類及びハロゲン化トルエン類から選ばれる少なくとも一
種のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮合度芳香族炭化
水素,環境ホルモンを分解処理することができる。
【0053】[請求項10]の発明によれば、上記ダイ
オキシン類が、ポリ塩化ジベンゾ−p−ダイオキシン類
(PCDDs)、ポリ塩化ジベンゾフラン類(PCDF
s)、ポリ臭化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(PBD
Ds)、ポリ臭化ジベンゾフラン類(PBDFs)、ポ
リ弗化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(PFDDs)、
ポリ弗化ジベンゾフラン類(PFDFs)、ポリ沃素化
ジベンゾ−p−ダイオキシン類(PIDDs)、ポリ沃
素化ジベンゾフラン類(PIDFs)を分解処理するこ
とができる。
【0054】[請求項11]の排ガス処理システムの発
明は、排ガス中の有害物質を浄化する排ガス処理システ
ムであって、排ガス中の煤塵を除塵する除塵装置と、請
求項1又は2の排ガス処理装置とからなるので、先ず除
塵装置で排ガス中の煤塵を除き、排ガス中の有害物質を
吸着剤の吸着作用により除くことができ、排ガスの浄化
をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態にかかる排ガス処理装置の概略図
である。
【図2】本実施の形態にかかる排ガス吸着装置の要部概
略図である。
【図3】本実施の形態にかかる排ガス処理システムの概
略図である。
【図4】他の排ガス処理システムの一例を示す概略図で
ある。
【符号の説明】
11 排ガス 12 第1の吸着剤 13 ダスト除去層 14 第2の吸着剤 15 固定式吸着層 16 第3の吸着剤 17 捕集層 18 篩手段 19A,19B 排ガス吸着装置 20 加熱再生排ガス 21 触媒装置 22 容器 23 ブロワ B1〜B8 バルブ 100 排ガス浄化システム 101 焼却炉 102 ガス冷却装置 103 除塵装置 104 排ガス処理装置 105 煙突 106 脱硝装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐久間 哲哉 神奈川県横浜市中区錦町12番地 三菱重工 業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 洞口 光弘 東京都港区芝5丁目34番6号 三菱重工環 境エンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 4D002 AA12 AA21 AA32 AA33 AA40 AC04 AC10 BA04 BA12 BA14 CA07 CA08 CA13 DA18 DA41 DA45 DA46 DA47 EA04 EA08 GA01 GB03 GB08 GB11 4D012 CA12 CA15 CB16 CD01 CE03 CF04 CF06 CF10 CG01 CH05 CH10 CJ02 4D048 AA11 AB03 BA03Y BA04Y BA06Y BA07Y BA08Y BA23Y BA24Y BA26Y BA27Y BA42Y BA44Y CD01

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 焼却炉,熱分解炉,溶融炉等から排出さ
    れる排ガス中の有害物質を吸着除去する排ガス処理装置
    であって、 排ガス中のダスト成分を除去する第1の吸着剤を排ガス
    通過方法と略直交する方向に移動自在なダスト除去層
    と、 該ダスト除去層を通過した排ガス中の有害物質を吸着す
    る第2の吸着剤を充填した固定式吸着層と、 第1の吸着剤に付着したダスト成分を系外で除去し、吸
    着剤を再利用する篩手段とを具備してなる排ガス吸着装
    置を少なくとも2台設けてなり、 1台の排ガス吸着装置で排ガス中の有害物質の吸着をし
    ている間に、他の排ガス吸着装置の上記有害物質を吸着
    した第2の吸着剤に高温の不活性ガスを導入し、第2の
    吸着着剤から有害物質を脱離して吸着剤を再生すると共
    に、上記脱離した有害物質を含んだ加熱再生排ガスを触
    媒作用により分解処理することを特徴とする排ガス処理
    装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 上記第2の吸着剤の後流側に、微粉を吸着する第3の吸
    着剤を排ガス通過方法と略直交する方向に移動自在な捕
    集層を具備してなることを特徴とする排ガス処理装置。
  3. 【請求項3】 請求項1において、 上記固定式吸着層を2以上備えてなることを特徴とする
    排ガス処理装置。
  4. 【請求項4】 請求項1において、 上記第1の吸着剤と第2の吸着剤とが活性炭であること
    を特徴とする排ガス処理装置。
  5. 【請求項5】 請求項1において、 上記第2の吸着剤が活性炭と活性炭以外の吸着剤との混
    合物であることを特徴とする排ガス処理装置。
  6. 【請求項6】 請求項1において、 上記第2の吸着剤が活性炭と活性炭以外の吸着剤との混
    合比率が90:10〜50:50であることを特徴とす
    る排ガス処理装置。
  7. 【請求項7】 請求項1又は2において、 上記第2の吸着剤の加熱処理を250〜300℃で行う
    ことを特徴とする排ガス処理装置。
  8. 【請求項8】 焼却炉,熱分解炉,溶融炉等から排出さ
    れる排ガス中の有害物質を吸着除去する排ガス処理方法
    であって、 排ガス中のダスト成分を除去する第1の吸着剤を排ガス
    通過方法と略直交する方向に移動自在なダスト除去層
    と、 該ダスト除去層を通過した排ガス中の有害物質を吸着す
    る第2の吸着剤を充填した固定式吸着層と、 第1の吸着剤に付着したダスト成分を系外で除去し、吸
    着剤を再利用する篩手段とを具備してなる排ガス吸着装
    置を少なくとも2台設けてなり、 1台の排ガス吸着装置で排ガス中のダスト成分を吸着し
    ている間に、他の排ガス吸着装置の排ガス中の有害物質
    を吸着した吸着剤に高温の不活性ガスを導入して吸着剤
    から有害物質を脱離させると共に吸着剤を再生させるこ
    とを特徴とする排ガス処理方法。
  9. 【請求項9】 請求項8において、 上記排ガス中の有害物質がダイオキシン類,ポリハロゲ
    ン化ビフェニル類,ハロゲン化ベンゼン類,ハロゲン化
    フェノール類及びハロゲン化トルエン類から選ばれる少
    なくとも一種のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮合度
    芳香族炭化水素,環境ホルモンであることを特徴とする
    排ガス処理方法。
  10. 【請求項10】 請求項9において、 上記ダイオキシン類が、ポリ塩化ジベンゾ−p−ダイオ
    キシン類(PCDDs)、ポリ塩化ジベンゾフラン類
    (PCDFs)、ポリ臭化ジベンゾ−p−ダイオキシン
    類(PBDDs)、ポリ臭化ジベンゾフラン類(PBD
    Fs)、ポリ弗化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(PF
    DDs)、ポリ弗化ジベンゾフラン類(PFDFs)、
    ポリ沃素化ジベンゾ−p−ダイオキシン類(PIDD
    s)、ポリ沃素化ジベンゾフラン類(PIDFs)であ
    ることを特徴とする排ガス処理方法。
  11. 【請求項11】 排ガス中の有害物質を浄化する排ガス
    処理システムであって、 排ガス中の煤塵を除塵する除塵装置と、請求項1又は2
    の排ガス処理装置とからなることを特徴とする排ガス処
    理システム。
  12. 【請求項12】 請求項11において、 排ガス中の窒素酸化物を処理する脱硝装置を設けたこと
    を特徴とする排ガス処理システム。
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