JP2001109143A

JP2001109143A - 硬化性組成物

Info

Publication number: JP2001109143A
Application number: JP28114399A
Authority: JP
Inventors: Kazuto Shimada; 和人嶋田; Kazuto Kunida; 一人國田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-10-01
Filing date: 1999-10-01
Publication date: 2001-04-20

Abstract

(57)【要約】【課題】経時安定性が良好であり、且つ、高感度の、
画像形成材料に有用な硬化性組成物を提供する。【解決手段】（ａ）分子内に、エネルギー付与によ
り、酸を発生する基と架橋剤を発生する基とを有する化
合物と、（ｂ）分子内に、酸存在下で架橋剤と反応しう
る官能基を２個以上含有する化合物と、を有することを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光、熱、電子線な
どによるエネルギーを付与することで硬化する硬化性組
成物に関し、詳細には、感度と保存安定性に優れ、フォ
トレジスト、平版印刷版の記録層などに好適に使用しう
る硬化性組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】光、熱、電子線などによるエネルギーを
付与することで硬化する硬化性組成物は、エネルギー付
与部分のみ硬化して画像部となるフォトレジスト、平版
印刷版の記録層などのネガ型の画像形成材に汎用され、
特に硬化後の画像部の強度、安定性の観点から、架橋を
形成して硬化する材料が一般的である。

【０００３】既に公知の酸架橋反応を用いる硬化性組成
物は、通常、架橋剤と架橋反応を生起させるための酸を
供給する酸発生剤と、架橋に与る官能基を有するポリマ
ー或いはその前駆体とを含むものが一般的であった。こ
のような硬化性組成物は、同じ系中に架橋剤と酸発生剤
とが共存するため、経時によりその一部が架橋を起こし
てしまうなどして、経時劣化が起こっていた。このよう
なネガ型画像形成材料は平版印刷版の記録層として一般
に使用されている。例えば、特開平７−２０６２９号公
報には、酸架橋によるヒートモードレーザー対応ネガ型
画像記録材料が記載されており、この記録材料では、レ
ーザー露光により、酸発生剤から酸が発生し、バインダ
ーや架橋剤が酸により架橋反応を生起することで、露光
部と未露光部に現像性の差が現れ、画像を形成してい
る。

【０００４】しかしながら、この記録材料は保存時に、
熱的にバインダーと架橋剤、或いは架橋剤同士が架橋反
応を起こしたり、保存時に酸発生剤が分解して、架橋反
応が引き起こされる等の懸念があり、安定性に問題があ
った。また、安定性に配慮して熱的に安定な架橋剤や酸
発生剤等を選択すると感度が不十分になるという問題が
あった。このような硬化性組成物の感度と安定性とを両
立させるために、様々な添加剤が加えられたり、架橋
剤、バインダー、酸発生剤の変更が行われてきたが、抜
本的な解決はなく、未だ実用上、満足できるものは得ら
れていないのが現状である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は経時安定
性が良好であり、且つ、高感度の、画像形成材料に有用
な硬化性組成物を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、分子内に、酸を発生する官能基と、架橋成分を発
生する官能基の双方を有する化合物を用いることで上記
問題点を解決し得ることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明の硬化性組成物は、（ａ）分子内に、エネ
ルギー付与により、酸を発生する基と架橋剤を発生する
基とを有する化合物と、（ｂ）分子内に、酸存在下で架
橋剤と反応しうる官能基を２個以上含有する化合物と、
を有することを特徴とする。ここで用いる（ｂ）分子内
に、酸存在下で架橋剤と反応しうる官能基を２個以上含
有する化合物における、酸存在下で架橋剤と反応しうる
官能基が、ヒドロキシル基、チオール基、複素環から選
択される一種以上であることが好ましい。

【０００７】また、（ａ）分子内に、エネルギー付与に
より、酸を発生する基と架橋剤を発生する基とを有する
化合物としては、下記一般式(I)乃至一般式(III)で表さ
れる構造単位を有する化合物であることが好ましい。

【０００８】

【化２】

【０００９】式中、Ｒ¹は、ＣＯＲ、ＳＯ₂Ｒ，ＰＯ
₂Ｒ，ＰＯ₃Ｒ（ここで、Ｒは置換されていても良いアル
キル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を表
す）を表す。Ｒ²、Ｒ³は置換されていても良い、アルキ
ル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基又はシ
アノ基を表す。Ｒ⁴は水素原子或いは置換されていても
良いアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基を表す。Ｘは芳香環又は環状化合物、Ｙは環状化合
物を表す。

【００１０】なお、本発明において「エネルギー付与」
とは、（ａ）分子内に、エネルギー付与により、酸を発
生する基と架橋剤を発生する基とを有する化合物に、酸
及び架橋剤を発生させるに十分な量の「光照射、加熱、
或いは電子線照射の一種以上」を指す。

【００１１】本発明の硬化性組成物においては、（ａ）
分子内に、エネルギー付与により、酸を発生する基と架
橋剤を発生する基とを有する化合物を用いて、架橋反応
に寄与する酸と架橋剤を同一化合物から、エネルギー付
与によって発生させることで、露光、或いは加熱される
までは、架橋剤は保護されて活性を示さず、経時的にバ
インダーと反応することはない。酸もまたオニウム塩に
比べ安定なエステルの形で保持されているため、経時的
に安定である。また、露光或いは加熱等によりエネルギ
ーが付与され、酸と架橋剤が発生するときは、１つの分
子内、即ち、空間的に近いところに双方とも存在するこ
とになり、高感度化を達成しうるものと考えられる。こ
のとき、硬化性組成物中にさらに（ｃ）赤外線吸収剤が
含まれていると、赤外線レーザ露光による記録が可能に
なるとともに、光熱変換により発生した熱により、酸の
発生や酸架橋反応が促進されることになり、感度の観点
からも好ましい。

【００１２】好ましい（ａ）分子内に、エネルギー付与
により、酸を発生する基と架橋剤を発生する基とを有す
る化合物として挙げた前記一般式（Ｉ）の構造単位を有
する化合物は、露光、加熱時に分子内酸化還元反応が起
こり、酸とアルデヒドを発生する。このアルデヒドは同
時に発生した酸を触媒として、求核性の官能基を有する
バインダーと反応する架橋剤となる。また、一般式（I
I）の構造単位を有する化合物は、露光、加熱時にＮ−
Ｏ結合が切断され、酸とケトン、アルデヒド、或いはア
ジンを形成する。ケトン、アルデヒド、或いはアジンは
発生した酸を触媒として、求核性の官能基を有するバイ
ンダーと反応する架橋剤となる。一般式（III）の構造
単位を有する化合物は、露光、加熱時にピナコール転移
を起こし、ケトンと酸を発生する。このケトンは発生し
た酸を触媒として、求核性の官能基を有するバインダー
と反応する架橋剤となる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の硬化性組成物は、（ａ）分子内に、エネルギー
付与により、酸を発生する基と架橋剤を発生する基とを
有する化合物（以下、適宜、酸、架橋成分発生剤と称す
る）と、（ｂ）分子内に、酸存在下で架橋剤と反応しう
る官能基を２個以上含有する化合物（以下、適宜、架橋
性化合物と称する）と、を有することを特徴とするが、
（ｃ）赤外線吸収剤を含むことが好ましく、さらに、必
要に応じて、増感剤等の公知の各種添加剤を含んでもよ
い。

【００１４】本発明の硬化性組成物に用いる各化合物に
ついて順次説明する。＜（ａ）酸、架橋成分発生剤＞本発明における（ａ）
酸、架橋成分発生剤とは、光、熱或いは電子線により活
性化され、１つの分子から、酸化還元反応、転移反応、
切断反応などにより酸と架橋剤を発生する化合物を表
す。発生する酸としては、カルボン酸、スルホン酸、リ
ン酸などが好ましい。架橋剤を発生する具体例として
は、アルデヒド、ケトン、アジン、イミン基を有する化
合物であることが好ましい態様である。

【００１５】これらの化合物としては、前記一般式
（Ｉ）乃至一般式（III）で表される構造単位を有する
ものが好ましく挙げられる。一般式（Ｉ）で表される構
造単位を有する化合物は、光又は電子線の照射により、
分子内酸化還元反応を引き起こし、架橋剤としての機能
を有するｏ−ニトロソベンズアルデヒドと酸（カルボン
酸、スルホン酸、リン酸）を形成する。また、加熱され
ると、熱的にも分子内で反応を起こして、光照射等の場
合と同様に、ｏ−ニトロソベンズアルデヒドと酸（カル
ボン酸、スルホン酸、リン酸）を形成すると考えられ
る。前記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹はＣＯＲ，ＳＯ₂Ｒ，ＰＯ
₂ＯＲ，ＰＯ₃Ｒ（ここで、Ｒは置換されていても良いア
ルキル、アリール基を表す）を表す。

【００１６】Ｒがアルキル基を表すとき、アルキル基と
しては、炭素原子数が１〜２０までの直鎖状、分岐状、
及び環状のアルキル基を挙げることができる。その具体
例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイ
コシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、
１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキ
シル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シ
クロペンチル基、２−ノルボルニル基等を挙げることが
できる。これらの中では、炭素原子数１〜１２までの直
鎖状、炭素原子数３〜１２までの分岐状、並びに炭素原
子数５〜１０までの環状のアルキル基がより好ましい。

【００１７】Ｒが置換アルキル基を表すとき、その置換
基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いら
れ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂ
ｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、ア
ミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルア
ミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシル
オキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバ
モイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、
アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、
Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−
Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリー
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、

【００１８】Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スル
ホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロ
キシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
スルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アル
キルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモ
イル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びそ
の共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアル
キルホスフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)₂）、ジアリールホ
スフォノ基（−ＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホス
フォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホス
フォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以
後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホ
スフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基
（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、
ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノ
オキシ基（−ＯＰＯ ₃(alkyl)₂）、ジアリールホスフォ
ノオキシ基（−ＯＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホ
スフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノア
ルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及び
その共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基
と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ
₃Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールフォ
スホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリ
ール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。

【００１９】これらの置換基におけるアルキル基の具体
例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基
の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１
−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−
クロロ−１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の
例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチ
ニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
アシル基（Ｒ⁵ＣＯ−）におけるＲ⁵としては、水素、及
び上記のアルキル基、アリール基を挙げることができ
る。これら置換基のうち、更に好ましいものとしては、
ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アシルアミノ基、アシル基、アリール基、ア
ルケニル基等が挙げられる。

【００２０】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数１〜２０のアルキル基上の水
素原子のいずれか１つを除き、２価の有機残基としたも
のを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１〜１２
までの直鎖状、炭素原子数３〜１２までの分岐状、及び
炭素原子数５〜１０までの環状のアルキレン基を挙げる
ことができる。該置換基とアルキレン基を組み合わせる
事により得られる置換アルキル基の、好ましい具体例と
しては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロ
エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、
メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フ
ェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメ
チル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピ
ル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイル
オキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２
−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシ
カルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル
基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイ
ルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフ
ェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ス
ルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル
基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ
−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピル
スルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイル
プロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、

【００２１】トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−
メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。

【００２２】Ｒがアリール基を表すとき、アリール基と
しては、１個〜３個のベンゼン環が縮合環を形成したも
の、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したもの
を挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナ
フチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニ
ル基、アセナフテニル基、フルオレニル基等を挙げるこ
とができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基
がより好ましい。また、アリール基には上記炭素環式ア
リール基の他、複素環式（ヘテロ）アリール基が含まれ
る。複素環式アリール基としては、ピリジル基、フリル
基、その他ベンゼン環が縮環したキノリル基、ベンゾフ
リル基、チオキサントン基、カルバゾール基、インドー
ル基等の炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含むも
のが用いられる。

【００２３】Ｒが置換アリール基を表すとき、置換アリ
ール基としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上
に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有す
るものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述
のアルキル基、置換アルキル基、及び、先に置換アルキ
ル基における置換基として示したものを挙げることがで
きる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例とし
ては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ト
リフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、
メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、ア
リルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチル
チオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノ
フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフ
ェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキ
シフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシ
フェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル
基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル
基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモ
イルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メ
トキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイ
ルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−ト
リルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホ
スフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフ
ォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホ
スフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナト
フェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホス
フォナトフェニル基、アリルフェニル基、１−プロペニ
ルメチルフェニル基、２−ブテニルフェニル基、２−メ
チルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル
基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル
基、３−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。

【００２４】Ｒがアルケニル基、置換アルケニル基［−
Ｃ（Ｒ⁵）＝Ｃ（Ｒ⁶）（Ｒ⁷）］、アルキニル基、又は
置換アルキニル基［−Ｃ≡Ｃ（Ｒ⁸）］を表すとき、Ｒ⁵
〜Ｒ ⁸としては、一価の非金属原子団を使用することが
できる。好ましいＲ⁵〜Ｒ⁸の例としては、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、及び置換アリール基を挙げることができる。これら
の具体例としては、前述の例として示したものを挙げる
ことができる。Ｒ⁵〜Ｒ⁸のより好ましい置換基として
は、水素原子、ハロゲン原子、及び炭素原子数１〜１０
の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることがで
きる。

【００２５】アルケニル基、置換アルケニル基、アルキ
ニル基、及び置換アルキニル基の具体例としては、ビニ
ル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセ
ニル基、１−オクテニル基、１−メチル−１−プロペニ
ル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１
−ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル基、２−ク
ロロ−１−エテニル基、エチニル基、プロピニル基、フ
ェニルエチル基等を挙げることができる。上記のうち、
Ｒとして好ましいものは、アルキル基、置換基アルキル
基、アリール基、及び置換アリール基である。

【００２６】Xはアリール基、又は環状化合物を表す。X
がアリール基を表す場合、具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基等を挙
げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフ
チル基がより好ましい。また、アリール基には上記炭素
環式アリール基の他、複素環式（ヘテロ）アリール基が
含まれる。複素環式アリール基としては、ピリジル基、
フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキノリル基、ベ
ンゾフリル基、チオキサントン基、カルバゾール基等の
炭素数３〜２０、ヘテロ原子数１〜５を含むものが用い
られる。

【００２７】置換アリール基を表すとき、置換アリール
基としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置
換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するも
のが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のア
ルキル基、置換アルキル基、及び、先に置換アルキル基
における置換基として示したものを挙げることができ
る。このような、置換アリール基の好ましい具体例とし
ては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ト
リフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、
メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、ア
リルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチル
チオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノ
フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフ
ェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキ
シフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシ
フェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル
基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル
基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモ
イルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メ
トキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイ
ルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−ト
リルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホ
スフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフ
ォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホ
スフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナト
フェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホス
フォナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２
−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニ
ル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル
基等を挙げることができる。

【００２８】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³がアルケニル基、置換アル
ケニル基［−Ｃ（Ｒ⁴）＝Ｃ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）］、アルキ
ニル基、又は置換アルキニル基［−Ｃ≡Ｃ（Ｒ⁷）］を
表すとき、Ｒ⁴〜Ｒ⁷としては、一価の非金属原子団を使
用することができる。環状化合物とは、脂環式化合物、
ヘテロ原子を含有する脂環式化合物、置換基を有する脂
環式化合物、ヘテロ原子を含有する脂環式化合物を表
す。一般式（Ｉ）で表される構造単位を有する化合物の
具体的な例を以下に示すがこれらに限られるものではな
い。

【００２９】

【化３】

【００３０】

【化４】

【００３１】

【化５】

【００３２】

【化６】

【００３３】

【化７】

【００３４】

【化８】

【００３５】前記一般式（II）で表される構造単位を有
する化合物は、光又は電子線照射により、Ｏ−Ｎ結合の
切断が進行し、空気中や塗膜中の水分やアルコールなど
水素供与性化合物と反応して、酸、及び、ケトン、アル
デヒド、或いはアジン等の架橋性成分を形成する。ま
た、一般式（II）で表される化合物は加熱により熱分解
を引き起こし、光又は電子線照射と同様に酸とケトン、
アルデヒド、或いはアジンを形成する。一般式（II）
中、Ｒ¹は前記一般式（Ｉ）におけるのと同様である。
Ｒ²、Ｒ³は置換されていても良いアルキル、アリール基
又はシアノ基を表す。置換されていても良いアルキル、
アリール基については前記と同様である。一般式（II）
で表される構造単位を有する化合物の具体的な例を以下
に示すがこれらに限られるものではない。

【００３６】

【化９】

【００３７】

【化１０】

【００３８】一般式（III）で表される構造単位を有す
る化合物は、加熱又は電子線照射によりＣ−Ｏ結合が熱
的に切断し、まず、酸と炭素カチオンが生成し、引き続
き、ピナコール転移が起こることにより、カルボニル化
合物が生成する。一般式（III）中、Ｒ¹は前記一般式
（Ｉ）におけるのと同様である。Ｒ⁴は水素又は置換さ
れていても良いアルキル、アリール基を表す。置換され
ていても良いアルキル、アリール基の具体例については
前記一般式（Ｉ）におけるのと同様である。Ｙは環状化
合物を表し、環状化合物の例は前記一般式（Ｉ）におけ
るのと同様である。一般式（III）で表される構造単位
を有する化合物の具体的な例を以下に示すがこれらに限
られるものではない。

【００３９】

【化１１】

【００４０】（ａ）酸、架橋成分発生剤は、本発明の硬
化性組成物に対して０．１〜６０重量％含まれることが
好ましく、さらに１〜４０重量％含まれることが好まし
い。含有量が０．１重量％未満であると硬化せず、６０
重量％を超えると硬化後に形成された膜の強度が低下す
る傾向があり、いずれも好ましくない。

【００４１】＜（ｂ）分子内に、酸存在下で架橋剤と反
応しうる官能基を２個以上含有する化合物＞本発明に用
いる（ｂ）架橋性化合物は、低分子化合物でも、ポリマ
ーでもよい。架橋剤と反応しうる官能基としては水酸
基、チオール基、複素環基が好ましく、その中でも水酸
基、複素環基が反応性が良好であり、臭気の問題が生じ
ないという観点から、より好ましい。架橋、硬化により
形成される層の硬度、及び、前記エネルギー付与に対す
る感度の面から、架橋性化合物としては、分子量１００
０以上のポリマーが好ましい。

【００４２】（ｂ）架橋性化合物は分子内に有する「酸
存在下で架橋剤と反応しうる官能基」により特性が異な
る。まず、（ｂ−Ａ）分子内に水酸基を２個以上有する
化合物について述べる。このような化合物としては、分
子内に水酸基を３個以上有する化合物が好ましく、さら
に、分子量１０００以上の高分子であることが好まし
い。以下に（ｂ−Ａ）の化合物に属する低分子化合物の
具体例を挙げるがこれらに限定されるものではない。

【００４３】

【化１２】

【００４４】

【化１３】

【００４５】

【化１４】

【００４６】

【化１５】

【００４７】

【化１６】

【００４８】また、（ｂ−Ａ）に属する単独重合体であ
る高分子化合物、及び、前記した構造単位を有する共重
合体である高分子化合物の具体例を挙げるがこれに限定
されるものではない。

【００４９】

【化１７】

【００５０】

【化１８】

【００５１】

【化１９】

【００５２】具体例として挙げたＰＡ−１〜ＰＡ−７如
き共重合体を用いる場合、本発明に適合する構造単位を
５モル％以上（仕込み比換算）含有することが好まし
く、１０モル％以上であることがより好ましい。このよ
うな高分子化合物の別の態様として、本発明者が先に提
案した特願平９−２６２２３６号明細書に記載の、下記
一般式（Ａ）で表される構成単位を有するポリマーを挙
げることができる。・一般式（Ａ）

【００５３】

【化２０】

【００５４】上記式中、Ｒ¹ は水素またはメチル基を表
し、Ｒ² およびＲ³ は同じでも異なっていてもよく、水
素、または、酸素原子で連結されていてもよい炭素数１
６以下の炭化水素基を表す。Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−、ま
たは下記構造で表される連結基を表す。

【００５５】

【化２１】

【００５６】Ｙは、単結合、或いは、酸素原子で連結さ
れていてもよい炭素数１６以下の２価の炭化水素連結基
を表す。Ｚは、単結合、或いは、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ
Ｈ₂ −、下記構造で表される連結基のうちの１つ、もし
くはこれらの２つ以上を組み合わせてなる２価の連結基
を表す。

【００５７】

【化２２】

【００５８】Ｒ⁴およびＲ⁵は同じでも異なっていても
よく、炭素数１６以下の炭化水素基を表す。ｍは０〜３
の整数を表し、ｎは１〜３の整数表し、かつ、１≦ｍ＋
ｎ≦５である。

【００５９】このような、「一般式（Ａ）で表される構
成単位を有するポリマー」は、架橋部となる部分がポリ
マーの主鎖からある程度離れているため、架橋反応の反
応性が向上し、高感度になる。また、架橋反応により得
られるアルカリ不溶性膜は、架橋構造が密になるため耐
刷性が向上する。さらに、ポリマー自体が安定性が高
く、これを用いた画像形成材料の保存安定性も良好なも
のになるという利点がある。

【００６０】このポリマーについては、前記特願平９−
２６２２３６号明細書の段落番号〔００１５〕から〔０
０６１〕に詳細に記載されているが、具体的には例え
ば、以下のようなポリマーが挙げられる。

【００６１】

【化２３】

【００６２】

【化２４】

【００６３】

【化２５】

【００６４】

【化２６】

【００６５】また、平版印刷版の記録層として汎用のア
ルカリ可溶性樹脂として公知のノボラック樹脂、レゾー
ル樹脂も使用することができる。ノボラック樹脂として
は、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られ
るノボラック樹脂、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂、ｐ−クレゾールとホルム
アルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｏ−クレゾー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オ
クチルフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボ
ラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデ
ヒドから得られるノボラック樹脂、フェノール／クレゾ
ール（ｏ−、ｍ−、ｐ−又はｍ−／ｐ−、ｍ−／ｏ−、
ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の混合物とホルムア
ルデヒドから得られるノボラック樹脂、或いは、ポリヒ
ドロキシスチレン（ｏ−、ｍ−、ｐ−又はｍ−／ｐ−、
ｍ−／ｏ−、ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）等が挙
げられる。

【００６６】本発明において用いうるレゾール樹脂につ
いては、特に制限はないが、英国特許第２，０８２，３
３９号にレゾール樹脂として開示された化合物が好まし
く、なかでも、重量平均分子量５００〜１０００００、
数平均分子量２００〜５００００のものが好適な例とし
て挙げられる。分子量が小さすぎると架橋性が低く、低
耐刷性となり、大きすぎると不安定で、保存安定性が低
下する虞があり、いずれも好ましくない。

【００６７】次に（ｂ−Ｂ）分子内に少なくとも１つの
チオール基を有する化合物について説明する。このよう
な化合物は分子内にチオール基と水酸基をあわせて２個
以上有する化合物であってもよい。なかでも、分子内に
チオール基を３個以上有する化合物が好ましく、更に好
ましくはチオール基を４個以上有する化合物である。以
下に（ｂ−Ｂ）の化合物に属する低分子化合物の具体例
を挙げるがこれらに限定されるものではない。

【００６８】

【化２７】

【００６９】また、「酸存在下で架橋剤と反応しうる官
能基」が複素環基である、（ｂ−Ｃ）分子内に少なくと
も１つの複素環をあわせて２個以上有する化合物につい
て説明する。ここで、分子内に複素環基を３個以上有す
る化合物が好ましく、更に好ましくは分子量１０００以
上の高分子である。適用し得る複素環基の種類として、
ピロール、フラン、チオフェン、インドール、ベンゾフ
ラン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イソオキサゾー
ル、イソチアゾール、インダゾール、ベンゾイソオキサ
ゾール、ベンゾイソチアゾール、イミダゾール、オキサ
ゾール、チアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキ
サゾール、ベンゾチアゾール、ピリジン、キノリン、イ
ソキノリン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シノ
リン、フタルアジン、キナゾリン、キノオキサリン、ア
シリジン、カルバゾール、カルボリン、プリン、プテリ
ジンフェナンスリジン等が挙げられる。その中でも好ま
しくは分子内に５員環を有している化合物であり、更に
好ましくは、窒素を含有している物が好ましい。以下に
具体例を挙げるがこれらに限定されるものではない。

【００７０】

【化２８】

【００７１】また、本発明に適用し得る（ｂ−Ｃ）に属
するポリマーの例として、特開平１０−２０３０３７号
公報に記載されている、環内に不飽和結合を有する複素
環基を有する以下の一般式（Ｉ）で表される構成単位を
含むポリマーも好ましく挙げることができる。

【００７２】

【化２９】

【００７３】一般式（Ｉ）中、Ｒ¹は水素原子またはメ
チル基を示す。Ｌ¹は単結合、エステル結合、カルボン
酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、エーテル結合、
チオエーテル結合またはこれらの結合を含有していても
よい炭素数２０以下の２価の有機基を示す。また、Ａは
複素環を示す。

【００７４】一般式（Ｉ）で表される構造を有するポリ
マーのうち、本発明において特に好適に用いられるもの
は、下記一般式（III）〜（Ｖ）で表される構造を有す
るポリマーである。

【００７５】

【化３０】

【００７６】一般式（III）〜（Ｖ）中、Ｒ₁は水素原
子またはメチル基を示す。Ｌ₁は単結合、エステル結
合、カルボン酸アミド結合、スルホン酸アミド結合、エ
ーテル結合、チオエーテル結合またはこれらの結合を含
有していてもよい炭素数２０以下の２価の有機基を表
す。Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇は同じでも異
なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していても
よい炭素数２０個以下の有機基を示し、該有機基中に
は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子のヘテロ原子を含ん
でいてもよい。またＲ₂とＲ₃、Ｒ₄とＲ₅及びＲ₆と
Ｒ₇が、それぞれ一緒になって縮環した環を形成してい
てもよい。置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１０
個以下のアルコキシ基、または炭素数１０個以下のアリ
ールオキシ基が好ましい。

【００７７】Ｘ₁およびＸ₂は同じでも異なっていても
よく、窒素原子またはＣ−Ｒ₁₁を示す。Ｒ₁₁は水素原子
又は炭素数２０個以下の炭化水素基を示す。Ｘ₃はＮ−
Ｒ₁₂、酸素原子または硫黄原子を示す。Ｒ₁₂は水素原子
又は炭素数２０個以下の炭化水素基を示す。Ｘ₄は、窒
素原子またはＣ−Ｒ₁₃を示す。Ｒ₁₃は水素原子又は炭素
数２０個以下の炭化水素基を示す。Ｘ₅はＮ−Ｒ₁₄、酸
素原子または硫黄原子を示す。Ｒ₁₄は水素原子又は炭素
数２０個以下の炭化水素基を示す。Ｘ₆は窒素原子また
はＣ−Ｒ₁₅を示す。Ｒ₁₅は水素原子又は炭素数２０個以
下の炭化水素基を示す。このようなポリマーを形成する
ために好適に用いられるモノマーの例を以下に挙げる。
なお、以下の式中、Ｒ₁は水素原子またはメチル基を示
し、Ｙ₁は酸素原子またはＮＨを示す。またｎは１〜２
０の整数を示す。

【００７８】

【化３１】

【００７９】

【化３２】

【００８０】

【化３３】

【００８１】

【化３４】

【００８２】

【化３５】

【００８３】

【化３６】

【００８４】

【化３７】

【００８５】

【化３８】

【００８６】これらのモノマーの内、例えば（VI−３）
の様にベンゼン環が一つ縮環したものは、縮環してない
ものに比べ画像部の膜強度が良好であり、かつベンゼン
環が２つ縮環したものに比べ現像液への溶解性が良好で
あるため、特に好ましい。

【００８７】複素環基を有するポリマーとしては、この
ようなモノマーの少なくともいずれか一つをラジカル重
合することにより得られるポリマーを使用することが好
ましく、前記した如きモノマーのみを用いた単独重合体
や２種以上を用いた共重合体の双方を使用することがで
きる。

【００８８】本発明において、さらに好適に使用される
ポリマーは、一般式（Ｉ）で表されるモノマーの少なく
ともいずれか一つと、カルボン酸等の酸性基を有するモ
ノマーとを、ラジカル重合することにより得られる共重
合体である。ただし、一般式（Ｉ）で表されるモノマー
の構造中に、酸性基がすでに含有されている場合は、他
の酸性基を有するモノマーとの共重合体とする必要はな
い。

【００８９】これらの化合物に存在する「酸存在下で架
橋剤と反応しうる官能基」としては、水酸基、又は複素
環を有する化合物が製造が容易である点及び、臭気の観
点から好ましく、さらに、低分子化合物よりはポリマー
となっている化合物が好ましい。

【００９０】（ｂ）架橋性化合物は、本発明の硬化性組
成物に対して５〜９９重量％含まれることが好ましく、
さらに２０〜７０重量％含まれることが好ましい。含有
量が５重量％未満であると膜強度が低く、９９重量％を
超えると画像を形成し難くなり、いずれも好ましくな
い。

【００９１】本発明の硬化性組成物には、前記必須成分
の他に、感度や安定性、その他の特性を改良するため、
本発明の効果を損なわない範囲で、種々の添加剤を併用
することができる。

【００９２】本発明において、上述の酸、架橋成分発生
剤は光又は熱により分解し酸及び架橋剤を生成する。こ
の（ａ）化合物にエネルギーを露光により付与する場
合、化合物が照射光の波長域に吸収を有するときには、
特に分光増感剤を用いる必要はない。しかしながら、照
射光の波長が酸、架橋成分発生剤の吸収域と異なる場合
には、分光増感剤を添加することが必要である。可視光
線を照射する場合に用いられる分光増感剤としては、従
来より光ラジカル重合型の画像記録材料に用いられてい
る公知の分光増感剤を使用することができる。具体的に
は、例えば、特開平４−２１９７５６号に記載されてい
るエオシン類や、特開平２−２４４０５０号及び特願平
７−２３１３３号に記載されているチアゾリジノン骨格
を有する色素が挙げられる。なお、本発明の硬化性組成
物はラジカル重合性の多官能モノマーを含むものではな
いにもかかわらず、前記光ラジカル重合型において有効
な分光増感剤が本発明においても有効である理由は明確
ではない。

【００９３】本発明の硬化性組成物には、（ｃ）赤外線
吸収剤を添加することが好ましい。赤外線吸収剤の併用
により、赤外線を発するレーザで画像記録可能となり、
また、エネルギー付与の際に光／熱変換効率が向上す
る。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機
能を有しており、この際発生した熱により、酸を発生す
る官能基の酸を発生する機能、架橋反応性等が促進され
るものである。本発明において使用される赤外線吸収剤
は、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を有効に
吸収する染料又は顔料である。好ましくは、波長７６０
ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を有する染料又は顔料
である。このような赤外線吸収剤としては、特開平１０
−２０３０３７号公報の段落番号〔００５４〕〜〔００
６４〕に記載のものが好ましく挙げられる。

【００９４】また、本発明者らが先に提案した特願平１
０−８８９８２号明細書の段落番号〔００１８〕〜〔０
０３４〕に記載の如き、特定のオニウム塩構造を有する
赤外線吸収剤も好適なものとして挙げられる。

【００９５】本発明の特徴は、（ａ）分子内に、エネル
ギー付与により、酸を発生する基と架橋剤を発生する基
とを有する化合物を含むことにあり、これらの働きで架
橋構造を形成するものであるが、本発明の硬化性組成物
には、さらに感度を向上させるために、前記化合物とは
別に、本発明の効果を損なわない限りにおいて酸発生
剤、或いは架橋剤を含んでもよい。

【００９６】ここで用い得る酸発生剤、架橋剤は、公知
のものを安定性等を考慮して、適宜選択して用いること
ができる。酸発生剤は、光、熱又は電子線により酸を発
生する化合物であり、赤外線の照射や、１００℃以上の
加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生す
る酸としては、スルホン酸、塩酸等のｐＫａが２以下の
強酸であることが好ましいのは、先に挙げた官能基と同
様である。

【００９７】本発明において好適に用いられる酸発生剤
としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニ
ウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。
具体的には、ＵＳ４，７０８，９２５号や特開平７−２
０６２９号に記載されている化合物を挙げることができ
る。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニ
ウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。
ジアゾニウム塩としては、米国特許第３，８６７，１４
７号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，６３
２，７０３号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平
１−１０２４５６号及び特開平１−１０２４５７号の各
公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、Ｕ
Ｓ５，１３５，８３８号やＵＳ５，２００，５４４号に
記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。さ
らに、特開平２−１０００５４号、特開平２−１０００
５５号及び特願平８−９４４４号に記載されている活性
スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。他にも、特開平７−２７１０２９号に記載されてい
る、ハロアルキル置換されたＳ−トリアジン類も好まし
い。

【００９８】これらの酸発生剤は、硬化性組成物に対し
０〜３０重量％添加され、好ましくは０〜２５重量％、
より好ましくは０．１〜２０重量％の割合で添加され
る。添加量が３０重量％を越える場合は、経時により感
度変動が起こりやすくなり、安定性が低下するため好ま
しくない。

【００９９】これらの化合物は単独で使用してもよく、
また２種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、こ
こに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解でき
るため、本発明の画像記録材料は、赤外線だけではなく
紫外線の照射によっても画像記録可能である。

【０１００】本発明の酸架橋層に用い得る架橋剤は、酸
の存在下で架橋する化合物であれば、特に制限はない
が、下記一般式（Ｉ）で表されるフェノール誘導体（以
下、適宜、低分子フェノール誘導体と称する）、下記一
般式（II）で表される、環上に２又は３個のヒドロキシ
メチル基を有するフェノール環を分子内に３個以上有す
る多核型フェノール性架橋剤、レゾール樹脂等や、それ
らの混合物が使用される。

【０１０１】

【化３９】

【０１０２】式中、Ａｒ¹ は、置換基を有していても良
い芳香族炭化水素環を示す。Ｒ¹ およびＲ² は、それぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭素数
１２個以下の炭化水素基を示す。Ｒ³ は、水素原子また
は炭素数１２個以下の炭化水素基を示す。ｍは、２〜４
の整数を示す。ｎは、１〜３の整数を示す。Ｘは２価の
連結基を示し、Ｙは前記の部分構造を有する１価乃至４
価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示し、
ＺはＹが末端基である場合には存在せず、或いは、Ｙの
連結基の数に応じて存在する１価乃至４価の連結基又は
官能基を示す。

【０１０３】

【化４０】

【０１０４】式中、Ａは、炭素数１〜２０のｒ価の炭化
水素連結基を示し、ｒは３〜２０の整数を示す。ｐは、
２〜３の整数を示す。このような架橋剤としては、本発
明者らが先に提案した特願平１０−２０３９２５号明細
書の段落番号〔００１０〕〜〔００７５〕に詳細に記載
されている。また、本発明において用いられる他の架橋
剤としては、分子内に２個以上のヒドロキシメチル基、
アルコキシメチル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、
アルデヒド基又はケトン基を有する化合物である。好ま
しくはこれらの架橋性官能基が芳香環に直接結合した化
合物が挙げられる。具体的には、メチロールメラミン、
エポキシ化されたノボラック樹脂、尿素樹脂等が挙げら
れる。さらに、「架橋剤ハンドブック」（山下晋三、金
子東助著、大成社（株））に記載されている化合物も好
ましい。特に、分子内に２個以上のヒドロキシメチル基
またはアルコキシメチル基を有するフェノール誘導体は
画像形成した際の画像部の強度が良好であり好ましい。

【０１０５】しかしながら、これらの架橋剤は熱に対し
て不安定であり、酸架橋層を作製したあとの保存時の安
定性があまりよくない。これに対し、分子内にベンゼン
環に結合する２個以上のヒドロキシメチル基又はアルコ
キシメチル基を有し、かつベンゼン核を３〜５個含み、
さらに分子量が１，２００以下であるフェノール誘導体
は、保存時の安定性も良好であり、本発明において最も
好適に用いられる。アルコキシメチル基としては、炭素
数６以下のものが好ましい。具体的にはメトキシメチル
基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、イソ
プロポキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、イソブト
キシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキ
シメチル基が好ましい。さらに、２−メトキシエトキシ
メチル基及び２−メトキシ−１−プロポキシメチル基の
ように、アルコキシ置換されたアルコキシメチル基も好
ましい。具体的には、特開平６−２８２０６７号、特開
平７−６４２８５号、およびＥＰ６３２００３Ａ１等に
記載されている化合物を挙げることができる。

【０１０６】本発明において、架橋剤は硬化性組成物
中、０〜４０重量％、好ましくは０〜３０重量％の添加
量で用いられる。架橋剤の添加量が４０重量％を越える
と保存時の安定性の点で好ましくない。本発明の硬化性
組成物は好適な支持体の上に塗布することで、平版印刷
版原版やフォトレジストなどの画像形成材料として好適
に使用しうる。本発明の硬化性組成物でこのような画像
形成材料の記録層を形成する場合、さらに必要に応じて
これら以外に種々の化合物を添加してもよい。

【０１０７】例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料
を画像の着色剤として使用することができる。具体的に
は、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０
３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイ
ルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラッ
クＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０
５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、
マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブル
ー（ＣＩ５２０１５）、アイゼンスピロンブルーＣ−Ｒ
Ｈ（保土ヶ谷化学（株）製）等、及び特開昭６２−２９
３２４７号に記載されている染料を挙げることができ
る。

【０１０８】これらの染料を添加することにより、画像
形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすくなるた
め、添加する方が好ましい。なお、添加量は、硬化性組
成物の全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合で
ある。

【０１０９】また、本発明における硬化性組成物を平版
印刷版の記録層に用いる場合、現像条件に対する処理の
安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号や特
開平３−２０８５１４号に記載されているような非イオ
ン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号、特開平４
−１３１４９号に記載されているような両性界面活性剤
を添加することができる。

【０１１０】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。

【０１１１】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の組成
物中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好まし
く、より好ましくは０．１〜５重量％である。

【０１１２】さらに、本発明の硬化性組成物中には、必
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。

【０１１３】本発明の硬化性組成物により画像形成材料
の記録層を形成する場合には、通常上記各成分を溶媒に
溶かして、適当な支持体上に塗布する。ここで使用する
溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチル
アセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、
ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、
トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定され
るものではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用
される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の
濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、
乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途
によって異なるが、平版印刷版原版についていえば一般
的に０．５〜５．０ｇ／ｍ² が好ましく、さらに、０．
５〜３．０ｇ／ｍ² が好ましい。また、フォトレジスト
に用いる場合には０．０１〜５．０ｇ／ｍ² が好まし
く、さらに０．１〜３．０ｇ／ｍ² が好ましい。塗布す
る方法としては、種々の方法を用いることができるが、
例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、
カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレ
ード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量
が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、記
録層の皮膜特性は低下する。

【０１１４】本発明における記録層形成用の塗布液に
は、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開
昭６２−１７０９５０号に記載されているようなフッ素
系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量
は、全記録層固形分中０．０１〜１重量％、さらに好ま
しくは０．０５〜０．５重量％である。

【０１１５】＜支持体＞本発明の硬化性組成物をネガ型
の画像記録材料として用いる場合、これに用い得る支持
体としては、寸度的に安定な板状物であれば、公知のも
のを使用することができ、例えば、紙、プラスチック
（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィル
ム等が挙げられる。

【０１１６】好ましい支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で
１０重量％以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。支持体として用いられる
アルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ
程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ま
しくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。また、支持体と
して用いられるプラスチックフィルムの厚みは、その強
度、耐久性、透明性などにより目的に応じて適宜選択さ
れるが、一般的には、ポリエステルフィルムで、およそ
０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ
〜０．４ｍｍ程度である。

【０１１７】支持体としてアルミニウム板を用いる場
合、アルミニウム板は、常法により、粗面化、陽極酸
化、親水化処理等が施される。即ち、アルミニウム基材
を、目的に応じて、適宜、機械的に粗面化処理する工
程、化学的にエッチング処理する工程、酸性水溶液中で
電気化学的に粗面化処理処理する工程、陽極酸化処理す
る工程、親水化処理処理する工程、等を施して支持体を
形成する。

【０１１８】本発明の硬化性組成物により画像記録材料
における構成層を塗布、形成する前に、必要に応じて前
記支持体上に下塗層を設けることができる。下塗層成分
としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボ
キシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、
２−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホス
ホン酸類；置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、
ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホ
スホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホ
ン酸等の有機ホスホン酸；置換基を有してもよいフェニ
ルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセ
ロリン酸等の有機リン酸；置換基を有してもよいフェニ
ルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホス
フィン酸及びグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン
酸；グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類；及びトリ
エタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有する
アミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種以上混合して用
いてもよい。また、前述したジアゾニウム化合物を下塗
りすることも好ましい。有機下塗層の被覆量は、２〜２
００ｍｇ／ｍ² が適当である。

【０１１９】以上のようにして、支持体上に本発明の硬
化性組成物からなる記録層を設けることで、ネガ型画像
記録材料を得ることができる。本発明に係るネガ型画像
記録材料は、所定量のエネルギー付与、具体的には、赤
外線レーザ、紫外線ランプ、可視光線などの光照射、γ
線などの電子線照射、サーマルヘッドによる熱的な記録
が可能である。本発明においては、波長７６０ｎｍから
１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体
レーザにより画像露光されることが好ましい。このよう
なエネルギー付与を画像様に行なうとその部分のみ硬化
し、画像部を形成する。その後、硬化しなかった部分
（非画像部）を現像工程により除去し、画像形成が完了
する。

【０１２０】本発明においては、露光等エネルギー付与
による画像書き込み後、すぐに現像処理を行ってもよい
が、露光、加熱などのエネルギー付与工程と現像工程の
間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理をする場合その
条件は、６０℃〜１５０℃の範囲内で５秒〜５分間行う
ことが好ましい。加熱方法としては、従来公知の種々の
方法を用いることができる。例えば、パネルヒーターや
セラミックヒーターにより画像形成材料と接触しつつ加
熱する方法、及びランプや温風による非接触の加熱方法
等が挙げられる。この加熱処理により、レーザ、光、電
子線照射、あるいは像様の加熱時、記録に必要なエネル
ギーを減少させることができる。

【０１２１】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
に係る画像形成材料は、好ましくは、水又はアルカリ性
水溶液にて現像される。

【０１２２】アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明に
係る現像液及び補充液としては従来より知られているも
のは特に制限なく使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウ
ム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及
び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、
モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミ
ン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピ
リジン等の有機アルカリ剤も用いられる。

【０１２３】これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液の一例は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸
塩の成分である酸化珪素ＳｉＯ₂ とアルカリ金属酸化物
Ｍ₂Ｏの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭５４−６２００４号、特公
昭５７−７４２７号に記載されているようなアルカリ金
属ケイ酸塩が有効に用いられる。

【０１２４】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された画像形成材料は、水洗水、界面活性剤等を
含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不
感脂化液で後処理される。本発明に係る画像形成材料を
平版印刷版原版として使用する場合の後処理としては、
これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
前述の画像形成材料としては、本発明の硬化性組成物を
平版印刷版原版の記録層として用いた場合を例に挙げて
説明したが、本発明の用途はこれに限定されず、光、熱
などのエネルギー付与による硬化するネガ型の画像形成
材料の記録層として、種々の応用が可能であり、その用
途は多岐にわたる。

【０１２５】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに制限されるものではない。

【０１２６】（実施例１〜７）〔支持体の作製〕厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０）をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミンストン
−水懸濁液を用い、その表面を砂目立てし、よく水で洗
浄した。この板を４５℃で２５％水酸化ナトリウム水溶
液に９秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、さらに２
％ＨＮＯ₃に２０秒間浸漬して水洗した。このときの砂
目立ての裏面のエッチング量は約３ｇ／ｍ²であった。
次にこの板を、７％Ｈ₂ＳＯ₄を電界液として電流密度
１５Ａ／ｄｍ²の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾
燥した。次にこのアルミニウム板に下記下塗り液を塗布
し、８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆重量は１
０ｍｇ／ｍ²であった。

【０１２７】（下塗り液組成）・β−アラニン０．１ｇ・フェニルホスホン酸０．０５ｇ・メタノール４０ｇ・純水６０ｇその処理されたアルミ支持体上に次の下記組成の硬化性
組成物（溶液Ｉ）を塗布し、１００℃、１分間乾燥し、
１ｇ／ｍ²の平版印刷版原版Ｉを得て、各々実施例１〜
７とした。

【０１２８】（溶液Ｉ）・ポリマー（メタクリル酸／ベンジルメタクリレート＝３／７、Ｍｗ２００００）２．５ｇ・（ａ）酸、架橋成分発生剤（表１に記載の化合物）０．８ｇ・（ｂ）低分子化合物（表１に記載の化合物）１．０ｇ・赤外線吸収剤ＤＸ−１（下記構造）０．５ｇ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製）０．０６ｇ・着色剤（ＶＰＢ−Ｎａｐｓ：保土ヶ谷化学（株）製）０．０４ｇ・１−メトキシ−２−プロパノール２０ｇ・メチルエチルケトン２０ｇ・メタノール１５ｇ

【０１２９】

【表１】

【０１３０】

【化４１】

【０１３１】（比較例１、２）前記溶液Ｉにおいて、
（ａ）酸、架橋成分発生剤に変えて、架橋剤としてニト
ロベンズアルデヒドを０．４ｇ、酸発生剤として下記構
造のＳＸ−１を１．８ｇ添加し、表１に記載の（ｂ）低
分子化合物を用いた他は、実施例１と同様にして平版印
刷版原版を作成し、比較例１とした。また、（ａ）酸、
架橋成分発生剤に変えて、架橋剤として２−フェニル−
シクロヘキサンを０．４４ｇ、発生剤として下記構造の
ＳＸ−１を１．８ｇ添加し、表１に記載の（ｂ）低分子
化合物を用いた他は、実施例１と同様にして平版印刷版
原版を作成し、比較例２とした。

【０１３２】

【化４２】

【０１３３】（実施例８〜１３）実施例１〜７と同様に
処理されたアルミ版上に下記組成の硬化性組成物（溶液
ＩＩ）を塗布し、１００℃、１分間乾燥し、１ｇ／ｍ²
の平版印刷版原版ＩＩを得て、各々実施例８〜１３とし
た。

【０１３４】（溶液ＩＩ）・（ｂ）ポリマー（表２に記載のポリマー）２．５ｇ・（ａ）酸、架橋成分発生剤（表２に記載の化合物）１．０ｇ・赤外線吸収剤ＤＸ−２（下記構造）０．５ｇ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業（株）製）０．０６ｇ・着色剤（ＶＰＢ−Ｎａｐｓ：保土ヶ谷化学（株）製）０．０４ｇ・γ−ブチロラクトン２０ｇ・メチルエチルケトン１５ｇ・メタノール１５ｇ

【０１３５】

【表２】

【０１３６】

【化４３】

【０１３７】表中に略号で記載の（ｂ）架橋性成分であ
るポリマーの詳細は以下の通りである。ＢＰ−１：ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリ
ル酸（７／３分子量２５，０００）ＢＰ−２：特開平１０−２０３０３７のＢＰ−１ＢＰ−３：ポリヒドロキシスチレン（マルカリンカー
ＭＨ２Ｐ，丸善石油化学（株））ＢＰ−４：ノボラック樹脂（ｍ／ｐ＝６／４，Ｍｗ＝１
０，０００）

【０１３８】（比較例３、４）前記溶液ＩＩにおいて、
（ａ）酸、架橋成分発生剤に変えて、架橋剤として２−
フェニル−シクロヘキサンを０．５ｇ、酸発生剤として
前記ＳＸ−１を１．８ｇ添加し、表２に記載の（ｂ）ポ
リマーを用いた他は、実施例８と同様にして平版印刷版
原版を作成し、比較例３とした。また、（ａ）酸、架橋
成分発生剤に変えて、架橋剤としてニトロベンズアルデ
ヒドを０．５ｇ、酸発生剤として前記ＳＸ−１を１．８
ｇ添加し、表２に記載の（ｂ）ポリマーを用いた他は、
実施例８と同様にして平版印刷版原版を作成し、比較例
４とした。

【０１３９】（画像形成とその評価）前記で得られた実
施例及び比較例の各平版印刷版原版を波長８３０〜８５
０ｎｍ程度の赤外線を発する半導体レーザーで画像様に
露光した。露光後、パネルヒーターにて、１１０℃で１
５秒間加熱処理した後、富士写真フィルム（株）製現像
液ＤＮ−３Ｃ（１：２の比率で水で希釈）で現像し、水
洗した。これらの際得られた画像の線幅とレーザ出力、
光学系でのロス及び走査速度を基に、記録に必要なエネ
ルギー量を算出した。

【０１４０】また、保存安定性を調べるために、レーザ
ー露光前の平版印刷版原版を高温条件下（６０℃）３日
間放置し、その後、高温条件下の保存原版を前記と同様
にしてレーザー露光し、記録に必要なエネルギー量を算
出し、高温条件下での保存前と保存後のエネルギー量の
差を調べた。この差が実質的に２０ｍＪ／ｃｍ²以下で
あることが、製造上好ましく、保存安定性が良好である
と評価される。これらの結果を前記表１及び表２に示し
た。

【０１４１】表１及び表２の結果より、本発明の硬化性
組成物を記録層として用いた平版印刷版原版は、感度が
高く、保存安定性にも優れることがわかった。一方、酸
発生剤と架橋剤とを別々に添加した比較例の平版印刷版
は、同じポリマーや低分子化合物を用いた実施例に比べ
て感度がやや劣り、保存安定性は実用上問題のあるレベ
ルであることがわかった。

【０１４２】

【発明の効果】本発明によれば、経時安定性が良好であ
り、且つ、高感度の、画像形成材料に有用な硬化性組成
物を得ることができた。

フロントページの続きＦターム(参考） 2H025 AB03 AC01 AC03 AC06 AC08 AD01 BC83 BC86 BD02 BD07 BD10 BD12 BD27 BD29 BE00 BE04 BE10 CA41 CB29 CB45 CC11 CC20 FA29 2H096 AA07 BA06 BA20 EA01 EA02 EA04 EA06 EA23 FA01 GA08 4J031 CA06 CA32 CA82 CA83 4J033 CA01 CA13 CA14 CA18 CA19 GA11 GA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）分子内に、エネルギー付与によ
り、酸を発生する基と架橋剤を発生する基とを有する化
合物と、（ｂ）分子内に、酸存在下で架橋剤と反応しう
る官能基を２個以上含有する化合物と、を有する硬化性
組成物。
【請求項２】前記酸存在下で架橋剤と反応しうる官能
基が、ヒドロキシル基、チオール基、複素環から選択さ
れる一種以上であることを特徴とする請求項１に記載の
硬化性組成物。
【請求項３】前記（ａ）分子内に、エネルギー付与に
より、酸を発生する基と架橋剤を発生する基とを有する
化合物が、下記一般式(I)乃至一般式(III)で表される構
造単位を有することを特徴とする請求項１に記載の硬化
性組成物。【化１】式中、Ｒ¹は、ＣＯＲ、ＳＯ₂Ｒ，ＰＯ₂Ｒ，ＰＯ₃Ｒ（こ
こで、Ｒは置換されていても良いアルキル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基を表す）を表す。
Ｒ²、Ｒ³は置換されていても良い、アルキル基、アリー
ル基、アルケニル基、アルキニル基又はシアノ基を表
す。Ｒ⁴は水素原子或いは置換されていても良いアルキ
ル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基を表
す。Ｘは芳香環又は環状化合物、Ｙは環状化合物を表
す。
【請求項４】さらに、（ｃ）赤外線吸収剤を含有する
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項
に記載の硬化性組成物。