JP2001106779A - 含フッ素オキセタン共重合体、その製造方法、その組成物、およびその硬化物 - Google Patents
含フッ素オキセタン共重合体、その製造方法、その組成物、およびその硬化物Info
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Abstract
適な、基材に対する密着性や樹脂の透明性に優れ、しか
も低屈折率等である含フッ素オキセタン共重合体、その
製造方法、その組成物、およびその硬化物をそれぞれ提
供する。 【解決手段】 下記一般式(1)で表わされるモノマー
単位を含むことを特徴とする含フッ素オキセタン共重合
体、その製造方法、その組成物、およびその硬化物であ
る。 【化1】 [一般式(1)中、置換基Rは、水素原子、フッ素原
子、アルキル基、フルオロアルキル基、アリル基、アリ
ール基、フリル基またはチエニル基であり、置換基Rf
は、式CnF2n-1、式CnF2nHまたは式CnF2n+1(そ
れぞれの式中のnは2〜12の整数である。)で表され
る一価の含フッ素基であり、繰り返し数mは、1〜10
の整数である。]
Description
のクラッド材料等として好適な含フッ素オキセタン共重
合体、その製造方法、その組成物、およびその硬化物に
関する。
伝送用ファイバのクラッド材料や、光学レンズ、フィル
ム、CRT用ガラスなどの光反射防止膜用材料や、ある
いは光ファイバ、光学レンズ等の光学接着剤の用途にフ
ッ素系ビニル化合物が好適に使用されている。また、フ
ッ素系ビニル化合物は、撥水性、撥油性を有することか
ら防汚コート材等の用途にも使用されている。
組成物が、特開昭64−14221号公報に開示されて
いる。このフッ素系組成物は、 フッ素系ビニルモノマー50〜99.7重量部および
グリシジル基を有するアクリレートモノマー0.3〜5
0重量部からなる含フッ素共重合体に、カルボキシル基
含有エチレン性不飽和モノマーを反応させて得られる化
合物10〜90重量部と、 粘度調整用アクリル系モノマー10〜90重量部と、 光重合開始剤0.05〜20重量部とを含んで構成さ
れている。
は、含フッ素重合体と、パーフルオロアルキル基あるい
は部分フッ素化脂肪族基を有する含フッ素アクリレート
モノマーと、その他のアクリル系モノマーとから構成さ
れた放射線硬化性樹脂組成物が開示されている。
64−14221号公報や、特開昭62−250047
号公報に開示されたフッ素系ビニルモノマーは、単独で
重合しても基材に対する密着性が低いという問題が見ら
れた。そのため、グリシジル基を有するアクリレートモ
ノマーを共重合したり、その他のアクリル系モノマーを
混合使用する必要があった。
開示された放射線硬化性樹脂組成物は、含フッ素重合体
と、含フッ素アクリレートモノマーとの相溶性が乏し
く、透明性に欠けたり、均一な厚さを有する塗膜を形成
することが困難であった。
は、特定の構造単位を導入した含フッ素オキセタン共重
合体を構成することにより、基材に対する密着性や樹脂
の透明性に優れ、しかも、低屈折率のフッ素系化合物が
得られることを見出した。すなわち、本発明の目的は、
例えば、光伝送用ファイバのクラッド材料等として好適
な、基材に対する密着性や樹脂の透明性に優れ、しかも
低屈折率である含フッ素オキセタン共重合体、その製造
方法、その組成物、およびその硬化物をそれぞれ提供す
ることである。
(1)で表わされるモノマー単位を含むことを特徴とす
る含フッ素オキセタン共重合体である。
子、フッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、ア
リル基、アリール基、フリル基またはチエニル基であ
り、置換基Rfは、式CnF2n-1、式CnF2nHまたは式
CnF2n+1(それぞれの式中のnは2〜12の整数であ
る。)で表される一価の含フッ素基であり、繰り返し数
mは、1〜10の整数である。]
合体を構成することにより、基材に対する密着性や、樹
脂の透明性に優れ、しかも低屈折率である含フッ素オキ
セタン共重合体が得られる。
するにあたり、一般式(1)で表わされるモノマー単位
以外、すなわち、一般式(1)で表わされるモノマー単
位を導入可能なモノマー以外に、反応性二重結合を有す
るモノマーを共重合成分として含み、反応性二重結合を
有するモノマーに由来したモノマー単位を含んで共重合
体を構成することが好ましい。特にこのようなモノマー
単位としては、下記一般式(2)および一般式(3)あ
るいはいずれか一方の一般式で表わされるモノマー単位
を挙げることができる。
ーを共重合体成分として含むことにより、共重合体に架
橋性を付与することができ、基材に対する密着性や機械
特性により優れた含フッ素オキセタン共重合体が得られ
る。
(4)で表わされる含フッ素オキセタン化合物と、エポ
キシ(メタ)アクリレート化合物およびオキセタン(メ
タ)アクリレート化合物、あるいはいずれか一方の(メ
タ)アクリレート化合物とを反応させてなる上述した含
フッ素オキセタン共重合体の製造方法である。
繰り返し数mは、一般式(1)と同様の内容である。]
製造することにより、反応性二重結合を有する構造単位
を容易に導入することができる。また、これらの反応さ
せる化合物は、それぞれ相溶性に優れているため、樹脂
の透明性に優れ、しかも低屈折率である含フッ素オキセ
タン共重合体が効率的に得られる。
ッ素オキセタン共重合体と、重合開始剤とを含んでなる
含フッ素オキセタン共重合体組成物、およびそれを硬化
してなる含フッ素オキセタン共重合体硬化物である。こ
のように構成すると、反応性に優れた含フッ素オキセタ
ン共重合体組成物が得られ、また、この組成物を硬化さ
せることにより、基材に対する密着性や樹脂の透明性に
優れ、しかも低屈折率である含フッ素オキセタン共重合
体硬化物が得られる。
ン共重合体に関する実施形態(第1の実施形態)、その
製造方法に関する実施形態(第2の実施形態)、およ
び、その組成物に関する実施形態(第3の実施形態)を
それぞれ具体的に説明する。
般式(1)で表されるモノマー単位を含む含フッ素オキ
セタン共重合体である。
することにより、基材に対する密着性や樹脂の透明性に
優れ、しかも低屈折率である含フッ素オキセタン共重合
体を得ることができる。
位の含有量については、含フッ素オキセタン共重合体の
用途等を考慮して定められるが、含フッ素オキセタン共
重合体全体に対して、5〜95mol%の範囲内の値と
するのが好ましい。この理由は、一般式(1)で表され
るモノマー単位の含有量が5mol%未満となると、屈
折率の値が大きくなる場合があるためであり、一方、9
5mol%を超えると、基材に対する密着性が低下した
り、透明性が低下する場合があるためである。したがっ
て、一般式(1)で表されるモノマー単位の含有量を、
全体量に対して、10〜90mol%の範囲内の値とす
るのがより好ましく、20〜80mol%の範囲内の値
とするのがさらに好ましい。なお、一般式(1)で表さ
れるモノマー単位は、含フッ素オキセタン共重合体にラ
ンダムに含まれていても良く、あるいはブロックとして
含まれていても良い。さらに、一般式(1)で表される
モノマー単位以外のモノマー単位としては、後述する反
応性二重結合を有するモノマーに由来した構造単位等が
挙げられる。
fは、式CnF2n-1、式CnF2nHまたは式CnF2n+1(そ
れぞれの式中のnは2〜12の整数である。)で表され
る一価の含フッ素基であるが、入手が容易なことから、
式CnF2n-1で表されるフッ素基がより好ましい。
フッ素含量を、この置換基Rf中のフッ素含量を調節す
る等により、20重量%以上の値とすることが好まし
く、25重量%以上の値とすることがより好ましい。こ
の理由は、かかるフッ素含量が20重量%未満となる
と、屈折率が大きくなり、クラッド材や反射防止膜とし
ての特性を発揮できない場合があるためである。なお、
含フッ素オキセタン共重合体中のフッ素含量は、アリザ
リンコンプレクソン法を用いて測定することができる。
フッ素含量の定量については、以下同様である。
水素原子、アルキル基、フッ素原子、フルオロアルキル
基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基
であるが、経済的に有利であることから、炭素数1〜5
のアルキル基、例えば、メチル基やエチル基であること
がより好ましい。
式(1)で表わされるモノマー単位以外に、反応性二重
結合を有するモノマーを共重合成分として含むことが好
ましい。このように反応性二重結合を有するモノマーを
含むことにより、含フッ素オキセタン共重合体に架橋性
を持たせることができる。したがって、この架橋性を利
用して、得られる硬化膜の機械特性をさらに向上させる
ことができる。このようなモノマーの種類としては、上
述した一般式(2)および一般式(3)で表わされるモ
ノマー単位、あるいはいずれか一方のモノマー単位を導
入可能なモノマーが好ましい。このようなモノマー単位
を含むことにより、前述の架橋反応の反応性をさらに向
上させることができ、例えば光硬化反応などが可能とな
る。
共重合量(含有量)については、含フッ素オキセタン共
重合体の用途等を考慮して定められるが、含フッ素オキ
セタン共重合体の全体量に対して、5〜95mol%の
範囲内の値とするのが好ましい。この理由は、かかるモ
ノマーの共重合量が5mol%未満となると、添加効果
が発現せず、反応性が向上しない場合があるためであ
り、一方、共重合量が95mol%を超えると保存安定
性が低下する場合があるためである。したがって、反応
性二重結合を有するモノマーの共重合量を、全体量に対
して、10〜90mol%の範囲内の値とするのがより
好ましく、20〜80mol%の範囲内の値とするのが
さらに好ましい。なお、反応性二重結合を有するモノマ
ーは、含フッ素オキセタン共重合体において、ランダム
に含まれていても良く、あるいはブロックとして含まれ
ていても良い。
例としては、上述した反応性二重結合を有するモノマー
以外に、エポキシ化合物、オキセタン化合物、オキソラ
ン化合物、環状アセタール化合物、環状ラクトン化合
物、チイラン化合物、チエタン化合物、スピロオルソエ
ステル化合物、エチレン性不飽和化合物、環状エーテル
化合物、環状チオエーテル化合物、ビニル化合物等の一
種単独、あるいはニ種以上の組み合わせが挙げられる。
り具体的に、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、
ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジ
グリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシ
ジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエ
ーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノール
Aジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリ
シジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエ
ーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−
スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジ
オキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4
−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポ
キシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、
3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,
4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキ
シレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキ
サン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレ
ングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメ
チル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロ
フタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ
−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリ
シジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジ
ルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレン
グリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多
価アルコールに1以上のアルキレンオキサイドを付加す
ることにより得られるポリエーテルポリオールのポリグ
リシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジ
ルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジル
エーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノー
ルまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得ら
れるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル
類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類;エポキシ化大
豆油;エポキシステアリン酸ブチル;エポキシステアリ
ン酸オクチル;エポキシ化アマニ油;エポキシ化ポリブ
タジエン等が挙げられる。
具体的に、トリメチレンオキシド、3,3−ジメチルオ
キセタン、3,3−ジクロロメチルオキセタン、3−エ
チル−3−フェノキシメチルオキセタン、ビス(3−エ
チル−3−メチルオキシ)ブタン等が挙げられる。ま
た、オキソラン化合物としては、より具体的に、テトラ
ヒドロフラン、2,3−ジメチルテトラヒドロフラン等
が挙げられる。また、環状アセタール化合物としては、
より具体的に、トリオキサン、1,3−ジオキソラン、
1,3,6−トリオキサンシクロオクタン等が挙げられ
る。
具体的に、β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン
等が挙げられる。また、チイラン化合物としては、より
具体的に、エチレンスルフィド、1,2−プロピレンス
ルフィド、チオエピクロロヒドリン等が挙げられる。ま
た、チエタン化合物としては、より具体的に、3,3−
ジメチルチエタン等が挙げられる。また、ビニルエーテ
ル化合物としては、より具体的に、エチレングリコール
ジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエ
ーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等
が挙げられる。
は、より具体的に、ビニルエーテル化合物、エポキシ化
合部とラクトンとの反応生成物等が挙げられる。また、
エチレン性不飽和化合物としては、より具体的に、ビニ
ルシクロヘキサン、イソブチレン、ポリブタジエン等が
挙げられる。また、ビニル化合物としては、より具体的
に、エチレン、プロピレン、イソブテンなどのα−オレ
フィン類;スチレン、α−メチルスチレン、o−メチル
スチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、
p−tert−ブチルスチレン、ジイソプロペニルベン
ゼン、o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−
クロロスチレン、1,1−ジフェニルエチレン、p−メ
トキシスチレン、N,N−ジメチル−p−アミノスチレ
ン、N,N−ジエチル−p−アミノスチレン、ビニルピ
リジン、ビニルイミダゾールなどのビニル芳香族化合物
等が挙げられる。
000〜200,000の範囲内の値とするのが好まし
い。この理由は、かかる重量平均分子量が1,000未
満となると、得られる含フッ素オキセタン共重合体の基
材に対する密着性や、耐熱性が低下する場合があるため
であり、一方、200,000を超えると、反応性が低
下したり、あるいは、他の化合物との相溶性に乏しくな
り、透明性が低下する場合があるためである。したがっ
て、含フッ素オキセタン共重合体の基材に対する密着性
等と、反応性等とのバランスがより良好となることか
ら、含フッ素オキセタン共重合体の重量平均分子量を、
1,500〜100,000の範囲内の値とするのがよ
り好ましく、2,000〜50,000の範囲内の値と
するのがさらに好ましい。なお、含フッ素オキセタン共
重合体の重量平均分子量は、GPCを用いて、ポリスチ
レン換算により算出することができる。
般式(1)で表されるモノマー単位を含む含フッ素オキ
セタン共重合体の製造方法である。具体的に、一般式
(4)で表わされる含フッ素オキセタン化合物と、反応
性二重結合を有するモノマー、例えば、エポキシ(メ
タ)アクリレート化合物およびオキセタン(メタ)アク
リレート化合物、あるいはいずれか一方のアクリレート
化合物とを反応してなる一般式(1)で表されるモノマ
ー単位を含む含フッ素オキセタン共重合体の製造方法で
ある。以下、反応成分等の内容について説明するが、一
般式(1)で表されるモノマー単位を有する含フッ素オ
キセタン共重合体そのものについては、第1の実施形態
で説明した内容と同様とすることができるため、ここで
の説明は省略するものとする。
オキセタン化合物 一般式(4)で表される含フッ素オキセタン化合物とし
ては、具体的に、3−エチル−3−[1−ペンタフルオ
ロエチル−2,2−ビス(トリフルオロメチル)エテニ
ルオキシメチル]オキセタン、3−メチル−3−[1−
ペンタフルオロエチル−2,2−ビス(トリフルオロメ
チル)エテニルオキシメチル]オキセタン、3−エチル
−3−[1,2−ジフルオロ−2−トリフルオロメチル
エテニルオキシメチル]オキセタン、3−メチル−3−
[1,2−ジフルオロ−2−トリフルオロメチルエテニ
ルオキシメチル]オキセタン、3−エチル−3−[1−
トリフルオロメチル−2,2−ビス(ヘプタフルオロイ
ソプロピル)エテニルオキシメチル]オキセタン、3−
メチル−3−[1−トリフルオロメチル−2,2−ビス
(ヘプタフルオロイソプロピル)エテニルオキシメチ
ル]オキセタン、3−エチル−3−[1,2,3−トリ
フルオロエテニルオキシメチル]オキセタン、3−メチ
ル−3−[1,2,3−トリフルオロエテニルオキシメ
チル]オキセタン、3−エチル−3−[2−フルオロ−
1,2−ビス(トリフルオロメチル)エテニルオキシメ
チル]オキセタン、3−メチル−3−[2−フルオロ−
1,2−ビス(トリフルオロメチル)エテニルオキシメ
チル]オキセタン、3−エチル−3−{[1−(1−ト
リフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル)
−1,2,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル]
オキシメチル}オキセタン、3−メチル−3−{[1−
(1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロ
エチル)−1,2,2,3,3,3−ヘキサフルオロプ
ロピル]オキシメチル}オキセタン、3−エチル−3−
[1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロピルオ
キシメチル]オキセタン、3−メチル−3−[1,1,
2,3,3,3−ヘキサフルオロプロピルオキシメチ
ル]オキセタン、3−エチル−3−[1,3,4,4,
4−ペンタフルオロ−1,3−ビス(トリフルオロメチ
ル)−2−(ヘプタフルオロイソプロピル)ブチルオキ
シメチル]オキセタン、3−エチル−3−[1,3,
4,4,4−ペンタフルオロ−1,3−ビス(トリフル
オロメチル)−2−(ヘプタフルオロイソプロピル)ブ
チルオキシメチル]オキセタン等の一種単独または二種
以上の組み合わせが挙げられる。
マー単位を共重合体に導入するには、共重合モノマーと
して、例えば、エポキシ(メタ)アクリレートや、オキ
セタン(メタ)アクリレート(それぞれ誘導体を含
む。)等を用いることが好ましい。以下、詳細に説明す
る。
式(5)〜(19)で表される化合物が挙げられる。な
お、各式中、R1、R4、およびR6は、それぞれ独立に
水素原子またはメチル基であり、R2、R5、R7、およ
びR8は、それぞれ独立に炭素数1〜10のニ価の脂肪
族飽和炭化水素基であり、R3は、炭素数1〜10の一
価の炭化水素基であり、繰り返し数Tは0〜10の整数
を表している。
うち、より良好なカチオン重合性を有することから脂環
式エポキシ化合物を用いることがより好ましい。
は、下記式(20)〜(23)で表される化合物が挙げ
られる。なお、各構造式中、R9およびR13は水素原子
またはメチル基であり、R10およびR12は炭素数1〜1
0のニ価の脂肪族飽和炭化水素基であり、R11は水素原
子、フッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、ア
リル基、アリール基、フリル基またはチエニル基を表
す。
ートや、オキセタン(メタ)アクリレートの中でも、下
記式(24)で表されるアクリル酸(2,3−エポキシ
シクロヘキシル)メチルや、アクリル酸(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)メチルエステル、下記式(25)
で表されるアクリル酸(3−エチル−3−オキセタニ
ル)メチルエステル等がより好ましい。
エポキシ(メタ)アクリレート化合物あるいはオキセタ
ン(メタ)アクリレート化合物等との反応割合を、モル
比で5:95〜95:5の範囲内の値とするのが好まし
い。この理由は、かかる反応割合がこれらの範囲外とな
ると、未反応成分が多く残留したり、あるいは得られる
含フッ素オキセタン共重合体の反応性や耐熱性を低下さ
せる、屈折率が高くなる場合があるためである。したが
って、かかる反応割合を、モル比で1:9〜9:1の範
囲内の値とするのがより好ましく、2:8〜8:2の範
囲内の値とするのがさらに好ましい。
エポキシ(メタ)アクリレート化合物あるいはオキセタ
ン(メタ)アクリレート化合物等との反応温度について
も特に制限されるものではないが、例えば、−20〜1
50℃の範囲内の値とすることが好ましい。この理由
は、かかる反応温度が−20℃未満となると、含フッ素
オキセタン化合物と、かかるアクリレート化合物との反
応性が著しく低下する場合があるためであり、一方、反
応温度が150℃を超えると、これらの反応を制御する
ことが困難となる場合があるためである。したがって、
反応性と反応制御のバランスがより良好となるため、こ
れらの反応温度を−10〜120℃の範囲内の値とする
ことがより好ましく、−5〜100℃の範囲内の値とす
ることがさらに好ましい。
物と、エポキシアクリレート化合物およびオキセタンア
クリレート化合物等とを反応させる際に、カチオン重合
開始剤を使用することも好ましい。このようなカチオン
重合開始剤としては、例えば、三フッ化ホウ素ジエチル
エーテル錯体、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、
四塩化チタン、四塩化錫、二塩化亜鉛などのハロゲン化
金属及びその錯体;トリエチルアルミニウム、ジエチル
亜鉛などのアルキル金属化合物;硫酸、硝酸、塩酸など
のプロトン酸;各種脂肪族スルホン酸とその塩、安息香
酸、フタル酸等の各種芳香族カルボン酸とその塩;アル
キルベンゼンスルホン酸とそのアンモニウム塩;リン酸
や有機酸のリン酸エステル;トリフェニルメチル五塩化
錫などのカルボニウムイオン塩;下記一般式(26)で
表されるスルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウ
ム塩等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げら
れる。
り、WはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、
I、Br、Clまたは−N≡Nであり、R14、R15、R
16およびR17は同一または異なる有機基であり、a、
b、cおよびdは各々0〜3の整数であって、(a+b
+c+d)はWの価数に等しい。Mはハロゲン化物錯体
[MXn+m]の中心原子を構成する金属またはメタロイド
であり、例えばB、P、As、Sb、Fe、Sn、B
i、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、
Mn、Coなどである。Xは、例えばF、Cl、Brな
どのハロゲン原子であり、mはハロゲン化物錯体イオン
の正味の電荷であり、nはMの原子価である。]
[MXn+m]の具体例としては、テトラフルオロボレート
(BF4 -)、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 -)、
ヘキサフルオロアンチモネート(SbF6 -)、ヘキサフ
ルオロアルセネート(AsF6 -)、ヘキサクロロアンチ
モネート(SbCl6 -)などが挙げられる。また、一般
式[MXn(OH)-]で表されるアニオンを有するオニウ
ム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオン
(ClO4 -)、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン
(CF3SO3 -)、フルオロスルフォン酸イオン(FS
O3 -)、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベン
ゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフ
ォン酸アニオンなどの他のアニオンを有するオニウム塩
を使用することもできる。なお、オニウム化合物を示す
一般式(26)においてR14、R15、およびR16で表さ
れる有機基は独立であり、例えば、 p−ヒドロキシフ
ェニル基、ベンジル基、p−メトキシカルボニルオキシ
フェニル基、3−クロロ−4−メトキシカルボニルオキ
シフェニル基、フェニル基、p−フェニルチオ−フェニ
ル基、p−メトキシフェニル基、p−トリル基 、メチ
ル基、エチル基、tert−ブチル基が挙げられる。
は、トリフェニルスルホニウム・ヘキサフロロアンチモ
ナート、トリス(p−トリル)スルホニウム・ヘキサフ
ロロアンチモナート、トリス(p−メトキシフェニル)
スルホニウム・ヘキサフロロアンチモナート、ジフェニ
ル−p−フェニルチオ−フェニルスルホニウム・ヘキサ
フロロアンチモナート、p−クロロベンジル−4−アセ
トキシフェニルエチルスルホニウム・ヘキサフロロアル
セネート、ベンジル−p−ヒドロキシフェニルメチルス
ルホニウム・ヘキサフロロアンチモナート、ベンジル−
p−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム・ヘキサフ
ロロホスフェート、p−ヒドロキシフェニルジメチルス
ルホニウム・ヘキサフロロアンチモナート、3−クロロ
−4−メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスル
ホニウム・ヘキサフロロアンチモナート、ビス[4−
(ジフェニルスルフォニオ)−フェニル]スルフィド・
ビス−ヘキサフロロホスフェート、ビス[4−{ジ(4
−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルフォニオ}
−フェニル]スルフィド・ビス−ヘキサフロロアンチモ
ネート等が挙げられる。
しては、例えば、サンエイドSI−60(L)、SI−
80(L)、SI−100(L)、SI−L145、S
I−L150、SI−L160(以上、三新化学工業株
式会社製)、UVI−6950、UVI−6970、U
VI−6974、UVI−6990(以上、ユニオンカ
ーバイド社製)、アデカオプトマーSP−150、SP
−151、SP−170、SP−171(以上、旭電化
工業株式会社製)、CI−2481、CI−2624、
CI−2639、CI−2064(以上、日本曹達株式
会社製)、CD−1010、CD−1011(以上、サ
ートマー社製)、DTS−102、DTS−103、N
AT−103、NDS−103、TPS−102、TP
S−103、MDS−103(以上、みどり化学株式会
社製)等を挙げることができる。
は、ジフェニルヨードニウム・ヘキサフロロアンチモナ
ート、フェニル−p−メトキシフェニルヨードニウム・
ヘキサフロロアンチモナート、ビス(p−tert−ブ
チルフェニル)ヨードニウム・ヘキサフロロアンチモナ
ート、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニ
ウム・ヘキサフロロホスフェート、フェニル−p−2−
ヒドロキシテトラデシロキシフェニルヨードニウム・テ
トラフロロアンチモナート、ビス(p−ドデシルフェニ
ル)ヨードニウム・ヘキサフロロアンチモナート、フェ
ニル−p−ビフェニルヨードニウム・テトラフロロアン
チモナート等が挙げられる。このようなヨードニウム化
合物の市販品としては、例えば、CD−1012(サー
トマー社製)、MPI−103、BBI−102、BB
I−103(以上、みどり化学株式会社製)等を挙げる
ことができる。
に好適に用いられるものは、三フッ化ホウ素ジエチルエ
ーテル錯体、サンエイドSI−60(L)、SI−80
(L)、SI−100(L)、SI−L145である。
ても特に制限されるものではないが、例えば、含フッ素
オキセタン化合物を100重量部としたときに、0.0
1〜120重量部の範囲内の値とするのが好ましい。こ
の理由は、カチオン重合開始剤の添加量が0.01重量
部未満となると、含フッ素オキセタン化合物と有機酸と
の反応性が著しく低下し、三反応モノマーが残留する場
合があるためである。一方、カチオン重合開始剤の添加
量が120重量部を超えると、得られる共重合体の熱安
定性や機械的強度が低下するや反応終了後の精製操作が
困難となる場合があるためである。したがって、かかる
カチオン重合開始剤の添加量を0.1〜70重量部の範
囲内の値とするのがより好ましく、0.5〜50重量部
の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
般式(1)で表される構造単位を含む含フッ素オキセタ
ン共重合体と、重合開始剤とを含有する含フッ素オキセ
タン共重合体組成物である。このように重合開始剤、例
えば放射線重合開始剤(熱重合開始剤を含む。)を添加
することにより、硬化性樹脂組成物からなる塗膜を基材
に形成した後、活性エネルギー線、例えば紫外線を照射
することにより、あるいは加熱することにより、短時間
で硬化物を得ることができる。以下、重合開始剤の内容
について中心に説明するが、一般式(1)で表される構
造単位を含む含フッ素オキセタン共重合体については、
第1の実施形態で説明した内容と同様とすることができ
るため、ここでの説明は省略するものとする。
えば熱重合開始剤やラジカル重合開始剤を含むことによ
り、硬化性樹脂組成物からなる塗膜を基材に形成した
後、加熱することにより、短時間で硬化物を得ることが
できる。このような重合開始剤としては、ジアシルパー
オキサイド類、ケトンパーオキサイド類、ハイドロパー
オキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、パーオキ
シエステル類、アゾ系化合物、過硫酸塩、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、2,2’−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオ
レン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノ
ン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルア
セトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−
ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾ
フェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタ
ール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ
−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオ
キサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピ
ルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メ
チル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モル
フォリノプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2−ベ
ンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノ
フェニル)ブタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロ
キシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メ
チルプロパン−1−オン等の一種単独または二種以上の
組み合わせが挙げられる。なお、必要に応じて亜硫酸水
素ナトリウム、ピロ亜硫酸ナトリウムなどの無機還元
剤、ナフテン酸コバルト、ジメチルアニリンなどの有機
還元剤を併用することも好ましい。このように組み合わ
せてレドックス触媒として使用することにより、含フッ
素オキセタン重合体をさらに迅速にラジカル重合するこ
とができる。
剤を利用することも好ましい。活性エネルギー線、例え
ば紫外線を照射することにより、さらに短時間で硬化物
を得ることができるためである。すなわち、放射線重合
開始剤として、活性エネルギー線を受けることによって
含フッ素オキセタン共重合体の重合反応を促進させる化
合物を添加することが好ましい。
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2’
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサント
ン、フルオレン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、ア
ントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3
−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、
4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジア
ミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロ
ピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジ
メチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−
2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−
オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−
イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサント
ン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2,4,6−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイ
ド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モ
ルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、1−[4−
(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロ
キシ−2−メチルプロパン−1−オン等の一種単独また
は二種以上の組み合わせを挙げることができる。これら
の放射線重合開始剤のうち、2,4,6−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、および1
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンがより好ま
しい。
るものではないが、例えば、含フッ素オキセタン共重合
体を100重量部としたときに、0.1〜20重量部の
範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、重合開
始剤の使用量が0.1重量部未満となると、含フッ素オ
キセタン共重合体の架橋反応速度が遅くなったり、ある
いは周囲に存在する酸素等の影響を受けやすくなる場合
があるためである。一方、重合開始剤の使用量が20重
量部を超えると、得られる硬化膜の機械的強度や耐熱性
が低下する場合があるためである。したがって、含フッ
素オキセタン共重合体の反応速度や硬化膜の特性等との
バランスがより良好となることから、重合開始剤の使用
量を0.5〜10重量部の範囲内の値とすることがより
好ましい。
ッ素オキセタン共重合体以外に、ラジカル重合性モノマ
ーを含有することが好ましい。このようにラジカル重合
性モノマーをさらに含有することにより、組成物の粘
度、得られる硬化物のフッ素含量、あるいはヤング率や
硬度などの機械的特性を広範囲に調整することができ
る。
ロピレン、イソブテンなどのα−オレフィン類;スチレ
ン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、p−tert−ブ
チルスチレン、ジイソプロペニルベンゼン、o−クロロ
スチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、
1,1−ジフェニルエチレン、p−メトキシスチレン、
N,N−ジメチル−p−アミノスチレン、N,N−ジエ
チル−p−アミノスチレン、ビニルピリジン、ビニルイ
ミダゾールなどのビニル芳香族化合物;(メタ)アクリ
ル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸
などのカルボキシル基含有化合物;メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)
アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレー
ト、ペンチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)ア
クリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシ
ル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレー
ト、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)
アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウン
デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリ
レート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル
(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリ
レートなどのアルキル(メタ)アクリレート類;トリフ
ルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロ
ピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロイソプロピル
(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)
アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリ
レートなどのフルオロアルキル(メタ)アクリレート類;
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレート類;フェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)
アクリレートなどのフェノキシアルキル(メタ)アクリ
レート類;メトキシエチル(メタ)アクリレート、エト
キシエチル(メタ)アクリレート、プロポキシエチル
(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリ
レート、メトキシブチル(メタ)アクリレートなどのア
ルコキシアルキル(メタ)アクリレート類;ポリエチレ
ングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシジエ
チレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリ
エチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシ
ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニル
フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
トなどのポリエチレングリコール(メタ)アクリレート
類;ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリ
レート、エトキシポリプロピレングリコール(メタ)ア
クリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコー
ル(メタ)アクリレートなどのポリプロピレングリコー
ル(メタ)アクリレート類;シクロヘキシル(メタ)ア
クリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジ
シクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペン
タジエニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)ア
クリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリ
シクロデカニル(メタ)アクリレートなどのシクロアル
キル(メタ)アクリレート類;エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールジ
(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アク
リレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチ
ル(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドキシエチ
ル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の分
子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を含有する多
官能(メタ)アクリレート類;ベンジル(メタ)アクリ
レート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート
等の一種単独または二種以上の組み合わせが挙げられ
る。
率)としては、含フッ素オキセタン共重合体を100重
量部としたときに、1〜1,000重量部の範囲内の値
とするのが好ましく、3〜500重量部の範囲内の値と
するのがより好ましい。この理由は、ラジカル重合性モ
ノマーの配合量が1重量部よりも小さくなると、添加効
果が得られない場合があるためであり、一方、かかる配
合量が1,000重量部よりも大きくなると、得られる
共重合体の透明性や機械的強度が低下する場合があるた
めである。
重合開始剤と、あるいは任意でラジカル重合性モノマー
を添加して、室温または加熱条件下で混合することによ
り調製することができる。具体的には、ミキサ、ニーダ
ー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて、容易
に調製することができる。ただし、加熱条件下で混合す
る場合には、重合開始剤の分解開始温度以下で行うこと
が好ましい。
体の種類や使用割合を変更したり、あるいは粘度調整剤
(共重合性モノマーや有機溶媒を含む。)の添加によ
り、好ましい範囲内の値、例えば1〜100,000m
Pa・s(測定温度25℃)の範囲内の値に調整するこ
とができる。このような粘度調整剤、特に有機溶媒とし
て、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸
イソブチル、酢酸セロソルブなどのエステル類;アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのケトン類;テトラヒドロフラン、
ジオキサンなどの環状エーテル類;N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素を挙げることがで
きる。
ものではないが、放射線を用いた場合、露光量を10〜
10,000mJ/cm2の範囲内の値とするのが好ま
しい。この理由は、露光量が10mJ/cm2未満とな
ると、硬化不良が生じる場合があるためであり、一方、
露光量が10,000mJ/cm2を超えると、硬化時
間が過度に長くなる場合があるためである。したがっ
て、放射線を用いた場合、露光量を100〜5,000
mJ/cm2の範囲内の値とするのがより好ましく、3
00〜1,000mJ/cm2の範囲内の値とするのが
さらに好ましい。
場合、加熱温度を50〜200℃の範囲内の値とするの
が好ましい。この理由は、加熱温度が50℃未満となる
と、硬化不良が生じる場合があるためであり、一方、加
熱温度が200℃を超えると、硬化物の透明性が低下す
る場合があるためである。したがって、加熱硬化させる
場合、加熱温度を70〜180℃の範囲内の値とするの
がより好ましく、90〜150℃の範囲内の値とするの
がさらに好ましい。
本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるもので
はない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載の
ない限り重量部を意味している。
コ内を窒素パージし、フッ素系溶剤であるアサヒクリン
AK225(旭硝子(株)製)1,330gと、カチオ
ン重合開始剤として、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル
錯体14.2gとを収容した後、均一に攪拌した。次い
で、セパラブルフラスコ内の温度を、オイルバスを用い
て60℃に加熱し、3−エチル−3−[1−ペンタフル
オロエチル−2,2−ビス(トリフルオロメチル)エテ
ニルオキシメチル]オキセタン396gと、アクリル酸
シクロヘキセンオキシドメチル(サイクロマーA−20
0、ダイセル化学工業(株)製)182gと、アサヒク
リンAK225 665gとからなる混合液を、滴下漏
斗を用いてセパラブルフラスコ内に徐々に滴下した。滴
下終了後、セパラブルフラスコ内の温度を60℃に保持
したまま、1時間攪拌しながら反応させて、反応液とし
た。得られた反応液を室温まで冷却した後、さらに、こ
の反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(500m
L)を加えて激しく振とうし、水層と有機層とに分離さ
せた。その後、有機層のみを採取し、硫酸マグネシウム
(40g、0.34モル)を用いて乾燥し、次いで、減
圧下、アサヒクリンAK225を留去して、含フッ素オ
キセタン共重合体である淡黄色の粘調体を得た。この含
フッ素オキセタン共重合体の収率は、97%であった。
下に示すように1H−NMR測定、19F−NMR測定、
および赤外吸収スペクトル測定を行い、下記式(27)
で表わされる反応式にしたがって、含フッ素オキセタン
共重合体が得られたことを確認した。また、GPC測定
を行い、ポリスチレン換算の重量平均分子量が、35,
600であることを確認した。
用いて、溶媒CDCl 3の条件で測定した。得られた含
フッ素オキセタン共重合体についての1H−NMRチャ
ートを図1に、19F−NMRチャートを図2に、それぞ
れ示す。
チャート上に、以下のピークが観察された。 δ=0.85(3H、m、CH2CH 3) δ=1.2−2.3(9H、m、CH 2CH3,CHCH
2,CH2CHCH2) δ=3.1−4.3(8H、m、OCH 2,OCH) δ=5.82(1H、m、CH=CH2) δ=6.12(1H、m、CH=CH 2) δ=6.42(1H、m、CH=CH 2)
NMRチャート上に、以下のピークが観察された。 δ=−114.2(2F、m、CF 2) δ=−80.7(3F、m、CF2CF 3) δ=−62.4(3F、m、CCF 3) δ=−61.8(3F、m、CCF 3(微量成分)) δ=−59.4(3F、m、CCF 3(微量成分)) δ=−59.4(3F、m、CCF 3) δ=−56.4(3F、m、CCF 3)
重合体のモノマー成分として用いた3−エチル−3−
[1−ペンタフルオロエチル−2,2−ビス(トリフル
オロメチル)エテニルオキシメチル]オキセタンについ
ての1H−NMRチャートおよび19F−NMRチャート
を、それぞれ図3および図4に、アクリル酸シクロヘキ
センオキシドメチルについての1H−NMRチャートを
図5に示す。
JIR−5500)を用いて、室温(25℃)、解像度
4cm-1、ゲイン1倍、スキャン回数10回、スキャン
速度TGSの条件で測定した。得られた含フッ素オキセ
タン共重合体についての赤外吸収スペクトルを図6に示
す。
クトルチャート上に、以下の特徴的なピークが観察され
た。 O−H帰属 3518cm-1(br) C−H帰属 2939,2889cm-1 C=O,C=C帰属 1722,1670,1632cm-1 C−F帰属 1000−1300cm-1
エチル−3−[1−ペンタフルオロエチル−2,2−ビ
ス(トリフルオロメチル)エテニルオキシメチル]オキ
セタンについての赤外吸収スペクトルチャートを図7
に、アクリル酸シクロヘキセンオキシドメチルについて
の赤外吸収スペクトルチャートを図8にそれぞれ示す。
%となるようにTHF(テトラヒドロフラン)に溶解さ
せた。次いで、GPC装置HLC−8020(東ソー
(株)製)を用いて、GPCカラムからの溶出時間を屈
折率計(RI)で検知した。測定された溶出時間から、
ポリスチレン換算分子量として、重量平均分子量が3
5,600であると算出した。得られた含フッ素オキセ
タン共重合体のGPCチャートを図9に示す。
クリル酸シクロヘキセンオキシドメチルの代りに、実施
例2では、アクリル酸(3−エチル−3−オキセタニ
ル)メチルエステルを用い、実施例3では、アクリル酸
シクロヘキセンオキシドメチルと、アクリル酸(3−エ
チル−3−オキセタニル)メチルエステルとの混合物
(混合モル比1:1)を用いたほかは、実施例1と同様
に含フッ素オキセタン共重合体を共重合し、得られた含
フッ素オキセタン共重合体につき、NMR測定や赤外吸
収スペクトル測定を行った。
で表わされる反応式にしたがって、実施例3では、下記
式(29)で表わされる反応式にしたがって、それぞれ
含フッ素オキセタン共重合体が得られたことを確認し
た。また、それぞれ得られた含フッ素オキセタン共重合
体につき、GPC測定を行い、重量平均分子量が、実施
例2では、8,600であり、実施例3では、13,5
00であることを確認した。なお、実施例2および3で
得られた含フッ素オキセタン共重合体のGPCチャート
をそれぞれ、図10および11に示す。
オキセタン共重合体98gに対して、反応性希釈剤とし
て、ネオペンチルグリコールジアクリレート2.0g
と、ラジカル重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シク
ロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティケ
ミカルズ(株)製、イルガキュア184)2.0gとを
それぞれ添加後、室温で、2時間の条件で攪拌し、均一
に溶解させて硬化性樹脂組成物を得た。得られた硬化性
樹脂組成物につき、粘度、放射線硬化性を評価し、さら
に光硬化して得られた硬化膜につき、屈折率、透明性、
および引張弾性率(ヤング率)、破断強度、破断伸びの
測定をそれぞれ行った。得られた結果を表1に示す。ま
た、(株)東京計器製、E形粘度計(VISCONIC ED型)
を用いて試料温度25℃で粘度を測定した。
バーコータにて塗工し、膜厚200μmの塗膜を得た。
次いで、窒素中、温度25℃の条件で、それぞれ露光量
が300mJ/cm2(照射時間3秒)、および600
mJ/cm2(照射時間6秒)となるように、オーク製
作所(株)製のコンベア式高圧水銀ランプ(2kw)を
用いて紫外線を照射し、硬化膜を形成した。得られた硬
化膜につき、指触で表面タックを測定し、以下の基準で
放射線硬化性を評価した。得られた結果を表1に示す。 ◎:300mJ/cm2露光後に、硬化膜の表面タック
がない。 ○:600mJ/cm2露光後に、硬化膜の表面タック
がない。 ×:600mJ/cm2露光後に、硬化膜の表面タック
がある。
硬化性樹脂組成物を硬化後の厚さが約200μmとなる
ように塗布した後、窒素中、露光量1.0J/cm2の
紫外線を照射して硬化膜を得た。次いで、ガラス板から
硬化膜を剥離し、さらに、温度23℃、相対湿度50%
の状態で24時間保管して試験片とした。
屈折計を用いて、25℃における試験片の屈折率を測定
した。なお、屈折率として、1.50以下の値が得られ
れば、単独重合あるいは共重合することにより光伝送用
ファイバのクラッド材等の用途に好適に使用することが
できる。
より評価した。 ○:試験片の全体が透明である。 ×:試験片の一部または全体が白濁している。
用いて、試験片の引張弾性率を下記測定条件にて測定し
た。 引張速度 :1mm/分 標線間距離(測定距離):25mm 測定温度 :23℃ 相対湿度 :50%RH また、破断強度と破断伸びについては、引張速度を1m
m/分から50mm/分に変更した他は、引張弾性率の
測定と同様の条件で測定した。それぞれ得られた結果を
表1に示す。なお、引張弾性率として15Kg/mm2
以上の値、破断強度として0.5Kg/mm2以上の
値、破断伸びとして5%以上の値が得られれば、十分な
機械的特性を有するものとして、光伝送用ファイバのク
ラッド材等の用途に好適に使用することができる。
合体(オリゴマーを含む。)によれば、優れた透明性、
撥水性、撥油性、耐熱性、機械的特性あるいは低屈折率
等の特性をバランス良く発揮することが可能となった。
したがって、光伝送用ファイバのクラッド材料等に好適
に使用されることが期待される。
共重合体の製造方法によれば、優れた透明性、撥水性、
撥油性、耐熱性、機械的特性あるいは低屈折率等の特性
を有する含フッ素オキセタン化合物共重合体を効率的に
提供することが可能となった。また、本発明の樹脂硬化
性組成物およびその硬化物によれば、光伝送用ファイバ
のクラッド材料等として、優れた透明性、撥水性、撥油
性、耐熱性、機械的特性あるいは低屈折率等の特性をバ
ランス良く発揮することが可能となった。
体の1H−NMRスペクトルを示す図である。
体の19F−NMRスペクトルを示す図である。
−2,2−ビス(トリフルオロメチル)エテニルオキシ
メチル]オキセタンについての1H−NMRスペクトル
を示す図である。
−2,2−ビス(トリフルオロメチル)エテニルオキシ
メチル]オキセタンについての19F−NMRスペクトル
を示す図である。
いての1H−NMRスペクトルを示す図である。
体の赤外吸収スペクトルを示す図である。
−2,2−ビス(トリフルオロメチル)エテニルオキシ
メチル]オキセタンについての赤外吸収スペクトルを示
す図である。
いての赤外吸収スペクトルを示す図である。
体のGPCチャートを示す図である。
合体のGPCチャートを示す図である。
合体のGPCチャートを示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で表わされるモノマー
単位を含むことを特徴とする含フッ素オキセタン共重合
体。 【化1】 [一般式(1)中、置換基Rは、水素原子、フッ素原
子、アルキル基、フルオロアルキル基、アリル基、アリ
ール基、フリル基またはチエニル基であり、置換基Rf
は、式CnF2n-1、式CnF2nHまたは式CnF2n+1(そ
れぞれの式中のnは2〜12の整数である。)で表され
る一価の含フッ素基であり、繰り返し数mは、1〜10
の整数である。] - 【請求項2】 前記一般式(1)で表わされるモノマー
単位以外に、反応性二重結合を有するモノマーを共重合
してなる請求項1に記載の含フッ素オキセタン共重合
体。 - 【請求項3】 前記反応性二重結合を有するモノマーに
より、下記一般式(2)および一般式(3)で表わされ
るモノマー単位、あるいはいずれか一方のモノマー単位
を導入してなる求項2に記載の含フッ素オキセタン共重
合体。 【化2】 【化3】 - 【請求項4】 下記一般式(4)で表わされる含フッ素
オキセタン化合物と、エポキシ(メタ)アクリレート化
合物およびオキセタン(メタ)アクリレート化合物、あ
るいはいずれか一方の(メタ)アクリレート化合物とを
反応してなる請求項1に記載の含フッ素オキセタン共重
合体の製造方法。 【化4】 [一般式(4)中、置換基R、Rfおよび繰り返し数m
は、一般式(1)と同様の内容である。] - 【請求項5】 請求項1〜3のいずれか一項に記載の含
フッ素オキセタン共重合体と、重合開始剤とを含んでな
る含フッ素オキセタン共重合体組成物。 - 【請求項6】 請求項5記載の含フッ素オキセタン共重
合体組成物を硬化してなる含フッ素オキセタン共重合体
硬化物。
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-
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