JP2001101643A

JP2001101643A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2001101643A
Application number: JP28211699A
Authority: JP
Inventors: Kenji Shimizu; 謙治清水; Akira Ito; 彰伊藤; Hiroshi Sakai; 浩志酒井
Original assignee: Showa Denko KK
Current assignee: Resonac Holdings Corp
Priority date: 1999-10-01
Filing date: 1999-10-01
Publication date: 2001-04-13
Anticipated expiration: 2019-10-01
Also published as: JP4233710B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ノイズ特性、熱揺らぎ耐性に優れた磁気記録
媒体を提供する。【解決手段】基板１上に、第１下地膜２、第１垂直磁
性膜３、第２下地膜４、非磁性中間膜５、第２垂直磁性
膜６、保護膜７が形成され、第１垂直磁性膜３の磁気異
方性エネルギーが、第２垂直磁性膜６の磁気異方性エネ
ルギーよりも高く設定されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
などに用いられる磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体としては、磁性膜内の磁化
容易軸が主に基板に対し水平に配向した面内磁気記録媒
体が広く用いられているが、面内磁気記録媒体では、高
記録密度化するとビット体積が小さくなりすぎ、再生特
性が悪化する問題がある。これに対し、磁性膜内の磁化
容易軸が主に基板に対し垂直に配向した、いわゆる垂直
磁気記録媒体は、再生特性を悪化させることなく高記録
密度化が可能であることから近年大きな注目を集めてお
り、垂直磁気記録に適した磁気記録媒体の構造などが提
案されている。例えば、特開昭５８−７７０２５号公
報、特開昭５８−１４１４３５号公報には、Ｃｏ合金材
料からなる垂直磁性膜の下地層の材料としてＴｉを用い
ることが開示されている。また特開平８−１８０３６０
号公報には、上記下地層の材料として、ＣｏとＲｕから
なる合金を用いることが開示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年では、磁気記録媒
体の更なる高記録密度化が要望されており、これに伴い
ノイズ特性の向上が要求されているが、従来の磁気記録
媒体は、ノイズ特性の点で決して満足できるものでな
く、よりノイズ特性に優れた磁気記録媒体が要望されて
いた。また従来の磁気記録媒体では、特に高記録密度化
した場合に、熱揺らぎ現象が問題となることがあった。
熱揺らぎ現象とは、記録ビットが不安定となり記録した
データの熱消失が起こる現象をいい、この現象が起こっ
た場合には、磁気記録装置において記録したデータの再
生出力が経時的に減衰することがある。本発明は、上記
事情に鑑みてなされたもので、ノイズ特性に優れ、かつ
熱揺らぎ現象が起こりにくい磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体
は、基板上に第１垂直磁性膜が設けられ、その上に第２
垂直磁性膜が設けられ、第１垂直磁性膜の磁気異方性エ
ネルギーが、第２垂直磁性膜の磁気異方性エネルギーよ
りも高く設定されていることを特徴とする。第１垂直磁
性膜は、５×１０⁶ｅｒｇ／ｃｃ以上の磁気異方性エネ
ルギーを有するものとするのが好ましい。第１垂直磁性
膜の残留磁化／飽和磁化は０．９以上とするのが好まし
い。第１垂直磁性膜は、Ｃｏ系材料からなる層と、Ｐｔ
系材料またはＰｄ系材料からなる層とを多数回にわたっ
て積層した多層構造膜、または希土類元素を含む非晶質
構造膜とすることができる。第１垂直磁性膜の厚さは１
〜１００Åとするのが好ましい。第２垂直磁性膜は、Ｃ
ｏＣｒＰｔ系、ＣｏＣｒＴａ系、ＣｏＣｒＰｔＸ系
（Ｘ：Ｔａ、Ｚｒ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、お
よびＢのうち１種または２種以上）のうちいずれかの合
金からなるものとするのが好ましい。本発明の磁気記録
媒体では、第２垂直磁性膜の下に、ｈｃｐ構造を有する
非磁性中間膜が設けられた構造を採用することができ
る。

【０００５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の磁気記録媒体の
一実施形態を示すもので、ここに示す磁気記録媒体は、
基板１上に、第１下地膜２、第１垂直磁性膜３、第２下
地膜４、非磁性中間膜５、第２垂直磁性膜６、および保
護膜７を順次形成してなるものである。

【０００６】基板１としては、磁気記録媒体用基板とし
て一般に用いられるＮｉＰメッキ膜が形成されたアルミ
ニウム合金基板、ガラス基板、セラミック基板、カーボ
ン基板、可撓性樹脂基板、またはこれらの基板にＮｉＰ
膜をメッキ法やスパッタ法により形成した基板などを用
いることができる。

【０００７】第１下地膜２は、第１垂直磁性膜３の垂直
磁気異方性を向上させるためのもので、その材料として
は、ＳｉＮ、Ｐｔ、Ｃ、Ｃｕ、Ｐｄ等を用いることがで
きる。第１下地膜２の厚さは、１０００Å以下とする
ことができる。なお、本発明では第１下地膜を設けない
構成も可能である。

【０００８】第１垂直磁性膜３は、磁化容易軸が基板に
対し主に垂直方向に配向した磁性材料からなる膜であ
る。第１垂直磁性膜３としては、Ｃｏ系材料からなる層
と、Ｐｔ系材料またはＰｄ系材料からなる層とを多数回
にわたって積層した多層構造膜を用いることができる。
Ｃｏ系材料としては、Ｃｏ、ＣｏＣｒ系合金、ＣｏＣｒ
Ｐｔ系合金、ＣｏＣｒＴａ系合金、ＣｏＣｒＰｔＸ’系
（Ｘ’：Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｉ、および
Ｂのうち１種または２種以上）合金を用いることができ
る。Ｐｔ系材料としてはＰｔ、Ｐｔ合金を用いることが
できる。Ｐｄ系材料としてはＰｄ、Ｐｄ合金を用いるこ
とができる。また第１垂直磁性膜３としては、希土類元
素を含む非晶質構造膜、例えばＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＣ
ｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏなどからなる非晶質膜を用いるこ
ともできる。

【０００９】第１垂直磁性膜３の残留磁化／飽和磁化
（以下、Ｍｒ／Ｍｓという）は０．９以上とするのが好
ましい。Ｍｒ／Ｍｓを上記範囲とすることによって、ヒ
ステリシスループにおいて残留磁化付近での傾きが小さ
くなり、消磁が起こりにくくなる。

【００１０】第１垂直磁性膜３の厚さは、１〜１００Å
とするのが好ましい。この厚さが上記範囲未満である
と、十分な磁束が得られず、再生出力が低下し、ＳＮＲ
などのノイズ特性が低下する。またこの厚さが上記範囲
を越えると、第１垂直磁性膜３内の交換結合により媒体
ノイズが増大する。

【００１１】本実施形態の磁気記録媒体において、第１
垂直磁性膜３は、第２垂直磁性膜６よりも磁気異方性エ
ネルギーが高く設定された高磁気異方性膜である。第１
垂直磁性膜３の磁気異方性エネルギーは、５×１０⁶ｅ
ｒｇ／ｃｃ以上（好ましくは１×１０⁷ｅｒｇ／ｃｃ以
上）とするのが望ましい。この磁気異方性エネルギーが
上記範囲未満であると、第２垂直磁性膜６表面に磁気揺
らぎが起こりやすくなりノイズ増加を招くとともに、保
磁力（Ｈｃ）、磁気異方性磁界（Ｈｋ）が低くなり熱揺
らぎ耐性が低下する。

【００１２】第２下地膜４は、非磁性中間膜５、第２垂
直磁性膜６の結晶配向性を高め、第２垂直磁性膜６内の
垂直磁気異方性を高めるためのもので、ｈｃｐ構造をな
す材料を用いるのが好ましい。第２下地膜４の構成材料
としては、Ｒｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃ、Ｒｅ、Ｙ、Ｇｄ、お
よびＴｂのうち１種または２種以上を主成分とする材料
を挙げることができる。この材料としては、Ｒｕ、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｃ、Ｒｅ、Ｙ、Ｇｄ、およびＴｂのうちいず
れかを単体として用いることもできるし、隣接する膜
（第１垂直磁性膜３、第２下地膜４）に対する格子の整
合性を考慮してこれら材料にＣｒ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ等
を添加した合金を用いることもできる。

【００１３】第２下地膜４の厚さは、１０００Å以下と
するのが好ましい。この厚さが上記範囲を越えると、第
２下地膜４内で結晶粒子の粗大化が起こり、非磁性中間
膜５、第２垂直磁性膜６における結晶粒子粗大化を招
き、ノイズ特性が低下する。なお、本発明では第２下地
膜を設けない構成も可能である。

【００１４】非磁性中間膜５は、直上に形成される第２
垂直磁性膜６の結晶配向性を高め、第２垂直磁性膜６内
の垂直磁気異方性を高めるためのもので、ｈｃｐ構造を
有する非磁性材料からなるものを用いるのが好ましい。
非磁性中間膜５の材料としては、ＣｏＣｒ系、ＣｏＣｒ
Ｐｔ系、ＣｏＣｒＴａ系、ＣｏＣｒＰｔＸ’系（Ｘ’：
Ｔａ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｉ、およびＢのうち
１種または２種以上）のうちいずれかの合金を用いるの
が好適である。特に、Ｃｒの含有率が２５〜５０ａｔ
％、Ｐｔの含有率が０〜１５ａｔ％、Ｘ’の含有率が０
〜１０ａｔ％、残部がＣｏからなるＣｏ合金を主成分と
するものを用いるのが好ましい。非磁性中間膜５は、単
層構造をなすものとしてもよいし、多層構造をなすもの
としてもよい。多層構造とする場合には、上記材料から
選ばれた互いに同一または異なる複数の材料からなる層
を積層したものとすることができる。

【００１５】非磁性中間膜５の厚さは、５００Å以下と
するのが好ましい。この厚さが５００Åを越えると、非
磁性中間膜５内において結晶粒子の粗大化が起きやすく
なり、第２垂直磁性膜６内の磁性粒子粗大化によるノイ
ズ特性の低下が起こりやすくなる。非磁性中間膜５の厚
さは５０〜２００Åとするのがより好ましい。非磁性中
間膜５を多層にする場合においても、その厚さは、全体
で５００Å以下、好ましくは５０〜２００Åとするのが
望ましい。なお、本発明では非磁性中間膜を設けない構
成も可能である。

【００１６】第２垂直磁性膜６は、磁化容易軸が基板に
対し主に垂直方向に配向した磁性材料からなる膜であ
り、その材料としては、ＣｏＣｒＰｔ系、ＣｏＣｒＴａ
系、ＣｏＣｒＰｔＸ系（Ｘ：Ｔａ、Ｚｒ、Ｃｕ、Ｒｅ、
Ｎｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、およびＢのうち１種または２種以
上）のうちいずれかの合金を用いるのが好ましい。特
に、Ｃｒの含有率が１３〜２５ａｔ％、Ｐｔの含有率が
０〜１５ａｔ％、Ｘの含有率が０〜５ａｔ％、残部がＣ
ｏからなるＣｏ合金を用いるのが好ましい。上記各成分
の含有率が上記範囲を外れると、ノイズ特性または再生
出力が低下するため好ましくない。

【００１７】第２垂直磁性膜６の厚さは、１００〜１０
００Åとするのが好ましい。第２垂直磁性膜６の厚さが
１００Å未満であると、十分な磁束が得られず、再生出
力が低下し、ＳＮＲなどのノイズ特性が低下する。また
第２垂直磁性膜６の厚さが１０００Åを越えると、第２
垂直磁性膜６内の磁性粒子の粗大化が起き、ノイズ特性
が低下するため好ましくない。第２垂直磁性膜６の厚さ
は、２００〜７００Åとするのがさらに好ましい。これ
は、第２垂直磁性膜６の厚さをこの範囲とすると、再生
出力を向上させるとともに、第２垂直磁性膜６内の磁性
粒子の粗大化を防ぎ、ノイズ特性をより高めることがで
きるためである。

【００１８】本実施形態の磁気記録媒体において、第２
垂直磁性膜６は、磁気異方性エネルギーが第１垂直磁性
膜の磁気異方性エネルギーよりも低く設定された低磁気
異方性膜である。この磁気異方性エネルギーが上記範囲
を越える場合（すなわちこの磁気異方性エネルギーが第
１垂直磁性膜の磁気異方性エネルギー以上に設定された
場合）には、記録磁区の境界が非直線的になる、すなわ
ち境界がジグザグ状に形成されやすくなり、記録密度を
高めたときに磁区境界から発生するノイズの影響が大き
くなり、磁気記録媒体のノイズ特性が悪化する。

【００１９】保護膜７は、第２垂直磁性膜６の腐食を防
ぐとともに、ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の
損傷を防ぎ、かつヘッドと媒体の間の潤滑特性を高める
ためのもので、従来公知の材料を使用でき、例えばＣ、
ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂の単一組成、またはこれらを主成分と
し他元素を含むものが使用可能である。保護膜７の厚さ
は、１０〜１００Åが望ましい。また、保護膜７上に
は、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、
フッ素化カルボン酸などからなる潤滑膜を設けるのが好
ましい。

【００２０】上記構成の磁気記録媒体を製造するには、
基板１上に、第１下地膜２、第１垂直磁性膜３、第２下
地膜４、非磁性中間膜５、第２垂直磁性膜６を順次をス
パッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングなどの
手法により形成し、次いで保護膜７を、プラズマＣＶＤ
法、イオンビーム法、スパッタリング法により形成する
方法を採用することができる。また、潤滑膜を形成する
には、ディッピング法、スピンコート法などの従来公知
の方法を採用することができる。

【００２１】本実施形態の磁気記録媒体では、高磁気異
方性の第１垂直磁性膜３上に、低磁気異方性の第２垂直
磁性膜６が設けられているので、ノイズ特性の向上が可
能となる。上記構成によってノイズ特性の向上が可能と
なるのは、次の理由によるものであると考えられる。一
般に、磁気異方性が高い磁性膜を有する磁気記録媒体
は、高保磁力となるため再生出力を向上させることがで
きる反面、記録磁区の境界が非直線的になる、すなわち
境界がジグザグ状に形成されやすくなり、記録密度を高
めたときに磁区境界付近の磁化反転により境界が不鮮明
となりノイズが増加しやすくなる傾向がある。逆に、磁
気異方性が低い磁性膜を有する磁気記録媒体では、直線
的な境界を有する記録磁区が形成されやすくノイズの原
因となりにくい反面、高磁気異方性膜を有する媒体に比
べ再生出力を高めるのが難しい。

【００２２】本実施形態の磁気記録媒体では、高磁気異
方性の第１垂直磁性膜３が、低磁気異方性の第２垂直磁
性膜６の下方に設けられているので、再生時において、
第１垂直磁性膜３と磁気ヘッドとの距離が大きくなる。
このため、高磁気異方性の第１垂直磁性膜３において記
録磁区境界が非直線的となり磁化反転が起こりやすい状
態となった場合でも、ノイズが検出されにくくなり、ノ
イズレベルを低く抑えることができる。また第２垂直磁
性膜６は再生時において磁気ヘッドに近くなるためノイ
ズが検出されやすくなるが、高磁気異方性の第１垂直磁
性膜３を設けたことで磁性膜３、６間の磁気的結合によ
り第２垂直磁性膜６における磁化揺らぎを防ぐことがで
きるため、ノイズ増加を防ぐことができる。また第２垂
直磁性膜６の磁気異方性を低く設定したため、第２垂直
磁性膜６内の記録磁区の境界が直線的なものとなり、第
２垂直磁性膜６を原因とするノイズが低く抑えられる。

【００２３】さらには、高磁気異方性であり、保磁力が
高い第１垂直磁性膜３により、再生出力を高めることが
できる。また再生時において磁気ヘッドとの距離が小さ
くなる第２垂直磁性膜６により、記録密度を高めた場合
でも間隔損失を小さくし、再生出力をさらに高めること
ができる。このように、本実施形態の磁気記録媒体で
は、ノイズを低く抑え、かつ再生出力のレベルを高め、
ＳＮＲなどのノイズ特性を向上させることができる。従
って、記録密度の向上が可能となる。

【００２４】また一般に、熱揺らぎ耐性は、保磁力（Ｈ
ｃ）、磁気異方性磁界（Ｈｋ）が大きい媒体において良
好となる。これは、保磁力（Ｈｃ）、磁気異方性磁界
（Ｈｋ）が大きいと、ヒステリシスループにおいて残留
磁化付近での傾きが小さくなり、消磁が起こりにくくな
るためである。本実施形態の磁気記録媒体では、高磁気
異方性の第１垂直磁性膜３によって、保磁力（Ｈｃ）、
磁気異方性磁界（Ｈｋ）が向上することから、熱揺らぎ
耐性が高められる。なお、熱揺らぎとは、記録ビットが
不安定となり記録したデータの熱消失が起こる現象をい
い、この現象が起きると、記録したデータの再生出力が
経時的に減衰する。

【００２５】また、第２下地膜４と第２垂直磁性膜６と
の間に、ｈｃｐ構造を有する非磁性中間膜５を設けるこ
とによって、第２垂直磁性膜６の初期成長時における結
晶配向性の乱れを防ぎ、第２垂直磁性膜６の結晶配向
性、磁気異方性を向上させ、保磁力、磁気異方性磁界を
所望の値に設定しやすくし、ノイズ特性、熱揺らぎ耐性
を確実に向上させることができる。この結晶配向性向上
効果は、非磁性中間膜５をｈｃｐ構造とすることによっ
て、第２垂直磁性膜６との間の格子の整合性が向上する
ことにより得られると考えられる。また、非磁性中間膜
５を設けることによって、第１垂直磁性膜３と第２垂直
磁性膜６との間の距離を大きくし、これにより再生時に
おいて磁気ヘッドと第１垂直磁性膜３との距離を大きく
し、ノイズレベルを低くすることができる。

【００２６】なお、上記構成の磁気記録媒体は、ｈｃ
ｐ構造を有する材料からなる非磁性中間膜５を設けた
が、本発明の磁気記録媒体はこれに限らず、非磁性中間
膜５を設けなくてもよい。非磁性中間膜５を設けない場
合の磁気記録媒体を図２に示す。また上記磁気記録媒
体では第１下地膜２を設けたが、本発明では第１下地膜
２を設けなくてもよい。第１下地膜２を設けない場合の
磁気記録媒体を図３に示す。また本明細書において主成
分とは当該成分を５０ａｔ％を越えて含むことを指す。

【００２７】

【実施例】以下、具体例を示して本発明の作用効果を明
確にする。図１、図２、または図３に示す磁気記録媒体
を次のようにして作製した。

【００２８】（試験例１）ガラス基板１（直径９５ｍ
ｍ、厚さ０．８ｍｍ）をＤＣマグネトロンスパッタ装置
（アネルバ社製３０１０）のチャンバ内にセットし、チ
ャンバ内を真空到達度２×１０^-7Ｐａとなるまで排気す
るとともに、基板１を２００℃まで加熱した後、この基
板１上に、ＳｉＮからなる第１下地膜２、ＴｂＦｅＣｏ
からなる第１垂直磁性膜３、Ｒｕからなる第２下地膜
４、Ｃｏ−３５ａｔ％Ｃｒ−５ａｔ％Ｐｔ（Ｃｏ３５Ｃ
ｒ５Ｐｔ）からなる非磁性中間膜５、Ｃｏ−２０ａｔ％
Ｃｒ−１０ａｔ％Ｐｔ−３ａｔ％Ｔａ（Ｃｏ２０Ｃｒ１
０Ｐｔ３Ｔａ）からなる第２垂直磁性膜６を順次スパッ
タリングにより形成した。第２垂直磁性膜６上には、プ
ラズマＣＶＤ法により厚さ７０Åのカーボン保護膜７を
形成した。カーボン保護膜７上にはパーフルオロエーテ
ルからなる潤滑膜（厚さ２０Å）をディッピング法によ
り形成した。この磁気記録媒体では、第１垂直磁性膜３
の磁気異方性エネルギーを、第２垂直磁性膜６の磁気異
方性エネルギーよりも高く設定した。

【００２９】（試験例２）第１下地膜２、第１垂直磁性
膜３を設けないこと以外は試験例１と同様にして磁気記
録媒体を作製した。

【００３０】（試験例３〜６）第１下地膜２および第１
垂直磁性膜３の材料を変えたこと以外は試験例１と同様
にして磁気記録媒体を作製した。

【００３１】（試験例７〜９）第１垂直磁性膜３の厚さ
を変えたこと以外は試験例１と同様にして磁気記録媒体
を作製した。

【００３２】（試験例１０、１１）第１垂直磁性膜３の
材料を変えたこと以外は試験例１と同様にして磁気記録
媒体を作製した。

【００３３】（試験例１２〜１４）第２下地膜４の材料
を変えたこと以外は試験例１と同様にして磁気記録媒体
を作製した。

【００３４】（試験例１５〜１７）非磁性中間膜５の厚
さを変えたこと以外は試験例１と同様にして磁気記録媒
体を作製した。

【００３５】（試験例１８〜２０）第２垂直磁性膜６の
組成を変えたこと以外は試験例１と同様にして磁気記録
媒体を作製した。

【００３６】（試験例２１〜２４）第２垂直磁性膜６の
厚さを変えたこと以外は試験例１と同様にして磁気記録
媒体を作製した。

【００３７】（試験例２５）第１下地膜２を設けなかっ
たこと以外は試験例１と同様にして磁気記録媒体を作製
した。

【００３８】（試験例２６）非磁性中間膜５を設けなか
ったこと以外は試験例１と同様にして磁気記録媒体を作
製した。

【００３９】（試験例２７）第１下地膜２、第１垂直磁
性膜３を設けなかったこと以外は試験例１と同様にして
磁気記録媒体を作製した。垂直磁性膜６の磁気異方性エ
ネルギーは、７×１０⁶ｅｒｇ／ｃｃとした。

【００４０】（試験例２８）第１下地膜２、第１垂直磁
性膜３を設けなかったこと以外は試験例１と同様にして
磁気記録媒体を作製した。垂直磁性膜６の磁気異方性エ
ネルギーは、１×１０⁶ｅｒｇ／ｃｃとした。

【００４１】上記各試験例の磁気記録媒体の静磁気特性
をＫｅｒｒ効果測定装置を用いて測定した。またこれら
磁気記録媒体の電磁変換特性を、ＧＵＲＩＫ社製リード
ライトアナライザＲＷＡ１６３２、およびスピンスタン
ドＳ１７０１ＭＰを用いて測定した。電磁変換特性の評
価には、磁気ヘッドとして、再生部に巨大磁気抵抗（Ｇ
ＭＲ）素子を有する複合型薄膜磁気記録ヘッドを用い、
記録条件を線記録密度１５０ｋＦＣＩとして測定した。
上記試験例の磁気記録媒体の静磁気特性、電磁変換特性
の測定結果を表１に示す。また熱揺らぎ耐性について
は、磁気ヘッドとして上記複合型薄膜磁気記録ヘッドを
用い、線記録密度１５０ｋＦＣＩ、温度２５℃の条件
で、記録直後の出力に対する出力の低下率（％／ｄｅｃ
ａｄｅ）を、ｌｏｇ｛（Ｓ₀−Ｓ）×１００／Ｓ₀｝／３
に基づいて算出した。結果を表１に併せて示す。なお、
Ｓ₀は磁気記録媒体に信号を書き込んだ直後の出力を示
し、Ｓは１０００秒後の出力を示す。表中、Ａ／ＢはＡ
とＢとを交互に多数回にわたり積層した多層構造膜を指
す。

【００４２】

【表１】

【００４３】表１中、試験例１〜６の比較より、第１垂
直磁性膜３を設けた試験例１、３〜５の磁気記録媒体
は、第１垂直磁性膜３を設けなかった試験例２の磁気記
録媒体に比べ、優れたノイズ特性を有するものとなった
ことがわかる。試験例１、７〜９の比較より、第１垂直
磁性膜３の厚さを１〜１００Åの範囲とした試験例１、
７、８の磁気記録媒体は、第１垂直磁性膜３の厚さを上
記範囲外に設定した試験例９の磁気記録媒体に比べ、優
れたノイズ特性を有するものとなったことがわかる。試
験例１、１０、１１の比較より、第１垂直磁性膜３を表
中に示す材料からなるものとした場合でもノイズ特性に
優れた磁気記録媒体が得られたことがわかる。試験例
１、１２〜１４の比較より、第２下地膜４を表中に示す
材料からなるものとした場合でもノイズ特性に優れた磁
気記録媒体が得られたことがわかる。試験例１、１５〜
１７の比較より、非磁性中間膜５の厚さを５００Å以下
（非磁性中間膜５を設けない構成も含む）の範囲とした
試験例１、１５、１６の磁気記録媒体は、非磁性中間膜
５の厚さを上記範囲外に設定した試験例１７の磁気記録
媒体に比べ、優れたノイズ特性を有するものとなったこ
とがわかる。試験例１、１８〜２０の比較より、第２垂
直磁性膜６の組成を上記範囲内で変化させても、優れた
ノイズ特性を得ることができたことがわかる。試験例
１、２１〜２４の比較より、第２垂直磁性膜６の厚さを
１００〜１０００Åの範囲とした試験例１、２２、２３
の磁気記録媒体は、第２垂直磁性膜６の厚さを上記範囲
外に設定した試験例２１、２４の磁気記録媒体に比べ、
優れたノイズ特性を得ることができたことがわかる。試
験例１と試験例２５の比較より、第１下地膜２を設けな
い場合でも高いノイズ特性を得ることができるが、第１
下地膜２を設けた方が、より優れたノイズ特性を得られ
ることがわかる。試験例１と試験例２６の比較より、非
磁性中間膜５を設けない場合でも高いノイズ特性を得る
ことができるが、非磁性中間膜５を設けた方が、より優
れたノイズ特性を得られることがわかる。試験例１と試
験例２７、２８の比較より、第１垂直磁性膜３を設けな
い場合にはノイズ特性、熱揺らぎ耐性のうちいずれかが
悪化するのに対し、第１垂直磁性膜３と第２垂直磁性膜
６を備え、第１垂直磁性膜３の磁気異方性エネルギー
が、第２垂直磁性膜６の磁気異方性エネルギーよりも高
く設定された試験例１の磁気記録媒体は、これらノイズ
特性、熱揺らぎ耐性がいずれも優れていることがわか
る。

【００４４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体は、基板上に第１垂直磁性膜が設けられ、その上に
第２垂直磁性膜が設けられ、第１垂直磁性膜の磁気異方
性が、第２垂直磁性膜の磁気異方性よりも高く設定され
ているので、ノイズを低く抑え、かつ再生出力のレベル
を高め、ＳＮＲなどのノイズ特性を向上させることがで
きる。従って、記録密度の向上が可能となる。また高磁
気異方性の第１垂直磁性膜によって、保磁力、磁気異方
性磁界を向上させ、熱揺らぎ耐性を高めることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す一
部断面図である。

【図２】本発明の磁気記録媒体の他の実施形態を示す
一部断面図である。

【図３】本発明の磁気記録媒体のさらに他の実施形態
を示す一部断面図である。

【符号の説明】

１・・・基板、２・・・第１下地膜、３・・・第１垂直磁性膜、
４・・・第２下地膜、５・・・非磁性中間膜、６・・・第２垂直
磁性膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者酒井浩志千葉県市原市八幡海岸通５番の１昭和電工株式会社ＨＤ研究開発センター内Ｆターム(参考） 5D006 BB01 BB02 BB06 BB07 BB08 DA03 FA04 FA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に第１垂直磁性膜が設けられ、そ
の上に第２垂直磁性膜が設けられ、第１垂直磁性膜の磁
気異方性エネルギーが、第２垂直磁性膜の磁気異方性エ
ネルギーよりも高く設定されていることを特徴とする磁
気記録媒体。
【請求項２】請求項１記載の磁気記録媒体において、
第１垂直磁性膜は、５×１０⁶ｅｒｇ／ｃｃ以上の磁気
異方性エネルギーを有することを特徴とする磁気記録媒
体。
【請求項３】請求項１または２記載の磁気記録媒体に
おいて、第１垂直磁性膜の残留磁化／飽和磁化が０．９
以上とされていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項４】請求項１〜３のうちいずれか１項記載の
磁気記録媒体において、第１垂直磁性膜は、Ｃｏ系材料
からなる層と、Ｐｔ系材料またはＰｄ系材料からなる層
とを多数回にわたって積層した多層構造膜、または希土
類元素を含む非晶質構造膜であることを特徴とする磁気
記録媒体。
【請求項５】請求項１〜４のうちいずれか１項記載の
磁気記録媒体において、第１垂直磁性膜は、厚さが１〜
１００Åであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】請求項１〜５のうちいずれか１項記載の
磁気記録媒体において、第２垂直磁性膜が、ＣｏＣｒＰ
ｔ系、ＣｏＣｒＴａ系、ＣｏＣｒＰｔＸ系（Ｘ：Ｔａ、
Ｚｒ、Ｃｕ、Ｒｅ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、およびＢのうち
１種または２種以上）のうちいずれかの合金からなるも
のであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項７】請求項１〜６のうちいずれか１項記載の
磁気記録媒体において、第２垂直磁性膜の下に、ｈｃｐ
構造を有する非磁性中間膜が設けられていることを特徴
とする磁気記録媒体。