JP2001096135A - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
Abstract
(57)【要約】
【課題】 排ガス中の有害物質を確実に除害することの
できる排ガス処理装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の排ガス処理装置は、排ガス中の
対象物質を加熱分解する処理筒３を備えており、処理筒
３は、その内部が第一区画３０１及び第二区画３０２と
に分割されており、第一区画３０１は、その一端に排ガ
ス導入用の導入管７が接続されると共に他端が第二区画
３０２の一端と連通し、かつ、その内部に排ガス加熱用
の熱源３０４を有し、第二区画３０２は、その他端に排
ガス排出用の排出管９が接続され、かつ、その内部に対
象物質の加熱分解を促進する処理剤が充填されることを
特徴としている。
できる排ガス処理装置を提供すること。 【解決手段】 本発明の排ガス処理装置は、排ガス中の
対象物質を加熱分解する処理筒３を備えており、処理筒
３は、その内部が第一区画３０１及び第二区画３０２と
に分割されており、第一区画３０１は、その一端に排ガ
ス導入用の導入管７が接続されると共に他端が第二区画
３０２の一端と連通し、かつ、その内部に排ガス加熱用
の熱源３０４を有し、第二区画３０２は、その他端に排
ガス排出用の排出管９が接続され、かつ、その内部に対
象物質の加熱分解を促進する処理剤が充填されることを
特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種装置から排出
された排ガス中の対象物質を加熱分解して除害する排ガ
ス処理装置に関する。
された排ガス中の対象物質を加熱分解して除害する排ガ
ス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造時には、有毒物質や三フッ
化窒素(NF3)などの環境汚染のおそれのあるフルオロ化
合物を含む排ガスが発生する。このため、このような排
ガスが排出される場所には排ガス処理装置を設置して除
害する必要があり、法令などによっても排ガス中の有害
物質の許容濃度が規定されている。三フッ化窒素(NF3)
などの環境汚染のおそれのあるフルオロ化合物は常温で
は非常に安定したガスであり、従来から、このような排
ガス中の三フッ化窒素(NF3)などを加熱分解する排ガス
処理装置があった。
化窒素(NF3)などの環境汚染のおそれのあるフルオロ化
合物を含む排ガスが発生する。このため、このような排
ガスが排出される場所には排ガス処理装置を設置して除
害する必要があり、法令などによっても排ガス中の有害
物質の許容濃度が規定されている。三フッ化窒素(NF3)
などの環境汚染のおそれのあるフルオロ化合物は常温で
は非常に安定したガスであり、従来から、このような排
ガス中の三フッ化窒素(NF3)などを加熱分解する排ガス
処理装置があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】排ガス処理装置につい
ては、有害物質の除害能力の向上のほか、装置自体の取
扱性の向上（小型化など）、除害に際して発生する反応
生成物の取扱性の向上など、様々な改良が常に要望され
る。本発明は、このような要望に応え得るものであり、
本発明の目的は、排ガス中の三フッ化窒素(NF3)などの
環境汚染のおそれのあるフルオロ化合物を確実に除害す
ることのできる排ガス処理装置を提供することにある。
ては、有害物質の除害能力の向上のほか、装置自体の取
扱性の向上（小型化など）、除害に際して発生する反応
生成物の取扱性の向上など、様々な改良が常に要望され
る。本発明は、このような要望に応え得るものであり、
本発明の目的は、排ガス中の三フッ化窒素(NF3)などの
環境汚染のおそれのあるフルオロ化合物を確実に除害す
ることのできる排ガス処理装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、排ガス中の対
象物質を加熱分解する処理筒を備えた排ガス処理装置で
あり、処理筒の内部は、中央部に配された第一区画と第
一区画の周囲に配置された第二区画とに分割されてお
り、第一区画は、その一端に排ガス導入用の導入管が接
続されると共に他端が第二区画の一端と連通し、かつ、
その内部に排ガス加熱用の熱源を有し、第二区画は、そ
の他端に排ガス排出用の排出管が接続され、かつ、その
周囲に処理筒内部を加熱する副熱源が配設されているこ
とを特徴としている。
象物質を加熱分解する処理筒を備えた排ガス処理装置で
あり、処理筒の内部は、中央部に配された第一区画と第
一区画の周囲に配置された第二区画とに分割されてお
り、第一区画は、その一端に排ガス導入用の導入管が接
続されると共に他端が第二区画の一端と連通し、かつ、
その内部に排ガス加熱用の熱源を有し、第二区画は、そ
の他端に排ガス排出用の排出管が接続され、かつ、その
周囲に処理筒内部を加熱する副熱源が配設されているこ
とを特徴としている。
【０００５】本発明によれば、上述した熱源によって第
一区画内で排ガスを加熱し、さらにその後に上述した副
熱源によって第二区画内で排ガスを加熱処理する。この
ため、より安定して排ガス中の対象物質を加熱分解する
ことができ、排ガスの除害を確実に行うことができる。
このとき、第一区画内の熱源による発熱は、第一区画内
の排ガスの加熱だけに用いられるのではなく、第二区画
内に対しても効率よく伝達されるので、加熱分解効率が
向上する。また、第二区画の周囲に配置された副熱源は
排ガスを加熱すると共に処理筒からの放熱を防止するの
で、この点からも熱的により効率よく加熱分解を行うこ
とができる。さらに、処理筒の中央部に第一区画を配置
し、かつ、この第一区画の周囲に第二区画を配置してあ
るので装置自体を小型化でき、装置の取扱性も向上す
る。
一区画内で排ガスを加熱し、さらにその後に上述した副
熱源によって第二区画内で排ガスを加熱処理する。この
ため、より安定して排ガス中の対象物質を加熱分解する
ことができ、排ガスの除害を確実に行うことができる。
このとき、第一区画内の熱源による発熱は、第一区画内
の排ガスの加熱だけに用いられるのではなく、第二区画
内に対しても効率よく伝達されるので、加熱分解効率が
向上する。また、第二区画の周囲に配置された副熱源は
排ガスを加熱すると共に処理筒からの放熱を防止するの
で、この点からも熱的により効率よく加熱分解を行うこ
とができる。さらに、処理筒の中央部に第一区画を配置
し、かつ、この第一区画の周囲に第二区画を配置してあ
るので装置自体を小型化でき、装置の取扱性も向上す
る。
【０００６】ここで、第二区画の内部に対象物質の加熱
分解を促進する処理剤が充填されることが好ましい。こ
のようにすれば、第一区画内で加熱され、充分に昇温さ
れた排気ガス中の有害物質を効率よく加熱分解すること
ができ、より確実に排ガスの除害を行うことができる。
分解を促進する処理剤が充填されることが好ましい。こ
のようにすれば、第一区画内で加熱され、充分に昇温さ
れた排気ガス中の有害物質を効率よく加熱分解すること
ができ、より確実に排ガスの除害を行うことができる。
【０００７】ここで、処理筒又は導入管の内部に窒素ガ
スを導入する窒素導入管をさらに備えていることが好ま
しい。この場合は、処理筒の運転初期に、処理筒に対し
て窒素を導入させて処理筒を排ガス処理に最適な温度ま
で昇温させることができ、その後の排ガスの導入と同時
に効率の良い排ガス処理を行うことができる。また、運
転終了時にも処理筒に対して窒素を導入させることによ
って、排ガス処理終了時に処理筒を徐々に冷却させるこ
とができる。
スを導入する窒素導入管をさらに備えていることが好ま
しい。この場合は、処理筒の運転初期に、処理筒に対し
て窒素を導入させて処理筒を排ガス処理に最適な温度ま
で昇温させることができ、その後の排ガスの導入と同時
に効率の良い排ガス処理を行うことができる。また、運
転終了時にも処理筒に対して窒素を導入させることによ
って、排ガス処理終了時に処理筒を徐々に冷却させるこ
とができる。
【０００８】ここで、排出管の下流側に接続され、処理
筒内で生成された副生成物を除害する二次処理筒をさら
に備えていることが好ましい。この場合は、加熱分解に
よって生成される副生成物を二次処理筒によって無害化
又は捕集することができ、排ガスをより確実に浄化する
ことができる。
筒内で生成された副生成物を除害する二次処理筒をさら
に備えていることが好ましい。この場合は、加熱分解に
よって生成される副生成物を二次処理筒によって無害化
又は捕集することができ、排ガスをより確実に浄化する
ことができる。
【０００９】ここで、対象となる処理物質は、三フッ化
窒素などのフルオロ化合物であり、第二区画内に充填さ
れた金属酸化物と接触させ、この部分で加熱分解を促進
させることが好ましい。この場合、第一区画ではフルオ
ロ化合物の加熱分解を抑制させた状態で排ガスをヒータ
ーで加熱することが可能となり、分解ガスによるヒータ
ーの損傷が低減され、連続運転が促進される。
窒素などのフルオロ化合物であり、第二区画内に充填さ
れた金属酸化物と接触させ、この部分で加熱分解を促進
させることが好ましい。この場合、第一区画ではフルオ
ロ化合物の加熱分解を抑制させた状態で排ガスをヒータ
ーで加熱することが可能となり、分解ガスによるヒータ
ーの損傷が低減され、連続運転が促進される。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の排ガス処理装置の一実施
形態について図面を参照しつつ説明する。
形態について図面を参照しつつ説明する。
【００１１】本実施形態の排ガス処理装置１は、図１に
示されるように、筐体２内に主たる構成部分が収納され
ている。筐体２の内部には、この処理装置１の主要部分
である処理筒３と二次処理筒４とが収納されている。ま
た、筐体２の表面には、この処理装置１を制御するのに
必要な操作部や表示部などを有する制御盤５が取り付け
られている。
示されるように、筐体２内に主たる構成部分が収納され
ている。筐体２の内部には、この処理装置１の主要部分
である処理筒３と二次処理筒４とが収納されている。ま
た、筐体２の表面には、この処理装置１を制御するのに
必要な操作部や表示部などを有する制御盤５が取り付け
られている。
【００１２】処理装置１には、排ガスの導入口６が設け
られており、導入口６には、バルブV1及び逆止弁CV1が
取り付けられている。導入管７の最も上流部には圧力セ
ンサ８が取り付けられており、導入される排ガスの圧力
を検出している。圧力センサ８の検出結果は、制御盤５
に表示される。導入管７は処理筒３に接続されており、
処理筒３内にはこの導入管７によって排ガスが導入され
る。なお、導入管７上には、バルブV3が配設されてい
る。
られており、導入口６には、バルブV1及び逆止弁CV1が
取り付けられている。導入管７の最も上流部には圧力セ
ンサ８が取り付けられており、導入される排ガスの圧力
を検出している。圧力センサ８の検出結果は、制御盤５
に表示される。導入管７は処理筒３に接続されており、
処理筒３内にはこの導入管７によって排ガスが導入され
る。なお、導入管７上には、バルブV3が配設されてい
る。
【００１３】処理筒３は、図２に示されるように、その
内部に第一区画３０１及び第二区画３０２とを有してい
る。なお、図２においては、処理筒３上部が断面とされ
ていない。第一区画３０１は、処理筒３の中心部に配設
された内筒３０３内に形成されている。第一区画３０１
の内部には電気抵抗式のヒーター３０４が配置されてい
る。内筒３０３の上端（即ち、第一区画３０１の一端）
には、上述した導入管７が接続されている。ヒーター３
０４は、導入管７から導入される排気ガスを加熱する熱
源として機能する。
内部に第一区画３０１及び第二区画３０２とを有してい
る。なお、図２においては、処理筒３上部が断面とされ
ていない。第一区画３０１は、処理筒３の中心部に配設
された内筒３０３内に形成されている。第一区画３０１
の内部には電気抵抗式のヒーター３０４が配置されてい
る。内筒３０３の上端（即ち、第一区画３０１の一端）
には、上述した導入管７が接続されている。ヒーター３
０４は、導入管７から導入される排気ガスを加熱する熱
源として機能する。
【００１４】ヒーター３０４は、内筒３０３の上部から
挿入され、内筒３０３に対して金属ガスケットを介して
ボルト止めされている。このため、ヒーター３０４の交
換などのメンテナンスが容易であり、取扱性に優れてい
る。ヒーター３０４には、温度センサ３０５が取り付け
られており、ヒーター３０４の異常過熱を検出すべくヒ
ーター３０４の表面温度をモニターしている。
挿入され、内筒３０３に対して金属ガスケットを介して
ボルト止めされている。このため、ヒーター３０４の交
換などのメンテナンスが容易であり、取扱性に優れてい
る。ヒーター３０４には、温度センサ３０５が取り付け
られており、ヒーター３０４の異常過熱を検出すべくヒ
ーター３０４の表面温度をモニターしている。
【００１５】内筒３０３を取り囲むように外筒３０６が
配設されており、内筒３０３の外表面と外筒３０６の内
表面との間に、上述した第二区画３０２が形成されてい
る。即ち、第二区画３０２は、第一区画３０１を取り囲
むように筒状に形成されている。そして、第一区画３０
１と第二区画３０２とは、内筒３０３及び外筒３０６の
下側（即ち、第一区画３０１の他端側・第二区画３０２
の一端側）で連通している。内筒３０３の下方には、第
一区画３０１において加熱された排ガスの温度を検出す
る温度センサ（熱電対）３０７が取り付けられている。
配設されており、内筒３０３の外表面と外筒３０６の内
表面との間に、上述した第二区画３０２が形成されてい
る。即ち、第二区画３０２は、第一区画３０１を取り囲
むように筒状に形成されている。そして、第一区画３０
１と第二区画３０２とは、内筒３０３及び外筒３０６の
下側（即ち、第一区画３０１の他端側・第二区画３０２
の一端側）で連通している。内筒３０３の下方には、第
一区画３０１において加熱された排ガスの温度を検出す
る温度センサ（熱電対）３０７が取り付けられている。
【００１６】外筒３０６の上端（即ち、第二区画３０２
の他端）には、処理筒３から排ガスを排出させる排出管
９が接続されている。また、外筒３０６の外表面には、
サブヒーター３０８が取り付けられている。サブヒータ
ー３０８は、第二区画３０２内での加熱分解が効率よく
行われるように排ガスを加熱すると共に処理筒３からの
放熱を防止する副熱源として機能している。さらに、温
度センサ３１１によって検出された第二区画３０２内上
部の温度に基づいて、処理剤の劣化が検出される。
の他端）には、処理筒３から排ガスを排出させる排出管
９が接続されている。また、外筒３０６の外表面には、
サブヒーター３０８が取り付けられている。サブヒータ
ー３０８は、第二区画３０２内での加熱分解が効率よく
行われるように排ガスを加熱すると共に処理筒３からの
放熱を防止する副熱源として機能している。さらに、温
度センサ３１１によって検出された第二区画３０２内上
部の温度に基づいて、処理剤の劣化が検出される。
【００１７】温度センサ３０７によって検出された第一
区画３０１通過後の排ガス温度に基づいてヒーター３０
４がオン−オフ制御され、第二区画３０２に導入される
排ガスの温度が加熱分解処理に最適な温度となるように
維持している。また、温度センサ３１２によって検出さ
れた外筒３０６の表面温度に基づいてサブヒーター３０
８がオン−オフ制御され、第二区画３０２からの放熱を
防止しつつ第二区画３０２内の温度が加熱分解処理に最
適な温度となるように維持している。
区画３０１通過後の排ガス温度に基づいてヒーター３０
４がオン−オフ制御され、第二区画３０２に導入される
排ガスの温度が加熱分解処理に最適な温度となるように
維持している。また、温度センサ３１２によって検出さ
れた外筒３０６の表面温度に基づいてサブヒーター３０
８がオン−オフ制御され、第二区画３０２からの放熱を
防止しつつ第二区画３０２内の温度が加熱分解処理に最
適な温度となるように維持している。
【００１８】さらに、第二区画３０２内には、その上
部、中央部、下部にそれぞれ温度センサ（熱電対）３０
９，３１０，３１１が取り付けられている。これらの温
度センサ３０９，３１０，３１１は制御盤５に接続され
ている。制御盤５には、サブヒーター３０８の表面温度
を検出する温度センサ３１２や外筒３０６の表面温度を
検出する温度センサ３１３なども接続されている。
部、中央部、下部にそれぞれ温度センサ（熱電対）３０
９，３１０，３１１が取り付けられている。これらの温
度センサ３０９，３１０，３１１は制御盤５に接続され
ている。制御盤５には、サブヒーター３０８の表面温度
を検出する温度センサ３１２や外筒３０６の表面温度を
検出する温度センサ３１３なども接続されている。
【００１９】外筒３０６の上部には、金属ガスケットを
介して蓋体３１４がボルト止めされている。蓋体３１４
によって密閉された第二区画３０２内には、排ガス中の
三フッ化窒素(NF3)などの対象物質を加熱分解するため
のペレット状の金属系処理剤（金属酸化物：ここでは、
主成分がFe2O3で径が(4〜6φ×5〜10m/m)ペレットのも
のを使用）が充填される。また、外筒３０６のさらに外
側には、処理筒３の上部から下部までを覆う断熱材付き
のカバー３２１が取り付けられている。
介して蓋体３１４がボルト止めされている。蓋体３１４
によって密閉された第二区画３０２内には、排ガス中の
三フッ化窒素(NF3)などの対象物質を加熱分解するため
のペレット状の金属系処理剤（金属酸化物：ここでは、
主成分がFe2O3で径が(4〜6φ×5〜10m/m)ペレットのも
のを使用）が充填される。また、外筒３０６のさらに外
側には、処理筒３の上部から下部までを覆う断熱材付き
のカバー３２１が取り付けられている。
【００２０】処理筒３に接続された排出管９は、上述し
た二次処理筒４に接続されている。排出管９上には、処
理筒３側から順に、冷却器１０及びバルブV4が配設され
ている。冷却器１０は、排出管９の外表面上に冷却フィ
ンを設けて、処理筒３から排出された排ガスの熱を放熱
させるものである。なお、冷却器１０の冷却フィンは排
ガスの温度を所望の温度まで冷却するのに充分な放熱面
積を有しているが、冷却器１０は強制冷却用のファンも
有している。
た二次処理筒４に接続されている。排出管９上には、処
理筒３側から順に、冷却器１０及びバルブV4が配設され
ている。冷却器１０は、排出管９の外表面上に冷却フィ
ンを設けて、処理筒３から排出された排ガスの熱を放熱
させるものである。なお、冷却器１０の冷却フィンは排
ガスの温度を所望の温度まで冷却するのに充分な放熱面
積を有しているが、冷却器１０は強制冷却用のファンも
有している。
【００２１】冷却器１０の近傍には換気口１２が設置さ
れている。換気口１２には、制御盤５による制御あるい
は手動操作によって開閉するダンパーが設けられてい
る。ここでは、冷却器１０からの放熱を筐体２の外部に
効率よく排気するため、換気口１２は筐体２の上面に設
けられている。
れている。換気口１２には、制御盤５による制御あるい
は手動操作によって開閉するダンパーが設けられてい
る。ここでは、冷却器１０からの放熱を筐体２の外部に
効率よく排気するため、換気口１２は筐体２の上面に設
けられている。
【００２２】二次処理筒４は、常温乾式処理筒であり、
詳述した処理筒３における加熱分解によって生じる副生
成物、例えば、窒素酸化物(NOx)や、僅かに生成するフ
ッ素ガス(F2)やフッ化水素(HF)を吸着除去する。二次処
理筒４の内部には、上述した副生成物を除害するための
処理剤が充填される。二次処理筒４には排気管１１が取
り付けられており、有害物質を除害した後の排ガスは、
この排気管１１から排出される。
詳述した処理筒３における加熱分解によって生じる副生
成物、例えば、窒素酸化物(NOx)や、僅かに生成するフ
ッ素ガス(F2)やフッ化水素(HF)を吸着除去する。二次処
理筒４の内部には、上述した副生成物を除害するための
処理剤が充填される。二次処理筒４には排気管１１が取
り付けられており、有害物質を除害した後の排ガスは、
この排気管１１から排出される。
【００２３】また、本実施形態の処理装置１は、処理筒
３（及びその下流側）に窒素ガス(N 2)を供給する窒素導
入管１３も備えている。窒素導入管１３は導入管７に対
して接続されている。窒素導入管１３には、その上流側
から圧力調整弁RG、逆止弁CV11が設置されており、その
後二股に分岐されている。窒素導入管１３の分岐された
部分は、それぞれ電磁弁SV1、手動弁NV1が設置され、再
び一つにまとめられて流量計FI1を介して導入管７に接
続している。なお、電磁弁SV1は、制御盤５に接続され
ており、制御盤５からの指令又は操作に基づいて制御さ
れる。
３（及びその下流側）に窒素ガス(N 2)を供給する窒素導
入管１３も備えている。窒素導入管１３は導入管７に対
して接続されている。窒素導入管１３には、その上流側
から圧力調整弁RG、逆止弁CV11が設置されており、その
後二股に分岐されている。窒素導入管１３の分岐された
部分は、それぞれ電磁弁SV1、手動弁NV1が設置され、再
び一つにまとめられて流量計FI1を介して導入管７に接
続している。なお、電磁弁SV1は、制御盤５に接続され
ており、制御盤５からの指令又は操作に基づいて制御さ
れる。
【００２４】なお、窒素導入管１３上の逆止弁CV11と電
磁弁SV1（手動弁NV1）との間から分岐する分岐管１４
は、処理筒３の交換時に接続部の気密状態を確認するた
めのものである。この分岐管１４の上流側には、流量計
FI11が配設されている。この処理装置１は、上述した配
管以外のバイパス管や、各種機器を備えているが、これ
らについての詳しい説明は省略する。
磁弁SV1（手動弁NV1）との間から分岐する分岐管１４
は、処理筒３の交換時に接続部の気密状態を確認するた
めのものである。この分岐管１４の上流側には、流量計
FI11が配設されている。この処理装置１は、上述した配
管以外のバイパス管や、各種機器を備えているが、これ
らについての詳しい説明は省略する。
【００２５】次に、上述した処理装置１によって排ガス
中の対象物質を除害する行程を説明する。なお、ここで
は除害する対象物質が三フッ化窒素(NF3)である場合を
例にして説明する。
中の対象物質を除害する行程を説明する。なお、ここで
は除害する対象物質が三フッ化窒素(NF3)である場合を
例にして説明する。
【００２６】まず、処理装置１の運転に際しては、上述
した窒素導入管１３から窒素ガス(N 2)を供給しつつ、ヒ
ーター３０４及びサブヒーター３０８による加熱を始
め、処理筒３が排ガス処理に適した所定の温度となるよ
うに予備運転を行う。このとき、窒素導入管１３から供
給される窒素ガス(N2)は、圧力調整弁RGによって減圧さ
れた後、制御盤５からの制御によって制御される電磁弁
SV1経由で導入管７に自動供給される。
した窒素導入管１３から窒素ガス(N 2)を供給しつつ、ヒ
ーター３０４及びサブヒーター３０８による加熱を始
め、処理筒３が排ガス処理に適した所定の温度となるよ
うに予備運転を行う。このとき、窒素導入管１３から供
給される窒素ガス(N2)は、圧力調整弁RGによって減圧さ
れた後、制御盤５からの制御によって制御される電磁弁
SV1経由で導入管７に自動供給される。
【００２７】処理筒３が排ガス処理に適した所定の温度
となった後、電磁弁SV1が閉じられ、処理筒３に対して
三フッ化窒素(NF3)を含む排ガスが導入管７を介して供
給される。なお、窒素導入管１３上の手動弁NV1は、電
磁弁SV1の開閉にかかわらず、僅かではあるが常に開か
れており、常時少量の窒素ガス(N2)を処理筒３に対して
供給し続けている。
となった後、電磁弁SV1が閉じられ、処理筒３に対して
三フッ化窒素(NF3)を含む排ガスが導入管７を介して供
給される。なお、窒素導入管１３上の手動弁NV1は、電
磁弁SV1の開閉にかかわらず、僅かではあるが常に開か
れており、常時少量の窒素ガス(N2)を処理筒３に対して
供給し続けている。
【００２８】導入管７を介して処理筒３に導入された排
ガスは、まず、第一区画３０１内を通過する間にヒータ
ー３０４によって加熱される。上述したように、第一区
画３０１通過後の排ガス温度が300〜350℃（250℃以上
であれば加熱分解可能）となるようにヒーター３０４が
制御される。排ガスは三フッ化窒素(NF3)を加熱分解す
るのに適した温度となり、三フッ化窒素(NF3)は第一区
画３０１に続く第二区画３０２内において、加熱分解を
促進するための処理剤と接触し、加熱分解される。
ガスは、まず、第一区画３０１内を通過する間にヒータ
ー３０４によって加熱される。上述したように、第一区
画３０１通過後の排ガス温度が300〜350℃（250℃以上
であれば加熱分解可能）となるようにヒーター３０４が
制御される。排ガスは三フッ化窒素(NF3)を加熱分解す
るのに適した温度となり、三フッ化窒素(NF3)は第一区
画３０１に続く第二区画３０２内において、加熱分解を
促進するための処理剤と接触し、加熱分解される。
【００２９】このとき、第二区画３０２は、その内側か
らヒーター３０４の熱を受けると共に外側からサブヒー
ター３０８の熱を受けて効率よく三フッ化窒素(NF3)を
加熱分解する。なお、三フッ化窒素(NF3)は、第二区画
３０２内では、酸化金属と反応してフッ化金属と酸素(O
2)、窒素ガス(N2)及び窒素酸化物(NOx)に加熱分解され
る。
らヒーター３０４の熱を受けると共に外側からサブヒー
ター３０８の熱を受けて効率よく三フッ化窒素(NF3)を
加熱分解する。なお、三フッ化窒素(NF3)は、第二区画
３０２内では、酸化金属と反応してフッ化金属と酸素(O
2)、窒素ガス(N2)及び窒素酸化物(NOx)に加熱分解され
る。
【００３０】即ち、三フッ化窒素(NF3)は固体のフッ化
金属として処理される。固体のフッ化金属となるので、
高温下でも安定しており、ガス化することもなく、その
取扱も容易となる。また、温度制御は、ヒーター３０４
とサブヒーター３０８との二つを用いて行っているた
め、温度分布が安定するという利点もある。
金属として処理される。固体のフッ化金属となるので、
高温下でも安定しており、ガス化することもなく、その
取扱も容易となる。また、温度制御は、ヒーター３０４
とサブヒーター３０８との二つを用いて行っているた
め、温度分布が安定するという利点もある。
【００３１】三フッ化窒素(NF3)が加熱分解された後の
排ガスは、排出管９から排出され、冷却器１０によって
温度が低下される。温度が低下された後の排ガスは、二
次処理筒４に導入され、その内部で三フッ化窒素(NF3)
の加熱分解時に発生した副生成物（上述した窒素酸化物
(NOx)や僅かに発生するフッ化水素(HF)、フッ素ガス
(F2)など）が除去される。二次処理筒４から排出される
処理済みの排ガスは大気放出される。なお、排気管１１
に接続された検出器１５によって排ガス中の三フッ化窒
素(NF3)を検出しており、三フッ化窒素(NF3)が確実に加
熱分解されたことを確認のためにモニターしている。
排ガスは、排出管９から排出され、冷却器１０によって
温度が低下される。温度が低下された後の排ガスは、二
次処理筒４に導入され、その内部で三フッ化窒素(NF3)
の加熱分解時に発生した副生成物（上述した窒素酸化物
(NOx)や僅かに発生するフッ化水素(HF)、フッ素ガス
(F2)など）が除去される。二次処理筒４から排出される
処理済みの排ガスは大気放出される。なお、排気管１１
に接続された検出器１５によって排ガス中の三フッ化窒
素(NF3)を検出しており、三フッ化窒素(NF3)が確実に加
熱分解されたことを確認のためにモニターしている。
【００３２】なお、上述した処理中に、処理筒３の異常
過熱が検出された場合は、ヒーター３０４及びサブヒー
ター３０８が停止されると共に、電磁弁SV1が開放され
て窒素ガス(N2)が処理筒３に対して供給される。これに
より、処理筒３の温度が低下される。また、制御盤５
は、各種センサの出力などに基づいて処理装置１が正常
に機能しているか否かも監視しており、異常を感知した
場合には、警報を発するなどの決められた制御を行う。
過熱が検出された場合は、ヒーター３０４及びサブヒー
ター３０８が停止されると共に、電磁弁SV1が開放され
て窒素ガス(N2)が処理筒３に対して供給される。これに
より、処理筒３の温度が低下される。また、制御盤５
は、各種センサの出力などに基づいて処理装置１が正常
に機能しているか否かも監視しており、異常を感知した
場合には、警報を発するなどの決められた制御を行う。
【００３３】上述した処理装置１における温度監視は、
以下の各温度に基づいている。それぞれ、上限値を超え
たり、下限値未満となったりした場合は、異常を感知し
たことになる。
以下の各温度に基づいている。それぞれ、上限値を超え
たり、下限値未満となったりした場合は、異常を感知し
たことになる。
【表１】
【００３４】処理装置１を停止させる場合には、処理筒
３への排ガスの導入を停止させ、窒素導入管１３を介し
て窒素ガス(N2)を処理筒３に対して供給する。窒素ガス
(N2)を処理筒３に対して供給してしばらくしてから、ヒ
ーター３０４及びサブヒーター３０８を停止する。その
後、処理筒３に対する窒素ガス(N2)の供給をしばらく続
け、処理筒３を徐々に冷却する。排ガスの供給停止と同
時に処理筒３の運転を完全に停止させてしまうと、熱の
逃げ場が無くなり、処理装置１に悪影響を与えることが
懸念される。このように、窒素ガス(N2)を供給させるこ
とによって熱を逃がして徐々に冷却すれば、処理装置１
に悪影響を与えることはない。なお、加熱条件・処理剤
を換えることにより、同装置を用いて他のフルオロ化合
物、例えば、CF4,C2F6の処理も可能となる
３への排ガスの導入を停止させ、窒素導入管１３を介し
て窒素ガス(N2)を処理筒３に対して供給する。窒素ガス
(N2)を処理筒３に対して供給してしばらくしてから、ヒ
ーター３０４及びサブヒーター３０８を停止する。その
後、処理筒３に対する窒素ガス(N2)の供給をしばらく続
け、処理筒３を徐々に冷却する。排ガスの供給停止と同
時に処理筒３の運転を完全に停止させてしまうと、熱の
逃げ場が無くなり、処理装置１に悪影響を与えることが
懸念される。このように、窒素ガス(N2)を供給させるこ
とによって熱を逃がして徐々に冷却すれば、処理装置１
に悪影響を与えることはない。なお、加熱条件・処理剤
を換えることにより、同装置を用いて他のフルオロ化合
物、例えば、CF4,C2F6の処理も可能となる
【００３５】
【発明の効果】本発明の排ガス処理装置は、排ガス中の
対象物質を加熱分解する処理筒を備えており、処理筒
は、その内部が第一区画及び第二区画とに分割されてお
り、第一区画は、その一端に排ガス導入用の導入管が接
続されると共に他端が第二区画の一端と連通し、かつ、
その内部に排ガス加熱用の熱源を有し、第二区画は、そ
の他端に排ガス排出用の排出管が接続され、かつ、その
内部に対象物質の加熱分解を促進する処理剤が充填され
ることを特徴としている。このため、本発明の排ガス処
理装置によれば、第二区画で処理剤と接触させて加熱分
解するにたる温度迄排ガスを第一区画で加熱し、第二区
画で加熱分解させる為、第一区画内のヒーターが分解ガ
スにより腐食することを防止し、排ガス中のフルオロ化
合物を確実に除害することができる。
対象物質を加熱分解する処理筒を備えており、処理筒
は、その内部が第一区画及び第二区画とに分割されてお
り、第一区画は、その一端に排ガス導入用の導入管が接
続されると共に他端が第二区画の一端と連通し、かつ、
その内部に排ガス加熱用の熱源を有し、第二区画は、そ
の他端に排ガス排出用の排出管が接続され、かつ、その
内部に対象物質の加熱分解を促進する処理剤が充填され
ることを特徴としている。このため、本発明の排ガス処
理装置によれば、第二区画で処理剤と接触させて加熱分
解するにたる温度迄排ガスを第一区画で加熱し、第二区
画で加熱分解させる為、第一区画内のヒーターが分解ガ
スにより腐食することを防止し、排ガス中のフルオロ化
合物を確実に除害することができる。
【図１】本発明の排ガス処理装置の一実施形態の構成を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図２】図１に示す処理装置における処理筒を示す断面
図である。
図である。
１…排ガス処理装置、３…処理筒、４…二次処理筒、７
…導入管、８…排出管、１３…窒素導入管、３０１…第
一区画、３０２…第二区画、３０４…ヒーター（熱
源）、３０８…サブヒーター（副熱源）。
…導入管、８…排出管、１３…窒素導入管、３０１…第
一区画、３０２…第二区画、３０４…ヒーター（熱
源）、３０８…サブヒーター（副熱源）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川中 秀治 兵庫県加古郡播磨町新島16番 日本エア・ リキード株式会社播磨テクニカルセンター 内 Ｆターム(参考） 4D002 AA22 AC10 BA12 BA13 BA15 DA11 DA22 EA02 GA01 GA02 GA03 GB01 GB02 GB03 GB04 GB11 GB12
Claims (6)
- 【請求項１】 排ガス中の対象物質を加熱分解する処理
筒を備えた排ガス処理装置において、 前記処理筒の内部は、中央部に配された第一区画と前記
第一区画の周囲に配置された第二区画とに分割されてお
り、 前記第一区画は、その一端に排ガス導入用の導入管が接
続されると共に他端が前記第二区画の一端と連通し、か
つ、その内部に排ガス加熱用の熱源を有し、 前記第二区画は、その他端に排ガス排出用の排出管が接
続され、かつ、その周囲に前記処理筒内部を加熱する副
熱源が配設されていることを特徴とする排ガス処理装
置。 - 【請求項２】 前記第二区画の内部に前記対象物質の加
熱分解を促進する処理剤が充填される、請求項１に記載
の排ガス処理装置。 - 【請求項３】 前記処理筒又は前記導入管の内部に窒素
ガスを導入する窒素導入管をさらに備えている、請求項
１又は２に記載の排ガス処理装置。 - 【請求項４】 前記排出管の下流側に接続され、前記処
理筒内で生成された副生成物を除害する二次処理筒をさ
らに備えている、請求項１〜３の何れかに記載の排ガス
処理装置。 - 【請求項５】 前記対象物質がフルオロ化合物からな
る、請求項４に記載の排ガス処理装置。 - 【請求項６】 前記フルオロ化合物が三フッ化窒素であ
る場合に、前記処理剤の主成分がFe2O3からなる、請求
項５に記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27964699A JP4545852B2 (ja) | 1999-09-30 | 1999-09-30 | 排ガス処理装置 |
| PCT/JP2000/006726 WO2001023073A1 (fr) | 1999-09-30 | 2000-09-28 | Dispositif de traitement de gaz d'echappement |
| AU74482/00A AU7448200A (en) | 1999-09-30 | 2000-09-28 | Exhaust gas treating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27964699A JP4545852B2 (ja) | 1999-09-30 | 1999-09-30 | 排ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001096135A true JP2001096135A (ja) | 2001-04-10 |
| JP4545852B2 JP4545852B2 (ja) | 2010-09-15 |
Family
ID=17613892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27964699A Expired - Lifetime JP4545852B2 (ja) | 1999-09-30 | 1999-09-30 | 排ガス処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4545852B2 (ja) |
| AU (1) | AU7448200A (ja) |
| WO (1) | WO2001023073A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009154083A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Chubu Electric Power Co Inc | ガスの化学的処理方法 |
| WO2010095512A1 (ja) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | セントラル硝子株式会社 | 三フッ化窒素の分解方法及び分解装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57206899A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-18 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Catalyst oxidation reaction tower in tritium removal facility |
| JPS63107728U (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-12 | ||
| JPH03181316A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-07 | Ebara Res Co Ltd | Ｎｆ↓３の除害方法 |
| JPH0515738A (ja) * | 1991-07-11 | 1993-01-26 | Toshiba Corp | 排オゾン処理装置 |
| JPH08215566A (ja) * | 1995-02-15 | 1996-08-27 | Hitachi Ltd | フロンの分解処理方法 |
| JPH11221440A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Oei Kaihatsu Kogyo Kk | 難分解物質の分解処理方法及びその装置 |
| JP2000015047A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-18 | Seiko Epson Corp | 排ガス除害装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3936455B2 (ja) * | 1997-12-09 | 2007-06-27 | カンケンテクノ株式会社 | 高温腐食性ガス体の除害装置及び除害方法 |
-
1999
- 1999-09-30 JP JP27964699A patent/JP4545852B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-09-28 WO PCT/JP2000/006726 patent/WO2001023073A1/ja active Application Filing
- 2000-09-28 AU AU74482/00A patent/AU7448200A/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57206899A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-18 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Catalyst oxidation reaction tower in tritium removal facility |
| JPS63107728U (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-12 | ||
| JPH03181316A (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-07 | Ebara Res Co Ltd | Ｎｆ↓３の除害方法 |
| JPH0515738A (ja) * | 1991-07-11 | 1993-01-26 | Toshiba Corp | 排オゾン処理装置 |
| JPH08215566A (ja) * | 1995-02-15 | 1996-08-27 | Hitachi Ltd | フロンの分解処理方法 |
| JPH11221440A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Oei Kaihatsu Kogyo Kk | 難分解物質の分解処理方法及びその装置 |
| JP2000015047A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-18 | Seiko Epson Corp | 排ガス除害装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009154083A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Chubu Electric Power Co Inc | ガスの化学的処理方法 |
| WO2010095512A1 (ja) * | 2009-02-23 | 2010-08-26 | セントラル硝子株式会社 | 三フッ化窒素の分解方法及び分解装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2001023073A1 (fr) | 2001-04-05 |
| JP4545852B2 (ja) | 2010-09-15 |
| AU7448200A (en) | 2001-04-30 |
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