JPH0515738A - 排オゾン処理装置 - Google Patents
排オゾン処理装置Info
- Publication number
- JPH0515738A JPH0515738A JP3171422A JP17142291A JPH0515738A JP H0515738 A JPH0515738 A JP H0515738A JP 3171422 A JP3171422 A JP 3171422A JP 17142291 A JP17142291 A JP 17142291A JP H0515738 A JPH0515738 A JP H0515738A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- exhaust ozone
- chamber
- gas
- ozone
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- Pending
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 排オゾン分解触媒の性能を低下させることな
く、また加熱エネルギを小さく押えること。 【構成】 フレーム４の外面に加熱ヒータ８ａを有する
保温部材８を設けてなる処理等１を供えている。処理塔
１内が筒状仕切板１５によって、外側の触媒室１１と内
側の予備加熱室１０とに区画されている。触媒室１１内
に排オゾン分解触媒２が充填され、予備加熱室１０内に
予加熱ヒータ１２が配設されている予備加熱室１０内で
予め加熱された排オゾンガスは、触媒室１１内に入り排
オゾン分解触媒２により分解される。
く、また加熱エネルギを小さく押えること。 【構成】 フレーム４の外面に加熱ヒータ８ａを有する
保温部材８を設けてなる処理等１を供えている。処理塔
１内が筒状仕切板１５によって、外側の触媒室１１と内
側の予備加熱室１０とに区画されている。触媒室１１内
に排オゾン分解触媒２が充填され、予備加熱室１０内に
予加熱ヒータ１２が配設されている予備加熱室１０内で
予め加熱された排オゾンガスは、触媒室１１内に入り排
オゾン分解触媒２により分解される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は浄水場、下水処理場、お
よびし尿処理場等の水処理設備に用いられ、オゾン処理
用のオゾン反応槽から発生する排オゾンガスを分解する
ための排オゾン処理装置に関する。
よびし尿処理場等の水処理設備に用いられ、オゾン処理
用のオゾン反応槽から発生する排オゾンガスを分解する
ための排オゾン処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】浄水場、下水処理場、し尿処理場等の水
処理設備では、脱臭、脱色、除鉄、除マンガン、消毒、
有機物の酸化などの目的で、オゾン処理が多く実用化さ
れている。オゾン処理では、オゾン発生器の運転効率か
らオゾン濃度２０ｇＯ3 ／Ｎｍ3 −空気のオゾン化空気
が一般的に用いられている。
処理設備では、脱臭、脱色、除鉄、除マンガン、消毒、
有機物の酸化などの目的で、オゾン処理が多く実用化さ
れている。オゾン処理では、オゾン発生器の運転効率か
らオゾン濃度２０ｇＯ3 ／Ｎｍ3 −空気のオゾン化空気
が一般的に用いられている。
【０００３】オゾン処理は、一般にオゾン反応槽から
は、オゾン処理で余剰となったオゾン化空気が排オゾン
ガスとして排出される。この排ガスはオゾン化空気のオ
ゾン濃度、オゾン化空気の注入率によってそのオゾン濃
度は異なるが、数mgＯ3 ／ｌ水のオゾン注入率で１００
０ppm （volv／vol ）を越えるオゾン濃度になることが
多い。このオゾン濃度は、厚生省のオゾン設備指針で労
働衛生上の許容濃度としている０．１ppm よりはるかに
高いものである。このため排オゾンガスのオゾン分解
が、不可欠なものとなっている。
は、オゾン処理で余剰となったオゾン化空気が排オゾン
ガスとして排出される。この排ガスはオゾン化空気のオ
ゾン濃度、オゾン化空気の注入率によってそのオゾン濃
度は異なるが、数mgＯ3 ／ｌ水のオゾン注入率で１００
０ppm （volv／vol ）を越えるオゾン濃度になることが
多い。このオゾン濃度は、厚生省のオゾン設備指針で労
働衛生上の許容濃度としている０．１ppm よりはるかに
高いものである。このため排オゾンガスのオゾン分解
が、不可欠なものとなっている。
【０００４】排オゾンガスをオゾン分解するものとし
て、排オゾン処理装置が用いられている。排オゾン処理
装置は、従来活性炭を用いていたが、近年になり性能の
良いマンガン系の排オゾン分解触媒を処理塔内に充填し
た排オゾン処理装置が用いられることが多くなってい
る。
て、排オゾン処理装置が用いられている。排オゾン処理
装置は、従来活性炭を用いていたが、近年になり性能の
良いマンガン系の排オゾン分解触媒を処理塔内に充填し
た排オゾン処理装置が用いられることが多くなってい
る。
【０００５】次に従来の排オゾン処理装置について、図
４により説明する。
４により説明する。
【０００６】排オゾン処理装置はフレーム４と、フレー
ム４の外面に設けられ、加熱ヒータ８ａを内蔵した保温
部材８とからなる処理塔１を備えている。
ム４の外面に設けられ、加熱ヒータ８ａを内蔵した保温
部材８とからなる処理塔１を備えている。
【０００７】処理塔１内には支持部材９が配設され、支
持部材９上に排オゾン分解触媒２が充填されている。ま
た処理塔１内の略中央部には排オゾン分解触媒２の温度
を検出する測温センサ３が配置され、測温センサ３およ
び加熱ヒータ８ａは制御装置５に接続されている。そし
て制御装置は測温センサ３からの信号を受けて加熱ヒー
タ８ａを作動させ、排オゾン分解触媒２を所定温度（約
４０℃）に温調している。
持部材９上に排オゾン分解触媒２が充填されている。ま
た処理塔１内の略中央部には排オゾン分解触媒２の温度
を検出する測温センサ３が配置され、測温センサ３およ
び加熱ヒータ８ａは制御装置５に接続されている。そし
て制御装置は測温センサ３からの信号を受けて加熱ヒー
タ８ａを作動させ、排オゾン分解触媒２を所定温度（約
４０℃）に温調している。
【０００８】図４において、処理塔１下部のガス流入管
６から処理塔１に導入された排オゾンガス（常温）は、
設定温度まで加熱された排オゾン分解触媒２中を通って
分解され、その後処理塔１上部のガス流出管７から大気
中に放出される。
６から処理塔１に導入された排オゾンガス（常温）は、
設定温度まで加熱された排オゾン分解触媒２中を通って
分解され、その後処理塔１上部のガス流出管７から大気
中に放出される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、排オゾ
ンガスは処理塔１下部に設けられたガス流入管６から処
理塔１内に導入され、排オゾン分解触媒２によって分解
されて処理塔１上部のガス流出管７から大気に放出され
る。
ンガスは処理塔１下部に設けられたガス流入管６から処
理塔１内に導入され、排オゾン分解触媒２によって分解
されて処理塔１上部のガス流出管７から大気に放出され
る。
【００１０】しかしながら、従来の排オゾン処理装置の
構造によれば、処理塔１内の下方部分（入口側）は常温
の排オゾンガスが流入するため、排オゾン分解触媒２の
温度が設定温度より低下してしまう。一方、処理塔１内
の上方（出口側）はガスの上昇流により温度が上昇する
ため、排オゾン分解触媒２の温度が設定温度より上昇す
る。
構造によれば、処理塔１内の下方部分（入口側）は常温
の排オゾンガスが流入するため、排オゾン分解触媒２の
温度が設定温度より低下してしまう。一方、処理塔１内
の上方（出口側）はガスの上昇流により温度が上昇する
ため、排オゾン分解触媒２の温度が設定温度より上昇す
る。
【００１１】このように処理塔１内に大きな温度分布が
生じると、とりわけ処理塔１の下方部分において排オゾ
ン分解触媒２の温度が低くなるので、分解性能が十分発
揮されず排オゾンガスを確実に分解できなくなる。この
ため、ガス流出管７から大気に放出されるガスのオゾン
濃度が高くなることが考えられ、このことが問題となっ
ている。
生じると、とりわけ処理塔１の下方部分において排オゾ
ン分解触媒２の温度が低くなるので、分解性能が十分発
揮されず排オゾンガスを確実に分解できなくなる。この
ため、ガス流出管７から大気に放出されるガスのオゾン
濃度が高くなることが考えられ、このことが問題となっ
ている。
【００１２】このような問題を解決するため、測温セン
サ３を処理塔１の中央部から下方部へ移すことも考えら
れるが、この場合は処理塔１の下方部の排オゾン分解触
媒の温度が設定温度よりかなり高い温度となり、加熱エ
ネルギの浪費となる。
サ３を処理塔１の中央部から下方部へ移すことも考えら
れるが、この場合は処理塔１の下方部の排オゾン分解触
媒の温度が設定温度よりかなり高い温度となり、加熱エ
ネルギの浪費となる。
【００１３】他方、オゾン分解触媒２の性能低下に対応
するため処理塔の高さを大きくし、排オゾン分解触媒２
の量を多くすることも考えられるが、この場合は処理塔
１の形状の増大および加熱エネルギの増大となり好まし
くない。
するため処理塔の高さを大きくし、排オゾン分解触媒２
の量を多くすることも考えられるが、この場合は処理塔
１の形状の増大および加熱エネルギの増大となり好まし
くない。
【００１４】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、処理塔１内を効率良く加熱して排オゾン分
解性能の維持向上を図ることができる排オゾン処理装置
を提供することを目的とする。
ものであり、処理塔１内を効率良く加熱して排オゾン分
解性能の維持向上を図ることができる排オゾン処理装置
を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、フレームの外
面に加熱ヒータを有する保温部材を設けてなる処理塔を
備え、前記処理塔内を筒状仕切板によって外側の触媒室
と内側の予備加熱室とに区画し、前記触媒室内に排オゾ
ン分解触媒を充填するとともに、前記予備加熱室に予加
熱ヒータを配置し、前記予備加熱室にガス流入管を、前
記触媒室にガス流出管を各々接続したことを特徴とする
排オゾン処理装置である。
面に加熱ヒータを有する保温部材を設けてなる処理塔を
備え、前記処理塔内を筒状仕切板によって外側の触媒室
と内側の予備加熱室とに区画し、前記触媒室内に排オゾ
ン分解触媒を充填するとともに、前記予備加熱室に予加
熱ヒータを配置し、前記予備加熱室にガス流入管を、前
記触媒室にガス流出管を各々接続したことを特徴とする
排オゾン処理装置である。
【００１６】
【作 用】ガス流入管から予備加熱室内に流入した排オ
ゾン分解ガスは、予加熱ヒータによって予備加熱され
る。その後排オゾンガスは触媒室に入り、加熱ヒータに
よって保温維持された排オゾン分解触媒によって分解さ
れて、ガス流出管から放出される。
ゾン分解ガスは、予加熱ヒータによって予備加熱され
る。その後排オゾンガスは触媒室に入り、加熱ヒータに
よって保温維持された排オゾン分解触媒によって分解さ
れて、ガス流出管から放出される。
【００１７】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。
て説明する。
【００１８】図１乃至図３は本発明による排オゾン処理
装置の一実施例を示す図である。図１において排オゾン
処理装置はフレーム４と、フレーム４の外面に設けられ
た保温部材８とからなる処理塔１を備えている。このう
ち保温部材８は加熱ヒータ８ａを有し、フレーム４を外
側から加熱し保温するようになっている。
装置の一実施例を示す図である。図１において排オゾン
処理装置はフレーム４と、フレーム４の外面に設けられ
た保温部材８とからなる処理塔１を備えている。このう
ち保温部材８は加熱ヒータ８ａを有し、フレーム４を外
側から加熱し保温するようになっている。
【００１９】処理塔１内には筒状の仕切板１５が配設さ
れ、この仕切板１５によって処理塔１内が内側の予備加
熱室１０と、外側の触媒室１１とに区画されている。仕
切板１５の下部にはステンレス金網製の支持部材１９が
設けられ、触媒室１１内には支持部材１９に支持された
マンガン系の排オゾン分解触媒（直径２〜３mmのペレッ
ト状触媒）２が充填されている。また触媒室１１内に
は、排オゾン分解触媒２の温度を測定するための測温セ
ンサ３が配置されている。
れ、この仕切板１５によって処理塔１内が内側の予備加
熱室１０と、外側の触媒室１１とに区画されている。仕
切板１５の下部にはステンレス金網製の支持部材１９が
設けられ、触媒室１１内には支持部材１９に支持された
マンガン系の排オゾン分解触媒（直径２〜３mmのペレッ
ト状触媒）２が充填されている。また触媒室１１内に
は、排オゾン分解触媒２の温度を測定するための測温セ
ンサ３が配置されている。
【００２０】他方、予備加熱室１０内には、ステンレス
金網製の底板１８によって支持された予加熱ヒータ１２
が配設され、また予備加熱室１０の下部には排オゾンガ
スの温度を測定するための測温センサ１３が配置されて
いる。さらに予備加熱室１０内には、仕切板１５の内面
および予加熱ヒータ１２の外面に取付けられたじゃま板
１４が複数交互に配設されている。このじゃま板１４は
予備加熱室１０内に流入する排オゾンガスを予加熱ヒー
タ１２で効率よく加熱するためのものである。
金網製の底板１８によって支持された予加熱ヒータ１２
が配設され、また予備加熱室１０の下部には排オゾンガ
スの温度を測定するための測温センサ１３が配置されて
いる。さらに予備加熱室１０内には、仕切板１５の内面
および予加熱ヒータ１２の外面に取付けられたじゃま板
１４が複数交互に配設されている。このじゃま板１４は
予備加熱室１０内に流入する排オゾンガスを予加熱ヒー
タ１２で効率よく加熱するためのものである。
【００２１】なお、上述した測温センサ３、１３、加熱
ヒータ８ａ、および予加熱ヒータ１２は、いずれも制御
装置５に接続されている。
ヒータ８ａ、および予加熱ヒータ１２は、いずれも制御
装置５に接続されている。
【００２２】すなわち、制御装置５によって、測温セン
サ３からの信号に基づき加熱ヒータ８ａを作動させ、排
オゾンガス分解触媒２の温度を設定温度（４０℃）に保
温維持するようになっている。同時に、制御装置５によ
って、測温センサ１３からの信号に基づいて予加熱ヒー
タ１２を作動させ、予備加熱室１０内の温度を排オゾン
ガス分解触媒と略同様の４０℃に維持している。
サ３からの信号に基づき加熱ヒータ８ａを作動させ、排
オゾンガス分解触媒２の温度を設定温度（４０℃）に保
温維持するようになっている。同時に、制御装置５によ
って、測温センサ１３からの信号に基づいて予加熱ヒー
タ１２を作動させ、予備加熱室１０内の温度を排オゾン
ガス分解触媒と略同様の４０℃に維持している。
【００２３】また、処理塔１の上部には、予備加熱室１
０に連通するガス流入管２０が接続され、処理塔１の側
部上方には触媒室１１に連通するガス流出管２１が接続
されている。
０に連通するガス流入管２０が接続され、処理塔１の側
部上方には触媒室１１に連通するガス流出管２１が接続
されている。
【００２４】次にこのような構成からなる本実施例の作
用について説明する。
用について説明する。
【００２５】排オゾンガスがガス流入管２０から予備加
熱室１０内に流入すると、排オゾンガスは予備加熱室１
０内を降下し、予加熱ヒータ１２によって約４０℃まで
予備加熱される。この場合、排オゾンガスは、じゃま板
１４によってその速度が低下するため、予備加熱室１０
内で効率良く加熱される。
熱室１０内に流入すると、排オゾンガスは予備加熱室１
０内を降下し、予加熱ヒータ１２によって約４０℃まで
予備加熱される。この場合、排オゾンガスは、じゃま板
１４によってその速度が低下するため、予備加熱室１０
内で効率良く加熱される。
【００２６】次に、排オゾンガスは支持部材１９を経て
触媒室１１内に入り、上昇しながら排オゾン分解触媒２
によって分解され、ガス流出管２１から大気中へ放出さ
れる。この場合、排オゾン分解触媒２は加熱ヒータ８ａ
によって約４０℃に保温維持されている。このように触
媒室１１内に入る排オゾンガスは、予備加熱室１０内で
予め予備加熱されているため、触媒室１１内の排オゾン
分解触媒２が新規な排オゾンガスによって冷却されるこ
とはない。このため排オゾン分解触媒２の性能維持を図
り、排オゾンガスを効果的に分解することができる。ま
た、予備加熱室１０内の熱は、仕切板１５および支持部
材１９を経て触媒室１１内にも伝わるので、加熱ヒータ
８ａによる加熱エネルギが小さくても、触媒室１１内の
排オゾン分解触媒２を容易に設定温度まで加熱すること
ができる。
触媒室１１内に入り、上昇しながら排オゾン分解触媒２
によって分解され、ガス流出管２１から大気中へ放出さ
れる。この場合、排オゾン分解触媒２は加熱ヒータ８ａ
によって約４０℃に保温維持されている。このように触
媒室１１内に入る排オゾンガスは、予備加熱室１０内で
予め予備加熱されているため、触媒室１１内の排オゾン
分解触媒２が新規な排オゾンガスによって冷却されるこ
とはない。このため排オゾン分解触媒２の性能維持を図
り、排オゾンガスを効果的に分解することができる。ま
た、予備加熱室１０内の熱は、仕切板１５および支持部
材１９を経て触媒室１１内にも伝わるので、加熱ヒータ
８ａによる加熱エネルギが小さくても、触媒室１１内の
排オゾン分解触媒２を容易に設定温度まで加熱すること
ができる。
【００２７】次に図２および図３により、本発明による
排オゾン処理装置の処理性能を従来のものと比較して説
明する。ここで図２はガス流出管から放出されたガスの
オゾン濃度を示す実験特性図であり、図３は処理塔１内
の加熱に要した電力費を示す実験特性図である。
排オゾン処理装置の処理性能を従来のものと比較して説
明する。ここで図２はガス流出管から放出されたガスの
オゾン濃度を示す実験特性図であり、図３は処理塔１内
の加熱に要した電力費を示す実験特性図である。
【００２８】図２および図３に示すように、本発明の場
合、ガス流出管から放出されたオゾン濃度が著しく低下
するとともに、加熱エネルギの電力費が低下するという
優れた効果が得られた。
合、ガス流出管から放出されたオゾン濃度が著しく低下
するとともに、加熱エネルギの電力費が低下するという
優れた効果が得られた。
【００２９】なお、上記実験例において、排オゾン分解
触媒としてマンガン系の触媒を用いた例を示したが、こ
れに限らず他の系統の触媒であってもよい。また予備加
熱室１０内にじゃま板１４を設けた例を示したが、この
じゃま板１４は必ずしも設ける必要はない。
触媒としてマンガン系の触媒を用いた例を示したが、こ
れに限らず他の系統の触媒であってもよい。また予備加
熱室１０内にじゃま板１４を設けた例を示したが、この
じゃま板１４は必ずしも設ける必要はない。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
排オゾンガスは予備加熱室内で予め予備加熱された後、
触媒室内に流入するため、触媒室内の排オゾン分解触媒
が排オゾンガスによって冷却されることはない。このた
め排オゾン分解触媒の性能維持を図り、排オゾン分解ガ
スを効果的に分解することができる。また予備加熱室の
熱は触媒室に伝熱されるので、排オゾン分解触媒を加熱
する加熱ヒータの加熱エネルギを小さく押えることがで
きる。
排オゾンガスは予備加熱室内で予め予備加熱された後、
触媒室内に流入するため、触媒室内の排オゾン分解触媒
が排オゾンガスによって冷却されることはない。このた
め排オゾン分解触媒の性能維持を図り、排オゾン分解ガ
スを効果的に分解することができる。また予備加熱室の
熱は触媒室に伝熱されるので、排オゾン分解触媒を加熱
する加熱ヒータの加熱エネルギを小さく押えることがで
きる。
【図１】本発明による排オゾン処理装置の一実施例を示
す概略図。
す概略図。
【図２】本発明による排オゾン処理装置から放出された
ガスのオゾン濃度を示す実験特性図。
ガスのオゾン濃度を示す実験特性図。
【図３】本発明による排オゾン処理装置の加熱に要した
電力費を示す実験特性図。
電力費を示す実験特性図。
【図４】従来の排オゾン処理装置を示す概略図。
１ 処理塔 ２ 排オゾン分解触媒 ３ 測温センサ ４ フレーム ５ 制御装置 ８ 保温部材 ８ａ 加熱ヒータ １０ 予備加熱室 １１ 触媒室 １２ 予加熱ヒータ １３ 測温センサ １５ 仕切板 ２０ ガス流入管 ２１ ガス流出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田 中 孝 二 東京都府中市東芝町１ 株式会社東芝府中 工場内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】フレームの外面に加熱ヒータを有する保温
部材を設けてなる処理塔を備え、前記処理塔内を筒状仕
切板によって外側の触媒室と内側の予備加熱室とに区画
し、前記触媒室内に排オゾン分解触媒を充填するととも
に、前記予備加熱室に予加熱ヒータを配置し、前記予備
加熱室にガス流入管を、前記触媒室にガス流出管を各々
接続したことを特徴とする排オゾン処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3171422A JPH0515738A (ja) | 1991-07-11 | 1991-07-11 | 排オゾン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3171422A JPH0515738A (ja) | 1991-07-11 | 1991-07-11 | 排オゾン処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0515738A true JPH0515738A (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=15922842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3171422A Pending JPH0515738A (ja) | 1991-07-11 | 1991-07-11 | 排オゾン処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0515738A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001096135A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-10 | Air Liquide Japan Ltd | 排ガス処理装置 |
| JP2019155006A (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 株式会社東芝 | ガス処理装置 |
-
1991
- 1991-07-11 JP JP3171422A patent/JPH0515738A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001096135A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-10 | Air Liquide Japan Ltd | 排ガス処理装置 |
| JP4545852B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2010-09-15 | 日本エア・リキード株式会社 | 排ガス処理装置 |
| JP2019155006A (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 株式会社東芝 | ガス処理装置 |
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