JP2001093946A - 電子ビームテスタ、試験方法、電子ビーム装置、及び観察方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 波形測定を高精度且つ容易に行う。 【解決手段】 電気部品１２に信号を与える信号発生部
６２と、電気信号が与えられた電気部品１２に電子ビー
ムを照射する電子銃１６と、電子ビームが照射される電
気部品１２の位置を制御する照射位置制御部５４と、引
出電圧に応じた電界を発生する引出電極３２と、電子ビ
ームが照射されたことにより発生する２次電子を検出す
る検出器３６と、引出電極３２に第１引出電圧を印加す
ると共に、照射位置制御部５４及び電子銃１６に電子ビ
ームを電気部品１２の所定の範囲に照射させる第１のモ
ード、及び引出電極３２に第１引出電圧より高い第２引
出電圧を出力させると共に、照射位置制御部５４及び電
子銃１６に電気部品の特定の位置に電子ビームを照射さ
せる第２のモードを有する制御部５２と、第２のモード
において、検出器３６から検出される２次電子の量に基
づいて電気部品１２の所定の位置における電圧波形を測
定する波形測定部７２とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電気部品等の対象
部品に対して電子ビームを照射する電子ビームテスタ、
試験方法、電子ビーム装置、及び観察方法に関し、特
に、表面に絶縁膜を有する対象部品に対して電子ビーム
を照射する電子ビームテスタ、試験方法、電子ビーム装
置、及び観察方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば、半導体メモリ等の電気部
品を試験するために電子ビームテスタが用いられてい
る。電子ビームテスタは、電子ビームを試験対象の電気
部品へ照射し、当該電気部品で発生する２次電子量を検
出することにより、電気部品のストロボ像等の２次電子
像や、電気部品の所定の位置における電圧波形を取得す
る。表面に絶縁膜を有する電気部品を試験する電子ビー
ムテスタでは、電子ビームが電気部品に照射されること
により発生される２次電子を効率よく引き出すために電
気部品の表面近傍に電極を設け、当該電極に引出電圧を
印加して電界を発生させる。

【０００３】この電子ビームテスタでは以下のことが知
られている。電極に高い引出電圧が印加されている場合
には、２次電子の軌道誤差により発生する電圧波形のひ
ずみを低減させることができるが、絶縁膜の帯電が速く
進行してしまう。一方、電極に低い引出電圧が印加され
ている場合には、絶縁膜の帯電の進行を遅くできるが、
２次電子の軌道誤差により発生する電圧波形のひずみが
大きい。また、電極に同一の引出電圧が印加されている
場合には、倍率が低いほど、すなわち、電子ビームが照
射される範囲が広いほど、絶縁膜への帯電量が多い。

【０００４】表面に絶縁膜を有する電気部品を試験する
電子ビームテスタとしては、以下のような従来技術が知
られている。一般的な電子ビームテスタでは、電気部品
の所定の範囲の２次電子像を観察する場合と、電気部品
の特定の位置における電圧波形を測定する場合には、電
極に同一の引出電圧を印加する。また、特開平７−１５
３４１０号公報には、観察する倍率に応じて、電極に印
加する引出電圧と共に対物レンズのコイル電流を変更す
る荷電粒子ビーム装置が記載されている。また、第２５
１６１９２号特許公報には、ユニットの上に交流フィー
ルドである電気吸収フィールドを発生させ、正の吸収電
圧が加えられる交流フィールドの周期と同期して２次電
子流の電子のエネルギー測定を行う方法及び装置が記載
されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、像観
察と電圧波形測定とにおいて同じ引出電圧を印加する場
合には、例えば、引出電極と電気部品との間が１０ｍｍ
の場合において、−１００Ｖ（ボルト）〜−２０Ｖとい
った低い電圧の引出電圧を電極に印加すると、絶縁膜へ
の帯電量を低減できるので、像観察は適切に行うことが
できるが、２次電子の軌道誤差により電圧波形へひずみ
を生じさせる問題や、２次電子の検出効率が低いことに
よりノイズが電圧波形に与える影響が大きいという問題
が生じる。一方、高い引出電圧を電極に印加すると、２
次電子の軌道誤差により電圧波形へ生じさせるひずみを
低減することができるが、絶縁膜への帯電量を増加させ
るので、像観察を行うことができなくなる恐れがある。

【０００６】また、第２５１６１９２号特許公報に記載
された装置及び方法では、測定ユニットの絶縁表面に２
次電子を戻させることができるが、２次電子を戻す量を
制御することが非常に困難である。そこで、本発明は、
上記事情に鑑みてなされたものであり、波形測定を高精
度且つ容易に行うことのできる電子ビームテスタ及び試
験方法を提供することを目的とする。また、本発明は、
２次電子像を高精度且つ容易に行うことのできる電子ビ
ーム装置及び観察方法を提供することを目的とする。こ
の目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の
組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更
なる有利な具体例を規定する。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第１の形態に係る電子ビームテスタは、表
面に絶縁膜を有する電気部品を試験する電子ビームテス
タであって、電気部品に信号を与える駆動回路と、駆動
回路により電気信号が与えられた電気部品に電子ビーム
を照射する電子銃と、電子ビームが照射される電気部品
の位置を制御する照射位置制御部と、電気部品の表面近
傍に引出電圧に応じた電界を発生する電界発生部と、電
子ビームが前記電気部品に照射されたことにより発生す
る２次電子を検出する検出器と、電界発生部に第１引出
電圧を印加すると共に、照射位置制御部及び電子銃に電
子ビームを電気部品の所定の範囲に照射させる第１のモ
ード、及び、第１のモードの後に、電界発生部に第１引
出電圧より高い第２引出電圧を印加すると共に、照射位
置制御部及び電子銃に電気部品の特定の位置に電子ビー
ムを照射させる第２のモードを有する制御部と、第２の
モードにおいて、検出器から検出される２次電子の量に
基づいて電気部品の所定の位置における電圧波形を測定
する波形測定部とを備えることを特徴とする。

【０００８】第１引出電圧は、０ボルトであってもよ
い。ユーザから波形測定を行う電気部品の特定の位置を
特定する情報を受け付ける測定位置受付部を更に有し、
制御部は、第２のモードにおいて、測定位置受付部が受
け付けた情報が示す電気部品の特定の位置に電子ビーム
を照射させるようにしてもよい。

【０００９】第１のモードにおいて、検出器から検出さ
れる２次電子の量に基づいて電気部品の所定の範囲にお
ける第１引出電圧印加時の２次電子像を検出する像検出
部と、検出された第１引出電圧印加時の２次電子像を表
示する表示部とを更に備え、測定位置受付部は、情報と
して２次電子像における位置を受け付ける様用にしても
よい。

【００１０】第１のモードにおいて得られる２次電子像
中の位置と、第２のモードにおいて当該位置が示す前記
電気部品上の所定の位置に対して電子ビームを好適に照
射するための制御情報とを対応付けて記憶する制御情報
記憶部を更に備え、制御部は、第２のモードにおいて、
測定位置受付部により受け付けられた位置に対応する制
御情報に基づいて照射位置制御部を制御して電子ビーム
を電気部品の特定の位置に照射させるようにしてもよ
い。

【００１１】第２引出電圧印加時の２次電子像の各位置
と、当該２次電子像が示す前記電気部品の位置に電子ビ
ームを好適に照射させるための制御情報とを対応付けて
記憶する制御情報記憶部と、電界発生部に第２引出電圧
を印加すると共に、照射位置制御部及び電子銃に前記電
子ビームを前記電気部品の所定の範囲に照射させる第３
のモードを有する第２制御部と、第３のモードにおい
て、検出器から検出される２次電子の量に基づいて前記
電気部品の所定の範囲における第２引出電圧印加時の２
次電子像を検出する第２像検出部と、第１のモードによ
り得られる第１引出電圧印加時の２次電子像と第３のモ
ードにより得られる第２引出電圧印加時の２次電子像と
に基づいて、測定位置受付部により受け付けられた第１
引出電圧印加時の２次電子像の位置に対応する第２引出
電圧印加時の２次電子像の位置を検出する対応位置検出
部とを備え、制御部は、第２のモードにおいて、対応位
置検出部により検出された２次電子像の位置に対応する
制御情報に基づいて、前照射位置制御部を制御して電子
ビームを電気部品の特定の位置に照射させるようにして
もよい。

【００１２】電子ビームの照射状況を調整する照射状況
調整部を更に有し、制御部は、照射状況調整部により電
子ビームの照射状況を調整させるようにしてもよい。各
引出電圧印加時における照射状況を規定する調整情報を
保持する調整情報記憶部を有し、制御部は、印加する引
出電圧に対応する調整情報に基づいて照射状況を調整さ
せるようにしてもよい。ユーザから照射状況の調整指示
を受け付ける調整指示受付部を更に有し、制御部は、調
整指示に基づいて照射状況を調整させるようにしてもよ
い。

【００１３】電界発生部に第２引出電圧を印加すると共
に、照射位置制御部及び電子銃に電子ビームを電気部品
の所定の範囲に照射させる第３のモードを有する第２制
御部と、第３のモードにおいて、検出器から検出される
２次電子の量に基づいて電気部品の所定の範囲における
第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像検出
部と、検出した２次電子像を表示する表示部とを更に有
するようにしてもよい。

【００１４】電界発生部に第２引出電圧を出力させると
共に、照射位置制御部及び電子銃に電子ビームを電気部
品の所定の範囲に照射させる第３のモードを有する第２
制御部と、第３のモードにおいて、検出器から検出され
る２次電子の量に基づいて電気部品の所定の範囲におけ
る第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像検
出部と、２次電子像に基づいて、電子ビームを所定の照
射状況にするための調整情報を検出する調整情報検出部
とを備え、制御部は、第２のモードにおいて、調整情報
検出部により検出された調整情報に基づいて照射状況を
調整させるようにしてもよい。

【００１５】上記目的を達成するために、本発明の第２
の形態に係る試験方法は、表面に絶縁膜を有する電気部
品を試験する試験方法であって、電気部品に信号を与え
つつ、電気部品の表面近傍に第１引出電圧に応じて電界
を調整するとともに、電気部品の所定の範囲に電子ビー
ムを照射する第１照射ステップと、第１照射ステップの
後に、電気部品に信号を与えつつ、電気部品の表面近傍
に第１引出電圧より高い第２引出電圧に応じて電界を調
整するとともに、電気部品の特定の位置に電子ビームを
照射する第２照射ステップと、第２照射ステップで電気
部品に電子ビームを照射することにより発生する２次電
子を検出し、当該２次電子の量に基づいて前記部品の位
置における電圧波形を測定する波形測定ステップとを有
することを特徴とする。

【００１６】第１引出電圧は、０ボルトであってもよ
い。ユーザから第２照射ステップにおいて電子ビームを
照射する電気部品の位置を特定する情報を受け付ける測
定位置受付ステップを更に有し、第２照射ステップは、
測定位置受付ステップで受け付けた情報が示す電気部品
の位置に電子ビームを照射するようにしてもよい。

【００１７】第１照射ステップで電気部品に電子ビーム
を照射することにより発生する２次電子を検出し、当該
２次電子の量に基づいて電気部品の所定の範囲における
第１引出電圧印加時の２次電子像を検出する像検出ステ
ップと、検出された第１引出電圧印加時の２次電子像を
表示する表示ステップとを更に備え、測定位置受付ステ
ップは、情報として２次電子像における位置を受け付け
るようにしてもよい。

【００１８】第１引出電圧により電界を発生させる際に
おいて得られる２次電子像中の位置と、第２引出電圧に
より電界を発生させる際において当該位置が示す電気部
品の位置に電子ビームを照射するための制御情報とを対
応付けて記憶する制御情報記憶ステップを更に備え、第
２照射ステップは、測定位置受付ステップで受け付けら
れた位置に対応する制御情報に基づいて電子ビームを電
気部品の所定の位置に照射するようにしてもよい。

【００１９】電気部品に信号を与えつつ、電気部品の表
面近傍に第２引出電圧に応じて電界を発生するととも
に、電気部品の所定の範囲に電子ビームを照射する第３
照射ステップと、第３照射ステップで電気部品に電子ビ
ームを照射することにより発生する２次電子を検出し、
当該２次電子の量に基づいて電気部品の所定の範囲にお
ける第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像
検出ステップと、第２引出電圧印加時の２次電子像の各
位置が示す電気部品の位置に電子ビームを照射させるた
めの制御情報を記憶する制御情報記憶ステップと、第１
引出電圧に応じて電界を発生する際において得られる２
次電子像と、第２引出電圧に応じた電界を発生する際に
おいて得られる２次電子像とに基づいて、測定位置受付
ステップで受け付けられた第１引出電圧印加時の２次電
子像の位置に対応する第２引出電圧印加時の２次電子像
の位置を検出する対応位置検出ステップとを備え、第２
照射ステップでは、対応位置検出ステップで検出された
２次電子像の位置に対応する制御情報に基づいて、電子
ビームを電気部品の所定の位置に照射させるようにして
もよい。

【００２０】電子ビームの照射状況を調整する照射状況
調整ステップを更に有し、第２照射ステップでは、電子
ビームの前記照射状況を調整するようにしてもよい。各
引出電圧印加時における照射状況を規定する調整情報を
保持する調整情報記憶ステップと、第２照射ステップ
は、印加される引出電圧に対応する調整情報に基づいて
照射状況を調整するようにしてもよい。ユーザから照射
状況の調整指示を受け付ける調整指示受付ステップを更
に有し、第２照射ステップは、調整指示に基づいて照射
状況を調整するようにしてもよい。

【００２１】電気部品に信号を与えつつ、電気部品の表
面近傍に第２引出電圧に応じた電界を発生するととも
に、電気部品の所定の範囲に電子ビームを照射する第３
照射ステップと、第３照射ステップで電気部品に電子ビ
ームを照射することにより発生する２次電子を検出し、
当該２次電子の量に基づいて電気部品の所定の範囲にお
ける第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像
検出ステップと、第２像検出ステップで検出した２次電
子像を表示する表示ステップとを更に有するようにして
もよい。

【００２２】電気部品に信号を与えつつ、電気部品の表
面近傍に第２引出電圧に応じた電界を発生するととも
に、電気部品の所定の範囲に電子ビームを照射する第３
照射ステップと、第３照射ステップで電気部品に電子ビ
ームを照射することにより発生する２次電子を検出し、
当該２次電子の量に基づいて電気部品の所定の範囲にお
ける第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像
検出ステップと、２次電子像に基づいて、電子ビームを
所定の照射状況にするための調整情報を検出する調整情
報検出ステップと、を備え、第２照射ステップは、調整
情報検出ステップで検出された調整情報に基づいて照射
状況を調整するようにしてもよい。

【００２３】上記目的を達成するために、本発明の第３
の形態に係る電子ビーム装置は、表面に絶縁膜を有する
対象部品に電子ビームを照射する電子ビーム装置であっ
て、対象部品に電子ビームを照射する電子銃と、電子ビ
ームが照射される対象部品の位置を制御する照射位置制
御部と、電気部品の表面近傍に引出電圧に応じて電界を
発生する電界発生部と、電界発生部に第１引出電圧を印
加するとともに、照射位置制御部及び電子銃に電子ビー
ムを対象部品の所定の範囲に照射させる第１のモード
と、第１のモードの後に、電界発生部に第１引出電圧よ
り高い第２引出電圧を印加すると共に、照射位置制御部
及び電子銃に対象部品の範囲の少なくとも一点において
電子ビームを照射させる第２のモードとを有する制御部
と、電子ビームが対象部品に照射されたことにより発生
する２次電子を検出する検出器とを備えることを特徴と
する。

【００２４】制御部の第２のモードは、第１のモードの
電子ビームの照射範囲より狭い観察範囲に電子ビームを
照射させ、第２のモードにおいて、検出器から検出され
る２次電子の量に基づいて電気部品の観察範囲の２次電
子像を検出する像検出部を更に備えるようにしてもよ
い。第１引出電圧は、０ボルトであってもよい。電子銃
により照射される電子ビームの単位時間あたりの電流量
を制御する電流量制御部を更に備え、電流量制御部は、
第１のモードにおいて照射される単位時間あたりの電流
量を第２のモードにおいて照射される単位時間あたりの
電流量より多くするようにしてもよい。

【００２５】上記目的を達成するために、本発明の第４
の形態に係る観察方法は、 表面に絶縁膜を有する対象
部品を観察する観察方法であって、対象部品の表面近傍
に第１引出電圧に応じて電界を発生するとともに、対象
部品の所定の範囲に電子ビームを照射する第１照射ステ
ップと、第１照射ステップの後に、対象部品の表面近傍
に第１引出電圧より高い第２引出電圧に応じて電界を発
生するとともに、対象部品の所定の範囲の少なくとも一
点に電子ビームを照射する第２照射ステップと、第２照
射ステップで電気ビームが照射されることにより発生す
る２次電子量を検出する２次電子検出ステップとを有す
ることを特徴とする。

【００２６】第２照射ステップにおいて、第１照射ステ
ップの電子ビームの照射範囲より狭い観察範囲に前記電
子ビームを照射させ、２次電子検出ステップで検出され
た２次電子量に基づいて２次電子像を検出する観察ステ
ップを更に有するようにしてもよい。第１引出電圧は、
０ボルトであってもよい。第１照射ステップにおいて照
射される電子ビームの単位時間あたりの電流量を、第２
照射ステップにおいて照射される電子ビームの単位時間
あたりの電流量より多くするようにしてもよい。なお、
上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙
したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーシ
ョンも又発明となりうる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、発明の実施の形態を通じて
本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲
に係る発明を限定するものではなく、また、実施形態の
中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解
決手段に必須であるとは限らない。図１は、本発明の第
１実施形態に係る電子ビームテスタの構成を示す図であ
る。本電子ビームテスタは、絶縁膜を有する対象部品の
一例としての電気部品を試験する電子ビームテスタであ
る。ここで、電気部品とは、電流又は電圧に応じて所定
の作用を行う部品をいい、例えば、ＩＣ（Integrated C
ircuit）やＬＳＩ（Large‐Scale Integrated circui
t）のような能動素子から成る半導体部品のみならず、
受動素子、各種センサー等の部品も含み、更に、これら
部品を結合して一つのパッケージに収めた部品や、これ
ら部品をプリント基板に装着して所定の機能を実現した
ブレッドボード等の部品も含む。

【００２８】電子ビームテスタは、電子ビーム鏡筒１０
と、アンプ３８と、アナログ・デジタル変換器（Ａ／Ｄ
変換器）４０と、制御情報記憶部及び調整情報記憶部の
一例としての記憶部５０と、制御部５２と、照射位置制
御部５４と、照射状況調整部５６と、引出電圧印加部５
８と、分析電圧印加部６０と、駆動回路の一例としての
信号発生部６２と、測定位置受付部の一例としての受付
部６４と、キーボード６６と、マウス６８と、像検出部
７０と、波形測定部７２と、表示部７４と、表示装置７
６とを有する。電子ビーム鏡筒１０は、電子銃１６と、
磁界レンズ１８と、偏向板２０と、チョッピングアパー
チャ２２と、磁界レンズ２４と、偏向器２６と、非点補
正レンズ２８と、対物レンズ３０と、電界発生部の一例
としての引出電極３２と、エネルギーフィルタ３４と、
検出器３６とを有する。

【００２９】電子ビームテスタの電子ビーム鏡筒１０内
において、電子銃１６から電子ビームＥＢが照射され
る。電子銃１６から照射された電子ビームＥＢは、磁界
レンズ１８を介して偏向板２０の間に導入される。偏向
板２０は、電子ビームＥＢを偏向して、チョッピングア
パーチャ２２が有する開口を電子ビームＥＢが所定時間
通過するようにして電子ビームＥＢをパルス状にする。
パルス状にされた電子ビームは、磁界レンズ２４、偏向
器２６、非点補正レンズ２８、及び対物レンズ３０を介
してステージ１４上に載置された電気部品１２に照射さ
れる。

【００３０】偏向器２６は、電子ビームＥＢを偏向し
て、当該電子ビームが照射される電気部品１２の位置を
変更する。非点補正レンズ２８は、電子ビームＥＢに発
生する非点収差を補正する。対物レンズ３０は、電子ビ
ームＥＢの焦点を調整する。電子ビームＥＢが電気部品
１２に照射されることにより発生する２次電子は、エネ
ルギーフィルタ３４を介して検出器３６により検出され
る。検出器３６は、検出した２次電子の量（２次電子
量）をアンプ３８に入力する。

【００３１】アンプ３８は、入力された２次電子量を増
幅してＡ／Ｄ変換器４０に入力する。Ａ／Ｄ変換器４０
は、アンプ３８から入力された２次電子量をデジタル信
号に変換して、像検出部７０及び波形測定部７２に入力
する。照射位置制御部５４は、制御部５２の制御に基づ
いて、偏向器２６を制御して電気部品１２の所定の位置
に電子ビームを照射させる。照射状況調整部５６は、制
御部５２の制御に基づいて、非点補正レンズ２８を制御
して電子ビームの非点収差を調整する。また、照射状況
調整部５６は、制御部５２の制御に基づいて、対物レン
ズ３０を制御して電子ビームに対する焦点を調整する。

【００３２】引出電圧印加部５８は、制御部５２の制御
に基づいて、引出電極３２に引出電圧を印加する。本実
施形態では、引出電圧印加部５８は引出電圧として、第
１引出電圧と、当該第１引出電圧より高い第２引出電圧
とを出力する。本実施形態では、第１引出電圧として、
例えば、−１００Ｖ〜５０Ｖの間の電圧を用い、第２引
出電圧として、例えば３００Ｖを用いる。分析電圧印加
部６０は、制御部５２の制御に基づいて、エネルギーフ
ィルタ３４に分析電圧を印加する。信号発生部６２は、
電気部品１２に与える信号を発生する。

【００３３】受付部６４は、キーボード６６またはマウ
ス６８によるユーザからの指示を受け付ける。本実施形
態では、受付部６４は、波形測定を行う電気部品１２の
位置を特定する情報を受け付ける。本実施形態では、受
付部６４は、表示装置７６に表示された第１のモードに
おける２次電子像に対するマウス６８によるポインティ
ング動作により波形測定を行う電気部品１２の位置を特
定する情報を受け付ける。

【００３４】記憶部５０は、複数の引出電圧のそれぞれ
を印加した場合における照射状況を規定する調整情報を
記憶する。本実施形態では、照射状況を規定する調整情
報として、各引出電圧毎に、非点収差をなくすために非
点補正レンズ２８を調整する調整量と、対物レンズ３０
による焦点位置を電気部品１２に好適に合わせるための
調整量とを用意する。また、記憶部５０は、第１のモー
ドにおいて得られる前記２次電子像中の位置と、第２の
モードにおいて当該位置が示す前記電気部品１２上の特
定の位置に対して電子ビームを照射するための制御情報
とを対応付けて記憶する。本実施形態では、制御情報と
して、偏向器２６による電子ビームの偏向量を特定する
情報を用いる。

【００３５】制御部５２は、引出電圧印加部５８に引出
電極３２へ第１引出電圧を印加させ、電子銃１６に前記
電子ビームを照射させると共に、照射位置制御部５４に
偏向器２６を制御させて前記電子ビームを電気部品１２
の所定の範囲に照射させる第１のモードと、引出電圧印
加部５８に引出電極３２へ第１引出電圧より高い第２引
出電圧を印加させ、電子銃１６に前記電子ビームを照射
させると共に、照射位置制御部５４に偏向器２６を制御
させて前記電子ビームを電気部品１２の特定の位置に照
射させる第２のモードとを有する。

【００３６】本実施形態では、制御部５２は、第２のモ
ードにおいて、受付部６４により受け付けられた情報に
より特定される位置に対応する制御情報を記憶部５０か
ら取り出し、当該制御情報に基づいて、照射位置制御部
５４に偏向器２６を制御させる。また、制御部５２は、
第１及び第２のモードにおいて、記憶部５０から調整情
報を取り出し、当該調整情報に基づいて、照射状況調整
部５６に非点補正レンズ２８及び対物レンズ３０を調整
させる。また、制御部５２は、電子ビーム鏡筒１０内の
各部１８、２０、２４や、分析電圧印加部６０等の制御
も行う。

【００３７】像検出部７０は、第１のモードにおいて、
Ａ／Ｄ変換器４０から入力される２次電子量に基づいて
電気部品１２の所定の範囲についての２次電子像を検出
し、２次電子像を表示部７４に出力する。波形測定部７
２は、第２のモードにおいて、Ａ／Ｄ変換器４０から入
力される２次電子量に基づいて電気部品１２の特定の位
置における電圧波形を測定し、電圧波形を表示部７４に
出力する。表示部７４は、像検出部７０から入力された
２次電子像、または波形測定部７２から入力される電圧
波形を表示装置７６により表示させる。

【００３８】図２は、本発明の第１実施形態に係る電子
ビームテスタによる試験方法を説明する図である。ま
ず、調整情報を記憶部５０に記憶させる（ステップＳ１
００）。更に、制御情報を記憶部５０に記憶させる（ス
テップＳ１０２）。なお、制御情報又は調整情報が予め
記憶部５０に登録されている場合には、該当する情報を
記憶させるステップを行わなくともよい。

【００３９】そして、制御部５２が、引出電圧印加部５
８に引出電極３２へ第１引出電圧を印加させ、電子銃１
６に前記電子ビームを照射させると共に、照射位置制御
部５４に偏向器２６を制御させて前記電子ビームを電気
部品１２の所定の範囲に照射させるとともに（ステップ
Ｓ１０４）、検出器３６が電気部品１２に電子ビームが
照射されることにより発生される２次電子を検出し、ア
ンプ３８が検出器３６で検出された２次電子量を増幅
し、Ａ／Ｄ変換器４０が２次電子量をデジタル信号に変
換して出力する。

【００４０】次いで、像検出部７０がＡ／Ｄ変換器４０
から入力された２次電子量に基づいて、電気部品１２に
ついての２次電子像を検出する（ステップＳ１０６）。
次いで、表示部７４が像検出部７０により検出された電
気部品１２の２次電子像を表示装置７６に表示させる
（ステップＳ１０８）。そして、受付部６４が表示装置
７６に表示された第１引出電圧を印加した際の２次電子
像に対するマウス６８によるポインティング動作により
波形測定を行う電気部品１２の位置を特定する情報を受
け付ける（ステップＳ１１０）。

【００４１】次いで、制御部５２が、記憶部５０から調
整情報を取り出し、当該調整情報に基づいて、照射状況
調整部５６に非点補正レンズ２８及び対物レンズ３０を
調整させる（ステップＳ１１２）。更に、制御部５２が
引出電圧印加部５８に引出電極３２へ第２引出電圧を印
加させ、電子銃１６に電子ビームを照射させ、これと共
に、制御部５２が、受付部６４により受け付けられた情
報により特定される位置に対応する制御情報を記憶部８
０から取り出し、当該制御情報に基づいて、照射位置制
御部５４に偏向器２６を制御させて前記電子ビームを電
気部品１２の特定の位置に照射させる（ステップＳ１１
４）。

【００４２】これにより、検出器３６が電気部品１２に
電子ビームが照射されることにより発生される２次電子
を検出し、アンプ３８が検出器３６で検出された２次電
子量を増幅し、Ａ／Ｄ変換器４０が２次電子量をデジタ
ル信号に変換して出力する。次いで、波形測定部７２が
Ａ／Ｄ変換器４０から入力された２次電子量に基づい
て、電気部品１２の特定の位置における電圧波形を測定
する（ステップＳ１１６）。

【００４３】本実施形態によると、第２引出電圧を印加
させて、電子ビームを電気部品１２の特定の位置に照射
させ、当該位置の電圧波形を測定する前に、第１引出電
圧を印加して電気部品１２の所定の範囲に電子ビームを
照射するために、当該所定の範囲において、帯電を抑え
る或いは低減することができ、更に、帯電の状態を均一
にすることができる。このことと、さらに、波形測定に
おいて比較的高い第２引出電圧を印加することができる
ために、高精度に波形測定を行うことができる。また、
ユーザが電子ビームについての焦点の調整等を行う必要
がなく容易に波形を測定を行うことができる。

【００４４】図３は、本発明の第２実施形態に係る電子
ビームテスタの構成を示す図である。ここで、図１に示
す第１実施形態の電子ビームテスタと同様な機能要素に
は同一の符号を付すこととする。本実施形態の電子ビー
ムテスタは、記憶部５０に換えて記憶部８０を有し、受
付部６４に換えて測定位置受付部及び調整指示受付部の
一例としての受付部８２を有し、像検出部７０に換えて
像検出部及び第２像検出部の一例としての像検出部８８
を有し、対応位置検出部８４と調整情報検出部８６とを
更に備え、制御部５２に新たな機能を追加している。

【００４５】記憶部８０は、複数の引出電圧印加時にお
ける照射状況を規定する調整情報を記憶する。本実施形
態では、照射状況を規定する調整情報として、各引出電
圧毎に、非点収差をなくすために非点補正レンズ２８を
調整する調整量と、対物レンズ３０による焦点位置を電
気部品に好適に合わせるための調整量とを用意する。ま
た、記憶部８０は、第２引出電圧印加時の２次電子像の
各位置と、当該２次電子像が示す電気部品１２の位置に
電子ビームを好適に照射させるための制御情報とを対応
付けて記憶する。本実施形態では、制御情報として、偏
向器２６による電子ビームの偏向量を特定する情報を用
いる。また、記憶部８０は、後述の対応位置検出部８４
により検出された位置関係情報を記憶する。

【００４６】受付部８２は、キーボード６６またはマウ
ス６８によるユーザからの指示を受け付ける。本実施形
態では、受付部８２は、波形測定を行う電気部品１２の
位置を特定する情報を受け付ける。本実施形態では、受
付部８２は、表示装置７６に表示された後述する第３の
モード又は第１のモードにおける２次電子像に対するマ
ウス６８によるポインティング動作により波形測定を行
う電気部品１２の位置を特定する情報を受け付ける。ま
た、本実施形態では、受付部８２は、焦点の調整、非点
調整、明るさ調整、２次電子像の回転角の調整、観察倍
率の調整等の指示を受け付ける。

【００４７】対応位置検出部８４は第１のモードにより
得られる第１引出電圧印加時の２次電子像と第３のモー
ドにより得られる第２引出電圧印加時の２次電子像とに
基づいて、測定位置受付部８２により受け付けられた第
１引出電圧印加時の２次電子像の位置に対応する第２引
出電圧印加時の２次電子像の位置を検出する。本実施形
態では、対応位置検出部８４は、第１のモードにより得
られる第１引出電圧印加時の２次電子像と第３のモード
により得られる第２引出電圧印加時の２次電子像との間
で、パターン・マッチング技術を利用することで、対応
位置を検出する。本実施形態では、対応位置検出部８４
が検出した第１引出電圧印加時と第２引出電圧印加時と
の２次電子像における対応する位置を示す位置関係情報
は記憶部８０に格納される。

【００４８】調整情報検出部８６は、第１のモード又は
第３のモードにおいて得られた２次電子像に基づいて、
電子ビームを所定の照射状況にするための調整情報を検
出する。本実施形態では、照射状況を規定する調整情報
として、各引出電圧毎に、非点収差をなくすために非点
補正レンズ２８を調整する調整量と、対物レンズ３０に
よる焦点位置を電気部品に好適に合わせるための調整量
とを用意する。本実施形態では、調整情報検出部８６
は、例えば、第１のモードあるいは第２のモードにおい
て得られた、照射状況が異なる複数の２次電子像の観察
し、非点収差が少なく、焦点が合っている２次電子像を
検出し、この２次電子像を得た場合の調整情報を好適な
照射状況を得るための調整情報として検出する。本実施
形態では、検出した調整情報は記憶部８０に格納され
る。

【００４９】像検出部８８は、第１実施形態の像検出部
７０において、第３のモードにおいて検出器３６から検
出される２次電子の量に基づいて、電気部品１２の所定
の範囲における第２引出電圧印加時の２次電子像を検出
する機能を更に有する。制御部５２は、制御部及び第２
制御部の一例であり、引出電圧印加部５８に引出電極３
２へ第２引出電圧を印加させ、電子銃１６に前記電子ビ
ームを照射させると共に、照射位置制御部５４に偏向器
２６を制御させて前記電子ビームを電気部品１２の所定
の範囲に照射させる第３のモードを更に有する。

【００５０】また、制御部５２は、受付部８２が第３の
モードにおける２次電子像に対するマウス６８によるポ
インティング動作により波形測定を行う電気部品１２の
位置を特定する情報を受け付けた場合には、第２のモー
ドにおいて、受付部６４により受け付けられた情報によ
り特定される位置に対応する制御情報を記憶部８０から
取り出し、当該制御情報に基づいて、照射位置制御部５
４に偏向器２６を制御させる。

【００５１】また、制御部５２は、受付部８２が第１の
モードにおける２次電子像に対するマウス６８によるポ
インティング動作により波形測定を行う電気部品１２の
位置を特定する情報を受け付けた場合には、第２のモー
ドにおいて、受付部６４により受け付けられた情報によ
り特定される位置に対応する第２引出電圧印加時の２次
電子像の位置を記憶部８０に記憶された位置関係情報に
基づいて検出し、検出した位置に対応する制御情報を記
憶部８０から取り出し、当該制御情報に基づいて、照射
位置制御部５４に偏向器２６を制御させる。

【００５２】また、制御部５２は、受付部８２により焦
点の調整、非点の調整の指示が受け付けられた場合に
は、当該指示に基づいて、照射状況調整部５６に非点補
正レンズ２８及び対物レンズ３０を調整させる。また、
制御部５２は、受付部８２により、２次電子像の回転角
の調整、観察倍率の調整等の指示を受け付けた場合に
は、当該指示に基づいて、照射位置制御部５４に偏向器
２６を制御させる。また、制御部５２は、受付部８２に
より明るさの調整指示を受け付けた場合には、当該指示
に基づいて、アンプ３８のゲインを調整させる。また、
制御部５２は、調整情報検出部８６により検出された調
整情報に基づいて、照射状況調整部５６に非点補正レン
ズ２８及び対物レンズ３０を調整させる。

【００５３】図４は、本発明の第２実施形態に係る電子
ビームテスタの試験方法を説明する図である。ここで、
図２に示す第１実施形態の電子ビームテスタの試験方法
と同様なステップには、同一の符号を付すこととする。
まず、制御情報を記憶部８０に記憶させる（ステップＳ
２００）。なお、制御情報が予め記憶部８０に登録され
ている場合には、当該ステップを行わなくともよい。

【００５４】そして、制御部５２が、引出電圧印加部５
８に引出電極３２へ第１引出電圧を印加させ、電子銃１
６に前記電子ビームを照射させると共に、照射位置制御
部５４に偏向器２６を制御させて前記電子ビームを電気
部品１２の所定の範囲に照射させるとともに（ステップ
Ｓ１０４）、検出器３６が電気部品１２に電子ビームが
照射されることにより発生される２次電子を検出し、ア
ンプ３８が検出器３６で検出された２次電子量を増幅
し、Ａ／Ｄ変換器４０が２次電子量をデジタル信号に変
換して出力する。次いで、像検出部８８がＡ／Ｄ変換器
４０から入力された２次電子量に基づいて、電気部品１
２についての２次電子像を検出する（ステップＳ１０
６）。

【００５５】次いで、制御部５２が、引出電圧印加部５
８に引出電極３２へ第２引出電圧を印加させ、電子銃１
６に前記電子ビームを照射させると共に、照射位置制御
部５４に偏向器２６を制御させて前記電子ビームを電気
部品１２の所定の範囲に照射させるとともに（ステップ
Ｓ２０２）、検出器３６が電気部品１２に電子ビームが
照射されることにより発生される２次電子を検出し、ア
ンプ３８が検出器３６で検出された２次電子量を増幅
し、Ａ／Ｄ変換器４０が２次電子量をデジタル信号に変
換して出力する。ここで、電子ビームを照射させる範囲
を、第１引出電圧印加時に電子ビームを照射させた範囲
より狭くするようにしてもよく。このようにすると、電
気部品１２上の帯電量を抑えることができる。次いで、
像検出部８８がＡ／Ｄ変換器４０から入力された２次電
子量に基づいて、電気部品１２についての２次電子像を
検出する（ステップＳ２０４）。

【００５６】次いで、対応位置検出部８４が第１のモー
ドにより得られる第１引出電圧印加時の２次電子像と第
３のモードにより得られる第２引出電圧印加時の２次電
子像とに基づいて、測定位置受付部８２により受け付け
られた第１引出電圧印加時の２次電子像の位置に対応す
る第２引出電圧印加時の２次電子像の位置を検出する
（ステップＳ２０６）。次いで、調整情報検出部８６
が、第１のモード又は第３のモードにおいて得られた２
次電子像に基づいて、電子ビームを所定の照射状況にす
るための調整情報を検出する（ステップＳ２０８）。

【００５７】次いで、表示部７４が像検出部８８により
検出された電気部品１２の２次電子像を表示装置７６に
表示させる（ステップＳ２１０）。ここで、第１引出電
圧印加時の２次電子像を表示してもよく、第２引出電圧
印加時の２次電子像を表示してもよく、双方の２次電子
像を表示してもよい。そして、受付部６４が表示装置７
６に表示された２次電子像に対するマウス６８によるポ
インティング動作により波形測定を行う電気部品１２の
位置を特定する情報を受け付ける（ステップＳ１１
０）。また、受付部６４がマウス６８等による指示によ
り、焦点の調整、非点調整、明るさ調整、２次電子像の
回転角の調整、観察倍率の調整等の指示を受け付ける
（ステップＳ２１２）。

【００５８】そして、制御部５２が、引出電圧印加部５
８に引出電極３２へ第１引出電圧を印加させ、電子銃１
６に前記電子ビームを照射させると共に、照射位置制御
部５４に偏向器２６を制御させて前記電子ビームを電気
部品１２の所定の範囲に照射させる（ステップＳ１０
４）。次いで、制御部５２が、受付部８２によりユーザ
から焦点の調整、非点調整の指示があった場合には、当
該調整情報に基づいて、照射状況調整部５６に非点補正
レンズ２８及び対物レンズ３０を調整させ、ユーザによ
る指示がなかった場合には、記憶部８０から調整情報を
取り出し、当該調整情報に基づいて、照射状況調整部５
６に非点補正レンズ２８及び対物レンズ３０を調整させ
る（ステップＳ２１４）。

【００５９】更に、制御部５２が引出電圧印加部５８に
引出電極３２へ第２引出電圧を印加させ、電子銃１６に
前記電子ビームを照射させる。そして、これと共に、受
付部８２が第３のモードにおける２次電子像に対するマ
ウス６８によるポインティング動作により波形測定を行
う電気部品１２の位置を特定する情報を受け付けた場合
には、制御部５２が、受付部６４により受け付けられた
情報により特定される位置に対応する制御情報を記憶部
８０から取り出し、当該制御情報に基づいて、照射位置
制御部５４に偏向器２６を制御させて前記電子ビームを
電気部品１２の特定の位置に照射させる。

【００６０】一方、受付部８２が第１のモードにおける
２次電子像に対するマウス６８によるポインティング動
作により波形測定を行う電気部品１２の位置を特定する
情報を受け付けた場合には、制御部５２が、受付部６４
により受け付けられた情報により特定される位置に対応
する第２引出電圧印加時の２次電子像の位置を記憶部８
０に記憶された位置関係情報に基づいて検出する。次い
で、検出した位置に対応する制御情報を記憶部８０から
取り出し、当該制御情報に基づいて、照射位置制御部５
４に偏向器２６を制御させて前記電子ビームを電気部品
１２の特定の位置に照射させる（ステップＳ２１６）。

【００６１】これにより、検出器３６が電気部品１２に
電子ビームが照射されることにより発生される２次電子
を検出し、アンプ３８が検出器３６で検出された２次電
子量を増幅し、Ａ／Ｄ変換器４０が２次電子量をデジタ
ル信号に変換して出力する。次いで、波形測定部７２が
Ａ／Ｄ変換器４０から入力された２次電子量に基づい
て、電気部品１２の特定の位置における電圧波形を検出
する（ステップＳ１１６）。

【００６２】本実施形態によると、第２引出電圧を印加
させて、電子ビームを電気部品１２の特定の位置に照射
させ、当該位置の電圧波形を測定する前に、第１引出電
圧を印加して電気部品１２の所定の範囲に電子ビームを
照射するために、当該所定の範囲において、帯電を抑え
る或いは低減することができ、更に、帯電の状態を均一
にすることができる。このことと、さらに、波形測定に
おいて比較的高い第２引出電圧を印加することができる
ために、高精度に波形測定を行うことができる。また、
電気部品の所定の位置の電圧波形を測定した後、第１引
出電圧を印加して電気部品１２の所定の範囲の２次電子
像を検出する場合においても支障なく２次電子像を検出
することができ、更に、電気部品の他の位置についての
電圧波形を高精度に検出することができる。

【００６３】図５は、本発明の第２実施形態に係る電子
ビームテスタの表示画面の表示例を示す図である。図５
（Ａ）は、表示ステップ（ステップＳ２１０）におい
て、第１引出電圧印加時の２次電子像と、第２引出電圧
印加時の２次電子像とを表示した場合の画面表示例であ
る。図５（Ａ）に示すように、第１引出電圧印加時の２
次電子像（図中Ａ）と第２引出電圧印加時の２次電子像
（図中Ｂ）とを重ねて表示している。本実施形態では、
第１引出電圧印加時の２次電子像と第２引出電圧印加時
の２次電子像との所定の対応する位置が重なるように表
示する。第１引出電圧印加時の２次電子像Ａ中には、絶
縁膜で覆われた配線（図中Ｃ）が含まれている。また、
第２引出電圧印加時の２次電子像Ｂ中には、絶縁膜で覆
われた配線（図中Ｄ）が含まれている。

【００６４】図５（Ｂ）は、測定位置受付ステップ（ス
テップＳ１１０）において、第２引出電圧印加時の２次
電子像に対するユーザからの測定位置の指示を受け付け
る場合の画面表示例である。受付部６４は表示装置７６
に表示された第２引出電圧印加時の２次電子像Ｂに対す
るマウス６８によるポインティング動作により波形測定
を行う電気部品１２の位置を特定する情報を受け付け
る。図中十字Ｅがマウス６８によって指示された位置を
示す。このように、第１引出電圧印加時の２次電子像
と、第２引出電圧印加時の２次電子像との対応する位置
を重ねて表示しているので、第１引出電圧印加時の２次
電子像を参照しつつ、第２引出電圧印加時の２次電子像
での測定位置を容易且つ適切に指定することができる。

【００６５】図５（Ｃ）は、第２照射ステップ（ステッ
プＳ２１６）における画面表示例である。図５（Ｃ）に
示すように、表示部７４は、測定位置受付ステップで受
け付けられた測定位置を示す十字Ｅを含む第２引出電圧
印加時の２次電子像Ｂを表示させると共に、十字Ｅに対
応する位置に丸印を表示させた第１引出電圧印加時の２
次電子像Ａを表示させる。

【００６６】本発明は上記の実施形態に限定されるもの
ではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明
は、上記したステップの順番に限られず、第２照射ステ
ップの前に行われる照射ステップが、第１照射ステップ
であればよく、他のステップの順番は適宜入れ替えても
よい。

【００６７】図６は本発明の第３実施形態に係る電子ビ
ーム装置の一例としての電子ビームテスタの構成を示す
図である。図６において、図１に示す第１実施形態に係
る電子ビームテスタと同様な機能を有する要素には、同
一符号を付すこととする。本電子ビームテスタは、図１
に示す第１実施形態に係る電子ビームテスタにおいて、
記憶部５０に換えて記憶部９１を備え、制御部５２に換
えて電流量制御部の一例としての制御部９０を備え、受
付部６４に換えて受付部９８を備え、像検出部７０に換
えて像検出部９４を備え、波形測定部７２に換えて波形
測定部９６を備え、引出電圧印加部５８に換えて引出電
圧印加部９２を備える。

【００６８】引出電圧印加部９２は、制御部９０の制御
に基づいて、引出電極３２に引出電圧を印加する。本実
施形態では、引出電圧印加部９２は引出電圧として、第
１引出電圧としての中和時引出電圧と、第２引出電圧と
しての観察用引出電圧と、波形測定用引出電圧とを出力
する。本実施形態では、中和時引出電圧を０Ｖとし、第
２引出電圧及び波形測定用引出電圧を正の電圧としてい
る。したがって、本実施形態では、中和時引出電圧印加
時には、引出電極３２による電界が発生しない。なお、
観察用引出電圧と波形測定用引出電圧とを同一の電圧と
してもよい。本実施形態では、引出電圧印加部９２は、
０Ｖ以上の引出電極を印加するのみであり、負の電圧を
印可する必要がないので、構成を簡略化することができ
る。

【００６９】受付部９８は、キーボード６６またはマウ
ス６８によるユーザからの指示を受け付ける。本実施形
態では、受付部９８は、波形測定を行う電気部品１２の
位置を特定する情報を受け付ける。本実施形態では、受
付部６４は、表示装置７６に表示された２次電子像に対
するマウス６８によるポインティング動作により波形測
定を行う電気部品１２の位置を特定する情報を受け付け
る。

【００７０】記憶部９１は、複数の引出電圧のそれぞれ
を印加している場合における照射状況を規定する調整情
報を記憶する。本実施形態では、照射状況を規定する調
整情報として、各引出電圧毎、すなわち、中和時引出電
圧、観察用引出電圧、波形測定用電圧毎に、非点収差を
なくすために非点補正レンズ２８を調整する調整量と、
対物レンズ３０による焦点位置を電気部品１２に好適に
合わせるための調整量とを用意する。また、記憶部９１
は、後述する像観察処理において得られる前記２次電子
像中の位置と、波形測定処理において当該位置が示す前
記電気部品１２上の特定の位置に対して電子ビームを照
射するための制御情報とを対応付けて記憶する。本実施
形態では、制御情報として、偏向器２６による電子ビー
ムの偏向量を特定する情報を用いる。

【００７１】また、記憶部９１は、後述する中和処理を
実行するための実行条件を記憶する。例えば、実行条件
としては、例えば、中和処理実行後に行った像観察処理
の回数や、中和処理後に照射した電子ビームの総電流量
等や、これらを複数組み合わせた条件等がある。これら
実行条件は、第１のモードにおける単位時間あたりの電
子ビームの電流量、第２のモードの単位時間あたりの電
子ビームの電流量、及び第１のモード及び第２のモード
における電子ビームの照射時間等を考慮して、電気部品
１２の絶縁膜の表面電位が本装置のダイナミックレンジ
（本実施形態では、−１２Ｖ〜＋１２Ｖ）を越えないよ
うに設定される。

【００７２】制御部９０は、引出電圧印加部９２に引出
電極３２へ中和用引出電圧を印加させ、電子銃１６に電
子ビームを照射させると共に、照射位置制御部５４に偏
向器２６を制御させて電子ビームを電気部品１２の所定
の範囲（中和範囲）に照射させる第１のモードと、引出
電圧印加部５８に引出電極３２へ中和時引出電圧より高
い観察用引出電圧を印加させ、電子銃１６に電子ビーム
を照射させると共に、照射位置制御部５４に偏向器２６
を制御させて電子ビームを電気部品１２の中和範囲に含
まれる観察範囲に照射させる第２のモードと、引出電圧
印加部５８に引出電極３２へ波形測定用引出電圧を印加
させ、電子銃１６に電子ビームを照射させると共に、照
射位置制御部５４に偏向器２６を制御させて電子ビーム
を電気部品１２の所定の一点に照射させる波形測定モー
ドとを有する。

【００７３】本実施形態では、第１のモードによって中
和処理を行い、第２のモードによって像観察処理を行
い、波形測定モードにより波形測定処理を行う。本実施
形態では、制御部９０は、第１のモードにおいて照射さ
れる電子ビームの単位時間あたりの電流量を第２のモー
ドにおいて照射される電子ビームの単位時間あたりの電
流量より多くする。これにより、電気部品１２の絶縁膜
の帯電を中和する中和時間を短くすることができる。

【００７４】本実施形態では、制御部９０は、波形測定
モードにおいて、受付部６４により受け付けられた情報
により特定される位置に対応する制御情報を記憶部５０
から取り出し、当該制御情報に基づいて、照射位置制御
部５４に偏向器２６を制御させる。また、制御部５２
は、第１のモード、第２のモード、及び波形測定モード
において、記憶部９１から調整情報を取り出し、当該調
整情報に基づいて、照射状況調整部５６に非点補正レン
ズ２８及び対物レンズ３０を調整させる。また、制御部
９０は、電子ビーム鏡筒１０内の各部１８、２０、２４
や、分析電圧印加部６０等の制御も行う。

【００７５】像検出部９４は、第２のモードにおいて、
Ａ／Ｄ変換器４０から入力される２次電子量に基づいて
電気部品１２の所定の範囲についての２次電子像を検出
し、２次電子像を表示部７４に出力する。波形測定部９
６は、波形測定モードにおいて、Ａ／Ｄ変換器４０から
入力される２次電子量に基づいて電気部品１２の特定の
位置における電圧波形を測定し、電圧波形を表示部７４
に出力する。

【００７６】図７は、本発明の第３実施形態に係る電子
ビームテスタによる試験方法を説明する図である。ま
ず、調整情報を記憶部９１に記憶させる（ステップＳ３
００）。更に、制御情報を記憶部９１に記憶させる（ス
テップＳ３０２）。なお、制御情報又は調整情報が予め
記憶部９１に登録されている場合には、該当する情報を
記憶させるステップを行わなくともよい。

【００７７】次いで、制御部９０が電子部品１２の絶縁
膜に蓄積された電荷を中和する必要があるか否かを検出
する（ステップＳ３０４）。本実施形態では、制御部９
０は、予め設定されている実行条件を満たしているか否
かを検出する。

【００７８】この結果、実行条件を満たしている場合に
は、電気部品１２の絶縁膜に大量の電荷が蓄えられてい
る可能性が高いので、制御部９０が絶縁膜の電荷を中和
する処理を行う。すなわち、制御部９０が、引出電圧印
加部５８に引出電極３２へ第１引出電圧を印加させ、電
子銃１６に前記電子ビームを照射させるとともに、照射
位置制御部５４に偏向器２６を制御させて電子ビームを
電気部品１２の中和範囲に照射させる（ステップＳ３０
６）。これにより、電子ビームが照射された電気部品１
２から２次電子が発生される。このとき、引出電極３２
には第２引出電圧より低い第１引出電圧が印加されてい
るだけであるので、発生された２次電子の多くは、電気
部品１２から遠くへ飛び出さずに帯電している絶縁膜に
引き寄せられる。したがって、電気部品１２の観察範囲
を含む中和範囲における絶縁膜の帯電状態が中和される
こととなる。

【００７９】次いで、中和処理が必要ない場合又は中和
処理が終了した場合には、制御部９０が、引出電圧印加
部５８に引出電極３２へ第２引出電圧を印加させ、電子
銃１６に電子ビームを照射させるとともに、照射位置制
御部５４に偏向器２６を制御させて電子ビームを電気部
品１２の所定の観察範囲に照射させる（ステップＳ３０
８）。これとともに、検出器３６が電気部品１２に電子
ビームが照射されることにより発生される２次電子を検
出し、アンプ３８が検出器３６で検出された２次電子量
を増幅し、Ａ／Ｄ変換器４０が２次電子量をデジタル信
号に変換して出力する。次いで、像検出部７０がＡ／Ｄ
変換器４０から入力された２次電子量に基づいて、電気
部品１２についての２次電子像を検出する（ステップＳ
３１０）。

【００８０】次いで、表示部７４が像検出部７０により
検出された電気部品１２の２次電子像を表示装置７６に
表示させる（ステップＳ３１０）。この後、受付部９８
が表示装置７６に表示された第２引出電圧を印加した際
の２次電子像に対するマウス６８によるポインティング
動作により波形測定を行う電気部品１２の位置を特定す
る情報を受け付ける（ステップＳ３１４）。

【００８１】次いで、制御部９０が、記憶部９１から調
整情報を取り出し、当該調整情報に基づいて、照射状況
調整部５６に非点補正レンズ２８及び対物レンズ３０を
調整させる（ステップＳ３１６）。更に、制御部９０が
引出電圧印加部５８に引出電極３２へ波形測定用引出電
圧を印加させ、電子銃１６に電子ビームを照射させ、こ
れと共に、制御部９０が、受付部６４により受け付けら
れた情報により特定される位置に対応する制御情報を記
憶部９１から取り出し、当該制御情報に基づいて、照射
位置制御部５４に偏向器２６を制御させて電子ビームを
電気部品１２の特定の位置に照射させる（ステップＳ３
１８）。

【００８２】これにより、検出器３６が電気部品１２に
電子ビームが照射されることにより発生される２次電子
を検出し、アンプ３８が検出器３６で検出された２次電
子量を増幅し、Ａ／Ｄ変換器４０が２次電子量をデジタ
ル信号に変換して出力する。次いで、波形測定部７２が
Ａ／Ｄ変換器４０から入力された２次電子量に基づい
て、電気部品１２の特定の位置における電圧波形を測定
する（ステップＳ３２０）。以降において、次の電圧波
形の測定を行う場合には（ステップＳ３２２）、上記処
理（ステップＳ３０４〜Ｓ３２２）を繰り返し行う。

【００８３】本実施形態によると、第１引出電圧を印加
して電気部品１２の観察範囲を含む中和範囲に電子ビー
ムを照射するために、当該中和範囲において帯電を抑え
ることができ、更に、帯電の状態を均一にすることがで
きる。このため、中和範囲に含まれる観察範囲において
２次電子像を高精度に観察することができる。また、中
和範囲が観察範囲よりも広いために、２次電子像を観察
する際における観察範囲の周囲からの電子ビームの軌道
への悪影響を抑えることができ、観察される２次電子像
における位置と、電気部品の実際の位置と誤差を抑える
ことができる。このため、波形測定を行う電気部品の所
望の位置を高精度に指定することができ、電気部品１２
の当該位置での電圧波形を適切に得ることができる。ま
た、ユーザが電子ビームについての焦点の調整等を行う
必要がなく容易に２次電子像の取得及び波形測定を行う
ことができる。

【００８４】本発明は上記の実施形態に限定されるもの
ではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記の第
３実施形態では、第１引出電圧として、０ボルトを印加
するようにしていたが、負電圧を印加するようにしても
よく、正電圧を印加するようにしてもよい。また、上記
第３実施形態では、電子ビームテスタに本発明を適用し
ていたが、本発明はこれに限られず、例えば、２次電子
像を観察する電子顕微鏡等の他の電子ビームを照射する
電子ビーム装置に本発明を適用するようにしてもよい。

【００８５】また、上記第３実施形態では、中和範囲に
ついての帯電状態を中和した後に、中和範囲に含まれる
観察範囲に電子ビームを照射するようにしていたが、本
発明はこれに限られず、中和した後に、中和範囲内の所
望の一点に電子ビームを照射するようにしてもよい。ま
た、上記第３実施形態において、所定の実行条件に合致
したか否かを検出して、実行条件に合致した場合に、中
和処理をするようにしていたが、本発明はこれに限られ
ず、２次電子像を観察する前に、常に中和処理を行うよ
うにしてもよい。

【００８６】以上、本発明を実施の形態を用いて説明し
たが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範
囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又
は改良を加えることができることが当業者に明らかであ
る。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術
的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から
明らかである。

【００８７】

【発明の効果】上記説明から明らかなように、本発明に
よれば、波形測定を高精度且つ容易に行うことができ
る。また、本発明によれば、高精度且つ容易に２次電子
像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施形態に係る電子ビームテス
タの構成を示す図である。

【図２】 本発明の第１実施形態に係る電子ビームテス
タによる試験方法を説明する図である。

【図３】 本発明の第２実施形態に係る電子ビームテス
タの構成を示す図である。

【図４】 本発明の第２実施形態に係る電子ビームテス
タによる試験方法を説明する図である。

【図５】 本発明の第２実施形態に係る電子ビームテス
タの表示画面の表示例を示す図である。

【図６】 本発明の第３実施形態に係る電子ビームテス
タの構成を示す図である。

【図７】 本発明の第３実施形態に係る電子ビームテス
タによる試験方法を説明する図である。

【符号の説明】

１０ 電子ビーム鏡筒 １２ 電気部品
１４ ステージ １６ 電子銃 １８ 磁界レンズ
２０ 偏向板 ２２ チョッピングアパーチャ ２４ 磁界レンズ
２６ 偏向器 ２８ 非点補正レンズ ３０ 対物レンズ
３２ 引出電極 ３４ エネルギーフィルタ ３６ 検出器
３８ アンプ ４０ Ａ／Ｄ変換器 ５０ ８０ 記憶部
５２ 制御部 ５４ 照射位置制御部 ５６ 照射状況調整部
５８ 引出電圧印加部 ６０ 分析電圧印加部 ６２ 信号発生部
６４ 受付部 ６６ キーボード ６８ マウス
７０ ８８ 像検出部 ７２ 波形測定部 ７４ 表示部
７６ 表示装置 ８４ 対応位置検出部 ８６ 調整情報検出部

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G011 AA01 AC06 AE03 2G032 AD07 AE04 AE09 AE11 AF08 4M106 AA02 AA04 BA02 CA02 DE01 DE03 DE04 DE05 DE12 DE21 DE30 DJ17 DJ21 DJ23 5C033 TT01 TT04 TT06 9A001 BB03 BB06 KK15 KK31 KK32 KK37 KZ54 LL05

Claims (30)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に絶縁膜を有する電気部品を試験す
   る電子ビームテスタであって、 前記電気部品に信号を与える駆動回路と、 前記駆動回路により前記電気信号が与えられた前記電気
   部品に電子ビームを照射する電子銃と、 前記電子ビームが照射される前記電気部品の位置を制御
   する照射位置制御部と、 前記電気部品の前記表面近傍に引出電圧に応じた電界を
   発生する電界発生部と、 前記電子ビームが前記電気部品に照射されたことにより
   発生する２次電子を検出する検出器と、 前記電界発生部に第１引出電圧を印加すると共に、前記
   照射位置制御部及び前記電子銃に前記電子ビームを前記
   電気部品の所定の範囲に照射させる第１のモード、及
   び、前記第１のモードの後に、前記電界発生部に前記第
   １引出電圧より高い第２引出電圧を印加すると共に、前
   記照射位置制御部及び前記電子銃に前記電気部品の特定
   の位置に電子ビームを照射させる第２のモードを有する
   制御部と、 前記第２のモードにおいて、前記検出器から検出される
   ２次電子の量に基づいて前記電気部品の所定の位置にお
   ける電圧波形を測定する波形測定部とを備えることを特
   徴とする電子ビームテスタ。
2. 【請求項２】 前記第１引出電圧は、０ボルトであるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の電子ビームテスタ。
3. 【請求項３】 ユーザから波形測定を行う前記電気部品
   の前記特定の位置を特定する情報を受け付ける測定位置
   受付部を更に有し、 前記制御部は、前記第２のモードにおいて、前記測定位
   置受付部が受け付けた情報が示す前記電気部品の前記特
   定の位置に電子ビームを照射させることを特徴とする請
   求項１又は２に記載の電子ビームテスタ。
4. 【請求項４】 前記第１のモードにおいて、前記検出器
   から検出される２次電子の量に基づいて前記電気部品の
   所定の範囲における前記第１引出電圧印加時の２次電子
   像を検出する像検出部と、 前記検出された第１引出電圧印加時の前記２次電子像を
   表示する表示部とを更に備え、 前記測定位置受付部は、前記情報として前記２次電子像
   における位置を受け付けることを特徴とする請求項３に
   記載の電子ビームテスタ。
5. 【請求項５】 前記第１のモードにおいて得られる前記
   ２次電子像中の位置と、第２のモードにおいて当該位置
   が示す前記電気部品上の所定の位置に対して電子ビーム
   を好適に照射するための制御情報とを対応付けて記憶す
   る制御情報記憶部を更に備え、 前記制御部は、前記第２のモードにおいて、前記測定位
   置受付部により受け付けられた前記位置に対応する前記
   制御情報に基づいて前記照射位置制御部を制御して電子
   ビームを前記電気部品の前記特定の位置に照射させるこ
   とを特徴とする請求項４に記載の電子ビームテスタ。
6. 【請求項６】 前記第２引出電圧印加時の２次電子像の
   各位置と、当該２次電子像が示す前記電気部品の位置に
   電子ビームを好適に照射させるための制御情報とを対応
   付けて記憶する制御情報記憶部と、 前記電界発生部に第２引出電圧を印加すると共に、前記
   照射位置制御部及び前記電子銃に前記電子ビームを前記
   電気部品の所定の範囲に照射させる第３のモードを有す
   る第２制御部と、 前記第３のモードにおいて、前記検出器から検出される
   ２次電子の量に基づいて前記電気部品の所定の範囲にお
   ける第２引出電圧印加時の前記２次電子像を検出する第
   ２像検出部と、 前記第１のモードにより得られる第１引出電圧印加時の
   前記２次電子像と前記第３のモードにより得られる第２
   引出電圧印加時の前記２次電子像とに基づいて、前記測
   定位置受付部により受け付けられた第１引出電圧印加時
   の前記２次電子像の前記位置に対応する前記第２引出電
   圧印加時の前記２次電子像の前記位置を検出する対応位
   置検出部とを備え、 前記制御部は、前記第２のモードにおいて、前記対応位
   置検出部により検出された前記２次電子像の位置に対応
   する前記制御情報に基づいて、前記照射位置制御部を制
   御して電子ビームを前記電気部品の前記特定の位置に照
   射させることを特徴とする請求項４に記載の電子ビーム
   テスタ。
7. 【請求項７】 前記電子ビームの照射状況を調整する照
   射状況調整部を更に有し、 前記制御部は、前記照射状況調整部により前記電子ビー
   ムの前記照射状況を調整させることを特徴とする請求項
   １乃至６のいずれかに記載の電子ビームテスタ。
8. 【請求項８】 各引出電圧印加時における照射状況を規
   定する調整情報を保持する調整情報記憶部を有し、 前記制御部は、印加する引出電圧に対応する前記調整情
   報に基づいて前記照射状況を調整させることを特徴とす
   る請求項７に記載の電子ビームテスタ。
9. 【請求項９】 ユーザから前記照射状況の調整指示を受
   け付ける調整指示受付部を更に有し、 前記制御部は、前記調整指示に基づいて前記照射状況を
   調整させることを特徴とする請求項７に記載の電子ビー
   ムテスタ。
10. 【請求項１０】 前記電界発生部に第２引出電圧を印加
    すると共に、前記照射位置制御部及び前記電子銃に前記
    電子ビームを前記電気部品の所定の範囲に照射させる第
    ３のモードを有する第２制御部と、 前記第３のモードにおいて、前記検出器から検出される
    ２次電子の量に基づいて前記電気部品の所定の範囲にお
    ける第２引出電圧印加時の前記２次電子像を検出する第
    ２像検出部と、 検出した前記２次電子像を表示する表示部とを更に有す
    ることを特徴とする請求項９に記載の電子ビームテス
    タ。
11. 【請求項１１】 前記電界発生部に第２引出電圧を出力
    させると共に、前記照射位置制御部及び前記電子銃に前
    記電子ビームを前記電気部品の所定の範囲に照射させる
    第３のモードを有する第２制御部と、 前記第３のモードにおいて、前記検出器から検出される
    ２次電子の量に基づいて前記電気部品の所定の範囲にお
    ける第２引出電圧印加時の前記２次電子像を検出する第
    ２像検出部と、 前記２次電子像に基づいて、前記電子ビームを所定の照
    射状況にするための調整情報を検出する調整情報検出部
    とを備え、 前記制御部は、前記第２のモードにおいて、前記調整情
    報検出部により検出された前記調整情報に基づいて前記
    照射状況を調整させることを特徴とする請求項７に記載
    の電子ビームテスタ。
12. 【請求項１２】 表面に絶縁膜を有する電気部品を試験
    する試験方法であって、 前記電気部品に信号を与えつつ、前記電気部品の表面近
    傍に第１引出電圧に応じて電界を調整するとともに、前
    記電気部品の所定の範囲に電子ビームを照射する第１照
    射ステップと、 前記第１照射ステップの後に、前記電気部品に信号を与
    えつつ、前記電気部品の前記表面近傍に前記第１引出電
    圧より高い第２引出電圧に応じて電界を調整するととも
    に、前記電気部品の特定の位置に電子ビームを照射する
    第２照射ステップと、 前記第２照射ステップで前記電気部品に電子ビームを照
    射することにより発生する２次電子を検出し、当該２次
    電子の量に基づいて前記電気部品の前記位置における電
    圧波形を測定する波形測定ステップとを有することを特
    徴とする試験方法。
13. 【請求項１３】 前記第１引出電圧は、０ボルトである
    ことを特徴とする請求項１２に記載の試験方法。
14. 【請求項１４】 ユーザから前記第２照射ステップにお
    いて電子ビームを照射する前記電気部品の前記位置を特
    定する情報を受け付ける測定位置受付ステップを更に有
    し、 前記第２照射ステップは、前記測定位置受付ステップで
    受け付けた前記情報が示す前記電気部品の前記位置に電
    子ビームを照射することを特徴とする請求項１２又は１
    ３に記載の試験方法。
15. 【請求項１５】 前記第１照射ステップで前記電気部品
    に電子ビームを照射することにより発生する２次電子を
    検出し、当該２次電子の量に基づいて前記電気部品の所
    定の範囲における第１引出電圧印加時の２次電子像を検
    出する像検出ステップと、 前記検出された第１引出電圧印加時の前記２次電子像を
    表示する表示ステップとを更に備え、 前記測定位置受付ステップは、前記情報として前記２次
    電子像における位置を受け付けることを特徴とする請求
    項１４に記載の試験方法。
16. 【請求項１６】 第１引出電圧により電界を発生させる
    際において得られる前記２次電子像中の位置と、第２引
    出電圧により電界を発生させる際において当該位置が示
    す前記電気部品の位置に電子ビームを照射するための制
    御情報とを対応付けて記憶する制御情報記憶ステップを
    更に備え、 前記第２照射ステップは、前記測定位置受付ステップで
    受け付けられた前記位置に対応する前記制御情報に基づ
    いて電子ビームを前記電気部品の所定の位置に照射する
    ことを特徴とする請求項１５に記載の試験方法。
17. 【請求項１７】 前記電気部品に信号を与えつつ、前記
    電気部品の前記表面近傍に前記第２引出電圧に応じて電
    界を発生するとともに、前記電気部品の所定の範囲に電
    子ビームを照射する第３照射ステップと、 前記第３照射ステップで前記電気部品に電子ビームを照
    射することにより発生する２次電子を検出し、当該２次
    電子の量に基づいて前記電気部品の所定の範囲における
    第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像検出
    ステップと、 前記第２引出電圧印加時の２次電子像の各位置が示す前
    記電気部品の位置に電子ビームを照射させるための制御
    情報を記憶する制御情報記憶ステップと、 前記第１引出電圧に応じて電界を発生する際において得
    られる前記２次電子像と、前記第２引出電圧に応じた電
    界を発生する際において得られる前記２次電子像とに基
    づいて、前記測定位置受付ステップで受け付けられた第
    １引出電圧印加時の前記２次電子像の前記位置に対応す
    る前記第２引出電圧印加時の前記２次電子像の前記位置
    を検出する対応位置検出ステップとを備え、 前記第２照射ステップでは、前記対応位置検出ステップ
    で検出された前記２次電子像の位置に対応する前記制御
    情報に基づいて、電子ビームを前記電気部品の所定の位
    置に照射させることを特徴とする請求項１５に記載の試
    験方法。
18. 【請求項１８】 前記電子ビームの照射状況を調整する
    照射状況調整ステップを更に有し、 前記第２照射ステップでは、前記電子ビームの前記照射
    状況を調整することを特徴とする請求項１２乃至１７の
    いずれかに記載の試験方法。
19. 【請求項１９】 各引出電圧印加時における照射状況を
    規定する調整情報を保持する調整情報記憶ステップと、 前記第２照射ステップは、印加される前記引出電圧に対
    応する前記調整情報に基づいて前記照射状況を調整する
    ことを特徴とする請求項１８に記載の試験方法。
20. 【請求項２０】 ユーザから前記照射状況の調整指示を
    受け付ける調整指示受付ステップを更に有し、 前記第２照射ステップは、前記調整指示に基づいて前記
    照射状況を調整することを特徴とする請求項１８に記載
    の試験方法。
21. 【請求項２１】 前記電気部品に信号を与えつつ、前記
    電気部品の前記表面近傍に前記第２引出電圧に応じた電
    界を発生するとともに、前記電気部品の所定の範囲に電
    子ビームを照射する第３照射ステップと、 前記第３照射ステップで前記電気部品に電子ビームを照
    射することにより発生する２次電子を検出し、当該２次
    電子の量に基づいて前記電気部品の所定の範囲における
    第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像検出
    ステップと、 前記第２像検出ステップで検出した前記２次電子像を表
    示する表示ステップとを更に有することを特徴とする請
    求項２０に記載の試験方法。
22. 【請求項２２】 前記電気部品に信号を与えつつ、前記
    電気部品の前記表面近傍に前記第２引出電圧に応じた電
    界を発生するとともに、前記電気部品の所定の範囲に電
    子ビームを照射する第３照射ステップと、 前記第３照射ステップで前記電気部品に電子ビームを照
    射することにより発生する２次電子を検出し、当該２次
    電子の量に基づいて前記電気部品の所定の範囲における
    第２引出電圧印加時の２次電子像を検出する第２像検出
    ステップと、 前記２次電子像に基づいて、前記電子ビームを所定の照
    射状況にするための前記調整情報を検出する調整情報検
    出ステップと、を備え、 前記第２照射ステップは、前記調整情報検出ステップで
    検出された前記調整情報に基づいて前記照射状況を調整
    することを特徴とする請求項１８に記載の試験方法。
23. 【請求項２３】 表面に絶縁膜を有する対象部品に電子
    ビームを照射する電子ビーム装置であって、 前記対象部品に電子ビームを照射する電子銃と、 前記電子ビームが照射される前記対象部品の位置を制御
    する照射位置制御部と、 前記電気部品の前記表面近傍に引出電圧に応じて電界を
    発生する電界発生部と、 前記電界発生部に第１引出電圧を印加するとともに、前
    記照射位置制御部及び前記電子銃に前記電子ビームを前
    記対象部品の所定の範囲に照射させる第１のモードと、
    前記第１のモードの後に、前記電界発生部に前記第１引
    出電圧より高い第２引出電圧を印加すると共に、前記照
    射位置制御部及び前記電子銃に前記対象部品の前記範囲
    の少なくとも一点において電子ビームを照射させる第２
    のモードとを有する制御部と、 前記電子ビームが前記対象部品に照射されたことにより
    発生する２次電子を検出する検出器とを備えることを特
    徴とする電子ビーム装置。
24. 【請求項２４】前記制御部の前記第２のモードは、前記
    範囲より狭い観察範囲に前記電子ビームを照射させ、 前記第２のモードにおいて、前記検出器から検出される
    ２次電子の量に基づいて前記電気部品の前記観察範囲の
    ２次電子像を検出する像検出部を更に備えることを特徴
    とする電子ビーム装置。
25. 【請求項２５】 前記第１引出電圧は、０ボルトである
    ことを特徴とする請求項２３又は２４に記載の電子ビー
    ム装置。
26. 【請求項２６】 前記電子銃により照射される電子ビー
    ムの単位時間あたりの電流量を制御する電流量制御部を
    更に備え、 前記電流量制御部は、前記第１のモードにおいて照射さ
    れる単位時間あたりの電流量を前記第２のモードにおい
    て照射される単位時間あたりの電流量より多くすること
    を特徴とする請求項２３乃至２５のいずれかに記載の電
    子ビーム装置。
27. 【請求項２７】 表面に絶縁膜を有する対象部品を観察
    する観察方法であって、 前記対象部品の表面近傍に第１引出電圧に応じて電界を
    発生するとともに、前記対象部品の所定の範囲に電子ビ
    ームを照射する第１照射ステップと、 前記第１照射ステップの後に、前記対象部品の表面近傍
    に前記第１引出電圧より高い第２引出電圧に応じて電界
    を発生するとともに、前記対象部品の前記所定の範囲の
    少なくとも一点に電子ビームを照射する第２照射ステッ
    プと、 前記第２照射ステップで前記電気ビームが照射されるこ
    とにより発生する２次電子量を検出する２次電子検出ス
    テップとを有することを特徴とする観察方法。
28. 【請求項２８】前記第２照射ステップにおいて、前記範
    囲より狭い観察範囲に前記電子ビームを照射させ、 前記２次電子検出ステップで検出された前記２次電子量
    に基づいて２次電子像を検出する電子像検出ステップを
    更に有することを特徴とする請求項２７に記載の観察方
    法。
29. 【請求項２９】 前記第１引出電圧は、０ボルトである
    ことを特徴とする請求項２８に記載の観察方法。
30. 【請求項３０】 前記第１照射ステップにおいて照射さ
    れる電子ビームの単位時間あたりの電流量を、前記第２
    照射ステップにおいて照射される電子ビームの単位時間
    あたりの電流量より多くすることを特徴とする請求項２
    ７乃至２９のいずれかに記載の観察方法。