JP2001091205A - 物体搭載装置 - Google Patents

物体搭載装置

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JP2001091205A
JP2001091205A JP2000217893A JP2000217893A JP2001091205A JP 2001091205 A JP2001091205 A JP 2001091205A JP 2000217893 A JP2000217893 A JP 2000217893A JP 2000217893 A JP2000217893 A JP 2000217893A JP 2001091205 A JP2001091205 A JP 2001091205A
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Japan
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detection
electrode
input terminal
operational amplifier
shield
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JP2000217893A
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Yoshihiro Hirota
良浩 廣田
Tatsuo Hiroshima
龍夫 廣島
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】被搭載物体の搭載位置ずれが検知可能な物体搭
載装置を提供する 【解決手段】絶縁体11と4つの検出電極222、32
2、422、522を一体化したアーム10を形成す
る。検出電極222、322、422、522を4つの
容量−電圧変換(CV変換)装置101〜104の各々
の信号線にそれぞれ接続する。各CV変換装置101〜
104は、出力端子と反転入力端子との間に帰還インピ
ーダンスを接続した演算増幅器と、演算増幅器の反転入
力端子に接続された信号線と、演算増幅器の非反転入力
端子に接続された交流信号発生手段と、信号線をシール
ドすると共に演算増幅器の非反転入力端子および交流信
号発生手段に接続されたシールド手段とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、物体搭載装置に関
し、特に、静電容量変化を利用した近接センサであっ
て、FA機器、検査機、ロボット、半導体製造装置等に
利用可能な静電容量型センサを備えた物体搭載体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図13は、特開平7−29467号公報
に示されている従来の静電容量型近接スイッチのセンサ
部及びアンプ部の前段部分を示す図である。本図におい
てセンサ部111は3層のプリント基板112によって
構成されている。このプリント基板112の一方の面に
形成される第1層のパターンは物体検知領域に対向して
配置された検知電極112aであり、プリント基板11
2の内部のパターンはこの検知電極112aをシールド
するための第2層パターン、即ち同相シールドパターン
112bである。このプリント基板12の他方の面に形
成される第3層のパターンをシールドアースパターン1
12cとしている。シールドアースパターン112cは
検知電極112a、同相シールドパターン112bに対
する外来ノイズの影響を少なくするためのパターンであ
る。そしてパターン112a、112bをシールドケー
ブル113の芯線及び被覆線にそれぞれ接続し、主回路
部114側に接続している。主回路部114において検
知電極112aが接続される芯線はバッファ回路115
の入力端に接続されている。そしてバッファ回路115
の出力端はシールド線113の被覆線に接続され、さら
にシュミットトリガインバータ116の入力端に接続さ
れている。帰還抵抗Rはシュミットトリガインバータ1
16の出力端とバッファ回路115の入力端との間に接
続されている。
【0003】ここで検知電極112aに、接地された物
体が近接すればその間の静電容量Cdが増加する。バッ
ファ回路115とシュミットトリガインバータ116は
この静電容量Cdと帰還抵抗Rを時定数として発振する
発振回路117を構成しており、その出力は周期カウン
タ118に接続される。周期カウンタ118は発振回路
の発振周期を測定するものであって、その出力はリニア
ライザ119に与えられる。リニアライザ119は周期
の変化を物体までの距離に対する変化として直線化する
ものである。リニアライザ119の出力は表示回路12
0及び比較回路121に入力される。比較回路121は
入力信号を所定の閾値で弁別するものであり物体の有無
の判別信号として出力回路122により出力される。
【0004】このような構成によれば、検知電極112
aと同相シールドパターン112bとはシールドケーブ
ル113を介してバッファ回路115の入出力端に接続
されているため、常に同位相、同電圧となる。そのため
検知電極112aは同相シールドパターン112bとの
間の静電容量の影響を受けなくなる。このためシールド
ケーブル113によって検知電極を有するセンサ部と電
子回路部とを分離することができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、特開平7
−29467によれば、センサ部は、物体検出に向けら
れた検出電極の第1層パターンと、シールドの第2層の
パターンと、接地された第3層の電極パターンセンサか
ら成る。また、アンプ部から検出部各電極まではシール
ド線で接続されており、別に接地配線を施している。こ
れらの構造では以下の問題を有する。 検出電極上に検出物が一部でも存在すると、異常なし
と判定する。 ウエハ等の位置のずれを検知しない。
【0006】従って、本発明の主な目的は、被搭載物体
の搭載位置ずれが検知可能な物体搭載装置を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1によれば、物体
を搭載可能な物体搭載体と、前記物体搭載体に取り付け
られた少なくとも2つの物体検出電極と、前記少なくと
も2つの物体検出電極にそれぞれ接続された少なくとも
2つの検出回路であって、出力端子と反転入力端子との
間に帰還インピーダンス回路が接続された演算増幅器
と、前記演算増幅器の前記反転入力端子と前記少なくと
も2つの物体検出電極のうちの一つの物体検出電極との
間に接続された信号線と、前記演算増幅器の非反転入力
端子に接続された交流信号発生手段と、前記信号線の少
なくとも一部をシールドすると共に前記演算増幅器の前
記非反転入力端子および前記交流信号発生手段に接続さ
れたシールド手段と、をそれぞれ有する前記少なくとも
2つの検出回路と、を備えることを特徴とする物体搭載
装置が提供される。
【0008】請求項2によれば、物体を搭載可能な物体
搭載体と、前記物体搭載体に取り付けられた少なくとも
2つの物体検出電極と、出力端子と反転入力端子との間
に帰還インピーダンス回路が接続された演算増幅器と、
前記演算増幅器の前記反転入力端子に接続された信号線
と、前記演算増幅器の非反転入力端子に接続された交流
信号発生手段と、前記信号線の少なくとも一部をシール
ドすると共に前記演算増幅器の前記非反転入力端子およ
び前記交流信号発生手段に接続されたシールド手段と、
前記信号線と前記少なくとも2つの物体検出電極との間
の接続を切り替えて前記信号線を前記少なくとも2つの
物体検出電極のうちの任意の一つに接続可能な切り替え
手段と、を備えることを特徴とする物体搭載装置が提供
される。
【0009】請求項3によれば、物体を搭載可能な物体
搭載体と、前記物体搭載体に取り付けられた少なくとも
2つの物体検出電極と、前記少なくとも2つの物体検出
電極にそれぞれ接続された少なくとも2つの検出回路で
あって、出力端子と反転入力端子との間に帰還インピー
ダンス回路が接続され、前記反転 入力端子と非反転入
力端子とがイマジナルショート状態の演算増幅器と、前
記演算増幅器の前記反転入力端子と前記少なくとも2つ
の物体検出電極のうちの一つの物体検出電極との間に接
続された信号線と、前記信号線の少なくとも一部をシー
ルドすると共に前記演算増幅器の前記非反転入力端子に
接続されたシールド手段と、をそれぞれ有する前記少な
くとも2つの検出回路と、を備えることを特徴とする物
体搭載装置が提供される。
【0010】請求項4によれば、物体を搭載可能な物体
搭載体と、前記物体搭載体に取り付けられた少なくとも
2つの物体検出電極と、出力端子と反転入力端子との間
に帰還インピーダンス回路が接続され、前記反転入力端
子と非反転入力端子とがイマジナルショート状態の演算
増幅器と、前記演算増幅器の前記反転入力端子に接続さ
れた信号線と、前記信号線の少なくとも一部をシールド
すると共に前記演算増幅器の前記非反転入力端子に接続
されたシールド手段と、前記信号線と前記少なくとも2
つの物体検出電極との間の接続を切り替えて前記信号線
を前記少なくとも2つの物体検出電極のうちの任意の一
つに接続可能な切り替え手段と、を備えることを特徴と
する物体搭載装置が提供される。
【0011】請求項5によれば、前記少なくとも2つの
物体検出電極の各々の少なくとも一部をそれぞれシール
ドすると共に前記少なくとも2つの検出回路の各々の前
記シールド手段にそれぞれ接続された少なくとも2つの
シールド電極が前記物体搭載体にさらに取り付けられて
いることを特徴とする請求項1または3記載の物体搭載
装置が提供される。
【0012】請求項6によれば、前記少なくとも2つの
物体検出電極の各々の少なくとも一部をそれぞれシール
ドすると共に、前記シールド手段に接続されているかま
たは前記切り替え手段を介して前記シールド手段に接続
される少なくとも2つのシールド電極が前記物体搭載体
にさらに取り付けられていることを特徴とする請求項2
または4記載の物体搭載装置が提供される。
【0013】請求項7によれば、前記少なくとも2つの
物体検出電極の各々が、被検出物体を検出する検出部検
出電極をそれぞれ有し、前記検出部検出電極は、少なく
とも一つの方向において前記シールド電極でシールドさ
れていることを特徴とする請求項5又は6記載の物体搭
載装置が提供される。
【0014】請求項8によれば、前記物体が平板状の物
体であり、前記物体を前記物体搭載体に搭載した場合に
前記物体の底面と平行になるように前記少なくとも2つ
の物体検出電極の前記検出部検出電極が配置されている
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の物
体搭載装置が提供される。
【0015】請求項9によれば、前記物体が平板状の物
体であり、前記物体を前記物体搭載体に搭載した際に前
記物体を前記物体搭載体上に投影してできる投影面を、
互いに等しい面積となるように少なくとも2つの副領域
に分割した場合に、前記少なくとも2つの物体検出電極
の各々が前記少なくとも2つの副領域の各々にそれぞれ
対応する位置にそれぞれ配置されていることを特徴とす
る請求項1乃至8のいずれかに記載の物体搭載装置が提
供される。
【0016】請求項10によれば、物体を搭載可能な物
体搭載体と、前記物体を前記物体搭載体に搭載した際の
前記物体の底面積の10分の1以下の電極面積を有し、
前記物体搭載体に取り付けられた物体検出電極と、出力
端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回路が
接続された演算増幅器と、前記演算増幅器の前記反転入
力端子と前記物体検出電極との間に接続された信号線
と、前記演算増幅器の非反転入力端子に接続された交流
信号発生手段と、前記信号線の少なくとも一部をシール
ドすると共に前記演算増幅器の前記非反転入力端子およ
び前記交流信号発生手段に接続されたシールド手段と、
を備えることを特徴とする物体搭載装置が提供される。
【0017】請求項11によれば、物体を搭載可能な物
体搭載体と、前記物体を前記物体搭載体に搭載した際の
前記物体の底面積の10分の1以下の電極面積を有し、
前記物体搭載体に取り付けられた物体検出電極と、出力
端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回路が
接続され、前記反転入力端子と非反転入力端子とがイマ
ジナルショート状態の演算増幅器と、前記演算増幅器の
前記反転入力端子と前記物体検出電極との間に接続され
た信号線と、前記信号線の少なくとも一部をシールドす
ると共に前記演算増幅器の前記非反転入力端子に接続さ
れたシールド手段と、を備えることを特徴とする物体搭
載装置が提供される。
【0018】請求項12によれば、前記物体検出電極の
少なくとも一部をシールドすると共に前記シールド手段
に接続されたシールド電極がさらに前記物体搭載体に取
り付けられていることを特徴とする請求項10または1
1記載の物体搭載装置が提供される。
【0019】請求項13によれば、前記物体検出電極
が、被検出物体を検出する検出部検出電極を有し、前記
検出部検出電極は少なくとも一つの方向において前記シ
ールド電極でシールドされていることを特徴とする請求
項12記載の物体搭載装置が提供される。
【0020】請求項14によれば、前記物体検出電極
が、被検出物体を検出する検出部検出電極を有し、前記
検出部検出電極はその内側に開口部を有しており、前記
検出部検出電極の外周は、前記物体を前記物体搭載体に
搭載した際の前記物体の底面の外周と同じかそれよりも
小さいことを特徴とする請求項10乃至13のいずれか
に記載の物体搭載装置が提供される。
【0021】請求項15によれば、前記物体検出電極
が、被検出物体を検出する検出部検出電極を有し、前記
物体が平板状の物体であり、前記物体を前記物体搭載体
に搭載した際に前記物体の底面を、互いに等しい面積と
なるように複数の副領域に分割した場合に、前記検出部
検出電極が前記複数の副領域の全てに対面するように前
記検出部検出電極が構成されかつ配置されていることを
特徴とする請求項10乃至14のいずれかに記載の物体
搭載装置が提供される。
【0022】請求項16によれば、前記物体が半導体ウ
ェーハであり、請求項1乃至15のいずれかに記載の物
体搭載装置を備えることを特徴とするウエーハ移載装置
が提供される。
【0023】請求項17によれば、前記物体が液晶表示
素子製造用の基板であり、請求項1乃至15のいずれか
に記載の物体搭載装置を備えることを特徴とする液晶表
示素子製造用基板移載装置が提供される。
【0024】請求項18によれば、前記物体が半導体ウ
ェーハであり、請求項1乃至15のいずれかに記載の物
体搭載装置を備えることを特徴とする半導体製造装置が
提供される。
【0025】請求項19によれば、前記物体が液晶表示
素子製造用の基板であり、請求項1乃至15のいずれか
に記載の物体搭載装置を備えることを特徴とする液晶表
示素子製造装置が提供される。
【0026】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
【0027】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態の半導体ウェーハ検出機能付き搬送アー
ムを説明するための概略部分横断面図である。図2は、
本発明の第1の実施の形態の半導体ウェーハ検出機能付
き搬送アームを説明するための概略縦断面図である。図
3は、本発明の第1の実施の形態の半導体ウェーハ検出
機能付き搬送アームを説明するための概略部分拡大横断
面図である。図4は、本発明の第1の実施の形態の半導
体ウェーハ検出機能付き搬送アームによるウェーハの検
出動作を説明するための概略部分横断面図である。
【0028】本実施の形態のウェーハ検出機能付き搬送
アーム10は、絶縁体11と4つのセンサ電極20、3
0、40、50とを備えている。絶縁体11は、絶縁体
層12〜16が一体化されて構成されている。絶縁体層
12〜16の各層の厚さはそれぞれ0.5mmである。
センサ電極20は、検出電極22とシールド電極212
3、24とを備えている。センサ電極30は、検出電極
32とシールド電極31、33、34とを備えている。
センサ電極40は、検出電極42とシールド電極41、
43、44とを備えている。センサ電極50は、検出電
極52とシールド電極51、53、54を備えている。
絶縁体層12にはシールド電極21、31、41、51
が形成され、絶縁体層14には検出電極22、32、4
2、52とシールド電極23、33、43、53とが形
成され、絶縁体層16にはシールド電極24、34、4
4、54が形成されている。絶縁体層16上に絶縁体層
15を挟んで絶縁体層14が積層され、その上に絶縁体
層13を挟んで絶縁体層12が積層されている。
【0029】このウェーハ検出機能付き搬送アーム10
は、アルミナ系のセラミックスを用い、シート成形によ
ってシートを成形した後、シートに電極をスクリーン印
刷して、さらに位置合わせをし、積層後、アームの形状
に切断成形し、同時焼成により作成した。
【0030】次に、このようにして形成されたウェーハ
検出機能付き搬送アーム10の4つのセンサ電極20、
30、40、50の構造およびこれらの電極間の位置関
係を説明する。
【0031】4つのセンサ電極20、30、40、50
はほぼ同じ構造なので、まず、センサ電極20を例にと
って説明する。
【0032】シールド電極24上に絶縁体層15を介し
て検出電極22およびシールド電極23が形成され、検
出電極22およびシールド電極23上に絶縁体層13を
介してシールド電極21が形成されている。
【0033】検出電極22は、被検出物体を検出する円
形の検出部検出電極222と検出部検出電極まで電極を
導入する電極導入部検出電極221とを備えている。シ
ールド電極23は検出電極22と同一層内に設けられて
いる。シールド電極23は、検出電極22の周囲を検出
電極22の主面と平行な方向において取り囲んでいる。
シールド電極23は、検出部シールド電極232と電極
導入部シールド電極231とを備えている。検出部シー
ルド電極232は、検出部検出電極222を検出電極2
2の主面と平行な方向において取り囲んでいる。検出部
シールド電極232と検出部検出電極222との間には
絶縁体11が存在する。検出電極22の主面と平行な方
向における電極導入部検出電極221の両側には2つの
電極導入部シールド電極231が、電極導入部検出電極
221と平行にそれぞれ設けられている。電極導入シー
ルド電極231と電極導入検出電極221との間には絶
縁体11が存在する。
【0034】シールド電極21は電極導入部シールド電
極211からなり、電極導入部シールド電極211は、
電極導入部検出電極221およびその両側の電極導入部
シールド電極231に対面して設けられている。電極導
入部シールド電極211と、電極導入部検出電極221
およびその両側の電極導入部シールド電極231との間
には、絶縁体11が存在する。シールド電極21は、検
出部検出電極222とは対向して設けられておらず、検
出部検出電極222は、シールド電極21から露出して
いる。従って、被検出物体とこの検出部検出電極222
との間に形成される容量値を測定することによって、被
検出物体を検出することができる。
【0035】シールド電極24は、検出部シールド電極
242と電極導入部シールド電極241とを備えてい
る。検出部シールド電極242は、検出部検出電極22
2およびその周囲の検出部シールド電極232に対面し
て設けられている。電極導入部シールド電極241は、
電極導入部検出電極221およびその両側の電極導入部
シールド電極231に対面して設けられている。シール
ド電極24と、検出電極22およびシールド電極23と
の間には、絶縁体11が存在する。
【0036】センサ電極30は、検出電極32とシール
ド電極31、33、34とを備え、検出電極32は、被
検出物体を検出する円形の検出部検出電極322と検出
部検出電極まで電極を導入する電極導入部検出電極32
1とを備え、シールド電極31は電極導入部シールド電
極311からなり、シールド電極33は、検出部シール
ド電極332と電極導入部シールド電極331とを備
え、シールド電極34は、検出部シールド電極342と
電極導入部シールド電極341とを備えている。
【0037】センサ電極40は、検出電極42とシール
ド電極41、43、44とを備え、検出電極42は、被
検出物体を検出する円形の検出部検出電極422と検出
部検出電極まで電極を導入する電極導入部検出電極42
1とを備え、シールド電極41は電極導入部シールド電
極411からなり、シールド電極43は、検出部シール
ド電極432と電極導入部シールド電極431とを備
え、シールド電極44は、検出部シールド電極442と
電極導入部シールド電極441とを備えている。
【0038】センサ電極50は、検出電極52とシール
ド電極51、53、54とを備え、検出電極52は、被
検出物体を検出する円形の検出部検出電極522と検出
部検出電極まで電極を導入する電極導入部検出電極52
1とを備え、シールド電極51は電極導入部シールド電
極511からなり、シールド電極53は、検出部シール
ド電極532と電極導入部シールド電極531とを備
え、シールド電極54は、検出部シールド電極542と
電極導入部シールド電極541とを備えている。
【0039】これらセンサ電極30、40、50の構造
は上述したセンサ電極20の構造とほぼ同じなので、そ
の説明は省略する。
【0040】本実施の形態においては、後に説明する演
算増幅器を備えるZ/V変換(インピーダンス−電圧変
換)装置をC/V変換(容量−電圧変換)装置として4
個使用する。センサ電極20はC/V変換装置101
に、センサ電極30はC/V変換装置102に、センサ
電極40はC/V変換装置103に、センサ電極50は
C/V変換装置104にそれぞれ接続する。すなわち、
検出電極22をC/V変換装置101の演算増幅器の反
転入力端子に接続し、シールド電極21、23、24を
C/V変換装置101の演算増幅器の非反転入力端子に
接続する。また、検出電極32をC/V変換装置102
の演算増幅器の反転入力端子に接続し、シールド電極3
1、33、34をC/V変換装置102の演算増幅器の
非反転入力端子に接続する。さらに、検出電極42をC
/V変換装置103の演算増幅器の反転入力端子に接続
し、シールド電極41、43、44をC/V変換装置1
03の演算増幅器の非反転入力端子に接続する。さら
に、検出電極52をC/V変換装置104の演算増幅器
の反転入力端子に接続し、シールド電極51、53、5
4をC/V変換装置104の演算増幅器の非反転入力端
子に接続する。
【0041】C/V変換装置101〜104の演算増幅
器の2つの入力端子(反転入力端子および非反転入力端
子)はイマジナルショート状態にあるので、検出電極2
2とシールド電極21、23、24とは同一電位とな
り、検出電極32とシールド電極31、33、34とは
同一電位となり、検出電極42とシールド電極41、4
3、44とは同一電位となり、検出電極52とシールド
電極51、53、54とは同一電位となる。従って、こ
れらの間に形成される寄生容量に影響されることなく、
検出部検出電極222、322、422、522と被検
出物体とによってそれぞれ形成されるインピーダンス成
分の値(本実施の形態では容量値)のみに依存した電圧
を得ることができ、インピーダンス値が非常に大きくて
も(インピーダンスが容量の場合は、容量値が微小であ
っても)高精度のZ/V変換が可能になる。
【0042】その結果、上述した特開平7−29467
号公報記載の技術と比較して、接地線を必要とせずコス
ト削減となり、また、接地電極を必要とせずコスト削減
となる。
【0043】さらに、上述したように、検出部検出電極
222が、検出電極22の主面と平行な方向において検
出部シールド電極232によって取り囲まれており、検
出部検出電極322が、検出電極32の主面と平行な方
向において検出部シールド電極332によって取り囲ま
れており、検出部検出電極422が、検出電極42の主
面と平行な方向において検出部シールド電極432によ
って取り囲まれており、検出部検出電極522が、検出
電極52の主面と平行な方向において検出部シールド電
極532によって取り囲まれているので、ウェーハ検出
機能付き搬送アーム10の横方向の物体に対して検出す
ることなく、性能が向上する。
【0044】さらに、上述したように、検出部検出電極
222直下には検出部シールド電極242が設けられて
おり、検出部検出電極322直下には検出部シールド電
極342が設けられており、検出部検出電極422直下
には検出部シールド電極442が設けられており、検出
部検出電極522直下には検出部シールド電極542が
設けられているので、ウェーハ検出機能付き搬送アーム
10の下方向の物体によって影響を受けることなく、性
能が向上する。また、ウェーハ検出機能付き搬送アーム
10を縦方向に複数個配置した場合でも、ある特定のウ
ェーハ検出機能付き搬送アーム10はその検出部検出電
極222、322、422、522直上に配置された対
象被検出物体のみを検出することになり、性能は向上す
る。
【0045】上述のように、本実施の形態においては、
検出電極22とシールド電極21、23、24とが同一
電位となり、検出電極32とシールド電極31、33、
34とが同一電位となり、検出電極42とシールド電極
41、43、44とが同一電位となり、検出電極52と
シールド電極51、53、54とが同一電位となるの
で、これら検出電極とシールド電極との間に形成される
寄生容量に影響されることなく、検出部検出電極22
2、322、422、522の各々と被検出物体とによ
ってそれぞれ形成されるインピーダンス成分の値(本実
施の形態では容量値)のみに依存した電圧を得ることが
でき、インピーダンス値が非常に大きくても(インピー
ダンスが容量の場合は、容量値が微小であっても)高精
度のZ/V変換が可能になる。
【0046】このように、本実施の形態に使用するC/
V変換回路は、静電容量を高精度に検出できるセンサ回
路なので、センサは鈍くても良く、センサ電極の面積を
小さくすることができる。そして、センサ電極を相対的
に小さくすれば、被検出物体のずれに対する検出時の容
量変化比率を大きくすることができ、ずれの検出感度が
向上する。
【0047】本実施の形態では、被検出物体として半導
体シリコンウェーハ60を使用した。4つの検出部検出
電極222、322、422、522を、半導体シリコ
ンウェーハ60をウェーハ検出機能付き搬送アーム10
に搭載した場合に、半導体シリコンウェーハ60を4等
分した場合の4つの領域に対応するようにウェーハ検出
機能付き搬送アーム10に設けた。検出部検出電極22
2、322、422、522は半導体シリコンウェーハ
60の底面と平行になるように配置している。
【0048】このような構造とすることにより、センサ
電極20、30、40、50にそれぞれ対応する出力電
圧から、半導体シリコンウェーハ60の有無のみなら
ず、半導体シリコンウェーハ60がアーム10上の正規
の位置に配置しているか、異常な位置にずれていないか
を検出可能となった。また、半導体シリコンウェーハ6
0の反りや曲がりも、これら複数の出力電圧のバランス
から検出可能となる。また、ウェーハ搬送と同時に半導
体シリコンウェーハ60の反り等の異常も同時に検査で
き、コスト削減になる。
【0049】図3を参照し、センサ電極20を例とし
て、本実施の形態のウェーハ検出機能付き搬送アーム1
0の一具体例を説明すると、電極導入部シールド電極2
11の幅aを5mm、シールド電極23の幅bを1m
m、電極導入部検出電極221の幅dを2mm、電極導
入部シールド電極231と電極導入部検出電極221と
の間cを0.5mm、検出部検出電極222の直径fを
10mm、検出部シールド電極232の外径gを14m
m、電極導入部シールド電極241の幅eを5mm、検
出部シールド電極242の直径hを14mmとした。セ
ンサ電極30、40、50についても、対応する部分の
寸法は、センサ電極20と同じである。また、絶縁体層
12〜16の各層の厚さはそれぞれ0.5mmである。
【0050】このようにして形成したウェーハ検出機能
付き搬送アーム10上に、図4Aに示すように、正常に
半導体シリコンウェーハ60を搭載した場合のC/V変
換装置101〜104の出力電圧は、ほぼ同一の値であ
ったが、図4Bのように、半導体シリコンウェーハ60
の搭載位置がずれると、半導体シリコンウェーハ60が
円形の検出部検出電極222上にない場合には、図4C
に示すように半導体シリコンウェーハ60をウェーハ検
出機能付き搬送アーム10上にまったく搭載しない場合
とほぼ同じ出力電圧となり、半導体シリコンウェーハ6
0が円形の検出部検出電極522上の一部上にしか存在
しない場合には上記2つの値の中間の出力電圧となる。
【0051】また、上記のように、本実施の形態で使用
するC/V変換装置101〜104は、静電容量を高精
度に検出できるセンサ回路なので、センサは鈍くても良
く、電極構造を簡素化することができる。従って、検出
電極22、32、42、52のみを設けたウェーハ検出
機能付き搬送アーム10でもよく、また、シールド電極
21(31、41)、23(33、43)および24
(34、44)のうちのいずれか一つを設けた構造のも
のでも性能が向上する。従って、わずか1枚のセラミッ
クス基板板の片面に検出電極とシールド電極とを設けた
構造のものでアームを構成することもでき、1枚のセラ
ミックス基板の両面に電極を焼き付けたもので、アーム
を構成することもできる。
【0052】なお、本実施の形態では、C/V変換装置
を4個使用して、センサ電極20はC/V変換装置10
1に、センサ電極30はC/V変換装置102に、セン
サ電極40はC/V変換装置103に、センサ電極50
はC/V変換装置104にそれぞれ接続したが、C/V
変換装置を一つ使用して、センサ電極20、30、4
0、50との間の接続をマルチプレクサなどによって切
り替えてもよい。その場合には、センサ電極20、3
0、40、50の各シールド線はすべてC/V変換装置
のシールド手段に接続してもよく、マルチプレクサなど
によって切り替えてもよい。
【0053】また、本実施の形態のウェーハ検出機能付
き搬送アーム10は、ウェーハ移載装置に使用され、ま
た、半導体製造装置に使用される。
【0054】(第2の実施の形態)図5は、本発明の第
2の実施の形態の半導体ウェーハ検出機能付き搬送アー
ムを説明するための概略部分平面図である。図6は、本
発明の第2の実施の形態の半導体ウェーハ検出機能付き
搬送アームの変形例を説明するための概略部分平面図で
ある。
【0055】本実施の形態においては、アルミナ系セラ
ミックスからなる絶縁体11上に検出電極70を一体化
して設けている。検出電極70は、被検出物体を検出す
る検出部検出電極71と検出部検出電極71まで電極を
導入する電極導入部検出電極72とを備えている。検出
部検出電極71はその内部に開口部73を有しており、
検出部検出電極71の円弧状部分の外周は半導体シリコ
ンウェーハ60の外周と同じである。検出部検出電極7
1の電極面積は、半導体シリコンウェーハ60の底面積
の10分の1以下である。電極導入部検出電極72は、
後に説明するZ/V変換装置(本実施の形態ではC/V
変換装置として使用する)の演算増幅器の反転入力端子
に接続される。
【0056】半導体シリコンウェーハ60が正常搭載位
置からずれると、検出部検出電極71の一部が半導体シ
リコンウェーハ60からはみ出て容量が変わるので、半
導体シリコンウェーハ60の位置ずれが検出できる。そ
して、本実施の形態では、被検出物体を検出する検出部
検出電極71の電極面積は被検出物体である半導体シリ
コンウェーハ60の底面積に対して充分に小さい(10
分の1以下)ので、位置ずれが高精度で検出できる。
【0057】なお、検出部検出電極は、図6Aに示すよ
うに、うずまき状の検出部検出電極81でもよく、図6
Bに示すように、多重リング状の検出部検出電極91〜
93でもよい。検出部検出電極81および検出部検出電
極91〜93は、それぞれ電極導入部検出電極82、電
極導入部検出電極94を介して、後に説明するZ/V変
換装置(本実施の形態ではC/V変換装置として使用す
る)の演算増幅器の反転入力端子に接続される。
【0058】また、検出部検出電極内にシールド電極が
来てスルーホール等でつながっても良い。例えば、図6
Cに示すように、リング状の検出部検出電極131内に
円盤状のシールド電極133を設けてもよく、図6Dに
示すように、リング状の検出部検出電極141内にリン
グ状のシールド電極143を設けてもよい。これらのシ
ールド電極133、143は絶縁体11に設けたスルー
ホール等を介して、後に説明するZ/V変換装置(本実
施の形態ではC/V変換装置として使用する)の演算増
幅器の非反転入力端子に接続される。また、検出部検出
電極131および検出部検出電極141は、それぞれ電
極導入部検出電極132、電極導入部検出電極142を
介して、後に説明するZ/V変換装置(本実施の形態で
はC/V変換装置として使用する)の演算増幅器の反転
入力端子に接続される。
【0059】また、図6Eに示すように、リング状の検
出部検出電極151の外側に検出部シールド電極161
がきても良い。検出部検出電極151は、電極導入部検
出電極152を介して、後に説明するZ/V変換装置
(本実施の形態ではC/V変換装置として使用する)の
演算増幅器の反転入力端子に接続され、検出部シールド
電極161は電極導入部検出電極152の両側に設けた
電極導入部シールド電極162を介して、後に説明する
Z/V変換装置(本実施の形態ではC/V変換装置とし
て使用する)の演算増幅器の非反転入力端子に接続され
る。
【0060】さらに、検出部検出電極71、81、91
〜93、131、141の上層、または下層に、電極導
入部検出電極72、82、94、132、142、15
2をシルードし、検出部検出電極71、81、91〜9
3、131、141を露出するシールド電極であって、
後に説明するZ/V変換装置(本実施の形態ではC/V
変換装置として使用する)の演算増幅器の非反転入力端
子に接続されるシールド電極を設けてもよく、電極導入
部検出電極72、82、94、132、142、152
および検出部検出電極71、81、91〜93、13
1、141を共にシールドするシールド電極であって、
後に説明するZ/V変換装置(本実施の形態ではC/V
変換装置として使用する)の演算増幅器の非反転入力端
子に接続されるシールド電極を設けてもよく、これら2
種類のシールド電極を検出部検出電極71、81、91
〜93、131、141の上層および下層にそれぞれ設
けてもよい。
【0061】なお、本実施の形態においては、検出部検
出電極71、81、91〜93、131、141の電極
面積は、半導体シリコンウェーハ60の底面積の10分
の1以下であることが好ましい。また、半導体シリコン
ウェーハ60の正常搭載時は、検出部検出電極71、8
1、91〜93、131、141はすべて半導体シリコ
ンウェーハ60によって覆われるか、検出部検出電極7
1、81、91〜93、131、141のうちの充分に
広い割合(10分の9以上)が、半導体シリコンウェー
ハ60によって覆われることが好ましい。また、検出部
検出電極71、81、91〜93、131、141の最
外周は、半導体シリコンウェーハ60の外周と同じかそ
れよりも小さいことが好ましい。
【0062】また、半導体シリコンウェーハ60の底面
を互いに等しい面積となるように複数の副領域に分割し
た場合に、検出部検出電極71、81、91〜93、1
31、141がこれら複数の副領域の全てに対面するよ
うに構成され配置されていることが好ましい。
【0063】また、本実施の形態の製造方法は第1の実
施の形態と同様である。
【0064】なお、上記第1および第2の実施の形態に
おける絶縁体11用の材料としては、樹脂、セラミック
等、半導体製造工程で使用する高温仕様のものが好適に
使用される。
【0065】また、上記第1および第2の実施の形態に
おける各電極は、樹脂、セラミック等の絶縁体層で覆わ
れていることが好ましく、このようにすれば、高温での
電極劣化が防止される。
【0066】次に、図7〜12を参照して、上記第1お
よび第2の実施の形態で使用するZ/V変換装置(上記
第1および第2の実施の形態ではC/V変換装置として
使用)の構成を詳細に説明する。
【0067】図7は、上記第1および第2の実施の形態
に係るZ/V変換装置の第1の実施例を概略的に示す回
路図である。図7において、演算増幅器1は入力インピ
ーダンスと利得が極めて大きい演算増幅器であり、その
出力端子2と反転入力端子(−)との間に帰還インピー
ダンス素子3が接続されて演算増幅器1に負の帰還ルー
プが形成されている。演算増幅器1の非反転入力端子
(+)には交流電圧を発生する交流信号発生器4が接続
され、演算増幅器1の反転入力端子(−)には、信号線
5の一端が接続されている。信号線5の他端には、未知
の値のインピーダンス成分すなわち被検出インピーダン
ス成分(対象物)6の検知電極61(上記第1の実施の
形態では検出電極22、32、42、52、上記第2の
実施の形態では検出電極70、検出部検出電極81、9
1〜93、131、141、151)が接続される。対
象物6の他方の電極62は接地されるか、直流の一定の
バイアス電位に固定されるか、あるいは、フローティン
グ状態とされる。
【0068】なお、他方の電極62に交流バイアスを加
えることもできるが、このときには、演算増幅器1の出
力電圧の数学的解析が複雑になる。
【0069】外部からのノイズ等の不要信号が信号線5
に誘導されるのを防止するために、信号線5の周囲はシ
ールド手段7によって包囲されている。このシールド手
段7は1つのシールド層からなり、アースされず、演算
増幅器1の非反転入力端子(+)に接続される。なお、
上記第1の実施の形態では、シールド電極21、23、
24、シールド電極31、33、34、シールド電極4
1、43、44およびシールド電極51、53、54が
C/V変換装置101〜104の各々のシールド手段7
に接続され、上記第2の実施の形態では、シールド電極
133、143または160がこのシールド手段7に接
続される。
【0070】演算増幅器1には帰還インピーダンス素子
3を介して負帰還がかかっており、しかも、演算増幅器
1は入力インピーダンスと利得が極めて大きい演算増幅
器であるので、演算増幅器1の反転入力端子(−)及び
非反転入力端子(+)はイマジナリショート状態にあ
り、電位差は実質的にゼロである。したがって、信号線
5とシールド手段7とは同電位にあるので、信号線5と
シールド手段7との間に生じる浮遊容量をキャンセルす
ることができる。このことは、信号線5の長さに無関係
に成立する。したがって、信号線5の移動や折り曲げ、
折り返し等による信号線5とシールド線7との間に生じ
る浮遊容量の変化は、出力される出力電圧の変化には現
れない。
【0071】いま、交流信号発生器4の交流出力電圧を
Viとし、被検出インピーダンス成分すなわち対象物6
の検出すべきインピーダンス値をZx、対象物6を流れ
る電流をi、既知の帰還インピーダンス回路3のイン
ピーダンス値をZf、帰還インピーダンス回路3を流れ
る電流をi2とし、演算増幅器1の反転入力端子(−)
における電圧をVm、演算増幅器1の出力電圧をVoと
すると、演算増幅器1の2つの入力端子は前述のとおり
イマジナリショート状態にあるので、反転入力端子
(−)における電圧Vmは交流信号発生器4の交流信号
出力電圧Viと同電位となる。すなわち、Vi=Vm
【0072】また、
【数1】i=−Vm/Zx=−Vi/Zx i=(Vm−Vo)/Zf=(Vi−Vo)/Zf が成り立つ。ここで、i=iであるから、演算増幅
器1の出力電圧Voは、
【数2】 Vo=Vi(1+Zf/Zx) (1) となる。式(1)は、演算増幅器1がインピーダンス値
Zxに依存して変化する交流電圧を出力することを表し
ている。
【0073】以上のことから、信号線5、シールド手段
7、交流信号発生器4、演算増幅器1及び帰還インピー
ダンス素子3を含む部分(図7の一点鎖線で囲まれたブ
ロック8)は、信号線5の他端に接続される対象物6の
インピーダンスZxをそれに対応する電圧Voへ変換す
るZ/V変換装置を構成していることがわかる。
【0074】ここで留意すべきは、演算増幅器1の反転
及び非反転入力端子はイマジナリ・ショート状態にある
ので、信号線5とシールド手段7の間に生じる浮遊容量
が演算増幅器1の2つの入力端子の間に現れることはな
いということである。これにより、演算増幅器1の出力
電圧Voは、信号線5とシールド手段7との間に生じる
浮遊容量に関係する項を全く含まないので、対象物6の
インピーダンスZxが非常に大きくても、演算増幅器1
からは、この非常に大きなインピーダンスZxのみに対
応した電圧Voが出力される。
【0075】演算増幅器1の出力電圧Voは上記式
(1)のように表され、式(1)において、帰還インピ
ーダンス回路3のインピーダンスZf並びに交流信号V
iの周波数及び振幅は既知である。また、演算増幅器1
の交流出力電圧Voは、周波数が交流信号Viの周波数
と同一であり、振幅は演算増幅器1の出力のピーク値を
検出することにより得ることができる。従って、式
(1)を逆算することにより、インピーダンス値Zxを
得ることができる。例えば、対象物6のインピーダンス
Zxが容量成分Cxである場合、CxとVoの振幅と
は、ある実験においては図8のグラフに示されるように
なった。なお、ZxとVoの関係を予め記憶した関数テ
ーブルを検索することによっても、インピーダンス値Z
xを得ることができる。
【0076】さらに、交流出力電圧Voを適宜の回路に
供給して該交流出力電圧に対応する直流電圧Vddを生
成し、該回路によって得られた直流電圧Vddに基づ
き、インピーダンス値Zxを得ることもできる。直流電
圧Vddを生成する回路として、例えば整流平滑回路等
の任意のAC−DC変換回路を採用することができる。
また、必要に応じて、出力電圧Voを増幅した後にAC
−DC変換してもよい。
【0077】このように、図7の一点鎖線で囲まれたブ
ロック8と、演算増幅器1の出力電圧Vo又は該電圧V
oに対応する直流電圧VddからインピーダンスZxを
求める処理回路とを組み合わせることにより、対象物6
のインピーダンス値Zxを検出することができる。
【0078】図7に示した第1の実施例において、シー
ルド手段7はパイプ状のシールド手段とすることができ
る。また、信号線5及びシールド手段7からなる同軸ケ
ーブルに可撓性を持たせるために、シールド手段7を細
い金属ストリップを編み込んだ1重層のメッシュ構造に
形成することもできる。
【0079】ただし、シールド手段7を1重層のメッシ
ュ構造にした場合、交流信号発生器4の周波数を高周波
にすると、該高周波信号が信号線5からシールド手段7
の微細な穴を介してリークしてしまい、交流出力電圧V
oに影響を与えてしまう恐れがある。また、高周波の外
乱ノイズがシールド手段7により遮蔽されずに信号線5
に載ってしまうこともあり、この場合も交流出力電圧V
oに外乱ノイズの影響が顕れてしまう。さらに、このよ
うな同軸ケーブルに手を触れた場合、演算増幅器1から
の出力電圧Voが変動してしまうことがある。
【0080】図9は、シールド手段をメッシュ構造にし
て可撓性を持たせた場合でも、高精度でZ/V変換を行
うことができる、上記第1および第2の実施の形態のZ
/V変換装置の第2の実施例を示している。図9におい
て、図7の第1の実施例と同一の構成要素には同一の参
照番号を付しており、第2の実施例は、シールド手段
が、ともに演算増幅器1の非反転入力端子に接続される
内側シールド手段(第1のシールド層)71、外側シー
ルド手段(第2のシールド層)72の2重のメッシュ構
造になっている点で、第1の実施例と相違している。
【0081】第2の実施例においては、シールド手段を
2重のメッシュ構造にしているので、1重のメッシュ構
造のものと比較して、シールド手段の穴の径が小さくな
り、交流信号発生器4の周波数が高周波であっても信号
線5からシールド手段71、72へのリークが低減さ
れ、また外来ノイズによる影響も低減されるので、検出
すべきインピーダンスZxに正確に対応する出力電圧V
oを得ることができる。例えば、上記第1および第2の
実施の形態において、シールド手段を1重メッシュ構造
にして静電容量を検出した場合、1MHz程度の周波数
では同軸ケーブルに手が触れると数百ppm程度の出力
変動が生じるが、2重メッシュ構造にすると、手が触れ
ても変動が殆ど生じることがない。
【0082】図10(A)及び(B)は、第1の実施例
と第2の実施例を水分計として用いて、1重のシールド
手段及び2重のシールド手段によって生じるノイズの影
響を実験により検証した場合の、実験結果を示してい
る。この実験においては、交流信号発生器4から1MH
zの交流信号Viを発生させ、また、同軸ケーブルを間
欠的に手で握ることによって、出力電圧Voに現れる影
響を検出した。
【0083】図10の(A)及び(B)から明らかなよ
うに、1重メッシュ構造を採用している第1の実施例の
場合には、手で握った期間T、T、Tで出力電圧
Voに大きなノイズが重畳されているのに対して、2重
メッシュ構造を採用している第2の実施例においては、
出力電圧にノイズが重畳されていない。したがって、実
験結果から、シールド手段を2重メッシュ構造とすれば
ノイズの影響を殆どゼロにすることができることが実証
された。
【0084】図11は、上記第1および第2の実施の形
態のZ/V変換装置の第3の実施例を示している。該第
3の実施例は、第2の実施例と同様に、シールド手段を
2重のメッシュ構造とし、かつ内側シールド手段71を
演算増幅器1の非反転入力端子に接続しているが、外側
シールド手段72を接地している点で、第2の実施例と
相違している。
【0085】ただし、第3の実施例のように外側シール
ド手段72を接地すると、内側シールド手段71と外側
シールド手段71との間に1000pF/m以上の層間
容量すなわち寄生容量が生じ、該寄生容量は、同軸ケー
ブル(信号線5及び内側及び外側シールド手段71、7
2)が長くなると、大きくなる。また、交流信号発生器
4の周波数が高くなると、寄生容量のインピーダンスが
低下し信号リークが大きくなる。したがって、第3の実
施例は、検知電極61と演算増幅器1とが比較的近接し
て配置されて同軸ケーブルが比較的短い場合及び交流信
号発生器4の周波数が比較的低い場合に、適用すること
が好ましい。
【0086】上記第1および第2の実施の形態の第1〜
第3の実施例において、シールド手段7又は内側及び外
側シールド手段71、72により信号線5を全てシール
ドすることが好ましい。しかしながら、使用状況等によ
っては、信号線5の一部のみ(10%以上)をシールド
してもよい。さらに、信号線5のみならず、検知電極6
1以外の全ての装置をシールドすることが、より効果的
である。
【0087】また、第1〜第3の実施例において、対象
物6の被検出インピーダンス成分を、抵抗、コンデン
サ、コイル等の任意のインピーダンス成分とすることが
できる。
【0088】被検出インピーダンス成分として容量素子
Cxを用いた場合、第1〜第3の実施例は容量−電圧変
換装置となり、容量型センサを構成する。この場合、容
量素子Cxの信号線5に接続されない電極62(又はそ
れに相当するもの)は接地されるか、適宜のバイアス電
位に設定されるか、あるいは、空間に解放されている。
【0089】測定対象の被検出インピーダンス成分が容
量成分の場合は、帰還インピーダンス回路3としてコン
デンサを採用し、抵抗成分の場合は、帰還インピーダン
ス回路3として抵抗又はコンデンサを採用し、誘導成分
の場合には帰還インピーダンス回路3としてコイル、抵
抗、コンデンサの中で最もS/N比の良いものを採用す
ることが好ましい。帰還インピーダンス回路3と対象物
6の被検出インピーダンス成分とを同一特性とした場
合、ノイズがより低減されることが多い。
【0090】なお、異なる性質のもの組み合わせを採用
しても良いことは勿論であり、例えば、図12に示すよ
うに、対象物6が容量成分Cxの場合に、帰還インピー
ダンス回路3として抵抗を採用してもよい。帰還インピ
ーダンス回路として抵抗を用いるので、演算増幅器と帰
還抵抗とを1チップとして形成することが容易となる。
この場合、交流信号発生器4の出力の角周波数をωと
し、帰還抵抗3の抵抗値をRfとすると、出力電圧Vo
は、式(1)から以下のように表すことができる。
【数3】 Vo=Vi(1+jωRf・Cx) (2)
【0091】帰還インピーダンス回路3として、抵抗と
コンデンサの並列回路等を採用してもよい。その他、任
意の組み合わせが可能である。
【0092】また、式(1)から明らかなように、帰還
インピーダンス回路3と対象物6の接続位置を取り替え
てもよい。すなわち、演算増幅器1の反転入力端子と出
力端子との間に検出すべき対象物を接続し、信号線5の
一端に既知の値のインピーダンス素子又は回路を接続し
ても良い。この場合、シールド手段は、被検出インピー
ダンス成分の2つの検知電極と演算増幅器の反転入力端
子及び出力端子との間をそれぞれ接続する2つの線に被
覆する必要がある。
【0093】さらに、帰還インピーダンス回路3も未知
のインピーダンス値であるとしてもよい。この場合、式
(1)の右辺のZf及びZxはともに未知の値であるた
め、出力電圧VoはZfとZxの比の値(=Zf/Z
x)に対応した電圧値となる。
【0094】一方、例えば図12に示したZ/V変換装
置において、帰還インピーダンス回路3も未知の抵抗成
分とし、該抵抗成分及び対象物6の容量成分がともにあ
る変量Y(例えば、圧力、温度等)に対して線形変化す
る場合、これらのインピーダンスの比の値Zf/Zx=
jωCxRfが変量Yに応じて変化することになり、変
量Yに対応して変化する出力電圧Vo(=Vi(1+Z
f/Zx)=Vi(1+jωCxRf))が得られる。
【0095】ここで、2つの未知のインピーダンス成分
がそれぞれ、ある変量Yに対して線形変化しないもので
あっても、その組み合わせにより、出力電圧Voを変量
Yに対して線形変化させることができ、逆に、各インピ
ーダンス成分が変量Yに対して線形変化するものであっ
ても、出力電圧Voを非線形変化させることができる。
【0096】上記第1および第2の実施の形態で使用す
るZ/V変換装置は、上記したように構成されているの
で、以下のような作用効果を奏することができる。 (1)演算増幅器の2つの入力端子のイマジナルショー
トにより、検出すべき対象物の被検出インピーダンス成
分に接続された信号線とそれを包囲するシールド手段と
が同一電位となるので、これらの間に形成される寄生容
量に影響されることなく、被検出インピーダンス成分の
値のみに依存した電圧を得ることができる。よって、イ
ンピーダンス値が非常に大きくても高精度のZ/V変換
が可能になる。 (2)被検出インピーダンス成分の一方の電極が或る電
位にバイアスされていても、そのインピーダンス値に対
応した電圧を求めることができる。 (3)シールド手段を2重のメッシュ構造にすることに
より、信号線及びシールド手段からなる同軸ケーブルに
可撓性を持たせつつ、信号線からの信号リーク及び信号
線への外来ノイズの回り込みを低減することができ、よ
り高精度のZ/V変換が可能となる。 (4)帰還インピーダンス回路を被検出インピーダンス
成分とした場合、2つの被検出インピーダンス成分のイ
ンピーダンス比に対応する出力電圧を、信号線の寄生容
量に影響されずに高精度で得ることができる。 (5)信号線が長くなってもシールドとの寄生容量に影
響されないので、非常に大きいインピーダンスを高精度
に測定することができる。
【0097】このような優れた特性のZ/V変換装置を
上述した構造のウェーハ検出機能付き搬送アーム10に
使用するので、簡単な構造のウェーハ検出機能付き搬送
アームであっても、上記第1実施の形態では、高精度に
半導体ウェーハのずれや、反り、曲がりの検出を行うこ
とができ、上記第2実施の形態では、高精度に半導体ウ
ェーハのずれの検出を行うことができる。
【0098】なお、上記においては、半導体ウェーハを
対象としたウェーハ検出機能付き搬送アームを本発明の
上記第1および第2の実施の形態として説明したが、本
発明は、液晶表示素子形成用のガラス基板等を対象とし
た液晶表示素子製造用基板搬送アームやその他の被検出
物検出機能付き搬送アームにも好適に適用でき、ウェー
ハ検出機能付き搬送アームを備えたウェーハ移載装置、
ウェーハ検出機能付き搬送アームを備えた半導体製造装
置、液晶表示素子形成用のガラス基板等の液晶表示素子
製造用基板検出機能付き搬送アームを備えた液晶表示素
子製造用基板移載装置や液晶表示素子製造用基板検出機
能付き搬送アームを備えた液晶表示素子製造装置にも好
適に適用できる。
【0099】
【発明の効果】本発明によれば、被搭載物体の搭載位置
ずれが検知可能な物体搭載装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の半導体ウェーハ検
出機能付き搬送アームを説明するための概略部分横断面
図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態の半導体ウェーハ検
出機能付き搬送アームを説明するための概略縦断面図で
ある。
【図3】本発明の第1の実施の形態の半導体ウェーハ検
出機能付き搬送アームを説明するための概略部分拡大横
断面図である。
【図4】本発明の第1の実施の形態の半導体ウェーハ検
出機能付き搬送アームによるウェーハの検出動作を説明
するための概略部分横断面図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態の半導体ウェーハ検
出機能付き搬送アームを説明するための概略部分平面図
である。
【図6】本発明の第2の実施の形態の半導体ウェーハ検
出機能付き搬送アームの変形例を説明するための概略部
分平面図である。
【図7】本発明の一実施の形態に係るインピーダンス−
電圧(Z/V)変換装置の第1の実施例を示す回路図で
ある。
【図8】本発明の一実施の形態に係るZ/V変換装置に
おいて、被検出インピーダンスを容量成分とした場合の
Cxと出力電圧Voとの関係の実験による一例を示すグ
ラフである。
【図9】本発明の一実施の形態に係るZ/V変換装置の
第2の実施例を示す回路図である。
【図10】第1の実施例と第2の実施例を用いて、ノイ
ズによる影響を実機テストにより検証した場合のテスト
結果を示すグラフである。
【図11】本発明の一実施の形態に係るZ/V変換装置
の第3の実施例を示す回路図である。
【図12】第1の実施例において、被検出インピーダン
ス成分として静電容量を、帰還インピーダンス回路とし
て抵抗を採用した場合の回路図である。
【図13】従来の静電容量型近接センサを示す図であ
る。
【符号の説明】
1…演算増幅器 2…出力端子 3…帰還インピーダンス回路 4…交流信号発生器 5…信号線 6…検出すべき対象物 61…検出電極 62…電極 7…シールド手段 71…内側シールド手段 72…外側シールド手段 10…アーム 11…絶縁体 12〜16…絶縁体層 20、30、40、50…センサ電極 21、23、24、31、33、34、41、43、4
4、51、53、54、160…シールド電極 211、231、241、311、331、341、4
11、431、441、511、531、541、16
2…電極導入部シールド電極 232、242、332、342、432、442、5
32、542、133、143、161…検出部シール
ド電極 22、32、42、52、70、80、90、130、
140、150…検出電極 221、321、421、521、72、82、94、
132、142、152…電極導入部検出電極 222、322、422、522、71、81、91〜
93、131、141、151…検出部検出電極 60…半導体シリコンウェーハ 101〜104…CV変換回路

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】物体を搭載可能な物体搭載体と、 前記物体搭載体に取り付けられた少なくとも2つの物体
    検出電極と、 前記少なくとも2つの物体検出電極にそれぞれ接続され
    た少なくとも2つの検出回路であって、 出力端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回
    路が接続された演算増幅器と、 前記演算増幅器の前記反転入力端子と前記少なくとも2
    つの物体検出電極のうちの一つの物体検出電極との間に
    接続された信号線と、 前記演算増幅器の非反転入力端子に接続された交流信号
    発生手段と、 前記信号線の少なくとも一部をシールドすると共に前記
    演算増幅器の前記非反転入力端子および前記交流信号発
    生手段に接続されたシールド手段と、をそれぞれ有する
    前記少なくとも2つの検出回路と、 を備えることを特徴とする物体搭載装置。
  2. 【請求項2】物体を搭載可能な物体搭載体と、 前記物体搭載体に取り付けられた少なくとも2つの物体
    検出電極と、 出力端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回
    路が接続された演算増幅器と、 前記演算増幅器の前記反転入力端子に接続された信号線
    と、 前記演算増幅器の非反転入力端子に接続された交流信号
    発生手段と、 前記信号線の少なくとも一部をシールドすると共に前記
    演算増幅器の前記非反転入力端子および前記交流信号発
    生手段に接続されたシールド手段と、 前記信号線と前記少なくとも2つの物体検出電極との間
    の接続を切り替えて前記信号線を前記少なくとも2つの
    物体検出電極のうちの任意の一つに接続可能な切り替え
    手段と、 を備えることを特徴とする物体搭載装置。
  3. 【請求項3】物体を搭載可能な物体搭載体と、 前記物体搭載体に取り付けられた少なくとも2つの物体
    検出電極と、 前記少なくとも2つの物体検出電極にそれぞれ接続され
    た少なくとも2つの検出回路であって、 出力端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回
    路が接続され、前記反転入力端子と非反転入力端子とが
    イマジナルショート状態の演算増幅器と、 前記演算増幅器の前記反転入力端子と前記少なくとも2
    つの物体検出電極のうちの一つの物体検出電極との間に
    接続された信号線と、 前記信号線の少なくとも一部をシールドすると共に前記
    演算増幅器の前記非反転入力端子に接続されたシールド
    手段と、をそれぞれ有する前記少なくとも2つの検出回
    路と、 を備えることを特徴とする物体搭載装置。
  4. 【請求項4】物体を搭載可能な物体搭載体と、 前記物体搭載体に取り付けられた少なくとも2つの物体
    検出電極と、 出力端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回
    路が接続され、前記反転入力端子と非反転入力端子とが
    イマジナルショート状態の演算増幅器と、 前記演算増幅器の前記反転入力端子に接続された信号線
    と、 前記信号線の少なくとも一部をシールドすると共に前記
    演算増幅器の前記非反転入力端子に接続されたシールド
    手段と、 前記信号線と前記少なくとも2つの物体検出電極との間
    の接続を切り替えて前記信号線を前記少なくとも2つの
    物体検出電極のうちの任意の一つに接続可能な切り替え
    手段と、 を備えることを特徴とする物体搭載装置。
  5. 【請求項5】前記少なくとも2つの物体検出電極の各々
    の少なくとも一部をそれぞれシールドすると共に前記少
    なくとも2つの検出回路の各々の前記シールド手段にそ
    れぞれ接続された少なくとも2つのシールド電極が前記
    物体搭載体にさらに取り付けられていることを特徴とす
    る請求項1または3記載の物体搭載装置。
  6. 【請求項6】前記少なくとも2つの物体検出電極の各々
    の少なくとも一部をそれぞれシールドすると共に、前記
    シールド手段に接続されているかまたは前記切り替え手
    段を介して前記シールド手段に接続される少なくとも2
    つのシールド電極が前記物体搭載体にさらに取り付けら
    れていることを特徴とする請求項2または4記載の物体
    搭載装置。
  7. 【請求項7】前記少なくとも2つの物体検出電極の各々
    が、被検出物体を検出する検出部検出電極をそれぞれ有
    し、 前記検出部検出電極は、少なくとも一つの方向において
    前記シールド電極でシールドされていることを特徴とす
    る請求項5又は6記載の物体搭載装置。
  8. 【請求項8】前記物体が平板状の物体であり、 前記物体を前記物体搭載体に搭載した場合に前記物体の
    底面と平行になるように前記少なくとも2つの物体検出
    電極の前記検出部検出電極が配置されていることを特徴
    とする請求項1乃至7のいずれかに記載の物体搭載装
    置。
  9. 【請求項9】前記物体が平板状の物体であり、 前記物体を前記物体搭載体に搭載した際に前記物体を前
    記物体搭載体上に投影してできる投影面を、互いに等し
    い面積となるように少なくとも2つの副領域に分割した
    場合に、前記少なくとも2つの物体検出電極の各々が前
    記少なくとも2つの副領域の各々にそれぞれ対応する位
    置にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項1
    乃至8のいずれかに記載の物体搭載装置。
  10. 【請求項10】物体を搭載可能な物体搭載体と、 前記物体を前記物体搭載体に搭載した際の前記物体の底
    面積の10分の1以下の電極面積を有し、前記物体搭載
    体に取り付けられた物体検出電極と、 出力端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回
    路が接続された演算増幅器と、 前記演算増幅器の前記反転入力端子と前記物体検出電極
    との間に接続された信号線と、 前記演算増幅器の非反転入力端子に接続された交流信号
    発生手段と、 前記信号線の少なくとも一部をシールドすると共に前記
    演算増幅器の前記非反転 入力端子および前記交流信号
    発生手段に接続されたシールド手段と、 を備えることを特徴とする物体搭載装置。
  11. 【請求項11】物体を搭載可能な物体搭載体と、 前記物体を前記物体搭載体に搭載した際の前記物体の底
    面積の10分の1以下の電極面積を有し、前記物体搭載
    体に取り付けられた物体検出電極と、 出力端子と反転入力端子との間に帰還インピーダンス回
    路が接続され、前記反転入力端子と非反転入力端子とが
    イマジナルショート状態の演算増幅器と、 前記演算増幅器の前記反転入力端子と前記物体検出電極
    との間に接続された信号線と、 前記信号線の少なくとも一部をシールドすると共に前記
    演算増幅器の前記非反転入力端子に接続されたシールド
    手段と、 を備えることを特徴とする物体搭載装置。
  12. 【請求項12】前記物体検出電極の少なくとも一部をシ
    ールドすると共に前記シールド手段に接続されたシール
    ド電極がさらに前記物体搭載体に取り付けられているこ
    とを特徴とする請求項10または11記載の物体搭載装
    置。
  13. 【請求項13】前記物体検出電極が、被検出物体を検出
    する検出部検出電極を有し、 前記検出部検出電極は少なくとも一つの方向において前
    記シールド電極でシールドされていることを特徴とする
    請求項12記載の物体搭載装置。
  14. 【請求項14】前記物体検出電極が、被検出物体を検出
    する検出部検出電極を有し、 前記検出部検出電極はその内側に開口部を有しており、
    前記検出部検出電極の外周は、前記物体を前記物体搭載
    体に搭載した際の前記物体の底面の外周と同じかそれよ
    りも小さいことを特徴とする請求項10乃至13のいず
    れかに記載の物体搭載装置。
  15. 【請求項15】前記物体検出電極が、被検出物体を検出
    する検出部検出電極を有し、 前記物体が平板状の物体であり、 前記物体を前記物体搭載体に搭載した際に前記物体の底
    面を、互いに等しい面積となるように複数の副領域に分
    割した場合に、前記検出部検出電極が前記複数の副領域
    の全てに対面するように前記検出部検出電極が構成され
    かつ配置されていることを特徴とする請求項10乃至1
    4のいずれかに記載の物体搭載装置。
  16. 【請求項16】前記物体が半導体ウェーハであり、 請求項1乃至15のいずれかに記載の物体搭載装置を備
    えることを特徴とするウエーハ移載装置。
  17. 【請求項17】前記物体が液晶表示素子製造用の基板で
    あり、 請求項1乃至15のいずれかに記載の物体搭載装置を備
    えることを特徴とする液晶表示素子製造用基板移載装
    置。
  18. 【請求項18】前記物体が半導体ウェーハであり、 請求項1乃至15のいずれかに記載の物体搭載装置を備
    えることを特徴とする半導体製造装置。
  19. 【請求項19】前記物体が液晶表示素子製造用の基板で
    あり、 請求項1乃至15のいずれかに記載の物体搭載装置を備
    えることを特徴とする液晶表示素子製造装置。
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