JP2021535390A - 湿気絶縁ひずみゲージ、および湿気の侵入に対してひずみゲージを絶縁する方法 - Google Patents
湿気絶縁ひずみゲージ、および湿気の侵入に対してひずみゲージを絶縁する方法 Download PDFInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 70
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 62
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 57
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 claims description 77
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 39
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 26
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 16
- 210000005056 cell body Anatomy 0.000 claims description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 16
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 14
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 claims description 10
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 claims description 10
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 10
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 claims description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 120
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 27
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 12
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 10
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 7
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 6
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- -1 phenolaldehydes Polymers 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 3
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004541 SiN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001006 Constantan Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/20—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress
- G01L1/22—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
- G01L1/2287—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges constructional details of the strain gauges
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/20—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress
- G01L1/22—Measuring force or stress, in general by measuring variations in ohmic resistance of solid materials or of electrically-conductive fluids; by making use of electrokinetic cells, i.e. liquid-containing cells wherein an electrical potential is produced or varied upon the application of stress using resistance strain gauges
- G01L1/2206—Special supports with preselected places to mount the resistance strain gauges; Mounting of supports
- G01L1/2243—Special supports with preselected places to mount the resistance strain gauges; Mounting of supports the supports being parallelogram-shaped
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L1/00—Measuring force or stress, in general
- G01L1/26—Auxiliary measures taken, or devices used, in connection with the measurement of force, e.g. for preventing influence of transverse components of force, for preventing overload
Abstract
Description
− 本方法による湿気を絶縁されたひずみゲージを備えたロードセルは、前述の規格OIML R−60によって定められた湿度試験に合格するだけでなく、試験期間を約1年間に延ばしても同じ湿度試験に合格する。
− 本方法による湿気を絶縁されたひずみゲージを備えた1つまたは複数のロードセルを組み入れた計量器具は、精度等級I、II、およびIIIの計量器具に対して規格OIML R−76によって定められた湿度試験に合格する。
− 上記の湿度を絶縁されたロードセルの計量性能は、絶縁の結果として、湿度を絶縁されていないがそれ以外は同一のロードセルと比較しても悪くならない。
− この絶縁は、ひずみゲージの製造プロセスで施すことができ、または完成したひずみゲージ自体に追加することができ、またはロードセルの本体にすでに取り付けられたひずみゲージに施すことができる。
− この絶縁をひずみゲージ自体に施すか、ロードセルの本体にすでに取り付けられたひずみゲージに施すかにかかわらず、本方法は、既存の現況技術と比較して、一貫して低製造コストで高品質な結果をもたらす。
[0024]従来のひずみゲージは、本明細書では、現在市販されているひずみゲージ、すなわち湿気バリアコーティングのない基層を有するひずみゲージとして考えられている。
A.ロードセルの本体(または、ひずみ測定が実施される別の物体)へのひずみゲージの取付けと、ひずみゲージ上への被覆カバー層の取付けとは互いに組み合わされる。ひずみゲージは、必要な接合剤を塗布してロードセル本体に配置され、被覆カバー層は、必要な接合剤を塗布してひずみゲージの少なくとも一部分を覆うように被せられ、ロードセル本体へのひずみゲージおよび被覆カバー層の取付けは、クランプで圧力をかけて固定され、組立体全体は、接着接合剤を固めるために炉内で熱硬化される。
B.被覆カバー層の取付けは、すでに取り付けられてその接着接合剤の熱硬化を受けたひずみゲージに実施される。必要な接合剤を塗布した被覆カバー層は、ひずみゲージの少なくとも一部分を覆うように被せられ、ひずみゲージへの被覆カバー層の取付けは、クランプで圧力をかけて固定され、組立体全体は、接着接合剤を固めるために炉内で熱硬化される。室温硬化の接着剤が使用される場合には、被覆カバー層の取付け後の炉での硬化は不必要になる。
C.被覆カバー層の取付けは、ひずみゲージの製造プロセス中に実施され、その結果生じる製品は湿気絶縁ひずみゲージである。被覆カバー層の取付けは、個々のひずみゲージで実施することができる、または、マルチユニットシートで実施して、その後、個々のひずみゲージに切り分けることができる。ひずみゲージは通常、マルチユニットシートの形態で生産され、その後、最終製品となる個々のひずみゲージの最終形態に切り分けられる。
2 上面
3 底面
4 荷重受け端部
5 取付け端部
6 上部曲がり梁部
7 下部曲がり梁部
8 ねじ穴
9 輪郭が形成された開口
10 薄いブリッジ部
12 ひずみゲージ
13、23、43 電極パッド
14、34、44 被覆カバー層
15 ポリマー材料の薄いシート、14の基材、カバー層
17 湿気バリアコーティング
20 基層
21A、31、41 開放型ひずみゲージ
21B 湿気絶縁開放型ひずみゲージ
22、42 抵抗体導電路
25A、35、45 保護型ひずみゲージ
25B 湿気絶縁保護型ひずみゲージ
26、36、46 機械的保護カバー
33 ロードセルの本体
37 ひずみゲージ31、35に隣接する境界領域
38 接着接合剤
47 開口
48 追加の金属材料
Claims (16)
- 湿気の侵入に対して絶縁されたひずみゲージであって、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)が、
ポリマー基板箔材料から作られた基層(20)と、
金属抵抗箔材料上の抵抗体導電路層であり、前記抵抗体導電路(22、42)が、蛇行構造の形状であり、前記抵抗体導電路(22、42)に接触するための電極パッド(13、23、43)を有する、抵抗体導電路層とを備え、
前記抵抗体導電路層が前記基層(20)と一緒に積層され、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)が、化学エッチング法によって前記積層された層に生成された、ひずみゲージにおいて、
前記基層(20)が湿気バリアコーティング(17)によって包まれるように、前記湿気バリアコーティング(17)が、堆積プロセスによって前記基層(20)のすべての面に形成されること、および/または、
前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)が、
ポリマーフィルム箔材料から作られたカバー層(15)をさらに備え、
湿気バリアコーティング(17)が、堆積プロセスによって前記カバー層(15)の少なくとも片側に形成され、
前記被覆カバー層(14、34、44)が前記抵抗体導電路層の表面に被せられて、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の少なくとも一部分を覆うことを特徴とする、ひずみゲージ。 - 請求項1に記載のひずみゲージであって、
前記被覆カバー層(14、34、44)に覆われていない前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の表面に、前記抵抗体導電路層からの追加の金属材料(48)が被せられ、
前記追加の金属材料(48)と前記抵抗体導電路(22、42)または前記電極パッド(13、23、43)との間に導電接続が存在しないことを特徴とする、ひずみゲージ。 - 請求項1に記載のひずみゲージであって、
前記被覆カバー層(14、34、44)が、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)全体を覆うように被せられ、
開口(47)が、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の前記電極パッド(13、23)まで前記被覆カバー層(14、34、44)を貫通するように作成されることを特徴とする、ひずみゲージ。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載のひずみゲージであって、
前記湿気バリアコーティング(17)が、
前記カバー層(15)の上面および底面に、または
前記カバー層(15)が前記湿気バリアコーティング(17)によって包まれるように前記カバー層(15)のすべての面に
堆積されることを特徴とする、ひずみゲージ。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載のひずみゲージであって、前記湿気バリアコーティング(17)の厚さが200ナノメートル以下であることを特徴とする、ひずみゲージ。
- 接着接合剤(38)を使用してロードセル本体(1)またはひずみ測定が実施される任意の物体に貼り付けられたひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)を有するロードセルにおいて、
前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)が請求項1から5のいずれか一項に記載のひずみゲージの1種類であることを特徴とする、ロードセル。 - 湿気の侵入に対して絶縁されたひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)を製造する方法であって、前記方法が、
ポリマー基板箔材料から作られた基層(20)を設けるステップと、
金属抵抗箔材料上に抵抗体導電路層を設けるステップであって、前記抵抗体導電路(22、42)が、蛇行構造の形状であり、前記抵抗体導電路(22、42)に接触するための電極パッド(13、23、43)を有する、ステップと、
前記抵抗体導電路層を前記基層(20)と一緒に積層するステップと、
化学エッチング法によって前記積層された層にひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)を生成するステップとを含み、
前記方法が、前記基層(20)が湿気バリアコーティング(17)によって包まれるように、前記抵抗体導電路と前記基層(20)との前記積層の前に、堆積プロセスによって前記基層(20)のすべての表面に前記湿気バリアコーティング(17)を形成することによって被覆基層を生成するステップをさらに含むこと、および/または、
前記方法が、
ポリマーフィルム箔材料から作られたカバー層(15)を設けるステップと、
堆積プロセスによって前記カバー層(15)の表面に湿気バリアコーティング(17)を形成することによって被覆カバー層(14、34、44)を生成するステップと、
前記被覆カバー層(14、34、44)を前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)に貼り付けて前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の少なくとも一部分を覆うステップとをさらに含むことを特徴とする、方法。 - 請求項7に記載の方法であって、前記被覆カバー層(14、34、44)に覆われていない前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の表面に、前記抵抗体導電路層からの追加の金属材料(48)が被せられ、前記追加の金属材料(48)と前記抵抗体導電路(22、42)または前記電極パッド(13、23、43)との間に導電接続が存在しないことを特徴とする、方法。
- 請求項7に記載の方法であって、前記被覆カバー層(14、34、44)が、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)全体を覆うように被せられることを特徴とし、
開口(47)を、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の前記電極パッド(13、23)まで前記被覆カバー層(14、34、44)を貫通するように作成するステップをさらに含む、方法。 - 請求項7から9のいずれか一項に記載の方法であって、前記湿気バリアコーティング(17)の厚さが200ナノメートル以下であることを特徴とする、方法。
- 請求項7から10のいずれか一項に記載の方法であって、前記湿気バリアコーティング(17)が、
前記カバー層(15)の片側、または
前記カバー層(15)の両側、または
前記カバー層(15)が前記湿気バリアコーティング(17)によって包まれるように前記カバー層(15)のすべての面
に堆積されることを特徴とする、方法。 - ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35)をロードセル(1)の本体、またはひずみ測定が実施される任意の物体に取り付ける方法であって、
ロードセル本体(1)またはひずみ測定が実施される任意の物体に接着接合剤(38)を塗布して、従来のひずみゲージ(12、21A、25A、31、35)または請求項1に記載のひずみゲージ(21B、25B)を配置するステップと、
ポリマーフィルム箔材料から作られたカバー層(15)を設けるステップと、
堆積プロセスによって前記カバー層(15)の表面に湿気バリアコーティング(17)を形成することによって被覆カバー層(14、34)を生成するステップと、
前記接着接合剤(38)を塗布して前記被覆カバー層(14、34)を被せて、前記ひずみゲージ(12、21、25、31、35)の少なくとも一部分を覆うステップと、
前記ロードセル本体(1)またはひずみ測定が実施される任意の物体への前記ひずみゲージ(12、21、25、31、35)と前記被覆カバー層(14、34)とを組み合わせた取付けを、接触圧をかけた状態で固定するステップと、
前記ひずみゲージ(12、21、25、31、35)と前記被覆カバー層(14、34)の前記接着接合剤を熱硬化して固めるために、前記ひずみゲージ(12、21、25、31、35)と前記被覆カバー層(14、34)を固定した状態で前記ロードセル本体(1)またはひずみ測定が実施される前記物体を炉に入れるステップと
を含むことを特徴とする、方法。 - すでに取り付けられた、従来のひずみゲージ(12、21A、25A、31、35)または請求項1に記載のひずみゲージ(21B、25B)に、被覆カバー層(14、34)を取り付ける方法であって、
取り付けられ接着接合剤の熱硬化を受けた少なくとも1つのひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35)を有する、ロードセル本体(1)またはひずみ測定が実施される物体を設けるステップと、
ポリマーフィルム箔材料から作られたカバー層(15)を設けるステップと、
堆積プロセスによって前記カバー層(15)の表面に湿気バリアコーティング(17)を形成することによって被覆カバー層(14、34)を生成するステップと、
前記被覆カバー層(14、34)を、
熱硬化接着接合剤(38)を塗布して、または
室温硬化接着接合剤(38)を塗布して、
被せて、前記少なくとも1つの取り付けられたひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35)の少なくとも一部分を覆うステップと、
前記少なくとも1つのひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35)への被覆カバー層(14、34)の取付けを、接触圧をかけた状態で固定するステップと、
前記被覆カバー層(14、34)が前記少なくとも1つの取り付けられたひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35)に固定された状態で、前記ロードセル本体(1)またはひずみ測定が実施される前記物体を、
炉に入れて、前記被覆カバー層(14、34)の前記熱硬化接着接合剤(38)を熱硬化して固める、または
定められた時間の間、室温に置き、前記被覆カバー層(14、34)の前記室温硬化接着接合剤(38)を硬化して固めるステップと
を含むことを特徴とする、方法。 - 得られる製品が湿気絶縁ひずみゲージ(21B、25B、41、45)であるように、従来のひずみゲージ(41、45)または請求項1に記載のひずみゲージ(21B、25B)の製造プロセス中に被覆カバー層(44)を取り付ける方法であって、
少なくとも2つの個別のひずみゲージ(21B、25B、41、45)またはひずみゲージ(21B、25B、41、45)の少なくとも1つのマルチユニットシートを設けるステップと、
ポリマーフィルム箔材料から作られたカバー層(15)を設けるステップと、
堆積プロセスによって前記カバー層(15)の表面に湿気バリアコーティング(17)を形成することによって被覆カバー層(44)を生成するステップと、
接着接合剤(38)を塗布して前記被覆カバー層(44)を被せて、前記個別のひずみゲージ(21B、25B、41、45)の少なくとも一部分、またはひずみゲージ(21B、25B、41、45)の前記少なくとも1つのマルチユニットシートの少なくとも一部分を覆うステップと、
前記個別のひずみゲージ(41、45)またはひずみゲージ(21B、25B、41、45)の前記少なくとも1つのマルチユニットシートへの前記被覆カバー層(44)の前記取付けを、接触圧をかけた状態で固定するステップと、
前記被覆カバー層(44)と前記ひずみゲージ(21B、25B、41、45)との間の前記接着接合剤を固めるために、前記ひずみゲージ(21B、25B、41、45)を前記被覆カバー層(44)とともに、定められた温度で、定められた時間の間、硬化するステップと
を含むことを特徴とする、方法。 - 請求項12から14のいずれか一項に記載の方法であって、前記被覆カバー層(14、34、44)に覆われていない前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の表面に、前記抵抗体導電路からの追加の金属材料(48)が被せられ、前記追加の金属材料(48)と前記抵抗体導電路(22、42)または前記電極パッド(13、23、43)との間に導電接続が存在しないことを特徴とする、方法。
- 請求項12から14のいずれか一項に記載の方法であって、前記被覆カバー層(14、34、44)が、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)全体を覆うように被せられることを特徴とし、
開口(47)を、前記ひずみゲージ(12、21A、21B、25A、25B、31、35、41、45)の電極パッド(13、23、43)まで前記被覆カバー層(14、34、44)を貫通するように作成するステップをさらに含む、方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024001731A JP2024038304A (ja) | 2018-08-31 | 2024-01-10 | 湿気絶縁ひずみゲージ、および湿気の侵入に対してひずみゲージを絶縁する方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18191935.8 | 2018-08-31 | ||
EP18191935.8A EP3617683A1 (en) | 2018-08-31 | 2018-08-31 | Method of insulating a strain gauge against moisture penetration |
PCT/EP2019/073246 WO2020043892A2 (en) | 2018-08-31 | 2019-08-30 | Moisture-insulated strain gauge and method of insulating a strain gauge against moisture penetration |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024001731A Division JP2024038304A (ja) | 2018-08-31 | 2024-01-10 | 湿気絶縁ひずみゲージ、および湿気の侵入に対してひずみゲージを絶縁する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021535390A true JP2021535390A (ja) | 2021-12-16 |
JPWO2020043892A5 JPWO2020043892A5 (ja) | 2022-08-04 |
Family
ID=63452514
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021510965A Pending JP2021535390A (ja) | 2018-08-31 | 2019-08-30 | 湿気絶縁ひずみゲージ、および湿気の侵入に対してひずみゲージを絶縁する方法 |
JP2024001731A Pending JP2024038304A (ja) | 2018-08-31 | 2024-01-10 | 湿気絶縁ひずみゲージ、および湿気の侵入に対してひずみゲージを絶縁する方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024001731A Pending JP2024038304A (ja) | 2018-08-31 | 2024-01-10 | 湿気絶縁ひずみゲージ、および湿気の侵入に対してひずみゲージを絶縁する方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11841282B2 (ja) |
EP (2) | EP3617683A1 (ja) |
JP (2) | JP2021535390A (ja) |
KR (1) | KR20210049144A (ja) |
CN (1) | CN112912704A (ja) |
IL (1) | IL280992A (ja) |
WO (1) | WO2020043892A2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11698309B2 (en) * | 2020-03-05 | 2023-07-11 | Delta Electronics, Inc. | Linear actuator |
CN115235331A (zh) * | 2020-12-31 | 2022-10-25 | 厦门市诺盛测控技术有限公司 | 一种焊点镀膜的应变计制备模版 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5529756A (en) * | 1978-08-24 | 1980-03-03 | Tokyo Electric Co Ltd | Load cell |
JPS5542156U (ja) * | 1978-09-14 | 1980-03-18 | ||
US4307371A (en) * | 1977-06-27 | 1981-12-22 | Hottinger Baldwin Measurements, Inc. | Method and apparatus for covering a foil strain gauge |
JPH0528947U (ja) * | 1992-09-22 | 1993-04-16 | 大和製衡株式会社 | ロードセル |
JPH098324A (ja) * | 1995-06-16 | 1997-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 力学量センサの製造方法 |
JP2001091205A (ja) * | 1999-07-22 | 2001-04-06 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 物体搭載装置 |
US20050155435A1 (en) * | 2002-07-25 | 2005-07-21 | Mettler-Toledo Gmbh | Moisture protection for an electromechanical transducer |
JP2010243192A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | A & D Co Ltd | 歪ゲージとロードセル。 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3599139A (en) | 1969-03-14 | 1971-08-10 | Blh Electronics | Strain gage protective cover |
US4015326A (en) * | 1975-02-18 | 1977-04-05 | Brewer Engineering Laboratories, Inc. | Method of mounting a strain gage to a surface |
JPS5953147B2 (ja) | 1978-09-20 | 1984-12-24 | 三菱電機株式会社 | 水平固定管の全姿勢円周溶接方法 |
EP0107966B2 (en) | 1982-10-26 | 1991-12-27 | Kabushiki Kaisha Ishida Koki Seisakusho | Load cell and method for its manufacture |
JPH02150537U (ja) | 1989-05-24 | 1990-12-26 | ||
US4957177A (en) | 1989-08-09 | 1990-09-18 | Toledo Scale Corporation | Enclosed moment-insensitive load cell |
DE4236985C1 (de) * | 1992-11-04 | 1994-02-24 | Hottinger Messtechnik Baldwin | Dehnungsmeßstreifen |
DE4404716A1 (de) * | 1994-02-15 | 1995-08-17 | Hottinger Messtechnik Baldwin | Dehnungsmeßstreifen und Verfahren zur Herstellung eines Dehnungsmeßstreifens sowie Meßgrößenaufnehmer |
DE29922560U1 (de) * | 1999-12-22 | 2000-03-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zur flächigen Messung von Betriebszustandsgrößen bei Maschinenkomponenten |
DE502004010904D1 (de) | 2004-01-27 | 2010-04-29 | Mettler Toledo Ag | Dehnmessstreifen mit Feuchtigkeitsschutz durch inhomogene anorganische Schicht auf glättender Polymerschicht (ORMOCER) und Schlitzanordnung |
ATE441843T1 (de) * | 2004-01-27 | 2009-09-15 | Mettler Toledo Ag | Kraftmesszelle mit dehnmessstreifen mit klebeschicht aus anorganisch-organischem hybrid- polymer (ormocer) |
US7461560B2 (en) * | 2005-03-28 | 2008-12-09 | Microstrain, Inc. | Strain gauge with moisture barrier and self-testing circuit |
US20170213648A1 (en) | 2014-08-01 | 2017-07-27 | Western Michigan University Research Foundation | Self-supported electronic devices |
JP2017067764A (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | ミネベアミツミ株式会社 | ひずみゲージ、荷重センサ、及びひずみゲージの製造方法 |
US10359325B2 (en) * | 2017-05-15 | 2019-07-23 | Strain Measurement Devices, Inc. | Thin film strain gauge |
-
2018
- 2018-08-31 EP EP18191935.8A patent/EP3617683A1/en not_active Withdrawn
-
2019
- 2019-08-30 JP JP2021510965A patent/JP2021535390A/ja active Pending
- 2019-08-30 CN CN201980056764.3A patent/CN112912704A/zh active Pending
- 2019-08-30 KR KR1020217008842A patent/KR20210049144A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-08-30 WO PCT/EP2019/073246 patent/WO2020043892A2/en unknown
- 2019-08-30 EP EP19759004.5A patent/EP3844467A2/en active Pending
- 2019-08-30 US US17/269,910 patent/US11841282B2/en active Active
-
2021
- 2021-02-21 IL IL280992A patent/IL280992A/en unknown
-
2024
- 2024-01-10 JP JP2024001731A patent/JP2024038304A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4307371A (en) * | 1977-06-27 | 1981-12-22 | Hottinger Baldwin Measurements, Inc. | Method and apparatus for covering a foil strain gauge |
JPS5529756A (en) * | 1978-08-24 | 1980-03-03 | Tokyo Electric Co Ltd | Load cell |
JPS5542156U (ja) * | 1978-09-14 | 1980-03-18 | ||
JPH0528947U (ja) * | 1992-09-22 | 1993-04-16 | 大和製衡株式会社 | ロードセル |
JPH098324A (ja) * | 1995-06-16 | 1997-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 力学量センサの製造方法 |
JP2001091205A (ja) * | 1999-07-22 | 2001-04-06 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 物体搭載装置 |
US20050155435A1 (en) * | 2002-07-25 | 2005-07-21 | Mettler-Toledo Gmbh | Moisture protection for an electromechanical transducer |
JP2010243192A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | A & D Co Ltd | 歪ゲージとロードセル。 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112912704A (zh) | 2021-06-04 |
WO2020043892A3 (en) | 2020-04-16 |
IL280992A (en) | 2021-04-29 |
JP2024038304A (ja) | 2024-03-19 |
KR20210049144A (ko) | 2021-05-04 |
EP3844467A2 (en) | 2021-07-07 |
EP3617683A1 (en) | 2020-03-04 |
US11841282B2 (en) | 2023-12-12 |
WO2020043892A2 (en) | 2020-03-05 |
US20210262873A1 (en) | 2021-08-26 |
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