JP2001089400A - 光学活性化合物及びその製造方法 - Google Patents
光学活性化合物及びその製造方法Info
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- JP2001089400A JP2001089400A JP26933399A JP26933399A JP2001089400A JP 2001089400 A JP2001089400 A JP 2001089400A JP 26933399 A JP26933399 A JP 26933399A JP 26933399 A JP26933399 A JP 26933399A JP 2001089400 A JP2001089400 A JP 2001089400A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高速応答可能な液晶素子等に有用な新規光学活
性化合物及びその安価に高収率で製造できる製造方法の
提供。 【解決手段】ＣＨ3ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2−Ｐｈ−Ｃ*Ｈ(Ｃ
Ｈ3)−Ｙ−Ｐｈ’−Ｑ（Ｑは−Ｃｙ−Ｒ等、Ｙは−ＣＨ
2−等、Ｐｈ’はフェニレン基等、Ｒは炭素数１〜７の
直鎖アルキル基）で表される光学活性化合物、及び、グ
リニャールカップリング反応を用いた該化合物の製造方
法。
性化合物及びその安価に高収率で製造できる製造方法の
提供。 【解決手段】ＣＨ3ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2−Ｐｈ−Ｃ*Ｈ(Ｃ
Ｈ3)−Ｙ−Ｐｈ’−Ｑ（Ｑは−Ｃｙ−Ｒ等、Ｙは−ＣＨ
2−等、Ｐｈ’はフェニレン基等、Ｒは炭素数１〜７の
直鎖アルキル基）で表される光学活性化合物、及び、グ
リニャールカップリング反応を用いた該化合物の製造方
法。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶素子等に利用
される光学活性化合物及びその製造方法に関する。
される光学活性化合物及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ネマティック型、コレステリック型、強
誘電型等の液晶素子には、光学活性化合物（カイラル
剤）を添加した液晶組成物が用いられている。例えば下
式Ｓ−８１１で表される化合物（メルク社製商品名Ｓ−
８１１）、又は下式ＣＮで表される化合物のようなカイ
ラル剤が現在幅広く用いられている。
誘電型等の液晶素子には、光学活性化合物（カイラル
剤）を添加した液晶組成物が用いられている。例えば下
式Ｓ−８１１で表される化合物（メルク社製商品名Ｓ−
８１１）、又は下式ＣＮで表される化合物のようなカイ
ラル剤が現在幅広く用いられている。
【０００３】
【化４】
【０００４】これらのカイラル剤は粘度が高いため、液
晶組成物に添加した場合、少量の添加でもその液晶組成
物の粘度を大きく上昇させる。このことは、カイラル剤
の添加量が多いＳＴＮ型、コレステリック型等の液晶素
子に用いる液晶組成物の場合に特に顕著である。また、
カイラル剤は、そのヘリカルピッチ長が長い、すなわち
カイラルパワ−が小さいほど添加量を多くしなければな
らない。カイラル剤の添加量が多いと、液晶組成物の粘
度が大きく上昇する。光学活性化合物の粘度と液晶組成
物の粘度、及び液晶組成物の粘度とその液晶組成物を用
いた液晶素子の応答性には正の相関があるので、液晶素
子の高速応答化のためには、粘度が低く、ヘリカルピッ
チ長が短い光学活性化合物が求められている。
晶組成物に添加した場合、少量の添加でもその液晶組成
物の粘度を大きく上昇させる。このことは、カイラル剤
の添加量が多いＳＴＮ型、コレステリック型等の液晶素
子に用いる液晶組成物の場合に特に顕著である。また、
カイラル剤は、そのヘリカルピッチ長が長い、すなわち
カイラルパワ−が小さいほど添加量を多くしなければな
らない。カイラル剤の添加量が多いと、液晶組成物の粘
度が大きく上昇する。光学活性化合物の粘度と液晶組成
物の粘度、及び液晶組成物の粘度とその液晶組成物を用
いた液晶素子の応答性には正の相関があるので、液晶素
子の高速応答化のためには、粘度が低く、ヘリカルピッ
チ長が短い光学活性化合物が求められている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
素子等に有用な、ヘリカルピッチ長が短く、低粘度であ
る光学活性化合物の提供、及びその光学活性化合物を高
収率で容易に製造できる製造方法の提供にある。
素子等に有用な、ヘリカルピッチ長が短く、低粘度であ
る光学活性化合物の提供、及びその光学活性化合物を高
収率で容易に製造できる製造方法の提供にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
式（１）又は下式（２）で表される光学活性化合物を提
供する。ただし、式中の記号は本明細書を通じて下記の
意味を示す。 Ｑ：−Ｃｙ−Ｒ、−Ｒ又はハロゲン原子。 Ｃｙ：非置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン
基。 Ｒ：炭素数１〜７の直鎖アルキル基。 Ｐｈ：非置換の１，４−フェニレン基。 Ｐｈ’：水素原子の１個又は２個がフッ素原子に置換さ
れていてもよい１，４−フェニレン基。 Ｃ*：不斉炭素原子。 Ｘ：臭素原子又はヨウ素原子。
式（１）又は下式（２）で表される光学活性化合物を提
供する。ただし、式中の記号は本明細書を通じて下記の
意味を示す。 Ｑ：−Ｃｙ−Ｒ、−Ｒ又はハロゲン原子。 Ｃｙ：非置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン
基。 Ｒ：炭素数１〜７の直鎖アルキル基。 Ｐｈ：非置換の１，４−フェニレン基。 Ｐｈ’：水素原子の１個又は２個がフッ素原子に置換さ
れていてもよい１，４−フェニレン基。 Ｃ*：不斉炭素原子。 Ｘ：臭素原子又はヨウ素原子。
【０００７】また、本発明は下式（３）で表されるカル
ボン酸を酸クロリドとし、下式（４）で表されるグリニ
ャール試薬とカップリング反応させることを特徴とする
下式（１）で表される光学活性化合物の製造方法を提供
する。さらに、本発明は下式（３）で表されるカルボン
酸を酸クロリドとし、下式（４）で表されるグリニャー
ル試薬とカップリング反応させ、生成したケトンを還元
することを特徴とする下式（２）で表される光学活性化
合物の製造方法を提供する。
ボン酸を酸クロリドとし、下式（４）で表されるグリニ
ャール試薬とカップリング反応させることを特徴とする
下式（１）で表される光学活性化合物の製造方法を提供
する。さらに、本発明は下式（３）で表されるカルボン
酸を酸クロリドとし、下式（４）で表されるグリニャー
ル試薬とカップリング反応させ、生成したケトンを還元
することを特徴とする下式（２）で表される光学活性化
合物の製造方法を提供する。
【０００８】
【化５】
【０００９】
【発明の実施の形態】［式（１）及び式（２）の説明］
以下において、式（１）で表される化合物を化合物
（１）とも記載する。化合物（２）などの表記について
も同様である。Ｃ3Ｈ7、Ｃ6Ｈ13などのアルキル基は特
に記載のない場合はすべて直鎖アルキル基を示す。−Ｃ
Ｏ−はカルボニル基（＞Ｃ＝Ｏ）を示し、−ＣＨ2−は
メチレン基を示す。ＣＨ3ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2−は２−メ
チルプロピル基を意味する。
以下において、式（１）で表される化合物を化合物
（１）とも記載する。化合物（２）などの表記について
も同様である。Ｃ3Ｈ7、Ｃ6Ｈ13などのアルキル基は特
に記載のない場合はすべて直鎖アルキル基を示す。−Ｃ
Ｏ−はカルボニル基（＞Ｃ＝Ｏ）を示し、−ＣＨ2−は
メチレン基を示す。ＣＨ3ＣＨ(ＣＨ3)ＣＨ2−は２−メ
チルプロピル基を意味する。
【００１０】化合物（１）及び化合物（２）は、その構
造中に不斉炭素（Ｃ*）を含む光学活性な化合物であ
る。不斉炭素に結合する基の絶対配置はＲ又はＳのいず
れであってもよい。化合物（１）及び化合物（２）にお
いて、Ｒは、炭素数３、４又は５である直鎖アルキル基
が好ましい。
造中に不斉炭素（Ｃ*）を含む光学活性な化合物であ
る。不斉炭素に結合する基の絶対配置はＲ又はＳのいず
れであってもよい。化合物（１）及び化合物（２）にお
いて、Ｒは、炭素数３、４又は５である直鎖アルキル基
が好ましい。
【００１１】化合物（１）は、下式（５）〜（９）に分
類される。
類される。
【００１２】
【化６】
【００１３】以下、式（５）〜（９）について、それぞ
れ具体例を記す。なお、本明細書を通じて、ＰｈFはモ
ノフルオロ−１，４−フェニレン基、ＰｈFFはジフルオ
ロ−１，４−フェニレン基を示す。フッ素の置換位置は
特に限定されない。
れ具体例を記す。なお、本明細書を通じて、ＰｈFはモ
ノフルオロ−１，４−フェニレン基、ＰｈFFはジフルオ
ロ−１，４−フェニレン基を示す。フッ素の置換位置は
特に限定されない。
【００１４】
【化７】
【００１５】
【化８】
【００１６】
【化９】
【００１７】
【化１０】
【００１８】
【化１１】
【００１９】化合物（２）は、下式（１０）〜（１４）
に分類される。
に分類される。
【００２０】
【化１２】
【００２１】以下、式（１０）〜（１４）について、そ
れぞれ具体例を記す。
れぞれ具体例を記す。
【００２２】
【化１３】
【００２３】
【化１４】
【００２４】
【化１５】
【００２５】
【化１６】
【００２６】
【化１７】
【００２７】［製造方法の説明］本発明における光学活
性化合物の製造方法は、まず式（３）で表されるカルボ
ン酸を塩素化し、下式（１５）で表される酸クロリドと
する。塩素化剤は塩化チオニルが好ましい。反応は無溶
媒でも溶媒を使用してもよいが、作業性等からテトラク
ロロエチレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン等を溶
媒として用いることが好ましい。反応温度は５０℃以下
が好ましい。塩化チオニルの代わりに塩化オキサリルを
用いてもよい。
性化合物の製造方法は、まず式（３）で表されるカルボ
ン酸を塩素化し、下式（１５）で表される酸クロリドと
する。塩素化剤は塩化チオニルが好ましい。反応は無溶
媒でも溶媒を使用してもよいが、作業性等からテトラク
ロロエチレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン等を溶
媒として用いることが好ましい。反応温度は５０℃以下
が好ましい。塩化チオニルの代わりに塩化オキサリルを
用いてもよい。
【００２８】得られた式（１５）で表される酸クロリド
を、式（４）で表されるグリニャール試薬とカップリン
グ反応させる。式（４）におけるＸは反応性、コストの
点から臭素原子が好ましい。本反応の溶媒は特に限定さ
れないが、酸クロリドの安定性、副反応の抑制効果から
トルエンが好ましい。また、本反応においては収率の向
上、副反応の抑制効果から有機金属錯体を触媒として用
いることが好ましい。
を、式（４）で表されるグリニャール試薬とカップリン
グ反応させる。式（４）におけるＸは反応性、コストの
点から臭素原子が好ましい。本反応の溶媒は特に限定さ
れないが、酸クロリドの安定性、副反応の抑制効果から
トルエンが好ましい。また、本反応においては収率の向
上、副反応の抑制効果から有機金属錯体を触媒として用
いることが好ましい。
【００２９】有機金属錯体としては、鉄（ＩＩＩ）−ア
セチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）−アセチルアセ
トナート、コバルト（ＩＩ）−アセチルアセトナート、
銅（ＩＩ）−アセチルアセトナート、ジクロロ（１，２
−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）ニッケル、テ
トラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）
等が好ましく挙げられる。反応温度は−１０〜＋３０℃
が好ましい。
セチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）−アセチルアセ
トナート、コバルト（ＩＩ）−アセチルアセトナート、
銅（ＩＩ）−アセチルアセトナート、ジクロロ（１，２
−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）ニッケル、テ
トラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）
等が好ましく挙げられる。反応温度は−１０〜＋３０℃
が好ましい。
【００３０】式（４）で表されるグリニャール試薬は、
下式（１６）で表されるハロゲン化物と金属マグネシウ
ムから常法により容易に合成できる。
下式（１６）で表されるハロゲン化物と金属マグネシウ
ムから常法により容易に合成できる。
【００３１】
【化１８】
【００３２】上記の反応により化合物（１）が得られ
る。さらに、その化合物（１）であるケトンを還元する
ことにより化合物（２）が得られる。本反応における還
元剤は、特に限定されないが、作業性、安全性等からト
リフルオロ酢酸存在下のトリエチルシランが好ましい。
反応温度は０℃〜３０℃が好ましい。それぞれの反応に
おいて、光学活性化合物の光学純度は保持される。
る。さらに、その化合物（１）であるケトンを還元する
ことにより化合物（２）が得られる。本反応における還
元剤は、特に限定されないが、作業性、安全性等からト
リフルオロ酢酸存在下のトリエチルシランが好ましい。
反応温度は０℃〜３０℃が好ましい。それぞれの反応に
おいて、光学活性化合物の光学純度は保持される。
【００３３】化合物（１）及び化合物（２）は、従来使
われていた光学活性化合物に比べてヘリカルピッチ長が
短く、かつ粘度が低い。ヘリカルピッチ長が短いことに
より、従来より添加量がより少量ですみ、かつ化合物の
粘度も低いことにより、化合物（１）及び／又は化合物
（２）を添加して得られる液晶組成物も従来より粘度を
低くできる。このことにより、該液晶組成物を用いて、
高速応答化した液晶素子が得られる。
われていた光学活性化合物に比べてヘリカルピッチ長が
短く、かつ粘度が低い。ヘリカルピッチ長が短いことに
より、従来より添加量がより少量ですみ、かつ化合物の
粘度も低いことにより、化合物（１）及び／又は化合物
（２）を添加して得られる液晶組成物も従来より粘度を
低くできる。このことにより、該液晶組成物を用いて、
高速応答化した液晶素子が得られる。
【００３４】液晶組成物とする場合、化合物（１）及び
／又は化合物（２）は合量で、液晶組成物１００重量部
中に０．１〜３０重量部含ませるのが好ましく、１〜１
５重量部が特に好ましい。
／又は化合物（２）は合量で、液晶組成物１００重量部
中に０．１〜３０重量部含ませるのが好ましく、１〜１
５重量部が特に好ましい。
【００３５】化合物（１）及び／又は化合物（２）を含
む液晶組成物は、ＴＮ方式、ＳＴＮ方式、ゲスト・ホス
ト（ＧＨ）方式、動的散乱方式、フェ−ズチェンジ方
式、反射型コレステリック方式、ＤＡＰ方式、二周波駆
動方式及び強誘電性液晶表示方式等種々の方式の液晶素
子に使用できる。
む液晶組成物は、ＴＮ方式、ＳＴＮ方式、ゲスト・ホス
ト（ＧＨ）方式、動的散乱方式、フェ−ズチェンジ方
式、反射型コレステリック方式、ＤＡＰ方式、二周波駆
動方式及び強誘電性液晶表示方式等種々の方式の液晶素
子に使用できる。
【００３６】
【実施例】以下、本発明を実施例（例１〜６、８）及び
比較例（例７、９）によって説明する。
比較例（例７、９）によって説明する。
【００３７】実施例中の光学純度の測定は高速液体クロ
マトグラフィ（ＨＰＬＣ）により行った。測定条件は以
下のとおり。 カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ、 溶離液：ヘキサン：２−プロパノール＝１００：１、 流量：０．３ｍｌ／ｍｉｎ、 ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ。
マトグラフィ（ＨＰＬＣ）により行った。測定条件は以
下のとおり。 カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ、 溶離液：ヘキサン：２−プロパノール＝１００：１、 流量：０．３ｍｌ／ｍｉｎ、 ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ。
【００３８】また、実施例中のガスクロマトグラフィ
（ＧＣ）純度は下記の測定条件で行なった。 カラム：ＤＢ−１（Ｊ＆Ｗｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）、 検出器：ＦＩＤ、 キャリアガス：Ｈｅ、 線速度：２５ｃｍ／ｓｅｃ（１００℃）、 スプリット比：５０：１、 初期温度：１５０℃（２ｍｉｎ保持）、 昇温速度：１０℃／ｍｉｎ、 最終温度：３２５℃、 気化室温度：３２５℃、 検出器温度：３５０℃。
（ＧＣ）純度は下記の測定条件で行なった。 カラム：ＤＢ−１（Ｊ＆Ｗｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ）、 検出器：ＦＩＤ、 キャリアガス：Ｈｅ、 線速度：２５ｃｍ／ｓｅｃ（１００℃）、 スプリット比：５０：１、 初期温度：１５０℃（２ｍｉｎ保持）、 昇温速度：１０℃／ｍｉｎ、 最終温度：３２５℃、 気化室温度：３２５℃、 検出器温度：３５０℃。
【００３９】［例１］（Ｓ）−１−（４−（トランス−
４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンの合成 ＜第１ステップ＞（Ｓ）−１−（４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２−（４−（２
−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１−オンの合
成 １Ｌナスフラスコに（Ｓ）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロピオン酸１００ｇ（４８５ｍモ
ル）、テトラクロロエチレン４００ｍＬ、塩化チオニル
１１５ｇ（９６６ｍモル）、ジメチルアニリン少量を加
え室温で一晩撹拌した後、過剰な塩化チオニル、テトラ
クロロエチレンを減圧留去し、（Ｓ）−２−（４−（２
−メチルプロピル）フェニル）プロピオン酸クロリド１
１４ｇを得た。これを溶液Ａとする。
４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンの合成 ＜第１ステップ＞（Ｓ）−１−（４−（トランス−４−
プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２−（４−（２
−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１−オンの合
成 １Ｌナスフラスコに（Ｓ）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロピオン酸１００ｇ（４８５ｍモ
ル）、テトラクロロエチレン４００ｍＬ、塩化チオニル
１１５ｇ（９６６ｍモル）、ジメチルアニリン少量を加
え室温で一晩撹拌した後、過剰な塩化チオニル、テトラ
クロロエチレンを減圧留去し、（Ｓ）−２−（４−（２
−メチルプロピル）フェニル）プロピオン酸クロリド１
１４ｇを得た。これを溶液Ａとする。
【００４０】２Ｌ四つ口フラスコに、マグネシウム片１
２．４ｇ（５０９ｍモル）、無水テトラヒドロフラン５
０ｍＬと少量のヨウ素末を加え、窒素雰気下で１−ブロ
モ−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベ
ンゼン１３６ｇ（４８５ｍモル）を無水テトラヒドロフ
ラン９７０ｍＬに溶解させた溶液を少量滴下し、ヨウ素
の色が消えた時点で反応が開始したとして、反応温度を
３０℃以下に保ちながら残りの溶液を１時間で滴下し、
滴下終了後室温で２時間撹拌し、グリニャール試薬を調
製した。これを溶液Ｂとする。
２．４ｇ（５０９ｍモル）、無水テトラヒドロフラン５
０ｍＬと少量のヨウ素末を加え、窒素雰気下で１−ブロ
モ−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベ
ンゼン１３６ｇ（４８５ｍモル）を無水テトラヒドロフ
ラン９７０ｍＬに溶解させた溶液を少量滴下し、ヨウ素
の色が消えた時点で反応が開始したとして、反応温度を
３０℃以下に保ちながら残りの溶液を１時間で滴下し、
滴下終了後室温で２時間撹拌し、グリニャール試薬を調
製した。これを溶液Ｂとする。
【００４１】３Ｌ四つ口フラスコに、上記の溶液Ａ全
量、トルエン５４０ｍＬを入れ、窒素雰気下で−１０℃
に冷却し、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート１７１ｍ
ｇ（０．４８５ｍモル）を加えた。反応温度を０℃以下
に保ちながら、上記の溶液Ｂ全量を滴下し、滴下終了後
室温まで昇温して２時間撹拌した後、５℃に冷却し、希
塩酸５００ｍＬを加えた。有機層を分離し、水層はトル
エンで抽出し、有機層を合わせて水、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去し
粗生成物１２４ｇを得た。
量、トルエン５４０ｍＬを入れ、窒素雰気下で−１０℃
に冷却し、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート１７１ｍ
ｇ（０．４８５ｍモル）を加えた。反応温度を０℃以下
に保ちながら、上記の溶液Ｂ全量を滴下し、滴下終了後
室温まで昇温して２時間撹拌した後、５℃に冷却し、希
塩酸５００ｍＬを加えた。有機層を分離し、水層はトル
エンで抽出し、有機層を合わせて水、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去し
粗生成物１２４ｇを得た。
【００４２】これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（展開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝４：１）で精製し、
エタノ−ルから再結晶し、（Ｓ）−１−（４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２−
（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１
−オンの白色結晶８５．２ｇ（２１８ｍモル、ＧＣ純度
９９．８％）を得た（収率４５％）。
（展開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝４：１）で精製し、
エタノ−ルから再結晶し、（Ｓ）−１−（４−（トラン
ス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２−
（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１
−オンの白色結晶８５．２ｇ（２１８ｍモル、ＧＣ純度
９９．８％）を得た（収率４５％）。
【００４３】
【化１９】
【００４４】＜第２ステップ＞（Ｒ）−１−（４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンの
合成 ２Ｌ四つ口フラスコに、第１ステップで得た（Ｓ）−１
−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フ
ェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニ
ル）プロパン−１−オン８４．０ｇ（２１５ｍモル）、
トリフルオロ酢酸７５０ｇ（６．５８モル）を加え、０
℃に冷却し、トリエチルシラン６２．６ｇ（５３８ｍモ
ル）を反応温度を５℃以下に保ちながら滴下し、滴下終
了後室温まで昇温して３時間撹拌した。
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンの
合成 ２Ｌ四つ口フラスコに、第１ステップで得た（Ｓ）−１
−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フ
ェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニ
ル）プロパン−１−オン８４．０ｇ（２１５ｍモル）、
トリフルオロ酢酸７５０ｇ（６．５８モル）を加え、０
℃に冷却し、トリエチルシラン６２．６ｇ（５３８ｍモ
ル）を反応温度を５℃以下に保ちながら滴下し、滴下終
了後室温まで昇温して３時間撹拌した。
【００４５】トルエン５００ｍＬを加え、減圧下で溶液
量が２００ｍＬ程度になるまで留去した後、トルエン４
００ｍＬを加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、水、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒及び副生成物を留去し粗生成物の結晶８１．３
ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（展開溶媒＝ヘキサン）で精製し、エタノールから再結
晶し、（Ｒ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロパンの白色針状結晶７２．６ｇ
（１９４ｍモル）を得た（収率９０％）。
量が２００ｍＬ程度になるまで留去した後、トルエン４
００ｍＬを加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、水、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒及び副生成物を留去し粗生成物の結晶８１．３
ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（展開溶媒＝ヘキサン）で精製し、エタノールから再結
晶し、（Ｒ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシ
クロヘキシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロパンの白色針状結晶７２．６ｇ
（１９４ｍモル）を得た（収率９０％）。
【００４６】
【化２０】
【００４７】例１と同様の方法で、以下の化合物が得ら
れる。
れる。
【００４８】
【化２１】
【００４９】［例２］フリーデル・クラフツ反応による
（Ｓ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル）プロパン−１−オンの合成 ２００ｍＬナスフラスコに（Ｓ）−２−（４−（２−メ
チルプロピル）フェニル）プロピオン酸１０．０ｇ（４
８．５ｍモル）、テトラクロロエチレン４０ｍＬ、塩化
チオニル１１．５ｇ（９６．６ｍモル）、ジメチルアニ
リン少量を加え室温で一晩撹拌した後、過剰な塩化チオ
ニル、テトラクロロエチレンを減圧留去し、（Ｓ）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロピオン
酸クロリド１１．２ｇを得た。その後、１，２−ジクロ
ロエタン１１ｍＬを加えた。この溶液を溶液Ｃとする。
（Ｓ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル）プロパン−１−オンの合成 ２００ｍＬナスフラスコに（Ｓ）−２−（４−（２−メ
チルプロピル）フェニル）プロピオン酸１０．０ｇ（４
８．５ｍモル）、テトラクロロエチレン４０ｍＬ、塩化
チオニル１１．５ｇ（９６．６ｍモル）、ジメチルアニ
リン少量を加え室温で一晩撹拌した後、過剰な塩化チオ
ニル、テトラクロロエチレンを減圧留去し、（Ｓ）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロピオン
酸クロリド１１．２ｇを得た。その後、１，２−ジクロ
ロエタン１１ｍＬを加えた。この溶液を溶液Ｃとする。
【００５０】１００ｍＬ四つ口フラスコに塩化アルミニ
ウム７．１２ｇ（５３．４ｍモル）を加え、充分に窒素
置換した後に０℃に冷却し、１，２−ジクロロエタン１
０ｍＬ、（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベ
ンゼン１１．８ｇ（５８．２ｍモル）を加え１０分間撹
拌した。−２０℃に冷却し、上記の溶液Ｃ全量を滴下
し、酸性ガスの発生が観測されなくなった後に、室温ま
で昇温し２時間撹拌した。反応液を氷冷した希塩酸２０
０ｍＬに滴下し、赤色が消出するまで撹拌した。トルエ
ン５００ｍＬを加え、有機層を分離し、水層をトルエン
で抽出し、有機層をあわせて水、飽和食塩水により洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
ウム７．１２ｇ（５３．４ｍモル）を加え、充分に窒素
置換した後に０℃に冷却し、１，２−ジクロロエタン１
０ｍＬ、（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベ
ンゼン１１．８ｇ（５８．２ｍモル）を加え１０分間撹
拌した。−２０℃に冷却し、上記の溶液Ｃ全量を滴下
し、酸性ガスの発生が観測されなくなった後に、室温ま
で昇温し２時間撹拌した。反応液を氷冷した希塩酸２０
０ｍＬに滴下し、赤色が消出するまで撹拌した。トルエ
ン５００ｍＬを加え、有機層を分離し、水層をトルエン
で抽出し、有機層をあわせて水、飽和食塩水により洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
【００５１】溶媒を留去し、これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ（展開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝１
０：１）で精製し、エタノールから再結晶し、（Ｓ）−
１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニ
ル）プロパン−１−オンの白色結晶１．３３ｇ（３．４
０ｍモル、ＧＣ純度９５．１％）を得た（収率７％）。
ロマトグラフィ（展開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝１
０：１）で精製し、エタノールから再結晶し、（Ｓ）−
１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）
フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニ
ル）プロパン−１−オンの白色結晶１．３３ｇ（３．４
０ｍモル、ＧＣ純度９５．１％）を得た（収率７％）。
【００５２】
【化２２】
【００５３】［例３］（Ｓ）−１−（４−ペンチルフェ
ニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）
プロパンの合成 ＜第１ステップ＞（Ｓ）−１−（４−ペンチルフェニ
ル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プ
ロパン−１−オンの合成 例１の第１ステップにおいて、１−ブロモ−４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼンの代わり
に、１−ブロモ−４−ペンチルベンゼン１１０ｇ（４８
５ｍモル）を用いること以外は、例１の第１ステップと
同様に反応を行い黄褐色の液体１６４ｇを得た。これを
シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒＝ヘキサ
ン：トルエン＝５：１）により精製し、（Ｓ）−１−
（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロパン−１−オンの微黄色の液体
８６．５ｇ（２５７ｍモル）を得た（収率５３％）。
ニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）
プロパンの合成 ＜第１ステップ＞（Ｓ）−１−（４−ペンチルフェニ
ル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プ
ロパン−１−オンの合成 例１の第１ステップにおいて、１−ブロモ−４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼンの代わり
に、１−ブロモ−４−ペンチルベンゼン１１０ｇ（４８
５ｍモル）を用いること以外は、例１の第１ステップと
同様に反応を行い黄褐色の液体１６４ｇを得た。これを
シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒＝ヘキサ
ン：トルエン＝５：１）により精製し、（Ｓ）−１−
（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロパン−１−オンの微黄色の液体
８６．５ｇ（２５７ｍモル）を得た（収率５３％）。
【００５４】
【化２３】
【００５５】＜第２ステップ＞（Ｒ）−１−（４−ペン
チルフェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フ
ェニル）プロパンの合成 例１の第２ステップにおいて、（Ｓ）−１−（４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−
１−オンの代わりに、例３の第１ステップで合成した
（Ｓ）−１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１−オン
８４．１ｇ（２５０ｍモル）を用いること以外は、例１
の第２ステップと同様に反応を行い淡黄色の液体７９．
８ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（展開溶媒＝ヘキサン）により精製し、（Ｒ）−１−
（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロパンの無色の液体６６．１ｇ
（２０５ｍモル）を得た（収率８２％）。
チルフェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フ
ェニル）プロパンの合成 例１の第２ステップにおいて、（Ｓ）−１−（４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−
１−オンの代わりに、例３の第１ステップで合成した
（Ｓ）−１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１−オン
８４．１ｇ（２５０ｍモル）を用いること以外は、例１
の第２ステップと同様に反応を行い淡黄色の液体７９．
８ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（展開溶媒＝ヘキサン）により精製し、（Ｒ）−１−
（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メチルプ
ロピル）フェニル）プロパンの無色の液体６６．１ｇ
（２０５ｍモル）を得た（収率８２％）。
【００５６】
【化２４】
【００５７】例３と同様の方法で、以下の化合物が得ら
れる。
れる。
【００５８】
【化２５】
【００５９】［例４］（Ｓ）−１−（４−クロロフェニ
ル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プ
ロパンの合成 第１ステップ＞（Ｓ）−１−（４−クロロフェニル）−
２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン
−１−オンの合成 例１の第１ステップにおいて、１−ブロモ−４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼンの代わり
に、４−ブロモクロロベンゼン３８３ｇ（２．０モル）
を用いること以外は、例１の第１ステップと同様に反応
を行い、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展
開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝４：１）により精製し、
エタノールより再結晶し、（Ｓ）−１−（４−ペンチル
フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニ
ル）プロパン−１−オンの白色結晶２６４ｇ（８８０ｍ
モル）を得た（収率４４％）。
ル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プ
ロパンの合成 第１ステップ＞（Ｓ）−１−（４−クロロフェニル）−
２−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン
−１−オンの合成 例１の第１ステップにおいて、１−ブロモ−４−（トラ
ンス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゼンの代わり
に、４−ブロモクロロベンゼン３８３ｇ（２．０モル）
を用いること以外は、例１の第１ステップと同様に反応
を行い、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ（展
開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝４：１）により精製し、
エタノールより再結晶し、（Ｓ）−１−（４−ペンチル
フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェニ
ル）プロパン−１−オンの白色結晶２６４ｇ（８８０ｍ
モル）を得た（収率４４％）。
【００６０】
【化２６】
【００６１】＜第２ステップ＞（Ｒ）−１−（４−クロ
ロフェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェ
ニル）プロパンの合成 例１の第２ステップにおいて、（Ｓ）−１−（４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−
１−オンの代わりに、例４の第１ステップで合成した
（Ｓ）−１−（４−クロロフェニル）−２−（４−（２
−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１−オン４
５．０ｇ（１５０ｍモル）を用いること以外は、例１の
第２ステップと同様に反応を行い淡黄色の液体４２．０
ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（展開溶媒＝ヘキサン）により精製し、（Ｒ）−１−
（４−クロロフェニル）−２−（４−（２−メチルプロ
ピル）フェニル）プロパンの無色の液体３４．８ｇ（１
２２ｍモル）を得た（収率８１％）。
ロフェニル）−２−（４−（２−メチルプロピル）フェ
ニル）プロパンの合成 例１の第２ステップにおいて、（Ｓ）−１−（４−（ト
ランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロパン−
１−オンの代わりに、例４の第１ステップで合成した
（Ｓ）−１−（４−クロロフェニル）−２−（４−（２
−メチルプロピル）フェニル）プロパン−１−オン４
５．０ｇ（１５０ｍモル）を用いること以外は、例１の
第２ステップと同様に反応を行い淡黄色の液体４２．０
ｇを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
（展開溶媒＝ヘキサン）により精製し、（Ｒ）−１−
（４−クロロフェニル）−２−（４−（２−メチルプロ
ピル）フェニル）プロパンの無色の液体３４．８ｇ（１
２２ｍモル）を得た（収率８１％）。
【００６２】
【化２７】
【００６３】例４と同様の方法で、以下の化合物が得ら
れる。
れる。
【化２８】 ［例５］フリーデル・クラフツ反応による（Ｓ）−１−
（４−クロロフェニル）−２−（４−（２−メチルプロ
ピル）フェニル）プロパン−１−オンの合成 ２００ｍＬナスフラスコに（Ｓ）−２−（４−（２−メ
チルプロピル）フェニル）プロピオン酸１０．０ｇ（４
８．５ｍモル）、テトラクロロエチレン４０ｍＬ、塩化
チオニル１１．５ｇ（９６．６ｍモル）、ジメチルアニ
リン少量を加え室温で一晩撹拌した後、過剰な塩化チオ
ニル、テトラクロロエチレンを減圧留去し、（Ｓ）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロピオン
酸クロリド１１．３ｇを得た。その後、クロロベンゼン
５．４６ｇ（４８．５ｍモル）を加えた。この溶液を溶
液Ｄとする。
（４−クロロフェニル）−２−（４−（２−メチルプロ
ピル）フェニル）プロパン−１−オンの合成 ２００ｍＬナスフラスコに（Ｓ）−２−（４−（２−メ
チルプロピル）フェニル）プロピオン酸１０．０ｇ（４
８．５ｍモル）、テトラクロロエチレン４０ｍＬ、塩化
チオニル１１．５ｇ（９６．６ｍモル）、ジメチルアニ
リン少量を加え室温で一晩撹拌した後、過剰な塩化チオ
ニル、テトラクロロエチレンを減圧留去し、（Ｓ）−２
−（４−（２−メチルプロピル）フェニル）プロピオン
酸クロリド１１．３ｇを得た。その後、クロロベンゼン
５．４６ｇ（４８．５ｍモル）を加えた。この溶液を溶
液Ｄとする。
【００６４】１００ｍＬ四つ口フラスコに塩化アルミニ
ウム７．１２ｇ（５３．４ｍモル）加え、充分に窒素置
換した後に０℃に冷却し、クロロベンゼン１０．９ｇ
（９７．０ｍモル）を加え１０分間撹拌した。−２０℃
に冷却し、上記の溶液Ｄ全量を滴下し、酸性ガスの発生
が観測されなくなった後に、０℃まで昇温し２時間撹拌
した。反応液を氷冷した希塩酸２００ｍＬに滴下し、赤
色が消出するまで撹拌した。トルエン５００ｍＬを加
え、有機層を分離し、水層をトルエンで抽出し、有機層
をあわせて水、飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。
ウム７．１２ｇ（５３．４ｍモル）加え、充分に窒素置
換した後に０℃に冷却し、クロロベンゼン１０．９ｇ
（９７．０ｍモル）を加え１０分間撹拌した。−２０℃
に冷却し、上記の溶液Ｄ全量を滴下し、酸性ガスの発生
が観測されなくなった後に、０℃まで昇温し２時間撹拌
した。反応液を氷冷した希塩酸２００ｍＬに滴下し、赤
色が消出するまで撹拌した。トルエン５００ｍＬを加
え、有機層を分離し、水層をトルエンで抽出し、有機層
をあわせて水、飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。
【００６５】溶媒を留去し、これをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィ（展開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝１
０：１）で精製し、エタノールから再結晶し、（Ｓ）−
１−（４−クロロフェニル）−２−（４−（２−メチル
プロピル）フェニル）プロパン−１−オンの白色結晶
０．７２８ｇ（２．４３ｍモル、ＧＣ純度９６．３％）
を得た（収率５％）。
ロマトグラフィ（展開溶媒＝ヘキサン：トルエン＝１
０：１）で精製し、エタノールから再結晶し、（Ｓ）−
１−（４−クロロフェニル）−２−（４−（２−メチル
プロピル）フェニル）プロパン−１−オンの白色結晶
０．７２８ｇ（２．４３ｍモル、ＧＣ純度９６．３％）
を得た（収率５％）。
【００６６】
【化２９】
【００６７】［例６］メルク社製液晶組成物（商品名：
ＺＬＩ−１５６５）の９５重量部に、例１で合成した
（Ｒ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル）プロパンを５重量部加え液晶組成物（Ｓ
Ａ1）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ
−１５６５）の９５重量部に、例３で合成した（Ｒ）−
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メチ
ルプロピル）フェニル）プロパンを５重量部加え液晶組
成物（ＳＢ1）を得た。メルク社製液晶組成物（商品
名：ＺＬＩ−１５６５）の９５重量部に、例４で合成し
た（Ｒ）−１−（４−クロロフェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンを５重量部
加え液晶組成物（ＳＣ1）を得た。得られた液晶組成物
（ＳＡ1）、（ＳＢ1）及び（ＳＣ1）について、液晶組
成物の動粘度ηをオストワルド粘度管を用いて測定し
た。結果を表１に示す。
ＺＬＩ−１５６５）の９５重量部に、例１で合成した
（Ｒ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル）プロパンを５重量部加え液晶組成物（Ｓ
Ａ1）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ
−１５６５）の９５重量部に、例３で合成した（Ｒ）−
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メチ
ルプロピル）フェニル）プロパンを５重量部加え液晶組
成物（ＳＢ1）を得た。メルク社製液晶組成物（商品
名：ＺＬＩ−１５６５）の９５重量部に、例４で合成し
た（Ｒ）−１−（４−クロロフェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンを５重量部
加え液晶組成物（ＳＣ1）を得た。得られた液晶組成物
（ＳＡ1）、（ＳＢ1）及び（ＳＣ1）について、液晶組
成物の動粘度ηをオストワルド粘度管を用いて測定し
た。結果を表１に示す。
【００６８】［例７］メルク社製液晶組成物（商品名：
ＺＬＩ−１５６５）の９５重量部に、市販のカイラル剤
である前記化合物ＣＮを５重量部加え液晶組成物（ＳＤ
1）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ−
１５６５）の９５重量部に、市販のカイラル剤である前
記化合物Ｓ−８１１を５重量部加え液晶組成物（Ｓ
Ｅ1）を得た。得られた液晶組成物（ＳＤ1）及び（ＳＥ
1）について、液晶組成物の動粘度ηを例６と同様に測
定した。結果を表１に示す。
ＺＬＩ−１５６５）の９５重量部に、市販のカイラル剤
である前記化合物ＣＮを５重量部加え液晶組成物（ＳＤ
1）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ−
１５６５）の９５重量部に、市販のカイラル剤である前
記化合物Ｓ−８１１を５重量部加え液晶組成物（Ｓ
Ｅ1）を得た。得られた液晶組成物（ＳＤ1）及び（ＳＥ
1）について、液晶組成物の動粘度ηを例６と同様に測
定した。結果を表１に示す。
【００６９】
【表１】
【００７０】［例８］メルク社製液晶組成物（商品名：
ＺＬＩ−１５６５）の１００重量部に、例１で合成した
（Ｒ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル）プロパンを１重量部加え液晶組成物（Ｓ
Ａ2）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ
−１５６５）の１００重量部に、例３で合成した（Ｒ）
−１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メ
チルプロピル）フェニル）プロパンを１重量部加え液晶
組成物（ＳＢ2）を得た。メルク社製液晶組成物（商品
名：ＺＬＩ−１５６５）の１００重量部に、例４で合成
した（Ｒ）−１−（４−クロロフェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンを１重量部
加え液晶組成物（ＳＣ2）を得た。
ＺＬＩ−１５６５）の１００重量部に、例１で合成した
（Ｒ）−１−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘ
キシル）フェニル）−２−（４−（２−メチルプロピ
ル）フェニル）プロパンを１重量部加え液晶組成物（Ｓ
Ａ2）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ
−１５６５）の１００重量部に、例３で合成した（Ｒ）
−１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−（２−メ
チルプロピル）フェニル）プロパンを１重量部加え液晶
組成物（ＳＢ2）を得た。メルク社製液晶組成物（商品
名：ＺＬＩ−１５６５）の１００重量部に、例４で合成
した（Ｒ）−１−（４−クロロフェニル）−２−（４−
（２−メチルプロピル）フェニル）プロパンを１重量部
加え液晶組成物（ＳＣ2）を得た。
【００７１】得られた液晶組成物（ＳＡ2）、（ＳＢ2）
及び（ＳＣ2）について、２５℃におけるヘリカルピッ
チ長をカノー（Ｃａｎｏ）ウエッジ法にて測定し、それ
ぞれの化合物のＰＣ値（μｍ・ｗｔ％：母液晶にカイラ
ル材料を１重量部添加したときのヘリカルピッチ長）を
求めた。また、螺旋誘起の向きは接触法により測定し
た。結果を表２に示す。
及び（ＳＣ2）について、２５℃におけるヘリカルピッ
チ長をカノー（Ｃａｎｏ）ウエッジ法にて測定し、それ
ぞれの化合物のＰＣ値（μｍ・ｗｔ％：母液晶にカイラ
ル材料を１重量部添加したときのヘリカルピッチ長）を
求めた。また、螺旋誘起の向きは接触法により測定し
た。結果を表２に示す。
【００７２】［例９］メルク社製液晶組成物（商品名：
ＺＬＩ−１５６５）の１００重量部に、市販のカイラル
剤である前記化合物（ＣＮ）を１重量部加え組成物（Ｓ
Ｄ2）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ
−１５６５）の１００重量部に、市販のカイラル剤であ
る前記化合物（Ｓ−８１１）を１重量部加え液晶組成物
（ＳＥ 2）を得た。得られた液晶組成物（ＳＤ2）及び
（ＳＥ2）について、例８と同様にそれぞれの化合物の
ＰＣ値を求め、螺旋誘起の向きを測定した。結果を表２
に示す。
ＺＬＩ−１５６５）の１００重量部に、市販のカイラル
剤である前記化合物（ＣＮ）を１重量部加え組成物（Ｓ
Ｄ2）を得た。メルク社製液晶組成物（商品名：ＺＬＩ
−１５６５）の１００重量部に、市販のカイラル剤であ
る前記化合物（Ｓ−８１１）を１重量部加え液晶組成物
（ＳＥ 2）を得た。得られた液晶組成物（ＳＤ2）及び
（ＳＥ2）について、例８と同様にそれぞれの化合物の
ＰＣ値を求め、螺旋誘起の向きを測定した。結果を表２
に示す。
【００７３】
【表２】
【００７４】以上の結果、本発明の化合物を添加した液
晶組成物は、市販のカイラル剤を添加したものと比較し
て、液晶組成物の粘度が低く、ＰＣ値が低かった。
晶組成物は、市販のカイラル剤を添加したものと比較し
て、液晶組成物の粘度が低く、ＰＣ値が低かった。
【００７５】
【発明の効果】本発明の化合物は光学活性を有する新規
化合物である。また、本発明の化合物を含有する液晶組
成物は、ヘリカルピッチ長が短く、低粘度である。その
ために該液晶組成物を用いた液晶素子は高速応答化が可
能である。特に、光学活性化合物の添加量の多いＳＴＮ
型液晶表示素子用等の液晶組成物として有用である。ま
た、本発明の製造方法により、上記の化合物を、安価に
高収率で製造できる。
化合物である。また、本発明の化合物を含有する液晶組
成物は、ヘリカルピッチ長が短く、低粘度である。その
ために該液晶組成物を用いた液晶素子は高速応答化が可
能である。特に、光学活性化合物の添加量の多いＳＴＮ
型液晶表示素子用等の液晶組成物として有用である。ま
た、本発明の製造方法により、上記の化合物を、安価に
高収率で製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 25/13 Ｃ０７Ｃ 25/13 45/46 45/46 49/784 49/784 49/792 49/792 49/813 49/813 Ｃ０９Ｋ 19/14 Ｃ０９Ｋ 19/14 19/20 19/20 19/30 19/30 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 横小路 修 神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎３丁目２番10号 セイミケミカル株式会社内 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB64 AC13 AC22 AC47 AC81 BA19 BA20 BA21 BA25 BA45 BA48 BD70 EA22 EA36 4H027 BB04 BD03 BD08 BD24 CB01 CB04 CB05 CN01 CN04 CN05 4H039 CA62 CD20 CD90
Claims (4)
- 【請求項１】下式（１）又は下式（２）で表される光学
活性化合物。 【化１】 ただし、式中の記号は下記の意味を示す。 Ｑ：−Ｃｙ−Ｒ、−Ｒ又はハロゲン原子。 Ｃｙ：非置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン
基。 Ｒ：炭素数１〜７の直鎖アルキル基。 Ｐｈ：非置換の１，４−フェニレン基。 Ｐｈ’：水素原子の１個又は２個がフッ素原子に置換さ
れていてもよい１，４−フェニレン基。 Ｃ*：不斉炭素原子。 - 【請求項２】下式（３）で表されるカルボン酸を酸クロ
リドとし、下式（４）で表されるグリニャール試薬とカ
ップリング反応させることを特徴とする、下式（１）で
表される光学活性化合物の製造方法。 【化２】 ただし、式中の記号は下記の意味を示す。 Ｑ：−Ｃｙ−Ｒ、−Ｒ又はハロゲン原子。 Ｃｙ：非置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン
基。 Ｒ：炭素数１〜７の直鎖アルキル基。 Ｐｈ：非置換の１，４−フェニレン基。 Ｐｈ’：水素原子の１個又は２個がフッ素原子に置換さ
れていてもよい１，４−フェニレン基。 Ｃ*：不斉炭素原子。 Ｘ：臭素原子又はヨウ素原子。 - 【請求項３】下式（３）で表されるカルボン酸を酸クロ
リドとし、下式（４）で表されるグリニャール試薬とカ
ップリング反応させ、生成したケトンを還元することを
特徴とする、下式（２）で表される光学活性化合物の製
造方法。 【化３】 ただし、式中の記号は下記の意味を示す。 Ｑ：−Ｃｙ−Ｒ、−Ｒ又はハロゲン原子。 Ｃｙ：非置換のトランス−１，４−シクロヘキシレン
基。 Ｒ：炭素数１〜７の直鎖アルキル基。 Ｐｈ：非置換の１，４−フェニレン基。 Ｐｈ’：水素原子の１個又は２個がフッ素原子に置換さ
れていてもよい１，４−フェニレン基。 Ｃ*：不斉炭素原子。 Ｘ：臭素原子又はヨウ素原子。 - 【請求項４】カップリング反応において、触媒として有
機金属錯体を用いる請求項２又は３に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26933399A JP2001089400A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 光学活性化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26933399A JP2001089400A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 光学活性化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001089400A true JP2001089400A (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17470913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26933399A Pending JP2001089400A (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 光学活性化合物及びその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001089400A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005023019A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Chisso Corp | 光学活性基を有する液晶性化合物および重合体 |
| WO2018062137A1 (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | Dic株式会社 | 液晶表示素子 |
-
1999
- 1999-09-22 JP JP26933399A patent/JP2001089400A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005023019A (ja) * | 2003-07-02 | 2005-01-27 | Chisso Corp | 光学活性基を有する液晶性化合物および重合体 |
| JP4617641B2 (ja) * | 2003-07-02 | 2011-01-26 | チッソ株式会社 | 光学活性基を有する液晶性化合物および重合体 |
| WO2018062137A1 (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | Dic株式会社 | 液晶表示素子 |
| JPWO2018062137A1 (ja) * | 2016-09-29 | 2019-06-24 | Dic株式会社 | 液晶表示素子 |
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