JP2001084583A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JP2001084583A JP2001084583A JP26108099A JP26108099A JP2001084583A JP 2001084583 A JP2001084583 A JP 2001084583A JP 26108099 A JP26108099 A JP 26108099A JP 26108099 A JP26108099 A JP 26108099A JP 2001084583 A JP2001084583 A JP 2001084583A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】粘度Ｖ２００の値をコントロールすることで、
常に安定した薄膜塗布を行うことが出来る。 【解決手段】非磁性支持体上に強磁性粉末をバインダー
中に分散してなる磁性塗料を塗布した磁性層を有する磁
気記録媒体において、前記磁性層の乾燥後の塗膜厚が
０．５μｍ以下であり、前記磁性塗料の固形分濃度が２
５％以下であり、前記非磁性支持体の厚みが４０μｍ以
上であるときに、該磁性層を式（１）の条件で塗布す
る。 （V200＊Ｗｔ）／（ＮＶ＊Ｄｔ）≧５０ （１） ここで V200：せん断速度２００／Ｓでの見かけ粘度（単位Ｃ
Ｐ） Ｗｔ：ウェット膜厚（単位μｍ） Ｄｔ：乾燥膜厚（単位μｍ） ＮＶ：固形分濃度（単位％）
常に安定した薄膜塗布を行うことが出来る。 【解決手段】非磁性支持体上に強磁性粉末をバインダー
中に分散してなる磁性塗料を塗布した磁性層を有する磁
気記録媒体において、前記磁性層の乾燥後の塗膜厚が
０．５μｍ以下であり、前記磁性塗料の固形分濃度が２
５％以下であり、前記非磁性支持体の厚みが４０μｍ以
上であるときに、該磁性層を式（１）の条件で塗布す
る。 （V200＊Ｗｔ）／（ＮＶ＊Ｄｔ）≧５０ （１） ここで V200：せん断速度２００／Ｓでの見かけ粘度（単位Ｃ
Ｐ） Ｗｔ：ウェット膜厚（単位μｍ） Ｄｔ：乾燥膜厚（単位μｍ） ＮＶ：固形分濃度（単位％）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体の製
法及び磁気記録媒体に関するものであり、薄膜の磁性層
の塗布性に優れ、さらに量産性に優れた磁気記録媒体を
生産することに関するものである。
法及び磁気記録媒体に関するものであり、薄膜の磁性層
の塗布性に優れ、さらに量産性に優れた磁気記録媒体を
生産することに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、繰り返しコピーによる信号の劣化
からの開放等の目的で磁気記録媒体のデジタル化が進ん
できている。またその記録密度も記録データー量が増え
ることにより、高密度化が求められている。そのために
磁性粉をより微細な高飽和磁束密度の金属磁性粉や六角
板状のバリウムフェライト粉を使用することが実用化さ
れている。
からの開放等の目的で磁気記録媒体のデジタル化が進ん
できている。またその記録密度も記録データー量が増え
ることにより、高密度化が求められている。そのために
磁性粉をより微細な高飽和磁束密度の金属磁性粉や六角
板状のバリウムフェライト粉を使用することが実用化さ
れている。
【０００３】一方、高記録密度化の為には、媒体の厚み
損失、自己減磁損失を考慮する必要があり、このような
観点から磁性層の薄膜化が望まれている。しかし磁性層
が薄膜化すると、特にディスクの場合、潤滑剤の絶対量
が不足し耐久性の悪化を招く。そこで特公平８−１６９
７６号公報、特公平７−６０５０４号公報、特公平７−
７８８６８号公報に示される様に薄膜の磁性層の下に、
下塗り層を設ける方法が知られている。この下塗り層上
に０．５μｍ以下の薄膜の磁性層を設けるわけだが、こ
の場合塗布時のウェット膜厚が非常に薄いためコーター
ヘッド部と支持体ベースとのギャップが小さくなり、コ
ーターヘッド部でスジ・塗布ぬけ等が起こりやすくな
り、塗布性の良い塗布条件がたいへん狭くなる。その結
果、最適な条件で塗布できないことにより、スジ・塗布
ヌケばかりでなく、できあがった塗布面を観察すると、
スムージング不足による面あれが見られる。それを緩和
するために溶剤による希釈により固形分濃度を低くし、
ウェット膜厚をなるべく厚くする必要がある。
損失、自己減磁損失を考慮する必要があり、このような
観点から磁性層の薄膜化が望まれている。しかし磁性層
が薄膜化すると、特にディスクの場合、潤滑剤の絶対量
が不足し耐久性の悪化を招く。そこで特公平８−１６９
７６号公報、特公平７−６０５０４号公報、特公平７−
７８８６８号公報に示される様に薄膜の磁性層の下に、
下塗り層を設ける方法が知られている。この下塗り層上
に０．５μｍ以下の薄膜の磁性層を設けるわけだが、こ
の場合塗布時のウェット膜厚が非常に薄いためコーター
ヘッド部と支持体ベースとのギャップが小さくなり、コ
ーターヘッド部でスジ・塗布ぬけ等が起こりやすくな
り、塗布性の良い塗布条件がたいへん狭くなる。その結
果、最適な条件で塗布できないことにより、スジ・塗布
ヌケばかりでなく、できあがった塗布面を観察すると、
スムージング不足による面あれが見られる。それを緩和
するために溶剤による希釈により固形分濃度を低くし、
ウェット膜厚をなるべく厚くする必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、溶剤で希釈す
ることにより確かにウェット膜厚は厚くなり、コーター
ヘッド部と支持体ベースとのギャップは広くなり、塗布
性が改善され塗布スジ・塗布ヌケ・面荒れ等が減ると思
われるが、今度は希釈することにより塗料の粘性が低下
し、塗料がコーターヘッド部または支持体ベースから受
ける圧力に耐えられなくなるために塗布できる条件が狭
まり、面荒れ、塗布ヌケ等が起こりやすくなる。特にこ
の傾向は厚みが４０μｍ以上の割と剛性な支持体に塗布
する場合に顕著になる。しかしながら、これらの不具合
をさけるための、塗料物性の条件を具体的に規定した例
はいまだに無いのが現状である。
ることにより確かにウェット膜厚は厚くなり、コーター
ヘッド部と支持体ベースとのギャップは広くなり、塗布
性が改善され塗布スジ・塗布ヌケ・面荒れ等が減ると思
われるが、今度は希釈することにより塗料の粘性が低下
し、塗料がコーターヘッド部または支持体ベースから受
ける圧力に耐えられなくなるために塗布できる条件が狭
まり、面荒れ、塗布ヌケ等が起こりやすくなる。特にこ
の傾向は厚みが４０μｍ以上の割と剛性な支持体に塗布
する場合に顕著になる。しかしながら、これらの不具合
をさけるための、塗料物性の条件を具体的に規定した例
はいまだに無いのが現状である。
【０００５】
【問題を解決するための手段】そこで前記課題を解決す
べく研究を重ねた結果、塗料を塗布可能なウェット膜厚
まで希釈した時に、ある粘度以上にたもてば、塗布性を
損ねず安定した薄膜の塗布が行われることを見出し、さ
らに粘度を高く保つための具体的な方策を見出した。
べく研究を重ねた結果、塗料を塗布可能なウェット膜厚
まで希釈した時に、ある粘度以上にたもてば、塗布性を
損ねず安定した薄膜の塗布が行われることを見出し、さ
らに粘度を高く保つための具体的な方策を見出した。
【０００６】すなわち本発明は（１）厚みが４０μｍ以
上である非磁性支持体上に強磁性粉末をバインダー中に
分散してなる固形分濃度が２５重量％以下の磁性塗料を
塗布した乾燥後の塗膜厚が０．５μｍ以下の磁性層を有
する磁気記録媒体の製造方法において、該磁性塗料を式
（１）の条件で塗布することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
上である非磁性支持体上に強磁性粉末をバインダー中に
分散してなる固形分濃度が２５重量％以下の磁性塗料を
塗布した乾燥後の塗膜厚が０．５μｍ以下の磁性層を有
する磁気記録媒体の製造方法において、該磁性塗料を式
（１）の条件で塗布することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
【０００７】 （Ｖ２００＊Ｗｔ）／（ＮＶ＊Ｄｔ）≧５０ （１） ここで Ｖ２００：せん断速度２００／Ｓでの見かけ粘度（ｃｐ
ｓ） Ｗｔ：ウェット膜厚（μｍ） Ｄｔ：乾燥膜厚（μｍ） ＮＶ：固形分濃度（重量％） （２）前記磁性塗料に塗布直前でオンライン分散機で再
分散をほどこしたことを特徴とする（１）記載の磁気記
録媒体の製造方法。
ｓ） Ｗｔ：ウェット膜厚（μｍ） Ｄｔ：乾燥膜厚（μｍ） ＮＶ：固形分濃度（重量％） （２）前記磁性塗料に塗布直前でオンライン分散機で再
分散をほどこしたことを特徴とする（１）記載の磁気記
録媒体の製造方法。
【０００８】（３）前記オンライン分散機が超音波分散
機である（１）〜（２）記載の磁気記録媒体の製造方
法。
機である（１）〜（２）記載の磁気記録媒体の製造方
法。
【０００９】（４）前記磁性層の塗料の溶剤として比重
が０．９ｇ／ｃｃ以上の溶剤を４０重量％以上含むこと
を特徴とした（１）〜（３）記載の磁気記録媒体の製造
方法。
が０．９ｇ／ｃｃ以上の溶剤を４０重量％以上含むこと
を特徴とした（１）〜（３）記載の磁気記録媒体の製造
方法。
【００１０】（５）前記溶剤がシクロヘキサノンである
（１）〜（４）記載の磁気記録媒体の製造方法。
（１）〜（４）記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１１】（６）前記磁性層の塗料に有機チキソトロ
ピー添加剤を含んでいることを特徴とした（１）〜
（５）記載の磁気記録媒体の製造方法。
ピー添加剤を含んでいることを特徴とした（１）〜
（５）記載の磁気記録媒体の製造方法。
【００１２】（７）前記磁性層に有機チキソトロピー添
加剤を含んでいることを特徴とする磁気記録媒体。
加剤を含んでいることを特徴とする磁気記録媒体。
【００１３】（８）前記磁性層に含まれる磁性粉が金属
磁性粉または六方晶バリウムフェライト粉である（７）
記載の磁気記録媒体。
磁性粉または六方晶バリウムフェライト粉である（７）
記載の磁気記録媒体。
【００１４】本発明の請求項１はＮＶ、ウェット膜厚、
ドライ膜厚を一定にした場合を例にとれば、Ｖ２００の
値をある値以上に保つことにより安定した塗布ができる
ことを示している。すなわち本発明は低い固形分濃度の
塗料でも粘度をある値以上に保つことにより膜厚が０．
５μｍ以下の薄膜を安定して塗布できることにある。
ドライ膜厚を一定にした場合を例にとれば、Ｖ２００の
値をある値以上に保つことにより安定した塗布ができる
ことを示している。すなわち本発明は低い固形分濃度の
塗料でも粘度をある値以上に保つことにより膜厚が０．
５μｍ以下の薄膜を安定して塗布できることにある。
【００１５】塗布性を安定させる粘度に関して、様々な
検討・解析を行った結果、塗料にかかるせん断速度が２
００／Ｓの時の粘度Ｖ２００と関係があることがわかっ
た。Ｖ２００の時の粘度をある程度以上に保つことによ
り、コーターヘッドから支持体ベースに塗料が転写する
際、塗料にかかるコーターヘッド部や支持体ベースから
の圧力を受け止め緩和することができるが、Ｖ２００の
粘度が低くなると、塗料が圧力に耐えられなくなり、転
写した塗膜が元の状態を保てなく塗料が垂れた状態とな
り厚みむらや面荒れを引き起こことになる。このＶ２０
０の適正値であるが、この値は塗膜のウェット膜厚にも
左右され、Ｖ２００（ｃｐｓ）＊ウェット膜厚（μｍ）
の値が２００以上であることがが望ましく、より好まし
くは２４０以上である。またＶ２００の値が５００以上
になると、塗料の流動性が悪くなり、それが原因の塗布
面の悪化が見られる。また式（１）の分母にあたるＮＶ
とＤｔは塗料の設計、塗膜の設計上任意に決めることが
できるが、ただしＮＶに関しては２５重量％であること
が必要であり、より好ましくは２２重量％以下である。
２５重量％以上になると、Ｖ２００の値が５００以上と
なる場合が出てきて好ましくない。またＤｔに関して
も、０．５μｍ以下の時にこの式（１）が有効になるの
であり、０．５μｍ以上の膜厚の塗膜を設ける場合は、
コーターヘッドと支持体ベースの間に十分な塗料層があ
るため、式（１）の範囲以外でもコーターヘッド部や支
持体ベースからの圧力を十分受け止めることができる。
検討・解析を行った結果、塗料にかかるせん断速度が２
００／Ｓの時の粘度Ｖ２００と関係があることがわかっ
た。Ｖ２００の時の粘度をある程度以上に保つことによ
り、コーターヘッドから支持体ベースに塗料が転写する
際、塗料にかかるコーターヘッド部や支持体ベースから
の圧力を受け止め緩和することができるが、Ｖ２００の
粘度が低くなると、塗料が圧力に耐えられなくなり、転
写した塗膜が元の状態を保てなく塗料が垂れた状態とな
り厚みむらや面荒れを引き起こことになる。このＶ２０
０の適正値であるが、この値は塗膜のウェット膜厚にも
左右され、Ｖ２００（ｃｐｓ）＊ウェット膜厚（μｍ）
の値が２００以上であることがが望ましく、より好まし
くは２４０以上である。またＶ２００の値が５００以上
になると、塗料の流動性が悪くなり、それが原因の塗布
面の悪化が見られる。また式（１）の分母にあたるＮＶ
とＤｔは塗料の設計、塗膜の設計上任意に決めることが
できるが、ただしＮＶに関しては２５重量％であること
が必要であり、より好ましくは２２重量％以下である。
２５重量％以上になると、Ｖ２００の値が５００以上と
なる場合が出てきて好ましくない。またＤｔに関して
も、０．５μｍ以下の時にこの式（１）が有効になるの
であり、０．５μｍ以上の膜厚の塗膜を設ける場合は、
コーターヘッドと支持体ベースの間に十分な塗料層があ
るため、式（１）の範囲以外でもコーターヘッド部や支
持体ベースからの圧力を十分受け止めることができる。
【００１６】ここで、このドライ膜厚とウェット膜厚の
値であるが、ドライ膜厚は支持体ベースに磁性塗料を塗
布し、乾燥後、接触式膜厚計又はＸ線膜厚計で測定する
ものであり、ウェット膜厚の計りかたは、塗料の比重、
塗布量から計算によってもとめたものであり、支持体ベ
ースの単位面積当たりに塗られた塗料の重量を塗料の比
重で割った値である。
値であるが、ドライ膜厚は支持体ベースに磁性塗料を塗
布し、乾燥後、接触式膜厚計又はＸ線膜厚計で測定する
ものであり、ウェット膜厚の計りかたは、塗料の比重、
塗布量から計算によってもとめたものであり、支持体ベ
ースの単位面積当たりに塗られた塗料の重量を塗料の比
重で割った値である。
【００１７】また磁性塗料の固形分濃度ＮＶとは単位体
積当たりの磁性塗料中の溶剤を除く全成分の合計重量と
磁性塗料全体の重量との比で表す。
積当たりの磁性塗料中の溶剤を除く全成分の合計重量と
磁性塗料全体の重量との比で表す。
【００１８】次にＶ２００の値を上げる方法に関してで
あるが、これはいくつかの方法があげられる。
あるが、これはいくつかの方法があげられる。
【００１９】まず第1の方法は、磁性塗料を塗布する時
に塗布直前でオンラインにて分散機をかけ、塗料を再分
散することにより、Ｖ２００の値を上げることができ
る。この分散機はサンドグラインダーミル、ウルトラデ
ィスパー、超音波分散機等従来公知の機械を使用できる
が、この中で超音波分散機を用いるのが好ましい。塗料
のＮＶを下げると溶剤分が非常に多くなるため、溶剤と
バインダーにくるまれた部分の分離がおき、バインダー
が塗料全体に均一に広がらず弱い凝集状態になるため、
粘度が凝集しない場合に比べて低くなる。しかし超音波
分散機を用い再分散した直後の塗料は塗料中にバインダ
ーが十分広がり構造粘性を復活させるため、Ｖ２００の
値を上げることができるものと考えられる。
に塗布直前でオンラインにて分散機をかけ、塗料を再分
散することにより、Ｖ２００の値を上げることができ
る。この分散機はサンドグラインダーミル、ウルトラデ
ィスパー、超音波分散機等従来公知の機械を使用できる
が、この中で超音波分散機を用いるのが好ましい。塗料
のＮＶを下げると溶剤分が非常に多くなるため、溶剤と
バインダーにくるまれた部分の分離がおき、バインダー
が塗料全体に均一に広がらず弱い凝集状態になるため、
粘度が凝集しない場合に比べて低くなる。しかし超音波
分散機を用い再分散した直後の塗料は塗料中にバインダ
ーが十分広がり構造粘性を復活させるため、Ｖ２００の
値を上げることができるものと考えられる。
【００２０】第２の方法としては、比重０．９ｇ／ｃｃ
以上の割と比重の大きい溶剤の比率を全溶剤の４０重量
％以上にすることでＶ２００の値を上げることができ
る。この溶剤は塗料に対して良溶媒であることが望まし
く、特にシクロヘキサノンを用いることが好ましい。シ
クロヘキサノンの比率は前記のとおり全溶剤の４０重量
％以上にすることでＶ２００の粘度を上げることができ
るが、非常に沸点が高いため、あまり多すぎると塗膜の
乾燥が遅くなり、面荒れをおこしたり、またできあがっ
た磁気記録媒体の残留溶剤が多くなり、ヘッドの目詰ま
り等をおこすため、上限として全溶剤の７０重量％程度
にとどめたほうが好ましい。
以上の割と比重の大きい溶剤の比率を全溶剤の４０重量
％以上にすることでＶ２００の値を上げることができ
る。この溶剤は塗料に対して良溶媒であることが望まし
く、特にシクロヘキサノンを用いることが好ましい。シ
クロヘキサノンの比率は前記のとおり全溶剤の４０重量
％以上にすることでＶ２００の粘度を上げることができ
るが、非常に沸点が高いため、あまり多すぎると塗膜の
乾燥が遅くなり、面荒れをおこしたり、またできあがっ
た磁気記録媒体の残留溶剤が多くなり、ヘッドの目詰ま
り等をおこすため、上限として全溶剤の７０重量％程度
にとどめたほうが好ましい。
【００２１】第3の方法として、粘度をアップさせる効
果のある有機チクソトロピー添加剤すなわち増粘剤を用
いる方法である。増粘剤としては、無機増粘剤もある
が、磁性塗料の分散に影響を起こすため、有機増粘剤が
好ましい。有機チキソトロピー添加剤としては、一般に
市販されているものでよく、そのようなものにはＢＹＫ
−ＬＰ Ｒ６２３７、ＢＹＫ−４１０（ビックケミージ
ャパン製）、ビスクエイド（サンノスコ製）、サンチク
ソ−５００１（三洋化成製）等が上げられる。これらの
方法は請求項１の条件を満足すれば単独で用いてもよい
が、組み合わせて用いることにより効果がアップする。
果のある有機チクソトロピー添加剤すなわち増粘剤を用
いる方法である。増粘剤としては、無機増粘剤もある
が、磁性塗料の分散に影響を起こすため、有機増粘剤が
好ましい。有機チキソトロピー添加剤としては、一般に
市販されているものでよく、そのようなものにはＢＹＫ
−ＬＰ Ｒ６２３７、ＢＹＫ−４１０（ビックケミージ
ャパン製）、ビスクエイド（サンノスコ製）、サンチク
ソ−５００１（三洋化成製）等が上げられる。これらの
方法は請求項１の条件を満足すれば単独で用いてもよい
が、組み合わせて用いることにより効果がアップする。
【００２２】本発明の磁性層に使用される結合剤として
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、電子線
感応型変性樹脂等が用いられ、その組み合わせは媒体の
特性、工程条件に合わせて適宜選択使用される。
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性ないし反応型樹脂、電子線
感応型変性樹脂等が用いられ、その組み合わせは媒体の
特性、工程条件に合わせて適宜選択使用される。
【００２３】熱可塑性樹脂としては、（メタ）アクリル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニ
ル系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニ
ルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラク
トン等の多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラス
トマー、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、エ
ポキシ変性ゴム等が挙げられる。
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニ
ル系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニ
ルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラク
トン等の多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラス
トマー、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、エ
ポキシ変性ゴム等が挙げられる。
【００２４】熱硬化性樹脂としては、縮重合するフェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿
素樹脂、ブチラール樹脂、ポリマール樹脂、メラニン樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系反応
樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、飽
和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられる。
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿
素樹脂、ブチラール樹脂、ポリマール樹脂、メラニン樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系反応
樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、飽
和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられる。
【００２５】上記樹脂のなかでも、末端および／または
側鎖に水酸基を有するものが反応型樹脂として、ポリイ
ソシアネートを使用した架橋や電子線架橋変性等が容易
に利用できるため好適である。さらに末端や側鎖に極性
基として−ＣＯＯＨ、−ＳＯ 3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＯＰ
Ｏ3Ｘ、−ＰＯ3Ｘ、−ＰＯ2Ｘ、−Ｎ+Ｒ3Ｃｌ−、−Ｎ
Ｒ2等をはじめとする酸性極性基、塩基性極性基、ベタ
イン等を含有していてもよく、これらの含有は分散性の
向上に好適である。これらは一種単独で使用しても、二
種以上を組み合わせて使用してもよい。
側鎖に水酸基を有するものが反応型樹脂として、ポリイ
ソシアネートを使用した架橋や電子線架橋変性等が容易
に利用できるため好適である。さらに末端や側鎖に極性
基として−ＣＯＯＨ、−ＳＯ 3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＯＰ
Ｏ3Ｘ、−ＰＯ3Ｘ、−ＰＯ2Ｘ、−Ｎ+Ｒ3Ｃｌ−、−Ｎ
Ｒ2等をはじめとする酸性極性基、塩基性極性基、ベタ
イン等を含有していてもよく、これらの含有は分散性の
向上に好適である。これらは一種単独で使用しても、二
種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２６】これらのうちで、好ましく用いられるもの
としては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体およ
びポリウレタン樹脂の組み合わせである。本発明に使用
される樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体が挙げ
られ、詳しくは、塩化ビニル含有量６０〜９５重量％、
とくに６０〜９０重量％のものが好ましく、その平均重
合度は１００〜５００程度であることが好ましい。この
ような塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂
は、耐摩耗性および支持体への接着性が良い点でとくに
有効である。なお、これらの樹脂に加えて、公知の各種
樹脂が含有されていてもよい。
としては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体およ
びポリウレタン樹脂の組み合わせである。本発明に使用
される樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体が挙げ
られ、詳しくは、塩化ビニル含有量６０〜９５重量％、
とくに６０〜９０重量％のものが好ましく、その平均重
合度は１００〜５００程度であることが好ましい。この
ような塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂
は、耐摩耗性および支持体への接着性が良い点でとくに
有効である。なお、これらの樹脂に加えて、公知の各種
樹脂が含有されていてもよい。
【００２７】さらに上記樹脂に公知の手法により、（メ
タ）アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性を行
ったものを使用することも可能である。またその電子線
官能基含有量は、製造時の安定性、電子線硬化性等から
水酸基成分中１〜４０モル％、好ましくは１０〜３０モ
ル％であり、とくに塩化ビニル系共重合体の場合１分子
あたり１〜２０個、好ましくは２〜１０個の官能基とな
るようにモノマーを反応させると分散性、硬化性ともに
優れた電子線硬化性樹脂を得ることができる。
タ）アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性を行
ったものを使用することも可能である。またその電子線
官能基含有量は、製造時の安定性、電子線硬化性等から
水酸基成分中１〜４０モル％、好ましくは１０〜３０モ
ル％であり、とくに塩化ビニル系共重合体の場合１分子
あたり１〜２０個、好ましくは２〜１０個の官能基とな
るようにモノマーを反応させると分散性、硬化性ともに
優れた電子線硬化性樹脂を得ることができる。
【００２８】本発明の磁性層に用いる強磁性粉末は、従
来公知の材料を使用でき、例えばγ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3
Ｏ4、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3Ｏ4、ＣｒＯ2、バリウムフェラ
イト、ストロンチウムフェライト等の酸化物微粉末や、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合金などの
金属微粉末があげられる。
来公知の材料を使用でき、例えばγ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3
Ｏ4、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3Ｏ4、ＣｒＯ2、バリウムフェラ
イト、ストロンチウムフェライト等の酸化物微粉末や、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合金などの
金属微粉末があげられる。
【００２９】これらの磁性粉末は適用する媒体種等に応
じて選択すればよいが、この中でも高密度記録にむいて
いるＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合金微
粉末、さらに添加元素としてＹを含む希土類元素を含有
する合金粉末や、バリウムフェライト磁性粉が好まし
い。またこれらの磁性粉末は１種のみを用いても2種以
上を併用してもよい。またそのＨｃはシステムに合わせ
て適当に選択すれば良い。
じて選択すればよいが、この中でも高密度記録にむいて
いるＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいはこれらの合金微
粉末、さらに添加元素としてＹを含む希土類元素を含有
する合金粉末や、バリウムフェライト磁性粉が好まし
い。またこれらの磁性粉末は１種のみを用いても2種以
上を併用してもよい。またそのＨｃはシステムに合わせ
て適当に選択すれば良い。
【００３０】磁性層中の磁性粉末の含有量は全体の５０
〜８５重量％、好ましくは５５〜７５重量％とする。ま
た磁性層には必要に応じ無機微粒子、脂肪酸を除く潤滑
剤等の各種添加剤を含有させても良い。
〜８５重量％、好ましくは５５〜７５重量％とする。ま
た磁性層には必要に応じ無機微粒子、脂肪酸を除く潤滑
剤等の各種添加剤を含有させても良い。
【００３１】このような磁性層は支持体ベースの上に直
接設けてもよいが、塗膜が非常に薄いため、磁気記録媒
体としての耐久性の面から考えて、ベースと支持体の間
に一層以上の下塗り層を介して設けることが好ましい。
下塗り層としては、ポリマー樹脂、さらにポリマー樹脂
にカーボン、無機酸化物等の無機顔料を分散したもの、
磁性粉を分散したもの、さらに必要に応じて下塗り層に
潤滑剤を含ませたものも好ましい。
接設けてもよいが、塗膜が非常に薄いため、磁気記録媒
体としての耐久性の面から考えて、ベースと支持体の間
に一層以上の下塗り層を介して設けることが好ましい。
下塗り層としては、ポリマー樹脂、さらにポリマー樹脂
にカーボン、無機酸化物等の無機顔料を分散したもの、
磁性粉を分散したもの、さらに必要に応じて下塗り層に
潤滑剤を含ませたものも好ましい。
【００３２】ポリマー樹脂としては熱可塑性樹脂、熱硬
化性ないし反応型樹脂、電子線感応型変性樹脂等が用い
られ、その組み合わせは媒体の特性、工程条件に合わせ
て適宜選択使用される。
化性ないし反応型樹脂、電子線感応型変性樹脂等が用い
られ、その組み合わせは媒体の特性、工程条件に合わせ
て適宜選択使用される。
【００３３】熱可塑性樹脂としては、（メタ）アクリル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニ
ル系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニ
ルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラク
トン等の多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラス
トマー、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、エ
ポキシ変性ゴム等が挙げられる。
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニ
ル系共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン系共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、ニトロセ
ルロース、スチレン−ブタジエン系共重合体、ポリビニ
ルアルコール樹脂、アセタール樹脂、エポキシ系樹脂、
フェノキシ系樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカプロラク
トン等の多官能性ポリエーテル類、ポリアミド樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、ポリブタジエンエラス
トマー、塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、エ
ポキシ変性ゴム等が挙げられる。
【００３４】熱硬化性樹脂としては、縮重合するフェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿
素樹脂、ブチラール樹脂、ポリマール樹脂、メラニン樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系反応
樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、飽
和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられる。
ール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿
素樹脂、ブチラール樹脂、ポリマール樹脂、メラニン樹
脂、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系反応
樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、飽
和ポリエステル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられる。
【００３５】上記樹脂のなかでも、末端および／または
側鎖に水酸基を有するものが反応型樹脂として、ポリイ
ソシアネートを使用した架橋や電子線架橋変性等が容易
に利用できるため好適である。さらに末端や側鎖に極性
基として基として−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ
3Ｍ、−ＯＰＯ3Ｘ、−ＰＯ3Ｘ、−ＰＯ2Ｘ、−Ｎ+Ｒ3Ｃ
ｌ−、−ＮＲ2等をはじめとする酸性極性基、塩基性極
性基、ベタイン等を含有していてもよく、これらの含有
は分散性の向上に好適である。これらは１種単独で使用
しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
側鎖に水酸基を有するものが反応型樹脂として、ポリイ
ソシアネートを使用した架橋や電子線架橋変性等が容易
に利用できるため好適である。さらに末端や側鎖に極性
基として基として−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ
3Ｍ、−ＯＰＯ3Ｘ、−ＰＯ3Ｘ、−ＰＯ2Ｘ、−Ｎ+Ｒ3Ｃ
ｌ−、−ＮＲ2等をはじめとする酸性極性基、塩基性極
性基、ベタイン等を含有していてもよく、これらの含有
は分散性の向上に好適である。これらは１種単独で使用
しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３６】これらのうちで、好ましく用いられるもの
としては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体およ
びポリウレタン樹脂の組み合わせである。本発明に使用
される樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体が挙げ
られ、詳しくは、塩化ビニル含有量６０〜９５重量％、
とくに６０〜９０重量％のものが好ましく、その平均重
合度は１００〜５００程度であることが好ましい。この
ような塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂
は、耐摩耗性および支持体への接着性が良い点でとくに
有効である。なお、これらの樹脂に加えて、公知の各種
樹脂が含有されていてもよい。
としては、以下に示すような塩化ビニル系共重合体およ
びポリウレタン樹脂の組み合わせである。本発明に使用
される樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体が挙げ
られ、詳しくは、塩化ビニル含有量６０〜９５重量％、
とくに６０〜９０重量％のものが好ましく、その平均重
合度は１００〜５００程度であることが好ましい。この
ような塩化ビニル系樹脂と併用するポリウレタン樹脂
は、耐摩耗性および支持体への接着性が良い点でとくに
有効である。なお、これらの樹脂に加えて、公知の各種
樹脂が含有されていてもよい。
【００３７】さらに上記樹脂に公知の手法により、（メ
タ）アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性を行
ったものを使用することも可能である。またその電子線
官能基含有量は、製造時の安定性、電子線硬化性等から
水酸基成分中１〜４０モル％、好ましくは１０〜３０モ
ル％であり、とくに塩化ビニル系共重合体の場合１分子
あたり１〜２０個、好ましくは２〜１０個の官能基とな
るようにモノマーを反応させると分散性、硬化性ともに
優れた電子線硬化性樹脂を得ることができる。
タ）アクリル系二重結合を導入して電子線感応変性を行
ったものを使用することも可能である。またその電子線
官能基含有量は、製造時の安定性、電子線硬化性等から
水酸基成分中１〜４０モル％、好ましくは１０〜３０モ
ル％であり、とくに塩化ビニル系共重合体の場合１分子
あたり１〜２０個、好ましくは２〜１０個の官能基とな
るようにモノマーを反応させると分散性、硬化性ともに
優れた電子線硬化性樹脂を得ることができる。
【００３８】ポリマー樹脂に分散する無機顔料としては
カーボンブラック、α−Ｆｅ2Ｏ3、α−Ａｌ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2な
どがあげられる。これら単独で用いても良いが、カーボ
ンブラックとその他の無機顔料を併用して用いるのが好
ましい。また必要に応じて潤滑剤等の各種添加剤を含有
させても良い。本発明で使用できるカーボンブラック
は、例えば「カーボンブラック便覧」、カーボンブラッ
ク協会編を参考にすることができる。
カーボンブラック、α−Ｆｅ2Ｏ3、α−Ａｌ2Ｏ3、Ｃｒ
2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2な
どがあげられる。これら単独で用いても良いが、カーボ
ンブラックとその他の無機顔料を併用して用いるのが好
ましい。また必要に応じて潤滑剤等の各種添加剤を含有
させても良い。本発明で使用できるカーボンブラック
は、例えば「カーボンブラック便覧」、カーボンブラッ
ク協会編を参考にすることができる。
【００３９】下塗り層に磁性粉を含有する場合は従来公
知の材料を使用でき、例えばγ-Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ含有γ
−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3Ｏ4、ＣｒＯ
2、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等
の酸化物微粉末や、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいは
これらの合金などの金属微粉末があげられる。また必要
に応じて無機微粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させ
ても良い。
知の材料を使用でき、例えばγ-Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ含有γ
−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3Ｏ4、ＣｒＯ
2、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト等
の酸化物微粉末や、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属あるいは
これらの合金などの金属微粉末があげられる。また必要
に応じて無機微粒子、潤滑剤等の各種添加剤を含有させ
ても良い。
【００４０】本発明の塗膜の構成は非磁性支持体の上に
下塗り層、その上に磁性層を積層するのが好ましいが、
この時下塗りの厚みは０．５〜３．０μｍが好ましく特
に好ましくは１．０〜３．０μｍである。０．５μmよ
り薄くなると、ベース表面性の影響を受け易く、磁気記
録媒体の表面性を悪化させ、ひいては電磁変換特性に影
響を及ぼし、さらに下塗り層が薄いため、耐久性が悪化
する。また３．０μm以上になると、塗布する時の塗布
性が悪くなり、生産上好ましくない。
下塗り層、その上に磁性層を積層するのが好ましいが、
この時下塗りの厚みは０．５〜３．０μｍが好ましく特
に好ましくは１．０〜３．０μｍである。０．５μmよ
り薄くなると、ベース表面性の影響を受け易く、磁気記
録媒体の表面性を悪化させ、ひいては電磁変換特性に影
響を及ぼし、さらに下塗り層が薄いため、耐久性が悪化
する。また３．０μm以上になると、塗布する時の塗布
性が悪くなり、生産上好ましくない。
【００４１】一方、磁性層の厚みは、磁気記録システム
により任意であるが、本発明目的上０．５μｍ以下の薄
膜である。
により任意であるが、本発明目的上０．５μｍ以下の薄
膜である。
【００４２】下塗り層の塗布に用いるコーターには特に
制限はないが、グラビアコーター、リバースロールコー
ター、ダイノズルコーターが、磁性層の塗布にはダイノ
ズルコーターを用いることが好ましい。
制限はないが、グラビアコーター、リバースロールコー
ター、ダイノズルコーターが、磁性層の塗布にはダイノ
ズルコーターを用いることが好ましい。
【００４３】塗布方法としては２層以上の媒体の場合、
下塗り層を塗布しそれが湿潤状態のうちに磁性層を塗布
するウェットオンウェット方式でも、下塗り層を塗布し
て乾燥後、磁性層を塗布するウェットオンドライ方式の
どちらでも良いが、特にウェットオンドライ方式の時に
より効果がある。
下塗り層を塗布しそれが湿潤状態のうちに磁性層を塗布
するウェットオンウェット方式でも、下塗り層を塗布し
て乾燥後、磁性層を塗布するウェットオンドライ方式の
どちらでも良いが、特にウェットオンドライ方式の時に
より効果がある。
【００４４】
【００４５】
【実施例１】 ＜磁性塗料１＞ 金属磁性粉 100重量部 （Hc＝1650Oe,σS＝126emu,BET=58g/m2,PH=10,平均長軸長=0.32μm Fe/Co/Ni=100/5/5（重量比）、添加元素としてAlとSiを含む） 塩化ヒ゛ニル系共重合体（日本セ゛オン(株)製：MR110） 14重量部 （重合度＝300,極性基：−OSO3K=1.5個／1分子） ホスホベタイン含有ポリウレタン樹脂 4重量部 （Mw=40000,極性基濃度＝1.5個／1分子） −SO3Na含有ポリウレタン樹脂 2重量部 （Mn=25000,極性基濃度＝1個／1分子） α−Al2O3(住友化学工業(株)製：HIT50) 15重量部 （平均粒径＝0.24μm,BET=8ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アン(株)製：セバカーブMT） 3重量部 （平均粒径＝350nm,BET=7ｍ2/g,DBP吸油量＝41ml/100g） 分散剤ソルヒ゛タンモノステアレート 3重量部イソセチルステアレート 3重量部フ゛チルステアレート 2重量部 MEK 200重量部トルエン 130重量部シクロヘキサノン 340重量部 上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い磁性塗料１を作製した。固形分濃度（Ｎ
Ｖ）は１８重量％であった。
にて分散を行い磁性塗料１を作製した。固形分濃度（Ｎ
Ｖ）は１８重量％であった。
【００４６】 ＜下塗り層塗料１＞ 粒状α−Fe2O3（堺化学工業(株)製：FRO−3） 55重量部 （平均粒径＝30nm,BET=45ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （三菱化学(株)製：MA100B） 30重量部 （平均粒径=22nm,BET=134ｍ2/g,DBP吸油量＝100ml/100g） α−Al2O3(住友化学工業(株)製：AKP30) 15重量部 （平均粒径＝0.33μm,BET=8ｍ2/g） EB硬化性塩化ヒ゛ニル系共重合体 12重量部 （重合度＝300,極性基：−OSO3K=1.5個／1分子） EB硬化性ポリウレタン樹脂 4重量部 （Mn=25000,極性基：リン化合物＝1個／1分子） 多官能アクリルモノマー（三洋化成工業(株)製：TA505） 2重量部イソセチルステアレート 10重量部フ゛チルステアレート 4重量部ソルヒ゛タンモノステアレート 3重量部 MEK 126重量部トルエン 38重量部シクロヘキサノン 38重量部 上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い下塗り層塗料1を作製し、表面粗さ(Ｒ
ａ)=９ｎｍ、６２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダ
イノズル方式で１．５μmの乾燥膜厚になるように塗布
し、乾燥温度１００℃で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行
った。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面
下塗り層のロールを作成した。
にて分散を行い下塗り層塗料1を作製し、表面粗さ(Ｒ
ａ)=９ｎｍ、６２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダ
イノズル方式で１．５μmの乾燥膜厚になるように塗布
し、乾燥温度１００℃で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行
った。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面
下塗り層のロールを作成した。
【００４７】次に、磁性層塗料１にコロネートL（日本
ポリウレタン工業(株)製）を４重量部添加し、塗料をオ
ンライン超音波分散機にて再分散した後、前記ロールに
押し出しダイノズル方式で０．３５μmの乾燥膜厚にな
るように塗布し無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥温
度１００℃で乾燥後、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度６０
℃にてカレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げた。次
に同じような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の
原反ロールを作成した。
ポリウレタン工業(株)製）を４重量部添加し、塗料をオ
ンライン超音波分散機にて再分散した後、前記ロールに
押し出しダイノズル方式で０．３５μmの乾燥膜厚にな
るように塗布し無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥温
度１００℃で乾燥後、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度６０
℃にてカレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げた。次
に同じような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の
原反ロールを作成した。
【００４８】最後にこの原反ロールをディスク状に打ち
抜いてその後７０℃２４ｈｒの条件で熱硬化を行いディ
スクを作成した。
抜いてその後７０℃２４ｈｒの条件で熱硬化を行いディ
スクを作成した。
【００４９】
【実施例２】実施例１で磁性層塗料に有機チキソトロピ
ー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミージャパン
製）を１重量部添加し磁性塗料を作製した。また磁性層
の塗布時は超音波分散機を使用せず塗布を行い、他は実
施例１と同様にディスクを作製した。
ー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミージャパン
製）を１重量部添加し磁性塗料を作製した。また磁性層
の塗布時は超音波分散機を使用せず塗布を行い、他は実
施例１と同様にディスクを作製した。
【００５０】
【実施例３】実施例２で磁性層塗布時に超音波分散機を
使用した他は実施例２と同様にディスクを作製した。
使用した他は実施例２と同様にディスクを作製した。
【００５１】
【実施例４】実施例１でＭＥＫを２００重量部から４１
０重量部、シクロヘキサノンを３４０重量部から１３０
重量部に変更し、磁性層塗料の分散時に有機チキソトロ
ピー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミージャパ
ン製）を分散時に１重量部添加し磁性塗料を作製した他
は実施例１と同様にディスクを作製した。
０重量部、シクロヘキサノンを３４０重量部から１３０
重量部に変更し、磁性層塗料の分散時に有機チキソトロ
ピー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミージャパ
ン製）を分散時に１重量部添加し磁性塗料を作製した他
は実施例１と同様にディスクを作製した。
【００５２】
【比較例１】実施例１の磁性塗料を塗布するときには超
音波分散機による再分散はおこなわずその他は実施例１
と同様にディスクを作製した。
音波分散機による再分散はおこなわずその他は実施例１
と同様にディスクを作製した。
【００５３】
【比較例２】実施例１でＭＥＫを２００重量部から４１
０重量部、シクロヘキサノンを３４０重量部から１３０
重量部に変更し、磁性塗料を塗布するときには超音波分
散機による再分散はおこなわず他は実施例１と同様にデ
ィスクを作製した。
０重量部、シクロヘキサノンを３４０重量部から１３０
重量部に変更し、磁性塗料を塗布するときには超音波分
散機による再分散はおこなわず他は実施例１と同様にデ
ィスクを作製した。
【００５４】
【比較例３】実施例１で溶剤比率を変えずに固形分濃度
を２５重量％に変更し実施例１と同様にディスクを作製
した。
を２５重量％に変更し実施例１と同様にディスクを作製
した。
【００５５】
【比較例４】実施例２で分散時に有機チキソトロピー添
加剤を使用しない他は実施例２と同様にディスクを作製
した。
加剤を使用しない他は実施例２と同様にディスクを作製
した。
【００５６】
【実施例５】 ＜磁性塗料２＞ 金属磁性粉 100重量部 （Hc＝2400Oe,σS＝143emu,BET=51g/m2,PH=10,平均長軸長=0.1μm Fe/Co=100/30（重量比）、添加元素としてAlとYを含む） 塩化ヒ゛ニル系共重合体（日本セ゛オン(株)製：MR110） 12重量部 （重合度＝300,極性基：−OSO3K=1.5個／1分子） ホスホベタイン含有ポリウレタン樹脂 3重量部 （Mw=40000,極性基濃度＝1.5個／1分子） −SO3Na含有ポリウレタン樹脂 ２重量部 （Mn=25000,極性基濃度＝1個／1分子） 研磨材α−Al2O3(住友化学工業(株)製：HIT82) 15重量部 （平均粒径＝0.12μm,BET=21ｍ2/g）カーホ゛ンフ゛ラック （コロンヒ゛アン(株)製：セハ゛カーフ゛MT） 3重量部 （平均粒径＝350nm,BET=7ｍ2/g,DBP吸油量＝41ml/100g） ソルビタンモノステアレート 3重量部 イソセチルステアレート 3重量部 ブチルステアレート 2重量部 MEK 280重量部 トルエン 190重量部 シクロヘキサノン 470重量部 上記組成物を混練処理した後、サンドグラインダーミル
にて分散を行い磁性塗料2を作製した。塗料のＮＶは１
３重量％だった。
にて分散を行い磁性塗料2を作製した。塗料のＮＶは１
３重量％だった。
【００５７】次にまず下塗り層塗料１を表面粗さ(Ｒａ)
=９ｎｍ、６２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダイノ
ズル方式で１．５μmの乾燥膜厚になるように塗布し、
乾燥温度１００℃で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行っ
た。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面下
塗り層のロールを作製した。
=９ｎｍ、６２μm厚のＰＥＴフィルムに押し出しダイノ
ズル方式で１．５μmの乾燥膜厚になるように塗布し、
乾燥温度１００℃で乾燥後、EB照射（５Mrad）を行っ
た。次に同じような手順でもう一方の面も形成し両面下
塗り層のロールを作製した。
【００５８】次に、磁性塗料２コロネートＬ（日本ポリ
ウレタン工業(株)製）を４重量部添加し、塗料をオンラ
イン超音波分散機にて再分散した後、前記ロールに押し
出しダイノズル方式で０．２μｍの乾燥膜厚になるよう
に塗布し無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥温度１０
０℃で乾燥後、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃にて
カレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げた。次に同じ
ような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の原反ロ
ールを作成した。
ウレタン工業(株)製）を４重量部添加し、塗料をオンラ
イン超音波分散機にて再分散した後、前記ロールに押し
出しダイノズル方式で０．２μｍの乾燥膜厚になるよう
に塗布し無配向磁石にて無配向化を行い、乾燥温度１０
０℃で乾燥後、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃にて
カレンダー処理を行い片面の塗膜を仕上げた。次に同じ
ような手順でもう一方の面も形成し両面磁性層の原反ロ
ールを作成した。
【００５９】最後にこの原反ロールをディスク状に打ち
抜いてその後７０℃２４ｈｒの条件で熱硬化を行いディ
スクを作成した。
抜いてその後７０℃２４ｈｒの条件で熱硬化を行いディ
スクを作成した。
【００６０】
【実施例６】実施例５で磁性層塗料の分散時に有機チキ
ソトロピー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミー
ジャパン製）を１重量部添加し磁性塗料を作製した。ま
た磁性層の塗布時は超音波分散機を使用せず塗布を行
い、他は実施例１と同様にディスクを作製した。
ソトロピー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミー
ジャパン製）を１重量部添加し磁性塗料を作製した。ま
た磁性層の塗布時は超音波分散機を使用せず塗布を行
い、他は実施例１と同様にディスクを作製した。
【００６１】
【実施例７】実施例６で磁性層塗布時に超音波分散機を
使用した他は実施例６と同様にディスクを作製した。
使用した他は実施例６と同様にディスクを作製した。
【００６２】
【実施例８】実施例５でＭＥＫを２８０重量部から５６
０重量部、シクロヘキサノンを４７０重量部から１９０
重量部に変更し、磁性層塗料の分散時に有機チキソトロ
ピー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミージャパ
ン製）を１重量部添加し磁性塗料を作製した他は実施例
５と同様にディスクを作製した。
０重量部、シクロヘキサノンを４７０重量部から１９０
重量部に変更し、磁性層塗料の分散時に有機チキソトロ
ピー添加剤としてＢＹＫ−４１０（ビックケミージャパ
ン製）を１重量部添加し磁性塗料を作製した他は実施例
５と同様にディスクを作製した。
【００６３】
【実施例９】実施例５で溶剤比率を変更せずに、固形分
濃度を１０重量％に変更しディスクを作製した。
濃度を１０重量％に変更しディスクを作製した。
【００６４】
【実施例１０】実施例６で溶剤比率を変更せずに、固形
分濃度を１０重量％に変更しディスクを作製した。
分濃度を１０重量％に変更しディスクを作製した。
【００６５】
【比較例５】実施例５で超音波分散機を使用せずにディ
スクを作製した。
スクを作製した。
【００６６】
【比較例６】実施例５でＭＥＫを２８０重量部から５６
０重量部、シクロヘキサノンを４７０重量部から１９０
重量部に変更し、磁性塗料を塗布するときには超音波分
散機による再分散はおこなわず他は実施例１と同様にデ
ィスクを作製した。
０重量部、シクロヘキサノンを４７０重量部から１９０
重量部に変更し、磁性塗料を塗布するときには超音波分
散機による再分散はおこなわず他は実施例１と同様にデ
ィスクを作製した。
【００６７】
【比較例７】実施例５で溶剤比率を変更せずに、固形分
濃度を１６重量％に変更し粘度を上げてディスクを作製
した。
濃度を１６重量％に変更し粘度を上げてディスクを作製
した。
【００６８】
【比較例８】実施例８で有機チキソトロピー添加剤を使
用せずディスクを作製した。
用せずディスクを作製した。
【００６９】
【比較例９】実施例９で磁性層を塗布するときに超音波
分散機を使用せずにディスクを作製した。実施例、比較
例で作成したディスクについて、目視にて表面観察を行
い、塗膜のヌケ・面荒れの有無を確認した。なお粘度に
ついては以下の方法で測定した。 ＜粘度測定法＞測定器として、Rheology.Co.Ltd製ＷＲ
３００コーンプレート型粘度計を用い、せん断速度２０
０／Ｓでの見かけ粘度（Ｖ２００）を測定した。
分散機を使用せずにディスクを作製した。実施例、比較
例で作成したディスクについて、目視にて表面観察を行
い、塗膜のヌケ・面荒れの有無を確認した。なお粘度に
ついては以下の方法で測定した。 ＜粘度測定法＞測定器として、Rheology.Co.Ltd製ＷＲ
３００コーンプレート型粘度計を用い、せん断速度２０
０／Ｓでの見かけ粘度（Ｖ２００）を測定した。
【００７０】
【表１】
【００７１】
【表２】
【００７２】
【表３】
【００７３】
【表４】
【００７４】
【発明の効果】本発明によれば、粘度Ｖ２００の値を本
発明の方法によってコントロールすることで、常に安定
した薄膜塗布を行うことが出来、量産性を上げることに
つながる。
発明の方法によってコントロールすることで、常に安定
した薄膜塗布を行うことが出来、量産性を上げることに
つながる。
Claims (8)
- 【請求項１】厚みが４０μｍ以上である非磁性支持体上
に強磁性粉末をバインダー中に分散してなる固形分濃度
が２５重量％以下の磁性塗料を塗布した乾燥後の塗膜厚
が０．５μｍ以下の磁性層を有する磁気記録媒体の製造
方法において、該磁性塗料を式（１）の条件で塗布する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （Ｖ２００＊Ｗｔ）／（ＮＶ＊Ｄｔ）≧５０ （１） ここで Ｖ２００：せん断速度２００／Ｓでの見かけ粘度（ｃｐ
ｓ） Ｗｔ：ウェット膜厚（μｍ） Ｄｔ：乾燥膜厚（μｍ） ＮＶ：固形分濃度（重量％） - 【請求項２】前記磁性塗料に塗布直前でオンライン分散
機で再分散をほどこしたことを特徴とする請求項１記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】前記オンライン分散機が超音波分散機であ
る請求項１〜２記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】前記磁性層の塗料の溶剤として比重が０．
９ｇ／ｃｃ以上の溶剤を４０重量％以上含むことを特徴
とした請求項１〜３記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項５】前記溶剤がシクロヘキサノンである請求項
１〜４記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項６】前記磁性層の塗料に有機チキソトロピー添
加剤を含んでいることを特徴とした請求項１〜５記載の
磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項７】磁性層に有機チキソトロピー添加剤を含ん
でいることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項８】前記磁性層に含まれる磁性粉が金属磁性粉
または六方晶バリウムフェライト粉である請求項７記載
の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26108099A JP2001084583A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26108099A JP2001084583A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001084583A true JP2001084583A (ja) | 2001-03-30 |
Family
ID=17356814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26108099A Withdrawn JP2001084583A (ja) | 1999-09-14 | 1999-09-14 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001084583A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002367159A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2007073086A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1999
- 1999-09-14 JP JP26108099A patent/JP2001084583A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002367159A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2007073086A (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP4622752B2 (ja) * | 2005-09-02 | 2011-02-02 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061205 |