JP2001081548A

JP2001081548A - 成膜装置および成膜方法

Info

Publication number: JP2001081548A
Application number: JP26048799A
Authority: JP
Inventors: Hideo Fujii; 秀雄藤井
Original assignee: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Current assignee: Pentax Corp
Priority date: 1999-09-14
Filing date: 1999-09-14
Publication date: 2001-03-27

Abstract

(57)【要約】【課題】多彩な膜組成・膜構成を得ることができ、所望
の薄膜を短時間で効率的に製造でき、特に、傾斜屈折率
薄膜を容易に形成することができる成膜装置および前記
成膜装置を用いた成膜方法を提供することにある。【解決手段】成膜装置１は、チャンバ２と、基板３を保
持する保持部４と、膜厚計５と、シャッタ６と、第１の
材料供給源７と、第２の材料供給源８と、シャッタ手段
１１と、制御手段１２とを有している。シャッタ手段１
１は、開口３２が形成された遮蔽板１８と、該遮蔽板１
８を回転する駆動系１６とを有し、遮蔽板１８の回転に
より開度が変化するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、成膜装置および成
膜方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、眼鏡レンズやカメラレンズのよう
な光学部品に用いられる反射防止膜、高反射膜、光学フ
ィルタ等の光学薄膜は、多層膜あるいは単層膜として作
製されている。その光学薄膜は、通常、屈折率の異なる
層を交互に積層することにより、所望の光学特性を得る
が、その他にも、層内で屈折率が連続的に変化する傾斜
屈折率薄膜により所望の光学特性を得る方法がある。

【０００３】傾斜屈折率薄膜としては、反射防止膜、マ
イナスフィルタ、偏向ビームスプリッタ等に用いられる
ルーゲットフィルタ（Rugate Filter）が挙げられる。

【０００４】そのような傾斜屈折率薄膜の製造方法は、
従来、屈折率の異なる複数の材料の蒸発源をそれぞれ設
け、それらへの供給電力を制御することにより、各蒸発
源からの蒸発速度を調整し、成膜面への各膜材料の付着
量の比率を変化させる方法が知られている。

【０００５】しかしながら、前述の方法の場合では、供
給電力と蒸発速度との応答性が低いため、供給電力を調
整しても所定の蒸発速度となるまでに長時間を必要とす
る。そのため、前述の方法では、迅速な蒸発速度の切替
が困難であり、所望の光学特性を有する薄膜を得るに
は、長い製造時間が必要であるという欠点を有する。さ
らに、前述の供給電力と蒸発速度との応答性が低いた
め、薄膜形成における膜構成の再現性が低いという欠点
を有する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、多彩
な膜組成・膜構成を得ることができ、所望の薄膜を短時
間で効率的に製造でき、特に、傾斜屈折率薄膜を容易に
形成することができる成膜装置およびこの成膜装置を用
いた成膜方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１３）の本発明により達成される。

【０００８】（１）チャンバと、チャンバ内に配置さ
れた複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する保
持部とを有し、気相成膜法により前記材料供給源から供
給される膜材料により薄膜形成対象物に成膜する成膜装
置であって、前記各材料供給源のうちの少なくとも１つ
の材料供給源に対して設置され、その開度が調整可能な
シャッタ手段を備えたことを特徴とする成膜装置。

【０００９】これにより、シャッタ手段の開度を変化さ
せることで、該シャッタ手段に対応する材料供給源から
供給される膜材料の前記薄膜形成対象物の成膜面への付
着量を変化させることができる結果、薄膜の構成成分の
比率を任意に設定したり、その比率を連続的に変化させ
たりすることができる。よって、多彩な膜組成・膜構成
を有する薄膜を効率的に製造でき、特に、傾斜屈折率薄
膜を容易に製造することができる。

【００１０】（２）前記シャッタ手段は、その開度を
多段階または連続的に調整することができる上記（１）
に記載の成膜装置。

【００１１】これにより、シャッタ手段に対応する材料
供給源から供給される膜材料の前記薄膜形成対象物の成
膜面への付着量を微妙に調整することができ、より多彩
な膜組成・膜構成を有する薄膜を実現できる。

【００１２】（３）前記シャッタ手段は、周方向に沿
って、開口面積が異なる開口が形成された遮蔽板と、該
遮蔽板を回転する駆動系とを有し、遮蔽板の回転により
開度が変化するものである上記（１）または（２）に記
載の成膜装置。

【００１３】これにより、簡単な構造で、迅速、確実に
シャッタ手段を作動することができ、特に、開口面積を
所望に設定することで、シャッタ手段の開度を調整する
ことができる。

【００１４】（４）前記シャッタ手段の駆動は、チャ
ンバを閉鎖したままでチャンバ外部から行うことができ
る上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の成膜装
置。

【００１５】これにより、チャンバを閉鎖したままチャ
ンバ外部からシャッタ手段の駆動を制御することがで
き、成膜作業を中断することなく、製造時間を短縮する
ことができる。

【００１６】（５）前記シャッタ手段の駆動により、
その開度の増減を周期的に行う上記（１）ないし（４）
のいずれかに記載の成膜装置。

【００１７】これにより、薄膜形成対象物の成膜面に屈
折率が連続的に変化する薄膜、例えば、ルーゲットフィ
ルタのような傾斜屈折率薄膜を形成することができる。

【００１８】（６）１つの材料供給源と、その他の材
料供給源とに対してシャッタ手段が設置され、前記シャ
ッタ手段は、前記１つの材料供給源に対する開度と、他
の材料供給源に対する開度との大小関係を逆転するよう
作動する上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の成
膜装置。

【００１９】これにより、得られる薄膜における屈折率
の幅を拡大またはシフトすることができる。

【００２０】（７）前記材料供給源からの材料供給速
度を検出する検出手段を有する上記（１）ないし（６）
のいずれかに記載の成膜装置。これにより、材料供給速
度を検出でき、所望の膜組成・膜構成を実現できる。

【００２１】（８）前記検出手段の検出値に基づいて
前記材料供給速度が一定となるよう制御する制御手段を
有する上記（７）に記載の成膜装置。

【００２２】これにより、主にシャッタ手段の開度の調
整で膜組成・膜構成を制御でき、所望の薄膜を容易に得
ることができる。

【００２３】（９）前記シャッタ手段の開度と、該シ
ャッタ手段に対応する材料供給源の材料供給速度とを連
動させるよう制御する制御手段を有する上記（１）ない
し（８）のいずれかに記載の成膜装置。

【００２４】これにより、薄膜形成対象物に形成する薄
膜の構成成分の差をより大きくすることができ、屈折率
の幅をより拡大することができる。

【００２５】（１０）チャンバと、チャンバ内に配置
された複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する
保持部と、前記各材料供給源のうちの少なくとも１つの
材料供給源に対して設置されたシャッタ手段とを有する
成膜装置を用いて薄膜形成対象物に気相成膜法により成
膜する成膜方法であって、前記シャッタ手段の開度を調
整して、該シャッタ手段に対応する材料供給源から供給
される膜材料の前記薄膜形成対象物の成膜面への付着量
を変化させることを特徴とする成膜方法。

【００２６】これにより、シャッタ手段の開度を変化さ
せることで、該シャッタ手段に対応する材料供給源から
供給される膜材料の前記薄膜形成対象物の成膜面への付
着量を変化させることができる結果、薄膜の構成成分の
比率を任意に設定したり、その比率を連続的に変化させ
たりすることができる。よって、多彩な膜組成・膜構成
を有する薄膜を効率的に製造でき、特に、傾斜屈折率薄
膜を容易に製造することができる。

【００２７】（１１）チャンバと、チャンバ内に配置
された複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する
保持部と、前記各材料供給源のうちの少なくとも１つの
材料供給源に対して設置されたシャッタ手段とを有する
成膜装置を用いて薄膜形成対象物に気相成膜法により成
膜する成膜方法であって、前記シャッタ手段の開度を調
整して、該シャッタ手段に対応する材料供給源から供給
される膜材料の前記薄膜形成対象物の成膜面への付着量
を周期的に変化させることを特徴とする成膜方法。

【００２８】これにより、薄膜形成対象物の成膜面に屈
折率が連続的に変化する薄膜、例えば、ルーゲットフィ
ルタのような傾斜屈折率薄膜を形成することができる。

【００２９】(１２) 前記各材料供給源からの材料供給
速度をそれぞれ一定にしつつ成膜を行う上記（１０）ま
たは（１１）に記載の成膜方法。

【００３０】(１３) 前記シャッタ手段の開度と、該シ
ャッタ手段に対応する材料供給源の材料供給速度とを連
動させて成膜を行う上記（１０）または（１１）に記載
の成膜方法。

【００３１】これにより、薄膜形成対象物に形成する薄
膜の構成成分の差をより大きくすることができ、屈折率
の幅をより拡大することができる。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の成膜装置および成
膜方法を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に
説明する。なお、説明中「膜厚」とは、物理的膜厚を意
味するものとする。

【００３３】本発明の成膜装置は、気相成膜法により成
膜を行う装置である。この気相成膜法としては、例え
ば、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、イオンプレー
ティング、スパッタリング等が挙げられる。特に、真空
蒸着法は、多くの材料に適用が可能であり、成膜条件の
制御が比較的簡易であることから、膜厚、屈折率の再現
性に優れ、多層薄膜を精度よく形成することができる。
また、成膜装置の構成が比較的簡単であるという利点が
ある。

【００３４】以下の説明では、真空蒸着法により成膜を
行う成膜装置について説明する。図１は、本発明の成膜
装置の第１実施形態を示す断面図、図２は、図１中のシ
ャッタ手段を示す拡大平面図、図３は、本発明の成膜装
置で得られた薄膜の屈折率と遮蔽板の回転角との関係を
示すグラフ、図４は、薄膜の分光反射率特性（実測値お
よび目標値）を示すグラフ、図５は、図４中の分光反射
特性（目標値）を得るための計算により求めた屈折率分
布図（屈折率プロファイル）、図６は、本発明の成膜装
置で用いられた遮蔽板の回転周期（１サイクル）を示す
グラフである。

【００３５】図１に示すように、成膜装置１は、チャン
バ（真空炉）２と、基板（薄膜形成対象物）３を保持す
る保持部４と、膜厚計５と、シャッタ６と、第１の材料
供給源７と、第２の材料供給源８と、シャッタ手段１１
と、制御手段１２と、加熱ヒータ（図示せず）とを有し
ている。

【００３６】チャンバ２には、複数の管路が接続されて
いる。その管路の１つは、チャンバ２内の雰囲気ガスを
排気する真空ポンプ（図示せず）に接続されている。チ
ャンバ２と真空ポンプの間には、バルブ１３が取付けら
れている。また、他の管路は、雰囲気ガス（不活性ガ
ス、反応ガス等）を導入するための管路である。その管
路の途中には、バルブ１４が取付けられている。

【００３７】このチャンバ２の雰囲気としては、通常、
非酸化性雰囲気、例えば、減圧（真空）状態下、あるい
は窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスが好ましい。
ここで雰囲気中には、少量の反応ガス（酸素ガス等）を
導入することができる。例えば、酸化タンタルには、Ｔ
ａ₂Ｏ₅、ＴａＯ₂があるが、成膜の際、これらが混在し
て基板３に成膜される可能性がある。そのため、チャン
バ２内の酸素分圧を制御することにより、蒸発物（元
素）と酸素原子との結合を調整して所望の価数の酸化タ
ンタルを得ることができる。

【００３８】例えば、酸化タンタルのうちで光の吸収が
最も少ないＴａ₂Ｏ₅を基板３に成膜しようとするには、
酸素分圧を比較的高くする。このときの酸素分圧は、例
えば、５×１０^-3〜５×１０^-2Paとされる。

【００３９】また、チャンバ２上部には、保持部４が設
けられている。この保持部４は、基板ホルダ４１と、回
転軸４２と、基板ホルダ回転機構４３とで構成されてい
る。

【００４０】基板ホルダ４１は、チャンバ２内の上部に
配置されている。この基板ホルダ４１の全体形状は、円
盤状をなしている。

【００４１】基板ホルダ４１には、基板３の成膜面に垂
直方向に、すなわち、図１中上下方向に平行な複数の貫
通した開口４１１が形成されている。開口４１１の形状
は、基板３の形状に対応し、本実施形態では、円形状を
なしている。

【００４２】回転軸４２は、上壁２１を貫通して、その
一端が基板ホルダ４１に設置されている。回転軸４２が
通る貫通孔には、シール部材２２が設置され、チャンバ
２の内部と外気とを遮断し、チャンバ２の気密性を保っ
ている。

【００４３】チャンバ２の外部には、支持部材（図示せ
ず）により基板ホルダ回転機構４３が設置されている。

【００４４】基板ホルダ回転機構４３は、モータ（図示
せず）と、減速手段（図示せず）等とを内蔵しており、
このモータの回転を減速手段で減速しつつ、回転軸４２
に伝達され、基板ホルダ４１を回転する。なお、モータ
の作動／停止、回転速度、回転方向等は、後述する制御
手段１２により制御される。

【００４５】基板ホルダ４１の上面４１２には、複数の
基板（成膜形成対象物）３が保持されている。基板３の
形状は、円盤状をなしている。それぞれ、基板３は、基
板ホルダ４１の上面４１２に開放する開口４１１に対応
するよう配置されている。そして、それぞれの基板３に
は、対応した開口４１１内の領域に薄膜が形成される。

【００４６】この基板３としては、各種の光学ガラス
や、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリア
リレート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の樹脂材料等
の光学材料が挙げられる。

【００４７】また、基板ホルダ４１近傍には、膜厚計５
が配置されている。この膜厚計５は、支持部材５１に支
持され、基板３の成膜面と同等の薄膜が形成される位置
に膜厚モニタ（モニタ手段）として設置されている。

【００４８】膜厚計５に内蔵された水晶振動子の固有振
動数の変化から薄膜の膜厚を検出する。この検出値は、
制御手段１２に入力される。制御手段１２は、入力され
る検出値に基づいて基板３の薄膜の膜厚を求めることが
できる。これにより、所望の膜厚を精度良く形成するこ
とができる。

【００４９】また、基板ホルダ４１の下部近傍には、シ
ャッタ６が配置されている。このシャッタ６は、例え
ば、複数の羽根からなるアイリス構造を有するものであ
る。シャッタ６の側部の一部は、チャンバ２の側部に設
置・固定され、シャッタ６の全体を支持している。

【００５０】図１に示すように、シャッタ６は、材料供
給源から供給される材料（成膜材料）の基板３の成膜面
への移行を遮断する機能を有する。シャッタ６を閉じた
状態にしておけば、基板３の成膜面への膜材料の付着が
阻止される。

【００５１】シャッタ６の開閉の制御方法は、後述の制
御手段１２について説明する箇所で詳細に説明する。

【００５２】また、基板ホルダ４１と上壁２１との間に
は、加熱ヒータが配置されている。この加熱ヒータは、
チャンバ２内の基板３および雰囲気を加熱する。この
際、光学ガラスの場合には、基板温度を１５０〜３５０
℃に加熱・保持することが好ましく、２００〜３００℃
に加熱・保持することがより好ましい。これにより、得
られる薄膜の膜密度が向上する。樹脂材料等の光学材料
を使う場合には、基板変形を生じない程度に加熱・保持
することが好ましい。なお、基板３および雰囲気の温度
は、加熱ヒータ近傍に設置された熱電対（図示せず）に
より計測され、計測値は制御手段１２に入力される。そ
の計測値に基づいて制御手段１２が加熱ヒータを制御す
る。

【００５３】チャンバ２内の底部には、第１の材料供給
源７と第２の材料供給源８とが隣接して配置されてい
る。

【００５４】第１の材料供給源７は、蒸発源７１と、ル
ツボ７２と、電子銃７３と、電子銃用電源７３１と、膜
厚計７４と、支持部材７４１とで構成されている。

【００５５】ルツボ７２内には、蒸発源７１が配置され
ている。この第１の材料供給源７の側部には、電子銃７
３が設置されている。該電子銃７３は、高エネルギー密
度の電子ビーム７３２を放出し、ルツボ７２内の蒸発源
７１を加熱し、蒸発させる。

【００５６】第１の材料供給源７の上部には、所定の高
さに設置された膜厚計７４が設置され、支持部材７４１
に支持されている。

【００５７】この膜厚計７４は、前述の膜厚計５と同様
に水晶振動子の固定振動数の変化から薄膜の膜厚を検出
する。この検出値は、後述する制御手段１２に入力され
る。これにより、後述する制御手段１２は、材料供給速
度を制御することができる。材料供給速度については、
後述する。

【００５８】電子銃用電源７３１は、チャンバ２の外部
に設置されている。電子銃用電源７３１からの配線によ
り電子銃７３に電力を供給する。電子銃７３の電力は、
制御手段１２により制御される。

【００５９】また、第１の材料供給源７は、その高さを
変更できるようになっていてもよい。この場合、第１の
材料供給源７の高さを変更する手段としては、例えば、
第１の材料供給源７とチャンバ２の底部との間に支持部
材（図示せず）を設置し、その支持部材に第１の材料供
給源７の設置高さを変更するためのアジャスタ機構を取
付けたり、高さの異なる支持部材を適宜交換して使用す
る構成とすることが挙げられる。

【００６０】また、前述した支持部材の形状および設置
位置（例えば、図１中の左右方向の位置）を変更しても
よい。なお、このような調整は、通常、成膜を開始する
以前に行う。

【００６１】第２の材料供給源８は、蒸発源８１と、ル
ツボ８２と、電子銃８３と、電子銃用電源８３１と、膜
厚計８４と、支持部材８４１とで構成されている。

【００６２】上記においてルツボ８２に配置される蒸発
源８１は、蒸発源７１とは異なる組成の材料とされる。

【００６３】ルツボ８２、電子銃８３、電子銃用電源８
３１、膜厚計８４、支持部材８４１は、それぞれ、前述
のルツボ７２、電子銃７３、電子銃用電源７３１、膜厚
計７４、支持部材７４１と同様のものである。なお、そ
れらの配置は、左右対称とされている。

【００６４】また、第２の材料供給源８の近傍には、シ
ャッタ手段１１が設置されている。このシャッタ手段１
１は、モータを有する駆動系１６と、モータの回転軸１
７に設置された遮蔽板１８とを有している。

【００６５】駆動系１６は、モータとしてステッピング
モータと、変速機（図示せず）等を内蔵している。この
ステッピングモータの駆動は、変速機で調整しつつ、回
転軸１７に伝達され、遮蔽板１８を所定角度回転する。
なお、このステッピングモータの作動／停止、回転方
向、回転速度、回転角度等は、後述する制御手段１２に
より制御される。

【００６６】回転軸１７は、底壁２３を貫通して、その
上端に遮蔽板１８が固着されている。回転軸１７が通る
貫通孔には、シール部材１９が設置され、チャンバ２の
内部と外気とを遮断し、チャンバ２の気密性を保ってい
る。

【００６７】遮蔽板１８は、円盤状をなしており、ルツ
ボ８２の上方にルツボ８２を覆うように設置されてい
る。図１に示すように、遮蔽板１８は、基板３の成膜面
に対してほぼ平行に配置され、厚さ方向に貫通した複数
の開口３２が形成されている。

【００６８】図２に示すように、それぞれの開口３２
は、扇状をなしており、遮蔽板１８の周方向に沿って配
置されている。それぞれの開口３２の扇の開き角は、図
２中の１８０°の位置で最小であり、この位置から時計
回りに徐々に増大し、０°の位置付近で最大となり、そ
こから、さらに時計回りに徐々に減少する。このように
開口３２は、遮蔽板１８の周方向に沿って開口面積が変
化する。なお、遮蔽板１８に対する蒸発源８１の位置３
１を図２中の点線で示す。

【００６９】シャッタ手段１１は、遮蔽板１８の回転角
に応じ、蒸発源８１の真上に位置する開口３２の開口面
積（開度）が変化する。この遮蔽板１８は、ステッピン
グモータ等のモータを用いることで、多段階または連続
的に回転することができる。そのため、シャッタ手段１
１の開度は、多段階または連続的に調整することができ
る。その結果、第２の材料供給源８から供給される膜材
料の基板３の成膜面への付着量を微妙に調整することが
できる。

【００７０】シャッタ手段１１は、その開度、すなわち
蒸発源８１の真上に位置する開口３２の開口面積の増減
を伴って作動する。このとき、当該開口面積が大である
と、第２の材料供給源８から供給される膜材料の基板３
の成膜面への付着物の量は増大する。逆に、当該開口面
積が小であると、第２の材料供給源８から供給される膜
材料の基板３の成膜面への付着物の量は減少し、前記成
膜面には、蒸発源７１の材料が優先的に成膜される。

【００７１】なお、シャッタ手段１１の駆動源としてス
テッピングモータを用いることで遮蔽板１８を高速で、
かつ所望の位置に正確に移動することができる。よっ
て、開度の設定も迅速、正確に行うことができる。

【００７２】また、このような構成では、後述する制御
手段１２により、チャンバ２を閉鎖したまま、チャンバ
２の外部からシャッタ手段１１の駆動を制御でき、シャ
ッタ手段１１の開度を変更することできる。特に、その
開度を変更するためにチャンバ２を開く等の成膜作業を
中断することなく製造時間を短縮することができる。

【００７３】また、第２の材料供給源８は、第１の材料
供給源７と同様に、その高さや左右方向の位置を変更で
きるようになっていてもよい。この場合、第２の材料供
給源８の高さを変更する手段としては、前述した第１の
材料供給源７と同様である。

【００７４】制御手段１２は、通常、マイクロコンピュ
ータ（ＣＰＵ）で構成されている。制御手段１２は、基
板ホルダ回転機構４３、シャッタ６、電子銃用電源７３
１および８３１、ステッピングモータ（図示せず）等を
制御している。

【００７５】制御手段１２は、前述した基板ホルダ回転
機構４３のモータの作動／不作動を制御し、さらに、作
動中の回転方向、回転速度等を制御する。この回転速度
は、２〜１００rpmであることが好ましく、１０〜５０r
pmであることがより好ましい。２rpm未満では、膜厚を
均一化することが困難であり、１００rpmを超えると、
回転の遠心力により基板３が固定位置から外れるおそれ
がある。なお、回転方向は、一方向に限るものではな
く、例えば、正回転と逆回転を組み合わせた回転であっ
てもよい。

【００７６】成膜の際、各材料供給源からのそれぞれの
材料供給速度は、薄膜の膜組成・膜構成を決定する一つ
の要因となるが、この材料供給速度を一定の速度に固定
しておけば、シャッタ手段１１の開度の変化のみで薄膜
の膜組成・膜構成を制御できるので、所望の薄膜を容易
に得ることができる。この場合、制御手段１２は、蒸発
源７１および８１においてそれぞれの材料供給速度が一
定になるよう電子銃７３および８３の作動を制御する。

【００７７】制御手段１２は、各材料供給源からのそれ
ぞれの材料供給速度を経時的に変化させるよう制御して
もよい。特に、制御手段１２は、第２の材料供給源８か
らの材料供給速度をシャッタ手段１１の開度に連動して
変化させるよう制御してもよい。例えば、第２の材料供
給源８に対するシャッタ手段１１の開度の増大に伴い、
前記材料供給速度を増大させるよう制御することができ
る。これにより、基板３の成膜面には、蒸発源８１の材
料が優先的に成膜され、蒸発源８１の材料の屈折率によ
り近い薄膜が形成される。逆に、シャッタ手段１１の開
度が減少したとき、材料供給速度を減少させると、基板
３の成膜面には、蒸発源７１の材料が優先的に成膜さ
れ、蒸発源７１の材料の屈折率により近い薄膜が形成さ
れる。このような開度の変化は、基板３に形成される薄
膜における含有成分の濃淡（含有量の差）をより大きく
することができる。

【００７８】材料供給速度は、例えば蒸発源７１および
８１近傍に設置された膜厚計７４、８４に１秒間に形成
される薄膜の膜厚として知ることができ、制御手段１２
は、その膜厚計７４、８４の検出値に基づいてそれぞれ
の材料供給速度を制御する。

【００７９】成膜開始時において、制御手段１２は、前
述の膜厚計７４、８４の検出値に基づいてそれぞれの材
料供給速度があらかじめ設定した速度に到達（安定）し
たと判断したら、シャッタ６を開く。

【００８０】また、成膜終了時において、制御手段１２
は、膜厚計５からの検出値に基づいて所望の膜厚に達し
たと判断したら、シャッタ６を閉じる。これにより、過
剰な成膜を防止することができ、精度の高い膜厚を得る
ことができる。

【００８１】成膜の際、制御手段１２は、ステッピング
モータの作動／不作動、駆動量、駆動方向、駆動のタイ
ミング等をあらかじめ設定されたプログラムに従ってシ
ーケンス制御する。これにより、成膜装置１の自動化が
図れ、成膜を繰り返し行った場合に再現性良く成膜でき
る。

【００８２】また、シャッタ手段１１の開度の増減を周
期的に行うよう制御した場合、基板３の成膜面に屈折率
が連続的に変化する薄膜、例えば、ルーゲットフィルタ
のような傾斜屈折率薄膜を形成することができる。

【００８３】シャッタ手段１１の開度の増減の周期（遮
蔽板の回転周期）を１サイクルとしたとき、求める傾斜
屈折率薄膜を形成するには、材料供給速度（蒸発速
度）、チャンバ２内の雰囲気等の諸条件により異なる
が、その一例を挙げれば、１サイクルを５〜３００秒で
２０サイクル以上で行うことが好ましく、１サイクルを
１０〜１００秒で２０サイクル以上で行うことがより好
ましい。１サイクルの間隔が狭すぎると、駆動系１６に
内蔵されるステッピングモータや変速機への負担が集中
し、摩耗・損傷等を起こしやすく、成膜装置１の使用寿
命を縮める。また、１サイクルの間隔が広すぎると、所
望の光学特性を得るまでに薄膜の膜厚が過剰に厚くなり
使用用途を狭め、長時間の製造時間が必要となり生産性
を低下させる。また、サイクルの回数が少なすぎると、
所望の光学特性を得ることができないおそれが生じる。

【００８４】なお、本発明においてステッピングモータ
の制御は、シーケンス制御に限るものではなく、手動制
御でもよい。

【００８５】図１のような成膜装置１においてルーゲッ
トフィルタのような傾斜屈折率薄膜を形成する場合、シ
ャッタ手段１１の開度、すなわち開口面積と成膜される
薄膜材料の屈折率との関係を説明する。ここで、付着速
度とは、単位時間当たりに基板の成膜面に付着する材料
の量をいう。

【００８６】シャッタ手段１１は、遮蔽板１８の回転に
より開口面積を変化することができ、蒸発源８１から供
給された膜材料の基板３の成膜面への付着物の量を変化
させる。このとき、開口面積が最大となると（特に全開
状態またはそれに近いと）、当該膜材料の付着速度は最
大となる。よって、例えば、蒸発源８１の材料供給速度
と、蒸発源７１の材料供給速度とを同一とした場合、基
板３の成膜面には、蒸発源８１の材料と、蒸発源７１の
材料とがほぼ同一の付着量で成膜され、蒸発源８１の材
料の屈折率と、蒸発源７１の材料の屈折率との和の約半
分の屈折率を有する薄膜が形成される。逆に、開口面積
が最小となると、蒸発源８１の材料の付着速度は最小と
なる。よって、基板３の成膜面には、蒸発源７１の材料
が優先的に成膜され、蒸発源７１の材料の屈折率に近い
薄膜が形成される。

【００８７】また、各材料供給源７および８の蒸発速度
（材料供給速度）と、各材料供給源７および８から基板
３の成膜面の距離を１対１の比率とした場合、得られる
薄膜の屈折率の幅は、すなわち、高屈折率の部位と低屈
折率の部位との差（以下、単に「屈折率の幅」という）
は、蒸発源８１の材料の屈折率と蒸発源７１の材料の屈
折率との和の半分程度の屈折率から蒸発源７１の材料の
屈折率に近い屈折率までの範囲となる。

【００８８】また、各材料供給源７および８の蒸発速度
の比率は、１対１に限らず、任意の比率に設定すること
ができる。これにより、特定の開度における両膜材料の
付着速度の比も変化し、得られる薄膜の屈折率の幅（範
囲）をシフトすることができる。前述のような成膜装置
を用いて前記気相成膜法により傾斜屈折率薄膜を形成し
た一例を示す。

【００８９】[Ｉ]薄膜の形成まず、基板３には、光学ガラス（Ｂｋ７；屈折率１．５
２）を用いた。固定された第１の材料供給源７には、蒸
発源７１としてＴａ₂Ｏ₅（屈折率２．０８）を配置し
た。シャッタ手段１１が近くに設置された第２の材料供
給源８には、蒸発源８１としてＳｉＯ₂（屈折率１．４
７）を配置した。また、各材料供給源７および８には、
それぞれの上面から１００mmのところに膜厚計７４、８
４を設置した。

【００９０】また、第１の材料供給源７は、蒸発源７１
（Ｔａ₂Ｏ₅）から基板３までの距離を８００mmとし、さ
らに、基板３の成膜面の法線で回転ホルダ４１の回転軸
と一致する線と、蒸発源７１と基板３の成膜面とを結ぶ
線とのなす角度が１０°となるように設置した。第２の
材料供給源８は、蒸発源８１（ＳｉＯ₂）から基板３ま
での距離を８００mmとし、さらに、基板３の成膜面の法
線で回転ホルダ４１の回転軸と一致する線と、蒸発源８
１と基板３の成膜面とを結ぶ線とのなす角度が１０°と
なるように設置した。

【００９１】また、遮蔽板１８を第２の材料供給源８の
上面から上方に１５０mmの位置に設置した。なお、薄膜
を形成する際、前記角度および蒸発源と基板との距離
は、基板ホルダ４１が回転するため変化する。本明細書
では、基板ホルダ４１が１回転した際の平均の角度を角
度とし、蒸発源と基板との平均の距離を距離とする。

【００９２】このような条件下で、以下の手順により成
膜を行った。まず、チャンバ２内を約２×１０^-3Paの真
空度まで真空ポンプで排気した。また、加熱ヒータによ
りチャンバ２内の基板３および雰囲気を加熱し、基板３
が約２５０℃に達するまで加熱した。保持部４を駆動し
て、基板ホルダ４１を２０rpmの回転速度で回転させ
た。

【００９３】次に、電子銃７３、８３から電子ビーム７
３２、８３２が蒸発源７１、８１に照射され、それぞれ
の蒸発源を融解した。それぞれの蒸発源７１、８１から
の蒸発量を膜厚計７４、８４で検出しつつ、その検出値
に基づいて制御手段１２が電子銃電源７３１、８３１の
電力を制御し、膜厚計７４へのＴａ₂Ｏ₅の成膜速度が６
０nm/sec、膜厚計８４へのＳｉＯ₂の成膜速度が１６０n
m/secとなるようにフィードバック制御した。

【００９４】次に、バルブ１４を開き、チャンバ２内に
酸素ガスを導入し、酸素分圧を２．５×１０^-2Paとし
て、蒸発源７１からの蒸発物が基板上でＴａ₂Ｏ₅となる
よう設定した。

【００９５】次に、シャッタ６を開放し、任意の基板３
への成膜を開始した。薄膜の膜厚を膜厚計５でモニタ
し、モニタした検出値に基づいて制御手段１２により薄
膜の膜厚を求めた。所定の膜厚に達したと制御手段１２
が判断した後、シャッタ６を閉鎖し、成膜を終了した。

【００９６】成膜の際、図２に示すように、遮蔽板１８
の回転角を０°、４５°、９０°、１３５°、１８０°
と変更し、それぞれの回転角で薄膜の膜厚が約１００nm
になるまで成膜を行った。そして、それぞれの回転角で
得られた薄膜の各屈折率を測定した。その結果を図３に
示す。

【００９７】図３に示すように、遮蔽板１８の回転角、
すなわちシャッタ手段１１の開度を変更することによ
り、基板３上に成膜された薄膜の屈折率が１．６１１〜
２．０１１の間で連続的に変化することが認められた。

【００９８】[ＩＩ]傾斜屈折率薄膜の形成前述した[Ｉ]の結果に基づいてシャッタ手段１１の開度
を変化することを周期的に行った。その際、図４に点線
で示された分光反射特性を有する傾斜屈折率薄膜を得る
よう成膜を行った。このとき、図６に示すように遮蔽板
１８の回転周期（１サイクル）は、１サイクルの所要時
間が約５２秒であり、図５に示すように屈折率変化のサ
イクルが４８サイクルなので、これと同様に遮蔽板１８
を４８サイクル行った。形成された薄膜の膜厚は、約４
８５０nmであった。図４中に得られた傾斜屈折率薄膜の
分光反射特性を実線で示した。

【００９９】図４に示すように、得られた傾斜屈折率薄
膜の分光反射曲線は、計算による分光反射曲線と近似し
ていることが認められた。これにより、本発明の成膜装
置１を用いてほぼ所望の傾斜屈折率薄膜を得られたこと
が確認された。

【０１００】次に、第２実施形態について説明する。こ
の場合、第１実施形態の成膜装置との共通点については
説明を省略し、主な相違点を説明する。

【０１０１】図７は、本発明の成膜装置の第２実施形態
を示す断面図である。本実施形態の成膜装置１は、シャ
ッタ手段１１の第１の材料供給源７および第２の材料供
給源８に対する配置が前記第１実施形態と異なる。すな
わち、成膜装置１は、前記シャッタ手段１１と同様の構
造のシャッタ手段１１を有しており、このシャッタ手段
１１は、第１の材料供給源７と第２の材料供給源８の双
方に対し設置されている。

【０１０２】成膜装置１では、１つのシャッタ手段１１
で第１の材料供給源７に対する開度と、第２の材料供給
源８に対する開度とを同時に変化させることができる。
第１の材料供給源７と第２の材料供給源８は、この回転
軸１７を介して互いに反対側に配置（１８０°ずれた位
置）され、かつ回転軸１７からルツボ８２、７２までの
距離がそれぞれ等しい位置に配置されている。この場
合、図２に示す遮蔽板１８が用いられているため、第１
の材料供給源７に対する開度が最大となると、第２の材
料供給源８に対する開度は小となり、第１の材料供給源
７に対する開度が最小となると、第２の材料供給源８に
対する開度は最大となる。このように、シャッタ手段１
１は、第１の材料供給源７に対する開度と、第２の材料
供給源８に対する開度との大小関係を逆転するよう駆動
する。これにより、得られる薄膜の屈折率の幅をより拡
大し、またはシフトすることができる。

【０１０３】また、シャッタ手段１１を周期的に作動さ
せると、第１の材料供給源７に対する開度の増減パター
ンと、第２の材料供給源８に対する開度の増減パターン
とが、互いに半周期ずれて進行する。これにより、ルー
ゲットフィルタのような傾斜屈折率薄膜を容易に形成す
ることができる。このとき、第１の材料供給源７に対す
る開度と第２の材料供給源８に対する開度との大小関係
が逆転するので、ルーゲットフィルタのような傾斜屈折
率薄膜における含有成分の濃淡（含有量の差）をより大
きくすることができる。よって、所望の光学特性を得る
上で、より前記サイクルの回数を少なくできる。従っ
て、膜厚をより薄くすることができ、製造時間を短縮す
ることができる。

【０１０４】また、第１実施形態に比べ、第１の材料供
給源７と第２の材料供給源８とをより接近して配置する
ことができるので、デッドスペースを少なくすることが
でき、成膜装置１の小型化を図ることができる。

【０１０５】次に、第３実施形態について説明する。こ
の場合、第１実施形態の成膜装置との共通点については
説明を省略し、主な相違点を説明する。

【０１０６】図８は、本発明の成膜装置の第３実施形態
を示す断面図である。本実施形態の成膜装置１は、シャ
ッタ手段６５の構成が前記第１実施形態と異なる。すな
わち、シャッタ手段６５は、第１の材料供給源７および
第２の材料供給源８に対して設置され、連動して回転す
る第１の遮蔽板３８および第２の遮蔽板４８を有し、こ
れら遮蔽板３８、４８の回転により前記各材料供給源７
および８に対するシャッタ手段１１の開度が変化するも
のである。

【０１０７】シャッタ手段６５は、モータを有する駆動
系１６と、モータの回転軸１７の上端部に固定された第
２の遮蔽板４８と、軸受６３と、軸受６３に支持された
回転軸３７と、回転軸３７の上端部に固定された第１の
遮蔽板３８と、回転軸１７に設置されたプーリ６１ａ
と、回転軸３７に設置されたプーリ６１ｂと、プーリ６
１ａとプーリ６１ｂとの間にかけ回されたエンドレスベ
ルト６２とを有している。プーリ６１ａ、プーリ６１
ｂ、エンドレスベルト６２、駆動系１６、軸受６３は、
いずれもチャンバ２の外側に設置されている。

【０１０８】第２の遮蔽板４８および第１の遮蔽板３８
は、それぞれが図２中の第１実施形態の遮蔽板１８と同
様の形状のものであり、形成されている開口３２の配置
が等しく（同位相）なるように配置されている。

【０１０９】プーリ６１ａとプーリ６１ｂの直径は、等
しく、これらは同じ回転数で回転する。モータは、第１
実施形態と同様のステッピングモータである。

【０１１０】駆動系１６においてステッピングモータを
回転させると、第１実施形態と同様に第２の遮蔽板４８
が回転するとともに、その回転力が、プーリ６１ａ、エ
ンドレスベルト６２、プーリ６１ｂを介して回転軸３７
に伝達され、第１の遮蔽板３８が同一回転方向、同一回
転速度、同一回転角度で回転する。

【０１１１】図８に示すように、第１の材料供給源７と
第２の材料供給源８とは、回転軸１７および３７を介し
て互いに反対側に配置されている。この場合、第１の遮
蔽板３８と第２の遮蔽板４８とで、それらに形成された
開口の位置関係は同じであるため、第１の遮蔽板３８に
おいて第１の材料供給源７に対する開度が最大となる
と、第２の遮蔽板４８において第２の材料供給源８に対
する開度が最小となり、第１の遮蔽板３８において第１
の材料供給源７に対する開度が最小になると、第２の遮
蔽板４８において第２の材料供給源８に対する開度が最
大となる。よって、シャッタ手段６５は、第１の材料供
給源７に対する開度と、第２の材料供給源８に対する開
度との大小関係を逆転するよう駆動することができ、第
２実施形態で述べたのと同様の作用・効果が発揮され
る。

【０１１２】また、シャッタ手段６５の開度の増減を周
期的に変化させることにより、ルーゲットフィルタのよ
うな傾斜屈折率薄膜が形成することができ、第２実施形
態で述べたのと同様の作用・効果が発揮される。

【０１１３】また、シャッタ手段６５は、プーリ６１
ａ、プーリ６１ｂおよびエンドレスベルト６２で構成さ
れた動力伝達系を用いることにより、第１の遮蔽板３８
を回転するための専用の駆動系や、その駆動系を制御す
るための制御系を設ける必要がなく、成膜装置１の構成
を簡素化することができる。

【０１１４】また、図８に示すように、第１の遮蔽板３
８の第１の材料供給源７と反対側の端部と、第２の遮蔽
板４８の第２の材料供給源８と反対側の端部とが、互い
に非接触で重なり合うよう配置することで、デッドスペ
ースを少なくすることができ、成膜装置１の小型化を図
ることができる。

【０１１５】本実施形態は、その作用・効果は、第２実
施形態と同様であるが、第２実施形態は、１つの遮蔽板
１８を用いているのに対し、本実施形態は、２つの遮蔽
板３８、４８を用いている。これにより、第１実施形態
より複雑な傾斜屈折率プロファイルの膜を形成すること
ができる。

【０１１６】なお、本実施形態において、駆動系１６の
動力伝達系の構成は、プーリ６１ａ、６１ｂと、エンド
レスベルト６２との組合せに限らず、例えば、一対のス
プロケットとチェーンの組合せや、歯車列であってもよ
い。

【０１１７】次に、第４実施形態について説明する。こ
の場合、第３実施形態の成膜装置との共通点については
説明を省略し、主な相違点を説明する。

【０１１８】図９は、本発明の成膜装置の第４実施形態
を示す断面図である。本実施形態の成膜装置１は、シャ
ッタ手段の構成が前記第３実施形態と異なる。すなわ
ち、成膜装置１は、第１の材料供給源７および第２の材
料供給源８に対し、それぞれ独立したシャッタ手段６６
ａ、６６ｂが設置されている。これらのシャッタ手段６
６ａ、６６ｂは、いずれも、シャッタ手段１１と同様の
構成である。

【０１１９】成膜装置１では、両遮蔽板１８を第１実施
形態の遮蔽板１８と同様の形状のものとし、それぞれを
形成されている開口３２の配置が等しく（同位相）なる
ように配置し、かつ、両遮蔽板１８を同一回転方向、同
一回転速度、同一回転角度で回転すれば、第３実施形態
で述べたのと同様の作用・効果が発揮される。

【０１２０】また、シャッタ手段６６ａ、６６ｂは、そ
れぞれ独立して駆動することができ、上記のような両遮
蔽板１８を同一の駆動パターンで駆動する場合に限られ
ない。

【０１２１】シャッタ手段６６ａ、６６ｂを独立して制
御することにより、薄膜の構成成分の比率をさらに微妙
に調整することができるので、より多彩な膜組成・膜構
成を有する薄膜を実現することができる。

【０１２２】以上のように、本発明の成膜装置および成
膜方法を各実施形態に基づいて説明したが、本発明は、
これに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の
機能を有する任意の構成のものに置換することができ
る。

【０１２３】例えば、各実施形態では、回転する遮蔽板
を有するシャッタ手段を用いているが、これに限らず、
例えば、平行移動する遮蔽板を有するシャッタ手段や、
複数枚の羽根からなるアイリス構造のシャッタ手段を用
いてもよい。また、シャッタ手段は、開と閉の二つの状
態を択一的に選択するものでもよい。

【０１２４】また、本成膜装置は、屈折率の異なる物質
を交互に積層させた多層光学薄膜を形成することに用い
てもよい。その一例を述べると、シャッタ手段を所定の
開度、すなわち所定の開口面積に設定し、固定した後、
該材料供給源と他の材料供給源の作動を択一的に行っ
て、両材料供給源の材料による薄膜を交互に形成する。
このとき、途中の工程でシャッタ手段の開度を変更して
もよい。

【０１２５】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、多
彩な膜組成・膜構成を有する薄膜を形成することがで
き、特に、傾斜屈折率薄膜を容易に形成することができ
る。

【０１２６】また、チャンバを閉鎖したまま、チャンバ
外部からシャッタ手段の駆動を制御することができ、所
望の薄膜をより短時間で簡単に成膜することができ、生
産性の向上が図れる。

【０１２７】傾斜屈折率薄膜等を形成する場合、シャッ
タ手段が１つの材料供給源に対する開度と、他の材料供
給源に対する開度との大小関係を逆転するよう駆動する
ことにより、得られる薄膜の屈折率の幅をより拡大し、
またはシフトすることができる。これにより、設計の幅
を拡大し、所望の光学特性を得る上で、膜厚（総厚）を
より薄くすることができ、製造時間を短縮することがで
きる。

【０１２８】また、シャッタ手段の駆動源としてステッ
ピングモータを用いることで、得られる薄膜を精度良く
形成することができ、特に、傾斜屈折率薄膜の生産性を
向上することができる。

【０１２９】このような成膜装置により成膜される薄
膜、特に、ルーゲットフィルタのような傾斜屈折率薄膜
は、設計通り製造できるので、これらを用いた眼鏡、カ
メラ、望遠鏡等の光学機器および光学部品の性能を十分
に発揮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の成膜装置の第１実施形態を示す断面図
である。

【図２】図１中のシャッタ手段を示す拡大平面図であ
る。

【図３】本発明の成膜装置で得られた薄膜の屈折率と遮
蔽板の回転角との関係を示すグラフである。

【図４】薄膜の分光反射特性（実測値および目標値）を
示すグラフである。

【図５】図４中の分光反射率曲線（目標値）を得るため
の計算により求めた屈折率分布図（屈折率プロファイ
ル）である。

【図６】本発明の成膜装置に用いられた遮蔽板の回転周
期（１サイクル）を示すグラフである。

【図７】本発明の成膜装置の第２実施形態を示す断面図
である。

【図８】本発明の成膜装置の第３実施形態を示す断面図
である。

【図９】本発明の成膜装置の第４実施形態を示す断面図
である。

【符号の説明】

１成膜装置２チャンバ（真空炉）２１上壁２２シール部材２３底壁３基板４保持部４１基板ホルダ４１１開口４１２上面４２回転軸４３基板ホルダ回転機構５膜厚計５１支持部材６シャッタ７第１の材料供給源７１蒸発源７２ルツボ７３電子銃７３１電子銃電源７３２電子ビーム７４膜厚計７４１支持部材８第２の材料供給源８１蒸発源８２ルツボ８３電子銃８３１電子銃電源８３２電子ビーム８４膜厚計８４１支持部材１１シャッタ手段１２制御手段１３バルブ１４バルブ１６駆動系１７回転軸１８遮蔽板１９シール部材３１位置３２開口３７回転軸３８第１の遮蔽板４８第２の遮蔽板６１ａプーリ６１ｂプーリ６２エンドレスベルト６３軸受６５シャッタ手段６６ａシャッタ手段６６ｂシャッタ手段

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】チャンバと、チャンバ内に配置された複
数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する保持部と
を有し、気相成膜法により前記材料供給源から供給され
る膜材料により薄膜形成対象物に成膜する成膜装置であ
って、前記各材料供給源のうちの少なくとも１つの材料供給源
に対して設置され、その開度が調整可能なシャッタ手段
を備えたことを特徴とする成膜装置。
【請求項２】前記シャッタ手段は、その開度を多段階
または連続的に調整することができる請求項１に記載の
成膜装置。
【請求項３】前記シャッタ手段は、周方向に沿って、
開口面積が異なる開口が形成された遮蔽板と、該遮蔽板
を回転する駆動系とを有し、遮蔽板の回転により開度が
変化するものである請求項１または２に記載の成膜装
置。
【請求項４】前記シャッタ手段の駆動は、チャンバを
閉鎖したままでチャンバ外部から行うことができる請求
項１ないし３のいずれかに記載の成膜装置。
【請求項５】前記シャッタ手段の駆動により、その開
度の増減を周期的に行う請求項１ないし４のいずれかに
記載の成膜装置。
【請求項６】１つの材料供給源と、その他の材料供給
源とに対してシャッタ手段が設置され、前記シャッタ手
段は、前記１つの材料供給源に対する開度と、他の材料
供給源に対する開度との大小関係を逆転するよう作動す
る請求項１ないし５のいずれかに記載の成膜装置。
【請求項７】前記材料供給源からの材料供給速度を検
出する検出手段を有する請求項１ないし６のいずれかに
記載の成膜装置。
【請求項８】前記検出手段の検出値に基づいて前記材
料供給速度が一定となるよう制御する制御手段を有する
請求項７に記載の成膜装置。
【請求項９】前記シャッタ手段の開度と、該シャッタ
手段に対応する材料供給源の材料供給速度とが連動して
変化するよう制御する制御手段を有する請求項１ないし
８のいずれかに記載の成膜装置。
【請求項１０】チャンバと、チャンバ内に配置された
複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する保持部
と、前記各材料供給源のうちの少なくとも１つの材料供
給源に対して設置されたシャッタ手段とを有する成膜装
置を用いて薄膜形成対象物に気相成膜法により成膜する
成膜方法であって、前記シャッタ手段の開度を調整して、該シャッタ手段に
対応する材料供給源から供給される膜材料の前記薄膜形
成対象物の成膜面への付着量を変化させることを特徴と
する成膜方法。
【請求項１１】チャンバと、チャンバ内に配置された
複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する保持部
と、前記各材料供給源のうちの少なくとも１つの材料供
給源に対して設置されたシャッタ手段とを有する成膜装
置を用いて薄膜形成対象物に気相成膜法により成膜する
成膜方法であって、前記シャッタ手段の開度を調整して、該シャッタ手段に
対応する材料供給源から供給される膜材料の前記薄膜形
成対象物の成膜面への付着量を周期的に変化させること
を特徴とする成膜方法。
【請求項１２】前記各材料供給源からの材料供給速度
をそれぞれ一定にしつつ成膜を行う請求項１０または１
１に記載の成膜方法。
【請求項１３】前記シャッタ手段の開度と、該シャッ
タ手段に対応する材料供給源の材料供給速度とが連動し
て変化するよう成膜を行う請求項１０または１１に記載
の成膜方法。