JP2001081252A - 飲料容器用ポリエチレン系樹脂組成物及び飲料容器 - Google Patents

飲料容器用ポリエチレン系樹脂組成物及び飲料容器

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JP2001081252A
JP2001081252A JP26145099A JP26145099A JP2001081252A JP 2001081252 A JP2001081252 A JP 2001081252A JP 26145099 A JP26145099 A JP 26145099A JP 26145099 A JP26145099 A JP 26145099A JP 2001081252 A JP2001081252 A JP 2001081252A
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mfr
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ethylene
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JP26145099A
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English (en)
Inventor
Yoshihei Naka
善平 仲
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Japan Polychem Corp
Original Assignee
Japan Polychem Corp
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Publication date
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  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】強度、透明性、耐熱性に優れ、内容物への味・
臭いの移行の問題も少なく、成形時の安定性を備えた飲
料容器用樹脂組成物を提供する。 【解決手段】下記成分(A)〜(C)を、下記成分
(A)及び成分(B)の合計量が100重量部であると
き、それぞれ下記の割合で含有することを特徴とする飲
料容器用ポリエチレン系樹脂組成物。 成分(A): エチレンと炭素数3〜12のα−オレフ
ィンとの共重合体 70〜98重量部 成分(B): 高圧ラジカル法による低密度ポリエチレ
ン 30〜2重量部 成分(C): 次の特性(C1)〜(C3)のすべてを
有する無機化合物粒子0.03〜1.5重量部 特性(C1): 平均粒子径が0.1〜7.0μmであ
ること 特性(C2): 吸油量が50ml/100g以上であ
ること 特性(C3): 水分が6重量%以下であること

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、バッグインボック
ス等の飲料容器に適する樹脂組成物及びそれを成形して
なる飲料容器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、バッグインボックスに代表される
飲料容器用の材料としては、高圧ラジカル法による低密
度ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体やエチ
レン・α−オレフィン共重合体が用いられてきた。中で
も、エチレン・α−オレフィン共重合体は、強度、滅菌
時の耐熱性に優れる為、使用されることが多い。しかし
ながら、通常のエチレン・α−オレフィン共重合体は、
容器にした場合に内容物に対して臭い・味の移行が起こ
るという問題があり、また強度や透明性についても十分
でない場合があった。このエチレン・α−オレフィン共
重合体の内容物への味・臭いの移行を抑制し、強度と透
明性を向上させる方法としては、メタロセン系触媒によ
って重合されたエチレン・α−オレフィン共重合体を用
いることが考えられる。
【0003】しかしながら、従来のメタロセン系触媒に
よって重合されたエチレン・α−オレフィン共重合体で
は、強度は向上するものの、透明性と味・臭いの移行の
抑制については未だ十分ではなかった。さらに、この方
法では成形時の安定性が不十分となる問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、強度、透明
性、耐熱性に優れ、内容物への味・臭いの移行の問題も
少なく、成形時の安定性を備えた飲料容器用樹脂組成物
及びそれを成形してなる飲料容器を提供するものであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するべく種々の検討を重ねた結果なされたものであ
る。すなわち、本発明の飲料容器用ポリエチレン樹脂組
成物は、下記成分(A)〜(C)を、下記成分(A)及
び成分(B)の合計量が100重量部であるとき、それ
ぞれ下記の割合で含有することを特徴とするものであ
る。 成分(A): 次の特性(A1)〜(A4)のすべてを
有するエチレンと炭素数3〜12のα−オレフィンとの
共重合体 70〜98重量部 特性(A1): MFRが0.05〜15g/10分で
あること 特性(A2): 密度が0.880〜0.940g/c
3 であること 特性(A3): FRが7.2以下であること 特性(A4): へキサン可溶分が2.5重量%以下で
あること 成分(B): 次の特性(B1)〜(B2)のすべてを
有する高圧ラジカル法による低密度ポリエチレン 30
〜2重量部 特性(B1): MFRが0.1〜20g/10分であ
ること 特性(B2): 密度が0.915〜0.935g/c
3 であること 成分(C): 次の特性(C1)〜(C3)のすべてを
有する無機化合物粒子0.03〜1.5重量部 特性(C1): 平均粒子径が0.1〜7.0μmであ
ること 特性(C2): 吸油量が50ml/100g以上であ
ること 特性(C3): 水分が6重量%以下であること 上記特性において、MFRは190℃、2.16kg荷
重で測定したメルトフローレート(g/10分)であ
り、FRは190℃、10kg荷重で測定したメルトフ
ローレートMFR’(g/10分)と、MFRとの比
(フローレシオ:MFR’/MFR)である。
【0006】
【発明の実施の形態】1.構成成分 成分(A): エチレンと炭素数3〜12のα−オレフ
ィンとの共重合体 本発明に用いるエチレンと炭素数3〜12のα−オレフ
ィンとの共重合体は、下記の理由から、所定の特性(A
1)〜特性(A4)のすべてを有することが必要であ
る。また、特性(A5)も有することが好ましい。な
お、それぞれの特性の定義は請求項1及び3に、また測
定法の詳細は、実施例の項に記載する。 特性(A1): MFR MFRが0.05〜15g/10分、好ましくは1.0
〜12g/10分であること。MFRが、上記範囲未満
では、成形時の押出負荷が高くなって加工性が低下す
る。一方、上記範囲を超過すると、成形安定性が低下す
ると同時に、容器の強度も低下する。 特性(A2): 密度 密度が0.880〜0.940g/cm3 、好ましくは
0.890〜0.930g/cm3 であること。密度
が、上記範囲未満では、容器の臭い・味の内容物への移
行が多くなる他、耐熱性が低下する。一方、上記範囲を
超過すると、容器の強度が低下する。 特性(A3): FR FRが7.2以下、好ましくは6.9以下であること。
FRが、上記範囲を超過すると、容器の強度が低下す
る。 特性(A4): ヘキサン可溶分 ヘキサン可溶分が2.5重量%以下、好ましくは2.2
重量%以下であること。ヘキサン可溶分が、上記範囲を
超過すると、容器の臭い・味の内容物への移行が多くな
る。 特性(A5): K Kが0.15〜4、好ましくは0.2〜3であること。
Kが、上記範囲未満では、成形時の安定性が不十分であ
る。一方、上記範囲を超過すると、容器の透明性が悪化
する。
【0007】成分(A)のエチレンと炭素数3〜12の
α−オレフィンとの共重合体は、特性(A1)〜特性
(A4)を満足する限り限定されないが、α−オレフィ
ンは、炭素数3〜12、好ましくは4〜10のものが一
種以上用いられる。具体的には、例えば、プロピレン、
1−ブテン、1−へキセン、4−メチル−1−ペンテ
ン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、又はこ
れらの混合物である。この共重合体には、α−オレフィ
ンに加えて、少量のポリエン等が共重合されてもよい。
そのようなポリエンとしては、プタジエン、イソプレ
ン、1,4−へキサジエン、ジシクロペンタジエン等を
挙げることができる。上記のエチレンと炭素数3〜12
のα−オレフィンとの共重合体を得るための重合方法に
ついては、限定されるものではないが、所望の特性を有
する共重合体組成物を得るためには、オレフィン重合用
触媒の選択が重要である。
【0008】オレフィン重合用触媒 すなわち、成分(a)の、メタロセン系遷移金属化合
物、及び、成分(b)の、(b1)無機珪酸塩及び(b
2)無機珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物からなる
群より選ばれた少なくともl種の化合物で、水分含有率
が3重量%以下のものを、塩類処理及び/又は酸処理を
行なって得られたものを必須成分とするオレフィン重合
用触媒を用いることが重要である。
【0009】 成分(a): メタロセン系遷移金属化合物 オレフィン重合用触媒成分である成分(a)のメタロセ
ン系遷移金属化合物は、置換されていてもよい1個若し
くは2個のシクロペンタジエニル系配位子、すなわち置
換基が結合して縮合環を形成していてもよいl〜2個の
シクロペンタジエニル環含有配位子と周期律表第3〜6
族の遷移金属とからなる有機金属化合物、又は、それら
のカチオン型錯体である。かかるメタロセン系遷移金属
化合物として好ましいものは、下記の一般式[1]若し
くは[2]で表される化合物である。 一般式[1] (CpR1 a5-ap (CpR2 b5-bq MR3
r 一般式[2] [(CpR1 a5-ap (CpR2 b5-bq MR
3 rmn+[R4n- (上記一般式[1]及び[2]中、CpR1 a5-a
びCpR2 b5-b は、シクロペンタジエニル(Cp)
環上の5個の水素原子を、それぞれ、a個のR1及びb
個のR2 で置換したシクロペンタジエニル系配位子を示
す。a、bは、0〜5の整数である。R1 、R2 は、置
換されていてもよい炭素数l〜20の炭化水素基、珪素
含有置換基、ゲルマニウム含有置換基、窒素含有置換
基、燐含有置換基、酸素含有置換基であり、各々同一で
も異なっていてもよい。また、R1 又はR2 が、他のC
p環上のR1 若しくはR2 と又は直接に他のCp環と結
合して架橋基を形成してもよい。さらに、同一のCp環
上の2つのR1 又は2つのR2 が、互いに結合して縮合
環を形成してもよい。R3 は、置換されていてもよい炭
素数1〜20の炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、
珪素含有置換基、窒素含有置換基、燐含有置換基、酸素
含有置換基であり、各々同一でも異なっていてもよい。
また、R3 は、R1 若しくはR2 を介して又は直接にC
p環と結合してシクロペンタジエニル系二座配位子を形
成してもよい。さらに、2つのR3 が、相互に結合して
二座配位子を形成してもよい。Mは、周期律表第3〜6
族の遷移金属原子であり、Lは、電気的に中性な配位
子、mは1以上の整数を示す。[R4 ]は、n価のカチ
オンを中和する1個以上のアニオンであり、2個以上の
場合は同じでも異なっていてもよい。p、q、rは、0
又は正の整数であり、Mの原子価数がVの場合、一般式
[1]では、p+q+r=Vを満たし、一般式[2]で
は、p+q+r=V−nを満たす。また、nは、1〜V
−1の整数である。)
【0010】R1 、R2 は、置換されていてもよい炭素
数l〜20の炭化水素基、珪素含有置換基、ゲルマニウ
ム含有置換基、窒素含有置換基、燐含有置換基、酸素含
有置換基であり、各々同一でも異なっていてもよい。置
換されていてもよい炭素数l〜20の炭化水素基は、具
体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペン
チル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニ
ル基、p−トリル基、o−トリル基、m−トリル基等の
アリール基、フルオロメチル基、フルオロエチル基、フ
ルオロフェニル基、クロロメチル基、クロロエチル基、
クロロフェニル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、
ブロモフェニル基、ヨードメチル基、ヨードエチル基、
ヨードフェニル基等のハロ置換炭化水素基等を挙げるこ
とができる。また、珪素含有置換基としては、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル
基等を、窒素含有置換基としては、ジメチルアミド基、
ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジイソプロピ
ルアミド基等を、燐含有置換基としては、メチルホスフ
ィド基、エチルホスフィド基、フェニルホスフィド基等
を、酸素含有置換基としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イ
ソブトキシ基、t−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェ
ノキシ基、メチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキ
シ基、p−トリルオキシ基、m−トリルオキシ基、o−
トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メチルチオアル
コキシ基、エチルチオアルコキシ基、プロピルチオアル
コキシ基、ブチルチオアルコキシ基、t−ブチルチオア
ルコキシ基、フェニルチオアルコキシ基等のチオアルコ
キシ基等を挙げることができる。これらの中でも好まし
いR1 、R2 は、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基
のような炭素数l〜4のアルキル基、トリメチルシリル
基、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基、フ
ェノキシ基のようなアリールオキシ基等である。
【0011】また、R1 とR2 は、他のCp環上のR1
若しくはR2 と結合して、又は直接に他のCp環と結合
して架橋基を形成してもよい。形成される架橋基は、具
体的には、メチレン基、エチレン基のようなアルキレン
基、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン
基、フェニルメチリデン基、ジフェニルメチリデン基の
ようなアルキリデン基、ジメチルシリレン基、ジエチル
シリレン基、ジプロピルシリレン基、ジイソプロピルシ
リレン基、ジフェニルシリレン基、メチルエチルシリレ
ン基、メチルフェニルシリレン基、メチルイソプロピル
シリレン基、メチル−t−ブチルシリレン基のような珪
素含有架橋基、ジメチルゲミレン基、ジエチルゲミレン
基、ジプロピルゲミレン基、ジイソプロピルゲミレン
基、ジフェニルゲミレン基、メチルエチルゲミレン基、
メチルフェニルゲミレン基、メチルイソプロピルゲミレ
ン基、メチル−t−ブチルゲミレン基のようなゲルマニ
ウム含有架橋基、メチルイミノ基、エチルイミノ基のよ
うな窒素含有架橋基、メチルホスフィニレン基、エチル
ホスフィニレン基のような燐含有置換基等を挙げること
ができる。なお、これらの架橋基を介して結合された2
つのCp環は、遷移金属原子の二座配位子を形成する。
さらに、同一のCp環上の2つのR1 又は2つのR2
が、互いに結合して縮合環を形成してもよい。形成され
る縮合環の基は、具体的には、インデニル基、テトラヒ
ドロインデニル基、フルオレニル基、オクタヒドロフル
オレニル基等が好ましく挙げられ、これらは置換されて
いてもよい。
【0012】R3 は、置換されていてもよい炭素数1〜
20の炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、珪素含有
置換基、燐含有置換基、窒素含有置換基、酸素含有置換
基であり、各々同一でも異なっていてもよい。具体的
に、置換されていてもよい炭素数1〜20の炭化水素基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペン
チル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニ
ル基、p−トリル基、o−トリル基、m−トリル基等の
アリール基、フルオロメチル基、フルオロエチル基、フ
ルオロフェニル基、クロロメチル基、クロロエチル基、
クロロフェニル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、
ブロモフェニル基、ヨードメチル基、ヨードエチル基、
ヨードフェニル基等のハロ置換炭化水素基等を挙げるこ
とができる。また、ハロゲン原子としては、弗素原子、
塩素原子、臭素原子、沃素原子を、珪素含有置換基とし
ては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ
フェニルシリル基等を、窒素含有置換基としては、ジメ
チルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド
基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基を、燐含有置
換基としては、メチルホスフィド基、エチルホスフィド
基、フェニルホスフィド基等を、酸素含有置換基として
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ
基等のアルコキシ基、フェノキシ基、メチルフェノキシ
基、ペンタメチルフェノキシ基、p−トリルオキシ基、
m−トリルオキシ基、o−トリルオキシ基等のアリール
オキシ基、メチルチオアルコキシ基、エチルチオアルコ
キシ基、プロピルチオアルコキシ基、ブチルチオアルコ
キシ基、t−ブチルチオアルコキシ基、フェニルチオア
ルコキシ基等のチオアルコキシ基を挙げることができ
る。これらの中でも好ましいものとして、水素原子、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、フェニル基、塩素原子等のハロゲン原子、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、
ジメチルアミド基、メチルチオアルコキシ基を挙げるこ
とができ、中でも、水素原子、メチル基、塩素原子が特
に好ましい。
【0013】また、R3 は、R1 若しくはR2 を介して
Cp環と結合して又は直接にCp環と結合してシクロペ
ンタジエニル系二座配位子を形成してもよい。このよう
な配位子の具体例として、−CpH4 (CH2n O−
(1≦n≦5)、−CpMe 4 (CH2n O−(l≦
n≦5)、−CpH4 (Me2 Si)(t−Bu)N
−、−CpMe4 (Me2 Si)(t−Bu)N−等
(Cpはシクロペンタジエニル基、Meはメチル基、B
uはブチル基を示す。)が挙げられる。さらに、2つの
3 が相互に結合して二座配位子を形成してもよい。こ
のようなR3 の具体例としては、−OCH2 O−、−O
CH2 CH2 O−、−O(o−C64 )O−等を挙げ
ることができる。
【0014】Mは、周期律表第3〜6族の遷移金属原子
であり、具体的には、3族のスカンジウム、イットリウ
ム、ランタン、セリウム、プラセオジウム、ネオジウ
ム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビ
ウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリ
ウム、イッテルビウム、ルテチウム、アクチニウム、ト
リウム、プロトアクチニウム、ウラン;4族のチタニウ
ム、ジルコニウム、ハフニウム;5族のバナジウム、ニ
オブ、タンタル;6族のクロム、モリブデン、タングス
テンが挙げられる、これらのうち、4族のチタニウム、
ジルコニウム、ハフニウムが好ましく用いられる。ま
た、これらは混合して用いてもよい。
【0015】Lは、電気的に中性な配位子、mはその個
数で1以上の整数を示す。電気的に中性な配位子は、具
体的には、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、アセトニトリルのような
ニトリル類、ジメチルホルムアミドのようなアミド類、
トリメチルホスフィンのようなホスフィン類、トリメチ
ルアミンのようなアミン類を挙げることができる。好ま
しくはテトラヒドロフラン、トリメチルホスフィン、ト
リメチルアミンである。
【0016】[R4 ]は、n価のカチオンを中和する1
個以上のアニオンであり、2個以上の場合は同じでも異
なっていてもよい。このようなアニオンは、具体的に
は、テトラフェニルボレート、テトラ(p−トリル)ボ
レート、カルバドデカボレート、ジカルバウンデカボレ
ート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェ
ートである。a、bは0〜5の整数である。p、q、r
は、0又は正の整数であり、Mの原子価数がVの場合、
一般式[1]のメタロセン系化合物では、p+q+r=
Vを満たし、一般式[2]のメタロセン系化合物では、
p+q+r=V−nを満たす。通常、p、qは0〜3の
整数で、好ましくは0又は1である。rは0〜3の整数
で好ましくは1又は2である。また、nは0≦n≦Vを
満たす整数である。)
【0017】上述のメタロセン系遷移金属化合物は、具
体的には、ジルコニウムを例にとれば、一般式[1]に
相当するものとしては、(1)ビス(メチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロライド、(2)ビス
(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロラ
イド、(3)ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジメチル、(4)ビス(エチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、(5)ビス(メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジヒドリド、(6)
ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジヒ
ドリド、(7)ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、(8)ビス(トリメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(9)ビス(インデニル)ジルコニウムジクロライド、
(10)ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(11)ビス(インデニル)ジルコニ
ウムジメチル、(12)ビス(トリメチルシリルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(13)ビス
(トリフルオロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、(14)イソプロピリデン−ビス
(インデニル)ジルコニウムジクロライド、(15)イ
ソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウムジヒ
ドリド、(16)ペンタメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(17)ペンタメチルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(18)イソプ
ロピリデン−(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(19)イソプロピリ
デン−(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジル
コニウムジメチル、
【0018】(20)ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、(21)ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジメチル、(22)ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジエチル、(23)メ
チルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、(24)メチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、(25)ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(26)イ
ンデニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
ライド、(27)ビス(ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、(28)インデニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジルコニウムジ
メチル、(29)トリメチルシクロペンタジエニル(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(30)
トリフルオロメチルシクロペンタジエニル(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロライド、(31)トリ
フルオロメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、(32)ビス(シクロ
ペンタジエニル)(トリメチルシリル)(メチル)ジル
コニウム、(33)メチレン−ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、(34)エチレン−
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(35)ジメチルシリレン−ビス(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル (36)ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビ
ス(メタンスルホナト)、(37)ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムトリフルオロメタンスルホナト
クロライド、(38)ビス(インデニル)ジルコニウム
ビス(トリプルオロメタンスルホナト)、(39)エチ
レン−ビス(インデニル)ジルコニウムビス(トリフル
オロメタンスルホナト)、
【0019】(40)ジメチルシリレン−(第3級ブチ
ルアミド)(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジベ
ンジルジルコニウム、(41)インデニルジルコニウム
トリス(ジメチルアミド)、(42)エチレン−(第3
級ブチルアミド)(テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(43)ジメチルシリ
レン−(第3級ブチルアミド)(テトラメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(44)ジ
メチルシリレン−(フェニルホスフィド)(テトラメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(45)ビス(l,3−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、(46)ビス(1−エ
チル−3−メチルシクロペンタジェニル)ジルコニウム
ジクロライド、(47)ビス(1−n−プロピル−3−
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、(48)ビス(1−i−プロピル−3−メチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(4
9)ビス(1−n−ブチル−3−メチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、
【0020】(50)ビス(1−i−ブチル−3−メチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
(51)ビス(1−シクロヘキシル−3−メチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、(52)
ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(53)ビス(l−エチル−3−メチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、(5
4)ビス(l−n−プロピル−3−メチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジメチル、(55)ビス(1−
n−ブチル−3−メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(56)ビス(1,3−ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムビス(ジエチルアミ
ド)、(57)ビス(1−エチル−3−メチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムビス(ジエチルアミド)、
(58)ビス(1−n−ブチル−3−メチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムビス(ジエチルアミド)等が
ある。
【0021】また、一般式[2]に相当するものとして
は、(1)ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、(2)ビス(エチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(3)ビス(メ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(4)ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、(5)ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(6)ビス(ジメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(7)ビス(インデニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(8)ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、(9)ビス(トリメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、
【0022】(10)イソプロピリデン−ビス(インデ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(11)イソプロピ
リデン−ビス(インデニル)ジルコニウム(メチル)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(12)イソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、(13)ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロ
ライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(14)イソプロピリデン−(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(15)ビス(シクロペンタジエニル)(メチル)ジル
コニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、(16)メチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、(17)
ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(18)インデニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
(19)トリメチルシリルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
【0023】(20)ビス(シクロペンタジエニル)
(トリメチルシリル)ジルコニウム(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、(21)ビス(シク
ロペンタジエニル)(トリメチルシリルメチル)ジルコ
ニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン
錯体、(22)エチレン−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、(23)ジメチルシリ
レン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ク
ロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、(24)エチレン−ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、(25)ジメチルシリレ
ン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、(26)エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、(27)ビス(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(メタンスルホナト)(テトラ
フェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、等があ
る。また、これらの化合物の混合物を用いてもよい。さ
らに、チタニウム化合物、ハフニウム化合物等の第3、
4、5、6族金属化合物についても、上記と同様の化合
物が挙げられる。
【0024】成分(b):オレフィン重合用触媒成分で
ある成分(b)としては、(b1)無機珪酸塩及び(b
2)無機珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物からなる
群より選ばれた少なくとも一種の化合物を用いる。
【0025】(b1)無機珪酸塩 無機珪酸塩としては、ゼオライト、珪藻土及び大部分の
粘土を挙げることができる。また、粘土は、通常、粘土
鉱物を主成分として構成される。これらゼオライト、珪
藻土、粘土、粘土鉱物は、天然に産出する鉱物を用いて
もよいし、人工合成物であってよい。また、これらは、
特に処理を行うことなくそのまま用いてもよいし、ボー
ルミル、篩分け、酸処理等の処理を行った後に用いても
よい。また単独で用いても、2種以上を混合して用いて
もよい。
【0026】・粘土、粘土鉱物 粘土、粘土鉱物の具体例としては、アロフェン等のアロ
フェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、
アノーキサイト、メタハロイサイト、ハロイサイト等の
カオリン族、クリソタイル、リザルタイト、アンチゴラ
イト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、
バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトラ
イト、ベントナイト、テニオライト等のスメクタイト
族、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、雲
母、イライト、セリサイト、海緑石等の雲母鉱物、アタ
パルジャイト、セピオライト、パリゴルスカイト、木節
粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライ
ト、リョクデイ石群等が挙げられる。これらは混合層を
形成していてもよい。これらの中では、モンモリロナイ
ト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サ
ポナイト、ヘクトライト、ベントナイト、テニオライト
等のスメクタイト族、雲母、イライト等の雲母鉱物、バ
ーミキュライト等のバーミキュライト鉱物が好ましい。
【0027】(b2)無機珪酸塩を除くイオン交換性層
状化合物 無機珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物としては、六
方最密パッキング型、アンチモン型、CdCl2 型、C
dI2 型等の、イオン結合等によって構成される面が互
いに弱い結合力で平行に積み重なった、層状の結晶構造
を有するイオン結晶性化合物等を例示することができ
る。このような結晶構造を有するイオン交換性層状化合
物の具体例としては、α−Zr(HAsO42 ・H2
O、α−Zr(HPO42 、α−Zr(KPO42
・3H2 O、α−Ti(HPO42 、α−Ti(HA
sO42 ・H2 O、α−Sn(HPO42 ・H2
O、γ−Zr(HPO42 、γ−Ti(HPO4
2 、γ−Ti(NH4 PO42 ・H2 O等の多価金属
の結晶性酸性塩があげられる。これらは特に処理を行う
ことなくそのまま用いてもよいし、ボールミル、篩分
け、酸処理等の処理を行った後に用いてもよい。また単
独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。
【0028】塩類処理及び/又は酸処理 本発明の好ましい態様においては、上述の(b1)無機
珪酸塩及び(b2)無機珪酸塩を除くイオン交換性層状
化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合物
を、塩類処理及び/又は酸処理することによって、オレ
フィン重合用触媒成分の一である成分(b)の化合物が
得られる。これらの処理は、容器の性能、特に透明性を
向上させる。しかして、塩類処理も酸処理も施されてい
ない状態で、無機珪酸塩及び無機珪酸塩を除くイオン交
換性層状化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種
の化合物は、通常、交換可能な周期律表第1族金属(通
常、例えばNa、K)の陽イオンを含有する。そのよう
な周期律表第1族金属の陽イオンの含有量は、0.1重
量%好ましくは0.5重量%であることが望ましい。
【0029】塩類処理及び/又は酸処理によって、固体
の酸強度を変えることができる。また、塩類処理は、イ
オン複合体、分子複合体、有機誘導体等を形成し、表面
積や層間距離を変えることができる。すなわち、イオン
交換性を利用し、層間の交換性イオンを別の大きな嵩高
いイオンと置換することにより、層間が拡大した状態の
層状物質を得ることができる。その場合、塩類で処理さ
れる前の、無機珪酸塩及び無機珪酸塩を除くイオン交換
性層状化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種の
化合物の含有する交換可能な周期律表第1族金属の陽イ
オンの40%以上、好ましくは60%以上を、下記に示
す塩類より解離した陽イオンとイオン交換することが必
要である。
【0030】・塩類 このようなイオン交換を目的とした塩類処理では、陽イ
オンとして、周期律表第2〜14族の原子を含む塩類が
用いられる。好ましくは、周期律表第2〜14族の原子
を含む陽イオンと、ハロゲン原子、無機酸及び有機酸か
らなる群より選ばれた少なくとも一種の陰イオンとから
なる塩類であり、さらに好ましくは、周期律表第2〜1
4族の原子を含む陽イオンと、Cl、Br、I、F、P
4 、SO4 、NO3 、CO3 、C24 、ClO4
OCOCH3 、CH3 COCHCOCH3 、OCl2
O(NO32 、O(ClO42 、O(SO4 )、O
H、O2 Cl2 、OCl3 、OCOH、OCOCH2
3 、C244 及びC 657 からなる群から選
ばれる少なくとも一種の陰イオンとからなる塩類であ
る。具体的には、CaCl2 、CaSO4 、Ca(NO
32 、MgCl2 、MgBr2 、MgSO4 、Mg3
(PO42 、Mg(NO32 、Mg(ClO4
2 、Ti(OCOCH34 、Ti(CO32 、Ti
(NO34 、Ti(SO42 、TiF4 、TiCl
4 、Zr(CO32 、Zr(NO34 、Zr(SO
42 、ZrCl4 、VOSO4 、VOCl3 、VCl
3 、VCl4 、VBr3 、CrO2 Cl2 、CrF3
CrCl3 、CrBr3 、Cr(NO33 、Cr2
(SO43 、Co(CH3 COCHCOCH33
CoCO3、CoC24 、CoF2 、NiCO3 、N
iC24 、CuBr2 、Cu(OCOCH32 、Z
n(CH3 COCHCOCH32 、Zn(OCOCH
3 2 、Zn(OOCH)2 、ZnCO3 、Zn(SO
4 )、Zn(NO32 、ZnCl2 、AlCl3 、A
l(NO33 、GeI4 、GeBr4 、Sn(OCO
CH34 、PbSO4 、Pb(NO32 、Pb(C
lO42 、PbI2等の塩類が挙げられる。これらの
中では、CrO2 Cl2 、CrF3 、CrCl 3 、Cr
Br3 、Cr(NO33 、Cr2 (SO43 、Ti
(NO34 、Ti(SO42 、TiF4 、TiCl
4 、Zr(CO32 、Zr(NO3 4 、Zr(SO
42 、ZrCl4 等、陽イオンとして、周期律表第4
〜6族の原子を含む塩類が特に好ましい。
【0031】・酸 酸処理は表面の不純物を取り除くほか、結晶構造のA
l,Fe,Mg等の陽イオンの一部又は全部を溶出させ
る。酸処理で用いられる酸は、好ましくは塩酸、硫酸、
硝酸、リン酸等の無機酸、蟻酸、酢酸、シュウ酸、安息
香酸等の有機酸から選択される。
【0032】上記の、塩類処理及び/又は酸処理に用い
る塩類及び酸は、2種以上であってもよい。塩類処理と
酸処理を組み合わせる場合においては、塩類処理を行っ
た後、酸処理を行う方法、酸処理を行った後、塩類処理
を行う方法、及び塩類処理と酸処理を同時に行う方法が
ある。
【0033】・処理条件 塩類処理及び/又は酸処理の処理条件は、特には制限さ
れないが、通常、塩類及び酸濃度は、0.1〜30重量
%、処理温度は室温〜沸点、処理時間は、5分〜24時
間の条件を選択して、無機珪酸塩及び無機珪酸塩を除く
イオン交換性層状化合物からなる群より選ばれた少なく
とも一種の化合物を構成している物質の少なくとも一部
を溶出する条件で行うことが好ましい。また、塩類及び
酸は、一般的には水溶液で用いられる。上記塩類処理及
び/又は酸処理に際し、その処理前、処理間、処理後に
粉砕や造粒等で形状制御を行ってもよい。また、アルカ
リ処理や有機物処理等の他の化学処理を併用してもよ
い。このようにして得られる成分(b)の化合物成分と
しては、水銀圧入法で測定した半径20Å以上の細孔容
積が0.1cm3 /g以上、特には0.3〜5cm3
gのものが好ましい。
【0034】加熱処理 これら無機珪酸塩及び無機珪酸塩を除くイオン交換性層
状化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合
物には、通常、吸着水及び層間水が含まれる。本発明に
おいては、これらの吸着水及び層間水を除去して(b)
化合物成分を得る。ここで、吸着水とは粘土、粘土鉱物
又はイオン交換性層状化合物粒子の表面又は結晶破面に
吸着された水で、層間水は結晶の層間に存在する水であ
る。本発明では、加熱処理によりこれらの水分を除去し
たものを用いることが、望ましい。粘土、粘土鉱物及び
層間水の吸着水及び層間水を除去するための、加熱処理
方法は特に制限されず、加熱脱水、気体流通下の加熱脱
水、減圧下の加熱脱水及び有機溶媒との共沸脱水等の方
法が用いられる。加熱温度は、層間水が残存しないよう
に、100℃以上、好ましくは150℃以上の温度から
選ばれるが、構造破壊を生じるような高温条件は好まし
くない。また、空気流通下での加熱等、架橋構造を形成
させるような加熱脱水方法は、触媒の重合活性が低下
し、好ましくない。加熱時間は、0.5時間以上、好ま
しくは1時間以上である。その際、加熱処理後の成分
(b)の化合物の水分含有率、すなわち、温度200
℃、圧力1mmHgの条件下で2時間脱水した後の重量
(これを、水分含有量0重量%とする)に対する残存水
分の重量の百分率が、3重量%以下であることが重要で
あり、好ましくは、1重量%以下、0重量%以上であ
る。
【0035】成分(B): 高圧ラジカル法による低密
度ポリエチレン 本発明に用いる高圧ラジカル法による低密度ポリエチレ
ンは、下記の理由から、所定の特性(B1)〜特性(B
2)のすべてを有することが必要である。また、特性
(B3)及び(B4)も有することが好ましい。なお、
それぞれの特性の定義は請求項1及び2に、また測定法
の詳細は、実施例の項に記載する。 特性(B1): MFR MFRが0.1〜20g/10分、好ましくは0.15
〜10g/10分であること。MFRが、上記範囲未満
では、容器の透明性が悪化することがある。一方、上記
範囲を超過すると、成形時の安定性と容器の透明性が不
足する。 特性(B2): 密度 密度が0.915〜0.935g/cm3 、好ましくは
0.918〜0.932g/cm3 であること。密度
が、上記範囲未満では、容器の透明性が悪化することが
ある。一方、上記範囲を超過すると、容器の強度と透明
性が不足する。 特性(B3): MT MTが5〜17g、好ましくは7〜14gであること。
MTが、上記範囲未満では、成形時の安定性が不足する
ことがある。一方、上記範囲を超過すると、容器の透明
性が不足する。 特性(B4): ME MEが1.6〜2.1、好ましくは1.7〜2.0であ
ること。MEが、上記範囲未満では、成形時の安定性が
不足することがある。一方、上記範囲を超過すると、容
器の透明性が不足する。
【0036】本発明に用いる高圧ラジカル法による低密
度ポリエチレンは、エチレン単独又はエチレンを主成分
として含有するガスを、500kg/cm2 以上、好ま
しくは1500〜4000kg/cm2 の高圧下、15
0〜380℃、好ましくは200〜350℃の温度下
に、酸素、空気又は有機過酸化物をラジカル反応開始剤
として用いて、重合させることによって得ることができ
る。なお、上記高圧ラジカル法による低密度ポリエチレ
ンは、本発明の目的を損なわない範囲であれば、エチレ
ンと他のα−オレフィン、酢酸ビニル、アクリル酸エス
テル等の重合性単量体との共重合体であってもよい。
【0037】成分(C): 無機化合物粒子 本発明に用いる無機化合物粒子は、下記の理由から、所
定の特性(C1)〜特性(C3)のすべてを有すること
が必要である。なお、それぞれの特性の測定法の詳細
は、実施例の項に記載する。 特性(C1): 平均粒子径 平均粒子径が0.1〜7.0μm、好ましくは0.5〜
4.0μmであること。平均粒子径が、上記範囲未満で
あると、凝集してしまい、容器の外観を損なう。上記範
囲を超過すると、容器の透明性・光沢を阻害するほか、
容器の味・臭いの内容物への移行を抑制する効果が不十
分となる。 特性(C2): 吸油量 吸油量が50ml/100g以上、好ましくは55ml
/100g以上であること。吸油量が、上記範囲未満で
あると、容器の味・臭いの内容物への移行を抑制する効
果が不十分となる。 特性(C3): 水分 水分が6重量%以下、好ましくは5重量%以下であるこ
と。水分が、上記範囲を超過すると、成形時に発泡現象
を引き起こすことがある他、容器の味・臭いの内容物へ
の移行を抑制する効果も不十分となる。
【0038】本発明に用いる無機化合物粒子としては、
特に制限はなく、例えば、二酸化珪素、滑石、ゼオライ
ト等が挙げられる。さらに詳細には、天然シリカ、合成
シリカ、滑石、A型ゼオライト、Pc型ゼオライト、X
型ゼオライト等が挙げられ、何れも酸変性やイオン交換
等の処理が施されていてもよい。無機化合物粒子は、単
独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0039】その他の配合剤(任意成分) 本発明の飲料容器用ポリエチレン系樹脂組成物には、本
発明の効果を著しく阻害しない範囲内で、通常の線状低
密度ポリエチレンや高密度ポリエチレン等のポリエチレ
ン樹脂を含んでいてもよいし、ポリプロピレン等のポリ
エチレン以外の樹脂を含んでいてもよい。また、本発明
の効果を著しく阻害しない範囲内で、上記ポリエチレン
系樹脂組成物には、任意の付加的成分、例えば、酸化防
止剤、中和剤、紫外線吸収剤、光安定剤、アンチブロッ
キング剤、滑剤、帯電防止剤、防曇剤、核剤、結露防止
剤、分子量調整剤、着色剤、衝撃改良剤、充填剤、難燃
剤、接着性向上剤、印刷性向上剤等を配合することもで
きる。
【0040】配合割合 本発明のポリエチレン系樹脂組成物中に配合される成分
(A)〜(C)の内、成分(A)エチレンと炭素数3〜
12のα−オレフィンとの共重合体及び成分(B)高圧
ラジカル法による低密度ポリエチレンの合計量が100
重量部であるとき、それぞれ下記の割合で含有する。 成分(A): 70〜98重量部、好ましくは80〜9
5重量部 成分(B): 30〜2重量部、好ましくは20〜5重
量部 成分(A)の配合量が、上記範囲未満であると、すなわ
ち、成分(B)の配合量が上記範囲を超過すると、容器
の強度が不足する。一方、成分(A)の配合量が、上記
範囲を超過すると、つまり、成分(B)の配合量が上記
範囲未満であると、成形時の安定性と容器の透明性が不
足する。成分(C)無機化合物粒子の配合量は、上記成
分(A)と成分(B)の合計100重量部に対して、
0.03〜1.5重量部、好ましくは、0.05〜0.
7重量部である。配合量が上記範囲未満であると、容器
の味・臭いの内容物への移行を抑制する効果が十分でな
く、上記範囲を超えると、容器の外観が悪化する。
【0041】混練・造粒 上述の成分(A)所定の特性を有するエチレンと炭素数
3〜12のα−オレフィンとの共重合体、成分(B)所
定の特性を有する高圧ラジカル法による低密度ポリエチ
レン及び成分(C)所定の特性を有する無機化合物粒子
に、必要により他の配合剤を、所定の配合割合で配合
し、溶融混練又はドライブレンドすることにより、本発
明の飲料容器用ポリエチレン系樹脂組成物を得ることが
できる。但し、ドライブレンドする場合には、成分
(C)無機化合物粒子及びその他の配合剤については、
配合剤の均一分散の観点から、マスターバッチ方式を採
ることが好ましい。上記溶融混練は、一般に一軸押出
機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ロールミキサ
ー、ブラベンダープラストグラフ、ニ一ダー等の通常の
混練機を用いて、通常170〜250℃の温度で混練
し、好適には造粒することによって、本発明の飲料容器
用ポリエチレン系樹脂組成物を得ることができる。この
場合、各成分の分散を良好にすることができる混練・造
粒方法を選択することが好ましく、通常は一軸押出機、
又は二軸押出機を用いて混練・造粒が行われる。
【0042】成形 このようにして得られた、所定の特性を有する3成分
(A)〜(C)を所定割合で含むポリエチレン系樹脂組
成物を、厚みが10〜500μmになるようにインフレ
ーション成形、Tダイ成形等により製膜することによ
り、本発明の飲料容器を構成する層を得ることができ
る。また、共押出インフレーション成形や共押出Tダイ
成形等により、多層構成のフィルムとすることもできる
し、単層成形したフィルムを重ねて多層構成のフィルム
とすることもできる。その場合、少なくとも一層は、上
述のポリエチレン系樹脂組成物からなる厚みが30〜2
00μmの層であることが必要である。さらに、フィル
ム成形以外にも、押出成形、中空成形等によって、様々
な飲料用の容器、パイプ、チューブ等に加工することも
できる。本発明によれば、強度、透明性、耐熱性に優
れ、内容物への味・臭いの移行の問題も少なく、成形時
の安定性を備えた飲料容器用樹脂組成物及びそれを成形
してなる飲料容器を提供することができる。
【0043】
【実施例】以下の実施例及び比較例において用いた測定
方法及び測定条件は、以下の通りである。 (1)MFR(g/10分) JIS K6760に準拠し、190℃、2.16kg
荷重の条件でメルトフローレートMFRを測定した。 (2)密度(g/cm3 ) JIS K6760に準拠して測定した。 (3)FR JIS K6760に準拠し、190℃、10kg荷重
の条件でメルトフローレートMFR’を測定し、これと
上記(1)のMFRとの比、MFR’/MFRを計算
し、FRとした。
【0044】(4)へキサン可溶分(重量%) プレス成形機を用いて、190℃で0.1mm厚のプレ
スシートを作製し、そのプレスシートを10mm×50
mmの長方形に切り、これを合計でおおよそ5gとなる
ように集め、秤量する。この試料をヘキサン200cm
3 で高温用ソックスレー抽出器にて3時間還流抽出す
る。次いで室温まで冷却した後、抽出残分を減圧乾燥し
て重量を計り、元の重量から減圧乾燥後の重量を引いた
ものを元の重量で割り、100倍した値をへキサン可溶
分とした。
【0045】(5)Mw/Mn Mw/Mnは、武内著、丸善発行の「ゲルパーミエイシ
ョンクロマトグラフィー」に準拠して値を求めた。すな
わち、分子量既知の標準ポリスチレン(東ソー社製単分
散ポリスチレン)を使用し、ユニバーサル法により、数
平均分子量Mn及び重量平均分子量Mwに換算し、Mw
/Mnの値を求めた。測定はウォーターズ社製ISOC
‐ALC/GPCを用い、カラムは昭和電工社製AD8
0M/Sを3本使用し、試料はo‐ジクロロベンゼンに
溶解して0.2重量%溶液として200μlを使用し、
140℃、流速1ml/分で実施した。 (6)MT(g) (株)東洋精機製作所製キャピログラフを使用し、ノズ
ル径2.095mmφ、ノズル長8.00mm、流入角
180°、設定温度190℃で、ピストン押出速度1
0.0mm/分、引取速度4.0m/分の条件で測定し
た。
【0046】(7)ME JIS K7210で使用されるメルトインデクサーを
用いて、次のようにして測定した。シリンダー温度24
0℃の条件下で、装置にサンプルを充填後、ピストンの
みを載せ、6分後に3g/分の一定速度で溶融したサン
プルを押し出し、1分間経過した時点でオリフィスから
出たサンプルをオリフィス直下の出口でカットし、次に
エチルアルコールを入れたメスシリンダーをオリフィス
の真下に液面がオリフィス下面から20mmの距離とな
るように置き、まっすぐな押出物を採取して、その直径
を0.01mm単位で測定する。その値をオリフィスの
内径2.095mmで割り、MEの値とする。
【0047】(8)無機化合物粒子の平均粒子径(μ
m) コールターカウンター法により測定した。 (9)無機化合物粒子の吸油量(ml/100g) JIS K5101に準拠して測定した。 (10)無機化合物粒子の水分(重量%) JIS K5101に準拠して測定した。
【0048】(11)成形安定性 インフレーションフィルム成形の際にバブルの状態を肉
眼で観察し、成形安定性を次のように3段階評価した。 ○: バブルの揺れがほとんど認められない △: バブルの揺れ、蛇行が認められる ×: バブルの揺れが激しく、成形することが難しい
【0049】(12)異味異臭性 30μm厚のインフレーション成形フィルムを、内寸が
200×300mmになるようにフィルムの四方をヒー
トシールして袋を作り、この袋の一つの角を切ってそこ
から23℃のミネラルウォーター500mlを充填後、
切り口をヒートシールして密封する。これをアルミ箔で
覆い、80±5℃に保ったギヤオーブン中で1時間保管
後、直射日光の当たらない23℃、湿度50%の部屋で
1週間保管する。次いでこの評価用試料と、それとは別
の三角フラスコに入れたミネラルウォーター(標準用試
料)を50±5℃に保ったギヤオーブン中で3時間保管
後、評価用試料の袋からミネラルウォーターを取り出
し、口に含む。その臭いと味を、標準用試料のミネラル
ウォーターを無味無臭の基準として、臭いと味を比較
し、異味異臭性を次のような3段階で評価した。 ○: 無味無臭、又はごく僅かに異味異臭を感じる △: 異味異臭をいくらか感じる ×: 強く異味異臭を感じる
【0050】(13)ヘーズ(%) JIS K7105に準拠して測定した。 (14)ダート衝撃強度(g) JIS K7124のA法に準拠して測定した。
【0051】実施例1 (1)粘土鉱物の化学処理 硫酸亜鉛7水和物15.0kgを脱塩水105.0kg
に溶解させ、そこに合成雲母(コープケミカル社製、ソ
マシフ、ME−100F)30.0kgを添加、分散後
18時間撹拌し、脱塩水で濾過・洗浄した。硝酸クロム
(III)9水和物4.8kgを脱塩水7.5kgに溶
解させた水溶液を添加、室温で18時間撹拌した。この
とき、スラリー濃度が20.0重量%となるように調製
した。濾過・脱塩水にて洗浄した後、固形分濃度19.
0重量%となるように調製した。そこに合成スメクタイ
ト(コープケミカル社製、SWN)をスラリー中の全固
形分に対して5重量%となるように添加し、十分分散し
た後、該スラリーを噴霧乾燥機にて乾燥・造粒し、球状
の粒子を得た。得られた粒子をさらに、ロータリーキル
ンを用いて、温度260℃、向流窒素気流下(窒素流量
49Nm3 /hr)で、3kg/hrの速さ(滞留時間
10分)で連続乾燥し、乾燥窒素下で回収した。
【0052】(2)触媒調製及び予備重合 上記(1)で得られたCr処理合成雲母の乾燥球状粒子
75.9gを、容量10リットルの誘導撹拌装置付き反
応器に導入した。これに600ミリリットルのトルエン
に溶解したビス(1−n−ブチル−3−メチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド8.99mm
o1の溶液を添加し、30℃で10分間撹拌した。引き
続きトリエチルアルミニウム107.7mmo1を添加
し、系の温度を60℃とした。10分後エチレンガスを
導入し、2.4時間反応を続けた。この間に生成したポ
リエチレンは540gであった。
【0053】(3)エチレン・1−へキセン共重合 上記(2)で得られた予備重合触媒を用いて気相重合を
行った。すなわち、エチレンと1−へキセンとの混合ガ
ス(1−へキセン/エチレン=3.9%)が循環する連
続式気相重合反応器に上記固体触媒成分を112mg/
hr、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウム
モノエトキシドを、各々170mg/hr、198mg
/hrを間歇的に供給した。重合反応の条件は83℃、
エチレン分圧18kg/cm2 、平均滞留時間4.2時
間であった。生成ポリエチレンの平均重合レートは28
5g/hrであった。得られたエチレン・へキセン共重
合体Aのパウダ−100重量部に対し、酸化防止剤とし
てオクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフエニル)プロピオネートを0.05重量部
と、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフエニレンジホスホナイトを0.05重量
部、中和剤としてステアリン酸カルシウム0.05重量
部加え、これらをよく混合した後、スクリュー径20m
mφ、L/D26の単軸押出機で200℃、スクリュー
回転数50rpmにて溶融混練してペレット化した。こ
のペレットについて、MFR、密度、FR、ヘキサン可
溶分、Mw/Mn、MTを測定し、Kの値を計算して、
その結果を第1表に示した。
【0054】(4)樹脂組成物作製 上記(3)で得られたエチレン・ヘキセン共重合体Aペ
レット85重量部に、第2表に示す特性を有する高圧ラ
ジカル法による低密度ポリエチレンP(日本ポリケム社
から市販されている「ノバテックLD LF280」)
を15重量部加え、合計100重量部に対し、酸化防止
剤としてオクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネートを0.05
重量部と、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)
ホスファイトを0.05重量部、中和剤としてハイドロ
タルサイト(協和化学社製DHT−4A)0.05重量
部、無機化合物粒子aとして水澤化学工業社製湿式法非
晶質シリカ ミズカシルP527(平均粒子径、吸油
量、水分は、第3表に示した。)を0.15重量部加
え、これらを容量50リットルのスーパーミキサーを用
いて、回転数800rpmで5分間混合した後、スクリ
ュー径40mmφ、L/D26の単軸押出機で200
℃、スクリュー回転数50rpmにて溶融混練してペレ
ット化した。
【0055】(5)フィルム成形 上記(4)で得られたペレットをスクリュー径40mm
φ、L/D24の押出機を備えたダイ径75mmφ、ダ
イリツプ幅3mmのインフレーションフィルム成形機を
用いて、温度200℃、スクリュー回転数50rpm、
ブロ−アップ比2.0、引取速度16.5m/分、フロ
ストライン高さ200mmの条件で成形して、幅230
mm、厚み30μmのインフレーションフィルムを得
た。成形時に成形安定性を評価し、成形したフィルムに
ついて、異味異臭性、ヘーズとダート衝撃強度を測定・
評価した。結果は、第4表に示した通りであった。
【0056】実施例2 実施例1の(4)において、エチレン・へキセン共重合
体Aペレット95重量部に、第2表に示す特性を有する
高圧ラジカル法による低密度ポリエチレンQ(日本ポリ
ケム社から市販されている「ノバテックLD LS16
2N」)を5重量部加えて合計100重量部とし、か
つ、無機化合物粒子aの代わりに無機化合物粒子bとし
て水澤化学工業社製Li−Al系包接化合物(Li2
4(OH) 12CO3・nH2O)ミズカラックL(平均
粒子径、吸油量、水分は第3表に示した。)を使用した
以外は、実施例1と同様にしてペレット化、フィルム成
形し、成形時に成形安定性を評価し、成形したフィルム
については異味異臭性、ヘーズとダート衝撃強度を測定
・評価した。結果は、第4表に示した通りであった。
【0057】実施例3 (1)粘土鉱物の化学処理 実施例1の(1)と同様の方法で、Cr処理合成雲母の
乾燥球状粒子を得た。ただし、ロータリーキルンの温度
を200℃とし、2時間減圧乾燥させた。
【0058】(2)触媒調製及び予備重合 上記(1)で得られたCr処理合成雲母の乾燥球状粒子
75.9gを容量10リットルの誘導撹拌装置付き反応
器に導入した。これに600ミリリットルのトルエンに
溶解したビス(n−ブチル−シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド6.01mmo1の溶液を添加
し、30℃で10分間撹拌した。引き続きトリエチルア
ルミニウム71.8mmo1を添加し、系の温度を40
℃とした。10分後エチレンガスを導入し、3.85時
間反応を続けた。この間に生成したポリエチレンは54
8gであった。
【0059】(3)エチレン・1−へキセン共重合 上記(2)で得られた予備重合触媒を用いて気相重合を
行った。すなわち、エチレンと1−へキセンとの混合ガ
ス(1−へキセン/エチレン=2.3%)が循環する連
続式気相重合反応器に上記固体触媒成分を61.2mg
/hr、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウ
ムモノエトキシドを、各々120mg/hr、139m
g/hrを間歇的に供給した。重合反応の条件は83
℃、エチレン分圧18kg/cm2 、平均滞留時間4.
0時間であった。生成ポリエチレンの平均重合レートは
302g/hrであった。得られたエチレン・へキセン
共重合体Bのパウダ−100重量部に対し、酸化防止剤
としてオクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフエニル)プロピオネートを0.05重
量部と、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−4,4’−ビフエニレンジホスホナイトを0.0
5重量部、中和剤としてステアリン酸カルシウム0.0
5重量部加え、これらをよく混合した後、スクリュー径
20mmφ、L/D26の単軸押出機で200℃、スク
リュー回転数50rpmにて溶融混練してペレット化し
た。このペレットについて、MFR、密度、FR、ヘキ
サン可溶分、Mw/Mn、MTを測定し、Kの値を計算
して、その結果を第1表に示した。
【0060】(4)樹脂組成物作製、フィルム成形 実施例1の(4)において、上記(3)で得られたエチ
レン・ヘキセン共重合体Bペレット90重量部に、高圧
ラジカル法による低密度ポリエチレンP10重量部加え
て合計100重量部とし、かつ、無機化合物粒子a0.
15重量部に代えて、無機化合物粒子cとして、水澤化
学工業社製湿式法非晶質シリカ ミズカシルP526
(平均粒子径、吸油量、水分は第3表に示した。)0.
05重量部を加えた以外は、実施例1と同様にしてペレ
ット化、フィルム成形し、成形時に成形安定性を評価
し、成形したフィルムについては異味異臭性、ヘーズと
ダート衝撃強度を測定・評価した。結果は、第4表に示
した通りであった。
【0061】実施例4 実施例1の(4)において、エチレン・へキセン共重合
体Aペレットに代えて第1表に示す特性を有するエチレ
ン・ヘキセン共重合体C(メタロセン触媒を用いて製造
された市販の直鎖状低密度ポリエチレン、1−ヘキセン
含量8重量%)ペレットを用い、無機化合物粒子aの添
加量を0.20重量部に変え、かつ、180℃に設定し
たロール混練機を用いてシート化し、これをシートペレ
タイザーを用いてペレット化した以外は、実施例1と同
様にしてフィルム成形し、成形時に成形安定性を評価
し、成形したフィルムについては異味異臭性、ヘーズと
ダート衝撃強度を測定・評価した。結果は、第4表に示
した通りであった。また、実施例1〜4で得られた本発
明の樹脂組成物を成形したフィルムは、何れも飲料容器
として実用上十分な耐熱性を備えたものであった。
【0062】比較例1 実施例1の(5)において、(4)で得られたペレット
に代えて、第1表に示す特性を有するエチレン・ヘキセ
ン共重合体Cペレットを使用した以外は、実施例1と同
様にしてフィルム成形し、成形時に成形安定性を評価
し、成形したフィルムについては異味異臭性、ヘーズと
ダート衝撃強度を測定・評価した。結果は、第4表に示
した通りであった。
【0063】比較例2 比較例1において、エチレン・へキセン共重合体Cペレ
ットに代えて、エチレン・へキセン共重合体Cペレット
80重量部に、高圧ラジカル法による低密度ポリエチレ
ンP20重量部を加えたものを、180℃に設定したロ
ール混練機を用いてシート化し、これをシートペレタイ
ザーを用いてペレット化したものを使用した以外は、比
較例1と同様にしてフィルム成形し、成形時に成形安定
性を評価し、成形したフィルムについては異味異臭性、
ヘーズとダート衝撃強度を測定・評価した。結果は、第
4表に示した通りであった。
【0064】比較例3 比較例1において、エチレン・へキセン共重合体Cペレ
ットに代えて、エチレン・へキセン共重合体Cペレット
80重量部に、高圧ラジカル法による低密度ポリエチレ
ンP20重量部及び、無機化合物粒子dとして、水澤化
学工業社製のイオン交換処理による変性ゼオライト シ
ルトンJC30(平均粒子径、吸油量、水分は第3表に
示した。)0.20重量部を加えたものを、180℃に
設定したロール混練機を用いてシート化し、これをシー
トペレタイザーを用いてペレット化したものを使用した
以外は、比較例1と同様にしてフィルム成形し、成形時
に成形安定性を評価し、成形したフィルムについては異
味異臭性、ヘーズとダート衝撃強度を測定・評価した。
結果は、第4表に示した通りであった。
【0065】比較例4 比較例1において、エチレン・へキセン共重合体Cペレ
ットに代えて、エチレン・へキセン共重合体Cペレット
80重量部に、第2表に示す高圧ラジカル法による低密
度ポリエチレンR(日本ポリケム社から市販されている
「ノバテックLD LH100N」)20重量部及び無
機化合物粒子a0.15重量部を加えたものを、180
℃に設定したロール混練機を用いてシート化し、これを
シートペレタイザーを用いてペレット化したものを使用
した以外は、比較例1と同様にしてフィルム成形し、成
形時に成形安定性を評価し、成形したフィルムについて
は異味異臭性、ヘーズとダート衝撃強度を測定・評価し
た。結果は、第4表に示した通りであった。
【0066】比較例5 比較例1において、エチレン・へキセン共重合体Cペレ
ットに代えて、エチレン・へキセン共重合体Cペレット
50重量部に、高圧ラジカル法による低密度ポリエチレ
ンP50重量部及び無機化合物粒子a0.15重量部を
加えたものを、180℃に設定したロール混練機を用い
てシート化し、これをシートペレタイザーを用いてペレ
ット化したものを使用した以外は、比較例1と同様にし
てフィルム成形し、成形時に成形安定性を評価し、成形
したフィルムについては異味異臭性、ヘーズとダート衝
撃強度を測定・評価した。結果は、第4表に示した通り
であった。
【0067】比較例6 実施例1の(4)において、エチレン・へキセン共重合
体Aペレットに代えて第1表に示す特性を有するエチレ
ン・ブテン共重合体D(日本ポリケム社から市販されて
いる「ノバテックLL F30FG」)パウダーを用
い、かつ、無機化合物粒子aの添加量を0.20重量部
に変えた以外は、実施例1と同様にしてペレット化、フ
ィルム成形し、成形時に成形安定性を評価し、成形した
フィルムについては異味異臭性、ヘーズとダート衝撃強
度を測定・評価した。結果は、第4表に示した通りであ
った。なお、共重合体Dの諸特性については、エチレン
・ブテン共重合体Dのパウダ−100重量部に対し、酸
化防止剤としてオクタデシル−3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフエニル)プロピオネートを
0.05重量部と、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフエニレンジホスホナイト
を0.05重量部、中和剤としてステアリン酸カルシウ
ム0.05重量部加え、これらをよく混合した後、スク
リュー径20mmφ、L/D26の単軸押出機で200
℃、スクリュー回転数50rpmにて溶融混練してペレ
ット化した。このペレットについて、MFR、密度、F
R、ヘキサン可溶分、Mw/Mn、MTを測定し、Kの
値を計算して、その結果を第1表に示した。
【0068】
【表1】
【0069】
【発明の効果】本発明によれば、強度、透明性、耐熱性
に優れ、内容物への味・臭いの移行の問題も少なく、成
形時の安定性を備えた飲料容器用樹脂組成物及びそれを
成形してなる飲料容器を提供することができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 23/18 C08L 23/18 //(C08L 23/08 23:04) Fターム(参考) 4J002 BB032 BB042 BB051 BB052 BB062 BB072 BB151 DJ006 DJ016 DJ046 FA006 GG01 4J028 AA01A AB00A AB01A AC00A AC01A AC04A AC05A AC08A AC09A AC24A AC26A AC27A AC31A AC35A AC37A AC38A AC41A AC42A AC44A AC45A AC49A CA14A CA15A CA16A CA30A CA36A CA44A CA49A CA54A EB02 EB04 EB05 EB07 EB09 EB10 EB12 EB13 EB14 EB17 GA01 GA06 GA07 GA08 GA21 GA22 4J100 AA02P AA03Q AA04Q AA15Q AA16Q AA17Q AA19Q AA21Q CA04 CA05 DA00 DA04 DA13 DA14 DA22 DA40 DA43 DA47 DA62 FA10 JA59

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記成分(A)〜(C)を、下記成分
    (A)及び成分(B)の合計量が100重量部であると
    き、それぞれ下記の割合で含有することを特徴とする飲
    料容器用ポリエチレン系樹脂組成物。 成分(A): 次の特性(A1)〜(A4)のすべてを
    有するエチレンと炭素数3〜12のα−オレフィンとの
    共重合体 70〜98重量部 特性(A1): MFRが0.05〜15g/10分で
    あること 特性(A2): 密度が0.880〜0.940g/c
    3 であること 特性(A3): FRが7.2以下であること 特性(A4): へキサン可溶分が2.5重量%以下で
    あること 成分(B): 次の特性(B1)〜(B2)のすべてを
    有する高圧ラジカル法による低密度ポリエチレン 30
    〜2重量部 特性(B1): MFRが0.1〜20g/10分であ
    ること 特性(B2): 密度が0.915〜0.935g/c
    3 であること 成分(C): 次の特性(C1)〜(C3)のすべてを
    有する無機化合物粒子0.03〜1.5重量部 特性(C1): 平均粒子径が0.1〜7.0μmであ
    ること 特性(C2): 吸油量が50ml/100g以上であ
    ること 特性(C3): 水分が6重量%以下であること 上記特性において、MFRは190℃、2.16kg荷
    重で測定したメルトフローレート(g/10分)であ
    り、FRは190℃、10kg荷重で測定したメルトフ
    ローレートMFR’(g/10分)と、MFRとの比
    (フローレシオ:MFR’/MFR)である。
  2. 【請求項2】高圧ラジカル法による低密度ポリエチレン
    が、次の特性(B3)及び(B4)も有することを特徴
    とする請求項1に記載の飲料容器用ポリエチレン系樹脂
    組成物。 特性(B3): MTが5〜17gであること 特性(B4): MEが1.6〜2.1であること 上記特性において、MTは190℃、引張速度4m/分
    で測定した溶融張力(g)であり、MEは240℃、押
    出速度3g/分で測定したメモリエフェクトである。
  3. 【請求項3】エチレンと炭素数3〜12のα−オレフィ
    ンとの共重合体が、次の特性(A5)も有することを特
    徴とする請求項1又は2に記載の飲料容器用ポリエチレ
    ン系樹脂組成物。 特性(A5): 下記式に従って計算されるKが0.1
    5〜4であること (1)FR≦Mw/Mn+4.4の条件を満たす場合、 K=MT−(0.196Mw/Mn−0.197+
    (0.0942Mw/Mn+0.664)e
    (-MFR+0.025Mw/Mn+0.445)/(-0.0417Mw/Mn+0.382)
    (0.464Mw/Mn−0.128)e
    (-MFR+0.025Mw/Mn+0.445)/(0.05Mw/Mn+0.93) ) (2)FR≦Mw/Mn+4.4の条件を満たさない場
    合、 K=MT−(0.196Mw/Mn−0.197+
    (0.0942Mw/Mn+0.664)e
    (-MFR+0.025Mw/Mn+0.445)/(-0.0417Mw/Mn+0.382)
    (0.464Mw/Mn−0.128)e
    (-MFR+0.025Mw/Mn+0.445)/(0.05Mw/Mn+0.93) )−0.
    097(FR−0.9Mw/Mn)/(LogMFR+
    0.39) 上記式において、MFRは190℃、2.16kg荷重
    で測定したメルトフローレート(g/10分)であり、
    FRは190℃、10kg荷重で測定したメルトフロー
    レートMFR’(g/10分)と、MFRとの比(フロ
    ーレシオ:MFR’/MFR)であり、MTは190
    ℃、引張速度4m/分で測定した溶融張力(g)であ
    り、Mwは重量平均分子量、Mnは数平均分子量であ
    る。また、eは自然対数の底、Logは常用対数を示
    す。
  4. 【請求項4】エチレンと炭素数3〜12のα−オレフィ
    ンとの共重合体が、下記成分(a)及び成分(b)を含
    むオレフィン重合用触媒を用いて調製されたものである
    ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の飲料
    容器用ポリエチレン系樹脂組成物。 成分(a): メタロセン系遷移金属化合物 成分(b): 下記(b1)及び(b2)からなる群よ
    り選ばれた少なくとも1種の化合物 (b1): 無機珪酸塩 (b2): 無機珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物
  5. 【請求項5】成分(a)が、下記一般式[1]又は
    [2]で表されるメタロセン系遷移金属化合物であるこ
    とを特徴とする請求項4に記載の飲料容器用ポリエチレ
    ン系樹脂組成物。 一般式[1] (CpR1 a5-ap (CpR2 b5-bq MR3
    r 一般式[2] [(CpR1 a5-ap (CpR2 b5-bq MR
    3 rmn+[R4n- (上記一般式[1]及び[2]中、CpR1 a5-a
    びCpR2 b5-b は、シクロペンタジエニル(Cp)
    環上の5個の水素原子を、それぞれ、a個のR1及びb
    個のR2 で置換したシクロペンタジエニル系配位子を示
    す。a、bは、0〜5の整数である。R1 、R2 は、置
    換されていてもよい炭素数l〜20の炭化水素基、珪素
    含有置換基、ゲルマニウム含有置換基、窒素含有置換
    基、燐含有置換基、酸素含有置換基であり、各々同一で
    も異なっていてもよい。また、R1 又はR2 が、他のC
    p環上のR1 若しくはR2 と又は直接に他のCp環と結
    合して架橋基を形成してもよい。さらに、同一のCp環
    上の2つのR1 又は2つのR2 が、互いに結合して縮合
    環を形成してもよい。R3 は、置換されていてもよい炭
    素数1〜20の炭化水素基、水素原子、ハロゲン原子、
    珪素含有置換基、窒素含有置換基、燐含有置換基、酸素
    含有置換基であり、各々同一でも異なっていてもよい。
    また、R3 は、R1 若しくはR2 を介して又は直接にC
    p環と結合してシクロペンタジエニル系二座配位子を形
    成してもよい。さらに、2つのR3 が、相互に結合して
    二座配位子を形成してもよい。Mは、周期律表第3〜6
    族の遷移金属原子であり、Lは、電気的に中性な配位
    子、mは1以上の整数を示す。[R4 ]は、n価のカチ
    オンを中和する1個以上のアニオンであり、2個以上の
    場合は同じでも異なっていてもよい。p、q、rは、0
    又は正の整数であり、Mの原子価数がVの場合、一般式
    [1]では、p+q+r=Vを満たし、一般式[2]で
    は、p+q+r=V−nを満たす。また、nは、1〜V
    −1の整数である。)
  6. 【請求項6】上記請求項1〜5のいずれかに記載の飲料
    容器用ポリエチレン系樹脂組成物を成形してなる飲料容
    器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015523449A (ja) * 2012-10-24 2015-08-13 ボレアリス・アクチェンゲゼルシャフトBorealis Ag 殺菌剤含有水に対するポリオレフィン組成物の耐性を向上させるための酸捕捉剤の使用

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