JP2001081138A - 酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法 - Google Patents
酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法Info
- Publication number
- JP2001081138A JP2001081138A JP26394399A JP26394399A JP2001081138A JP 2001081138 A JP2001081138 A JP 2001081138A JP 26394399 A JP26394399 A JP 26394399A JP 26394399 A JP26394399 A JP 26394399A JP 2001081138 A JP2001081138 A JP 2001081138A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- sensitive resin
- active energy
- energy ray
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26394399A JP2001081138A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26394399A JP2001081138A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001081138A true JP2001081138A (ja) | 2001-03-27 |
| JP2001081138A5 JP2001081138A5 (enExample) | 2006-10-19 |
Family
ID=17396421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26394399A Pending JP2001081138A (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | 酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001081138A (enExample) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100811394B1 (ko) * | 2001-10-18 | 2008-03-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | 신규의 네가티브형 포토레지스트 중합체 및 이를 함유하는포토레지스트 조성물 |
| WO2009057484A1 (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Jsr Corporation | 感放射線性樹脂組成物及び重合体 |
| JP2011033729A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Fujifilm Corp | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP2011053624A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2011150211A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
| KR101308695B1 (ko) * | 2006-07-10 | 2013-09-13 | 주식회사 동진쎄미켐 | 산증식제 및 이를 포함하는 감광성 고분자 |
| WO2015045240A1 (en) | 2013-09-24 | 2015-04-02 | International Business Machines Corporation | Sulfonic acid ester containing polymers for organic solvent based dual-tone photoresists |
| US9223208B2 (en) | 2011-12-29 | 2015-12-29 | Fujifilm Corporation | Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition |
| JP2016071243A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂パターンの形成方法、パターンの形成方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、及び、タッチパネル表示装置 |
-
1999
- 1999-09-17 JP JP26394399A patent/JP2001081138A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100811394B1 (ko) * | 2001-10-18 | 2008-03-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | 신규의 네가티브형 포토레지스트 중합체 및 이를 함유하는포토레지스트 조성물 |
| KR101308695B1 (ko) * | 2006-07-10 | 2013-09-13 | 주식회사 동진쎄미켐 | 산증식제 및 이를 포함하는 감광성 고분자 |
| WO2009057484A1 (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-07 | Jsr Corporation | 感放射線性樹脂組成物及び重合体 |
| JP5555914B2 (ja) * | 2007-10-29 | 2014-07-23 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
| JP2011033729A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Fujifilm Corp | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP2011053624A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-03-17 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP2011150211A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
| US9223208B2 (en) | 2011-12-29 | 2015-12-29 | Fujifilm Corporation | Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition |
| WO2015045240A1 (en) | 2013-09-24 | 2015-04-02 | International Business Machines Corporation | Sulfonic acid ester containing polymers for organic solvent based dual-tone photoresists |
| KR20160058905A (ko) * | 2013-09-24 | 2016-05-25 | 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 | 유기 용매 기재 듀얼-톤 포토레지스트를 위한 술폰산 에스테르 함유 중합체 |
| CN105723281A (zh) * | 2013-09-24 | 2016-06-29 | 国际商业机器公司 | 用于基于有机溶剂的双性光致抗蚀剂的含磺酸酯的聚合物 |
| JP2016533532A (ja) * | 2013-09-24 | 2016-10-27 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | 有機溶剤系二重トーンフォトレジストのためのスルホン酸エステル含有ポリマー |
| EP3049868A4 (en) * | 2013-09-24 | 2017-05-10 | International Business Machines Corporation | Sulfonic acid ester containing polymers for organic solvent based dual-tone photoresists |
| US9772558B2 (en) | 2013-09-24 | 2017-09-26 | International Business Machines Corporation | Sulfonic acid ester containing polymers for organic solvent based dual-tone photoresists |
| KR102249744B1 (ko) * | 2013-09-24 | 2021-05-10 | 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 | 유기 용매 기재 듀얼-톤 포토레지스트를 위한 술폰산 에스테르 함유 중합체 |
| JP2016071243A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂パターンの形成方法、パターンの形成方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、及び、タッチパネル表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3819531B2 (ja) | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | |
| US5665518A (en) | Photoresist and monomer and polymer for composing the photoresist | |
| US5994025A (en) | Photoresist, compounds for composing the photoresist, and method of forming pattern by using the photoresist | |
| JP3762758B2 (ja) | フォトレジスト組成物および該組成物を用いた方法 | |
| JP3040998B2 (ja) | 化学増幅型陽性フォトレジスト組成物 | |
| CN103980417B (zh) | 树枝状聚合物类正性光刻胶树脂及其制备方法与应用 | |
| JP3120077B2 (ja) | 化学増幅型レジスト製造用重合体及びこれを含有するレジスト組成物 | |
| JP3914363B2 (ja) | 再溶解性酸架橋型高分子及び該高分子と光酸発生剤とを組み合わせた感光性樹脂組成物 | |
| JPH1112326A (ja) | 酸感応性重合体、レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および半導体装置の製造方法 | |
| KR19980069706A (ko) | 에너지-감수성 내식막 물질 및 에너지-감수성 내식막 물질을 사용한 장치의 제작을 위한 방법 | |
| ITTO991042A1 (it) | Reticolante per fotoresist e composizione fotoresist comprendente lo stesso. | |
| JP3236073B2 (ja) | レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| JP2000109525A (ja) | 感放射線性レジスト製造用重合体及びこれを含有するレジスト組成物 | |
| JP4347179B2 (ja) | 新規の重合体及びこれを含有した化学増幅型レジスト | |
| US6312868B1 (en) | Photoresist cross-linker and photoresist composition comprising the same | |
| JPS6052845A (ja) | パタ−ン形成材料 | |
| JP2002053623A (ja) | フォトレジスト重合体とその製造方法、これを利用したフォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 | |
| KR20000047041A (ko) | 신규의 포토레지스트 가교 단량체, 그 중합체 및이를 이용한포토레지스트 조성물 | |
| JP2001106737A (ja) | フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 | |
| JP2001081138A (ja) | 酸感受性樹脂、酸感受性樹脂からなる活性エネルギー線用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成法 | |
| JP2955545B2 (ja) | 化学増幅型ポジ型フォトレジスト製造用重合体及びこれを含有するフォトレジスト | |
| JP2000131847A (ja) | レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 | |
| US20030054285A1 (en) | Chemically amplified negative photoresist, and photoresist composition | |
| JP3901401B2 (ja) | ポジ型フォトレジスト組成物およびパターン形成方法 | |
| JP2968770B2 (ja) | ポジ型フォトレジスト製造用重合体及びこれを含有する化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060828 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060828 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081009 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081028 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090310 |