JP2001081064A - シクロヘキシルプロピオン酸メチルの製造方法 - Google Patents
シクロヘキシルプロピオン酸メチルの製造方法Info
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- JP2001081064A JP2001081064A JP2000239957A JP2000239957A JP2001081064A JP 2001081064 A JP2001081064 A JP 2001081064A JP 2000239957 A JP2000239957 A JP 2000239957A JP 2000239957 A JP2000239957 A JP 2000239957A JP 2001081064 A JP2001081064 A JP 2001081064A
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- cyclohexylpropionate
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/303—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by hydrogenation of unsaturated carbon-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高純度のシクロヘキシルプロピオン酸メチル
の製造方法の提供。 【解決手段】 ルテニウム及び／又はパラジウム触媒の
存在下でのケイ皮酸メチルの水素化によりシクロヘキシ
ルプロピオン酸メチルを製造する。
の製造方法の提供。 【解決手段】 ルテニウム及び／又はパラジウム触媒の
存在下でのケイ皮酸メチルの水素化によりシクロヘキシ
ルプロピオン酸メチルを製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ケイ皮酸メチルか
ら出発してルテニウム及び／又はパラジウム触媒の存在
下でシクロヘキシルプロピオン酸メチルを製造する方法
に関する。
ら出発してルテニウム及び／又はパラジウム触媒の存在
下でシクロヘキシルプロピオン酸メチルを製造する方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｃ．Ｒ．Ｈｅｂｄ．Ｓｅａｎｃｅｓ Ａ
ｃａｄ．Ｓｃｉ．１９１３，１５６，７５１−７５３
は、シクロヘキシルプロピオン酸メチルを与える、１７
０から１８５℃でラネーニッケル触媒下でのケイ皮酸メ
チルの水素化を記載する。温度を２００℃まで上げると
エステルの分解及びラネーニッケル触媒の不活性化が起
こる。該方法を用いて製造されるシクロヘキシルプロピ
オン酸メチルは不十分な純度を有する。
ｃａｄ．Ｓｃｉ．１９１３，１５６，７５１−７５３
は、シクロヘキシルプロピオン酸メチルを与える、１７
０から１８５℃でラネーニッケル触媒下でのケイ皮酸メ
チルの水素化を記載する。温度を２００℃まで上げると
エステルの分解及びラネーニッケル触媒の不活性化が起
こる。該方法を用いて製造されるシクロヘキシルプロピ
オン酸メチルは不十分な純度を有する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高い純
度でシクロヘキシルプロピオン酸メチルを製造すること
である。
度でシクロヘキシルプロピオン酸メチルを製造すること
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】触媒の存在下でケイ皮酸
メチルの水素化によりシクロヘキシルプロピオン酸メチ
ルを製造する方法であって、ルテニウム及び／又はパラ
ジウム触媒を使用することを特徴とする方法が見いださ
れた。
メチルの水素化によりシクロヘキシルプロピオン酸メチ
ルを製造する方法であって、ルテニウム及び／又はパラ
ジウム触媒を使用することを特徴とする方法が見いださ
れた。
【０００５】ルテニウム及びパラジウム触媒はそれ自体
公知である（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉ
ｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ［Ｍｅｔｈｏｄｓ ｉｎ Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ］／Ｈｏｕｂｅｎ
Ｗｅｙｌ，ＩＶ／ｌｃ巻，Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ Ｐａｒ
ｔ１，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓｔ
ｕｔｔｇａｒｔ，１９８０，１５−５６２頁，Ｈａｎｄ
ｂｏｏｋ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｇｅｎｅｏｕｓ Ｃａｔ
ａｌｙｓｉｓ，１−５巻，２１２３−２４４７頁；ＶＣ
Ｈ Ｗｅｉｎｈｅｉｍ；１９９７）。
公知である（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉ
ｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ［Ｍｅｔｈｏｄｓ ｉｎ Ｏ
ｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ］／Ｈｏｕｂｅｎ
Ｗｅｙｌ，ＩＶ／ｌｃ巻，Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ Ｐａｒ
ｔ１，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓｔ
ｕｔｔｇａｒｔ，１９８０，１５−５６２頁，Ｈａｎｄ
ｂｏｏｋ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｇｅｎｅｏｕｓ Ｃａｔ
ａｌｙｓｉｓ，１−５巻，２１２３−２４４７頁；ＶＣ
Ｈ Ｗｅｉｎｈｅｉｍ；１９９７）。
【０００６】触媒は一般に担体に適用される。適当な担
体の例は、活性炭、二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、及
び酸化アルミニウムである。好適な担体は活性炭であ
る。
体の例は、活性炭、二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、及
び酸化アルミニウムである。好適な担体は活性炭であ
る。
【０００７】本発明の方法のための担体は一般に、触媒
全体に基づき１から２０重量％、好適には５から１０重
量％のルテニウム及び／又はパラジウムを含む。
全体に基づき１から２０重量％、好適には５から１０重
量％のルテニウム及び／又はパラジウムを含む。
【０００８】ルテニウム及びパラジウムの混合した触媒
を使用することも可能である。
を使用することも可能である。
【０００９】本発明の方法のためには触媒は乾燥又は湿
った状態（水６０％まで）で使用できる。
った状態（水６０％まで）で使用できる。
【００１０】本発明の方法のためには、使用される触媒
のケイ皮酸メチルに対する重量比は０．０００１：１か
ら０．１：１、好適には０．００５：１から０．０５：
１である。
のケイ皮酸メチルに対する重量比は０．０００１：１か
ら０．１：１、好適には０．００５：１から０．０５：
１である。
【００１１】本発明の方法の反応温度は３０から２５０
℃、好適には６０から２００℃である。
℃、好適には６０から２００℃である。
【００１２】水素圧は１から１００ｂａｒ、好適には１
０から２０ｂａｒである。
０から２０ｂａｒである。
【００１３】反応時間は２から１００時間、好適には５
から４０時間である。
から４０時間である。
【００１４】本発明の方法は以下の反応式：
【００１５】
【化１】
【００１６】で表すことができる。
【００１７】本発明の方法は一般に以下のように行なわ
れる。
れる。
【００１８】撹拌機のついた圧力容器をケイ皮酸メチル
及び触媒で満たす。選択された反応温度及び水素圧で水
素化を行なう。結果として生じるシクロヘキシルプロピ
オン酸メチルは、続いての濾過による触媒の除去、デカ
ンテーション又は遠心分離により得られる。
及び触媒で満たす。選択された反応温度及び水素圧で水
素化を行なう。結果として生じるシクロヘキシルプロピ
オン酸メチルは、続いての濾過による触媒の除去、デカ
ンテーション又は遠心分離により得られる。
【００１９】本発明の方法で、シクロヘキシルプロピオ
ン酸メチルは純度＞９９．５％及び収率約９９％で製造
される。
ン酸メチルは純度＞９９．５％及び収率約９９％で製造
される。
【００２０】シクロヘキシルプロピオン酸メチルはフル
ーティーな（ｆｒｕｉｔｙ）特徴をもつ香気であり、そ
れは同時にシクロヘキシルプロピオン酸アリルの製造の
ための出発物質でもある。シクロヘキシルプロピオン酸
アリルは強いパイナップルの香りを持つ香気である
（Ｓ．Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆ
ｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｎｏ.７７，１９６
９）。
ーティーな（ｆｒｕｉｔｙ）特徴をもつ香気であり、そ
れは同時にシクロヘキシルプロピオン酸アリルの製造の
ための出発物質でもある。シクロヘキシルプロピオン酸
アリルは強いパイナップルの香りを持つ香気である
（Ｓ．Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆ
ｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｎｏ.７７，１９６
９）。
【００２１】本発明の方法のためのケイ皮酸メチルはケ
イ皮酸のメタノールによるエステル化又はベンズアルデ
ヒド及び酢酸メチルのクライゼン縮合により製造できる
（Ｋ．Ｂａｕｅｒ，Ｄ．Ｇａｒｂｅ，Ｆｒａｇｒａｎｃ
ｅ ａｎｄ ＦｌａｖｏｒＭａｔｅｒｉａｌｓ，８０
頁，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，ＶＣＨ Ｖｅｒｌａｇｓｇｅｓ
ｅｌｌｓｃｈａｆｔ，１９８５）。
イ皮酸のメタノールによるエステル化又はベンズアルデ
ヒド及び酢酸メチルのクライゼン縮合により製造できる
（Ｋ．Ｂａｕｅｒ，Ｄ．Ｇａｒｂｅ，Ｆｒａｇｒａｎｃ
ｅ ａｎｄ ＦｌａｖｏｒＭａｔｅｒｉａｌｓ，８０
頁，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，ＶＣＨ Ｖｅｒｌａｇｓｇｅｓ
ｅｌｌｓｃｈａｆｔ，１９８５）。
【００２２】
【実施例】実施例１ ガス分散撹拌機を備えた５ｌ撹拌
オートクレーブを、１，５６５ｇのケイ皮酸メチル及び
活性炭上の１０．３ｇの５重量％の湿った状態のルテニ
ウムで満たす。水素化を１５５℃及び２０ｂａｒで６時
間行なう。濾過の後、１，６２５ｇのシクロヘキシルプ
ロピオン酸メチルが９９．６重量％の純度で得られる。
結果として生じるシクロヘキシルプロピオン酸メチル
は、１３５℃の液相温度及び３５ｍｂａｒの減圧下で残
渣なしで蒸留できる。理論収率は９９％である。
オートクレーブを、１，５６５ｇのケイ皮酸メチル及び
活性炭上の１０．３ｇの５重量％の湿った状態のルテニ
ウムで満たす。水素化を１５５℃及び２０ｂａｒで６時
間行なう。濾過の後、１，６２５ｇのシクロヘキシルプ
ロピオン酸メチルが９９．６重量％の純度で得られる。
結果として生じるシクロヘキシルプロピオン酸メチル
は、１３５℃の液相温度及び３５ｍｂａｒの減圧下で残
渣なしで蒸留できる。理論収率は９９％である。
【００２３】実施例２ ガス分散撹拌機を備えた５ｌ撹
拌オートクレーブを、２，０００ｇのケイ皮酸メチル及
び活性炭上の１９ｇの５重量％の湿った状態のパラジウ
ムで満たす。水素化を１６０から１７０℃及び２０ｂａ
ｒで３５時間行なう。濾過の後、２，０５０ｇのシクロ
ヘキシルプロピオン酸メチルが９９．７％の純度で得ら
れる。結果として生じるシクロヘキシルプロピオン酸メ
チルは、１３５℃の液相温度及び３５ｍｂａｒの減圧下
で残渣なしで蒸留できる。理論収率は９８％である。
拌オートクレーブを、２，０００ｇのケイ皮酸メチル及
び活性炭上の１９ｇの５重量％の湿った状態のパラジウ
ムで満たす。水素化を１６０から１７０℃及び２０ｂａ
ｒで３５時間行なう。濾過の後、２，０５０ｇのシクロ
ヘキシルプロピオン酸メチルが９９．７％の純度で得ら
れる。結果として生じるシクロヘキシルプロピオン酸メ
チルは、１３５℃の液相温度及び３５ｍｂａｒの減圧下
で残渣なしで蒸留できる。理論収率は９８％である。
【００２４】本発明は、前述したように例証を挙げるた
めに詳細に記載されたけれども、このような詳細は単に
その目的のためだけであり、請求の範囲の記載に制限さ
れる場合以外は、発明の精神及び範囲から離れることな
しで当業者がその点で変えることができるものと理解さ
れるべきである。
めに詳細に記載されたけれども、このような詳細は単に
その目的のためだけであり、請求の範囲の記載に制限さ
れる場合以外は、発明の精神及び範囲から離れることな
しで当業者がその点で変えることができるものと理解さ
れるべきである。
【００２５】本発明の主たる特徴及び態様は以下の通り
である。
である。
【００２６】１．ルテニウム及び／又はパラジウム触媒
の存在下でケイ皮酸メチルの水素化の段階を含んでなる
シクロヘキシルプロピオン酸メチルの製造方法。
の存在下でケイ皮酸メチルの水素化の段階を含んでなる
シクロヘキシルプロピオン酸メチルの製造方法。
【００２７】２．使用される触媒のケイ皮酸メチルに対
する重量比が０．０００１：１から０．１：１である上
記１に記載の方法。
する重量比が０．０００１：１から０．１：１である上
記１に記載の方法。
【００２８】３．反応温度が３０から２５０℃の範囲で
ある上記１に記載の方法。
ある上記１に記載の方法。
【００２９】４．該方法が１から１００ｂａｒの水素圧
で行われる上記１に記載の方法。
で行われる上記１に記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス−ウルリヒ・フンク ドイツ37697ラウエンフエルデ・リンデン シユトラーセ３ (72)発明者 ゲルハルト・ゼンフト ドイツ37603ホルツミンデン・ルモールタ ルシユトラーセ69 (72)発明者 ボルフガング・キール ドイツ51519オーデンタール・カール−レ ーフエルクス−シユトラーセ37
Claims (1)
- 【請求項１】 ルテニウム及び／又はパラジウム触媒の
存在下でケイ皮酸メチルの水素化の段階を含んでなるシ
クロヘキシルプロピオン酸メチルの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19939544.6 | 1999-08-20 | ||
| DE19939544A DE19939544C1 (de) | 1999-08-20 | 1999-08-20 | Verfahren zur Herstellung von Methyl-cyclohexyl-propionat |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001081064A true JP2001081064A (ja) | 2001-03-27 |
Family
ID=7919046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000239957A Pending JP2001081064A (ja) | 1999-08-20 | 2000-08-08 | シクロヘキシルプロピオン酸メチルの製造方法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6399810B1 (ja) |
| EP (1) | EP1078912B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001081064A (ja) |
| AT (1) | ATE230716T1 (ja) |
| DE (2) | DE19939544C1 (ja) |
| DK (1) | DK1078912T3 (ja) |
| ES (1) | ES2190926T3 (ja) |
| SI (1) | SI1078912T1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10160008A1 (de) | 2001-12-06 | 2003-06-18 | Haarmann & Reimer Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Cyclohexyloxyessigsäurealkylestern |
| CN102140061B (zh) * | 2011-03-18 | 2013-05-22 | 常州大学 | 环烷基丙酸的制备方法 |
| US9611442B2 (en) | 2013-10-18 | 2017-04-04 | International Flavors & Fragrances Inc. | 3-(cyclohex-1-en-1-yl)propionates and their use in perfume compositions |
| CN107759473A (zh) * | 2017-10-23 | 2018-03-06 | 江苏馨瑞香料有限公司 | 一种菠萝酯的绿色合成方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5286898A (en) * | 1993-06-15 | 1994-02-15 | Eastman Kodak Company | Low pressure process for the hydrogenation of dimethyl benzenedicarboxylates to the corresponding dimethyl cyclohexanedicarboxlates |
| US5319129A (en) * | 1993-06-15 | 1994-06-07 | Eastman Kodak Company | Preparation of dimethyl cyclohexanedicarboxylates |
-
1999
- 1999-08-20 DE DE19939544A patent/DE19939544C1/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-08-08 DK DK00116254T patent/DK1078912T3/da active
- 2000-08-08 DE DE50001033T patent/DE50001033D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-08 SI SI200030048T patent/SI1078912T1/xx unknown
- 2000-08-08 EP EP00116254A patent/EP1078912B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-08 AT AT00116254T patent/ATE230716T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-08-08 ES ES00116254T patent/ES2190926T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-08 JP JP2000239957A patent/JP2001081064A/ja active Pending
- 2000-08-15 US US09/639,281 patent/US6399810B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE50001033D1 (de) | 2003-02-13 |
| US6399810B1 (en) | 2002-06-04 |
| ATE230716T1 (de) | 2003-01-15 |
| EP1078912B1 (de) | 2003-01-08 |
| EP1078912A2 (de) | 2001-02-28 |
| DE19939544C1 (de) | 2001-02-15 |
| ES2190926T3 (es) | 2003-09-01 |
| DK1078912T3 (da) | 2003-03-31 |
| SI1078912T1 (en) | 2003-08-31 |
| EP1078912A3 (de) | 2001-03-28 |
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