JP2001077180A

JP2001077180A - 基板保持機構

Info

Publication number: JP2001077180A
Application number: JP25249699A
Authority: JP
Inventors: Hirofumi Miyao; 尾裕文宮
Original assignee: Jeol Ltd
Current assignee: Jeol Ltd
Priority date: 1999-09-07
Filing date: 1999-09-07
Publication date: 2001-03-23
Anticipated expiration: 2019-09-07
Also published as: JP3942318B2

Abstract

(57)【要約】【課題】チャック面に接触しないようにウエハを静
電チャックプレートのチャック面上で移動させる。【解決手段】電極１８とチャック面の間の肉厚部内
に、直方体状の穴４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃを開け、各穴
に、軸４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを支点として、基準位置
から位置決め位置へのウエハの移動方向に傾斜する様
に、各軸付き位置決め補助レバー４２Ａ，４２Ｂ，４２
Ｃを取り付ける。該補助レバーは、基準位置にある時に
少し左傾きになり、その球面体部のウエハ接触部とチャ
ック面との距離がＤａとなり（この時、ウエハ３のノッ
チ３７と固定ピン２４との距離がＤｂある）、ウエハ３
を押圧してウエハ３のノッチ３７が固定ピン２４に完全
に接触した時に、球面体部のウエハ接触部とチャック面
との距離がほぼ０となる様に取り付けられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する分野】本発明は、荷電粒子ビーム装置の
基板保持機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】描画装置においては、例えば、ウエハの
如き基板上にＩＣパターンを描画している。又、観察，
検査，分析，測定装置等においては、ＩＣパターンが描
かれた基板（この様な基板を通常、試料と称している）
について、それぞれパターンの観察，パターン欠陥等の
検査，基板上に付着しているごみ等の分析，パターンの
測長等を行っている。

【０００３】通常、前記描画，観察，検査，分析，測定
等の処理を行う処理チャンバーの隣に、ゲートバルブを
介して予備チャンバーが設けられており、ウエハの如き
基板を予備チャンバーを介して外部（大気側）から処理
チャンバーへ入れたり、処理チャンバーから外部へ出し
たりしている。

【０００４】尚、前記予備チャンバーにおいては基板の
一次アライメントが行われており、該一次アライメント
を行った基板を処理チャンバーに送って、そこで精密な
アライメントを行った後、所定の処理を行うようにして
いる。

【０００５】図１はこの様な装置の一例を示したもの
で、１は処理チャンバーの一例で、走査電子顕微鏡の試
料室で、その上には電子銃，集束レンズ，対物レンズ，
偏向コイル等の電子光学系を備えた鏡筒が載っている。
該試料室内部にはＸ方向及びＹ方向に移動可能なステー
ジ２が設けられており、該ステージ２上にウエハ３が載
置される。

【０００６】該試料室には隣接して予備チャンバー４が
設けられており、該試料室１と予備チャンバー４との間
にはゲートバルブ５が設けられており、両室は独立に真
空排気されるように構成されている。

【０００７】該予備チャンバー４内には、ウエハ３をホ
ールドするためのホルダ台６、ウエハ３を載せるテーブ
ル７、該テーブルを上下移動及び回転させるための駆動
軸８，該駆動軸の駆動機構９、アーム付きウエハ搬送機
構１０が備えられている。尚、ホルダ台６にはテーブル
７を通過させるための孔が開けられている。又、該予備
チャンバーと外部（大気側）との間にはゲートバルブ１
１が設けられている。

【０００８】１２は複数のウエハを貯蔵したキャリア
で、テーブル１３の上に載置されている。１４は該テー
ブルを上下移動させるための駆動軸である。１５は該駆
動軸１４の駆動機構、１６はアーム付きウエハ搬送機構
である。

【０００９】この様な装置において、ゲートバルブ５を
閉じ、ゲートバルブ１１を開けた状態で、キャリア１２
に貯蔵されたウエハを予備チャンバー４内に運ぶ。その
時、予備チャンバー４内においては駆動機構９によって
駆動された駆動軸８によりテーブル７がホルダ台６の上
面より所定の距離だけ上方に移動されており、この状態
でテーブル１３の上下動により取り出すべきウエハの棚
をウエハ搬送位置に持って来て、ウエハ搬送機構１６の
アーム（図示せず）にキャリア１２内のウエハを載せ、
予備チャンバー４内のテーブル７上に載せる。そして、
ウエハ搬送機構１６を外部に移動させた後にゲートバル
ブ１１を閉じ、駆動機構９によって駆動された駆動軸８
によりテーブル７を適宜回転させ、ウエハ３をアライメ
ントし（この様なアライメントは従来から行われている
ので特に説明しない）、該アライメント後に駆動機構９
によって駆動された駆動軸８によりテーブル７を下降さ
せ、ウエハ３をホルダ台６にホールドさせる。そして、
ゲートバルブ５を開け、予備チャンバー４内において、
ホルダ台６上でのウエハ３の固定状態を解除した後、駆
動機構９により駆動された駆動軸８によりテーブル７を
ホルダ台６の上面より所定の距離だけ上方に移動させ、
ウエハ搬送機構１０のアーム（図示せず）にテーブル７
上のウエハ３を載せ、試料室１のステージ２上に載せ
る。そして、ウエハ搬送機構１０を予備チャンバー４内
に戻してからゲートバルブ５を閉じる。そして、試料室
１内においてステージ２上のウエハの位置の微調整が行
われた後、ステージ２の移動によって観察すべきウエハ
３内の領域が走査電子顕微鏡の光軸位置に移動させら
れ、該領域の観察が実行される。

【００１０】試料室１からウエハを予備チャンバー４に
取り出す時は、ゲートバルブ５を開け、ウエハ搬送機構
１０のアーム（図示せず）に試料室１内のステージ２に
載置された検査済みウエハを載せ、予備チャンバー４内
でホルダ台６上面より上に来ているテーブル７に載せ、
ゲードバルブ５を閉じる。そして、該テーブルを下降さ
せて一旦ウエハ３をホルダ台６に固定する。そして、ゲ
ートバルブ１１を開け、ホルダ台６の固定を解除した
後、駆動機構９により駆動された駆動軸８によりテーブ
ル７をホルダ台６の上面より所定の距離だけ上昇させ、
この状態でウエハ搬送機構１６のアーム（図示せず）に
テーブル７上のウエハを載せ、外部に運び出し、テーブ
ル１３の上下動によりウエハ搬送位置に来たキャリア１
２の所定の棚に戻す。

【００１１】図２は試料室の一概略例を示したもので、
前記図１で使用された記号と同一記号の付されたものは
同一構成要素である。

【００１２】図中１７はステージ２の上に固定された静
電チャックプレートで、円筒状に形成されている。該静
電チャックプレートは絶縁部材から作られており、肉厚
部内にはドーナツ状の電極１８が設けられている。又、
該チャックプレートの空間部１７Ｋにはテーブル１９，
該テーブルを上下方向（光軸方向）に移動させるための
駆動軸２０、該駆動軸の駆動機構２１が設けられてい
る。

【００１３】２２はステージ２と静電チャックプレート
１７に亘って設けられたアースピンで、ウエハ３に接触
することにより該ウエハをアースに落とすためのもので
ある。２３は前記電極１８に正の電圧を印加するための
電源である。

【００１４】図３は図２において、ウエハ３が載せられ
た静電チャックプレートをウエハ上方から見た場合の図
で、静電チャックプレート１７には固定ピン２４、押し
付け用可動ピン２５，２６、押し戻し用可動ピン２７，
２８が設けられている。前記各可動ピン２５，２６，２
７，２８は各専用の押し棒２９，３０，３１，３２の押
圧により長穴３３，３４，３５，３６の中で、図の左右
方向に移動可能となっている。又、押し付け用可動ピン
２５，２６は真空チャックプレート１７に設けられたバ
ネ（図示せず）等により図の右側に引っ張られており、
それぞれ押し棒２９，３０により押されることにより図
の左方向に移動する様になっている。同じ様に、押し戻
し用可動ピン２７，２８は真空チャックプレート１７に
設けられたバネ（図示せず）などにより図の左側に引っ
張られており、それぞれ押し棒３１，３２により押され
ることにより図の右方向に移動する様になっている。

【００１５】しかして、ゲートバルブ５を開け、予備チ
ャンバー４内においてアライメントされたウエハ３をウ
エハ搬送機構１０のアーム（図示せず）に載せ、該アー
ムがゲートバルブ５を通って試料室１内に入って来る。
この際、駆動機構２１により駆動された駆動軸２０によ
ってテーブル１９が所定の位置まで上昇する。そして、
前記ウエハ搬送機構１０はアーム（図示せず）に載せた
ウエハ３を該テーブル１９上に載せると、予備チャンバ
ー４内に戻り、ゲートバルブ５が閉じられる。

【００１６】次に、駆動機構２１により駆動された駆動
軸２０によってウエハ３を載せたテーブル１９は下降
し、その結果、ウエハ３が静電チャックプレート１７上
に載置される（図３の（ａ））。このテーブル１９から
静電チャックプレートのチャック面に置かれた状態のウ
エハの位置をウエハの基準位置と称す。この状態からウ
エハ３の位置決め操作が次の様に行われる。尚、ウエハ
３としては、例えば、ノッチ３７付きのものとした。

【００１７】先ず、押し棒２９，３０により押し付け用
可動ピン２５，２６を図の左方向に押すことにより、該
各可動ピンを介してウエハ３を左方向に移動させ、ノッ
チ３７と固定ピン２４を完全に接触させる（図３の
（ｂ））。この時点で位置決め操作が終了する。この時
のウエハの位置を位置決め終了位置と称す。

【００１８】この状態において、電源２３を作動させ、
静電力によりウエハ３を静電チャックプレート１７のチ
ャック面上に吸着させる。そして、この状態で、走査電
子顕微鏡による像観察等が行われる。

【００１９】次に、試料室１からウエハを予備チャンバ
ー４に取り出す時は、次の操作が行われる。

【００２０】電源２３の作動を停止させ（電源２３を切
り）、静電力による吸着を解いた状態において、押し棒
２９，３０を図の右方向に移動させ、押し付け用可動ピ
ン２５，２６を元の位置に戻し、更に、押し棒３１，３
２によって押し戻し用可動ピン２７，２８を図の右方向
に押すことにより、該各可動ピンを介してウエハ３を右
方向に移動させ、ノッチ３７と固定ピン２４を離す。こ
のノッチ３７と固定ピン２４が所定の距離離れたところ
で（図３の（ａ））、押し棒３１，３２を図の左方向に
移動させて押し戻し用可動ピン２７，２８を図の左方向
に移動させ、元の位置に戻す。この状態で、駆動機構２
１により駆動された駆動軸２０によってウエハ３を載せ
たテーブル１９を所定の位置まで上昇させる。

【００２１】この時、ゲートバルブ５を開け、ウエハ搬
送機構１０のアーム（図示せず）に前記テーブル１９に
載置されたウエハを載せ、予備チャンバー４内でホルダ
台６上面より上に来ているテーブル７に載せ、ゲードバ
ルブ５を閉じる。

【００２２】

【発明が解決しようとする課題】さて、前記静電チャッ
クプレート１７上に次々に別のウエハが載せられてウエ
ハの観察等が行われるわけであるが、該静電チャックプ
レート１７には残留電荷に基づく残留吸着力が存在し、
更に、この静電チャックプレトート１７のチャック面と
ウエハの間に摩擦力が働く。その為に、ウエハ３を静電
チャックプレート１７上においた時点（電源２３はオフ
の状態にある）で、前記残留吸着力と摩擦力に基づき、
ある程度の力でウエハ３が静電チャックプレート１７の
チャック面上に吸着されてしまう。その為に、前記押し
付け用可動ピン２５，２６の押圧によるウエハ３の位置
合わせ（ノッチ３７と固定ピン２４の合わせ）がスムー
ズに行かない。この結果、ウエハ３が所定以外の方向に
ずれてしまう。

【００２３】又、観察等の終了したウエハを静電チャッ
クプレート１７から外す場合、前記電源２３を切ってい
るにも拘わらず、前記残留吸着力と摩擦力に基づき、あ
る程度の力でウエハ３が静電チャックプレート１７のチ
ャック面上に吸着されているので、前記押し戻し用可動
ピン２７，２８の押圧によるウエハ３の基準位置へに移
動がスムーズに行かない。この結果、ウエハ３が所定以
外の方向にずれてしまう。

【００２４】更に、この際、前記残留吸着力と摩擦力に
基づき、テーブル１９によるウエハ３の持ち上げもスム
ーズに行かない。この結果、ウエハが基準位置から大き
くずれてしまう。

【００２５】更に又、前記残留吸着力と摩擦力に基づ
き、ある程度の力でウエハ３が静電チャックプレート１
７のチャック面上に吸着されている時に該チャック面上
でウエハ３を移動させようとすると、ウエハが該チャッ
ク面上をこすることになるため、ウエハ裏面に付着する
パーティクルが多くなり、結果として、このパーティク
ルが試料室内に貯まり、ウエハ上に降ってくる。

【００２６】本発明は、この様な問題を解決するもの
で、新規な基板保持機構を提供するものである。

【００２７】

【課題を解決するための手段】本発明の基板保持機構
は、基板を静電吸着によりチャックする面を有する静電
チャック体のチャック面に１個以上の固定ピンを設け、
この固定ピンに基板のノッチ／オリフラを接触させた状
態で基板を前記チャック面に静電吸着させるように成し
た基板保持機構において、その取り付け軸を支点として
傾斜可能に成し、基板のセット時にその基板接触部が前
記チャック面から上方に出る様に傾斜され、該基板接触
部が前記チャック面から上方に出た状態を保って一定方
向に傾斜角度を変えていき、基板のノッチ／オリフラが
前記固定ピンに接触した時に前記基板接触部が前記チャ
ック面とほぼ面一になるように成した補助レバーを静電
チャック体に設けたことを特徴としている。

【００２８】又、本発明の基板保持機構は、基板を静電
吸着によりチャックする面を有する静電チャック体のチ
ャック面に１個以上の固定ピンを設け、この固定ピンに
基板のノッチ／オリフラを接触させた状態で基板を前記
チャック面に静電吸着させるように成した基板保持機構
において、その取り付け軸を支点として傾斜可能に成
し、基板のセット時にその基板接触部が前記チャック面
から上方に出る様に傾斜され、該基板接触部が前記チャ
ック面から上方に出た状態を保って一定方向に傾斜角度
を変えていき、基板のノッチ／オリフラが前記固定ピン
に接触した時に前記基板接触部が前記チャック面とほぼ
面一になるように成し、静電吸着を解除し、前記基板接
触部が前記チャック面から上方に出た状態を保って前記
傾斜方向と逆の方向に傾斜角度を変えていき、基板のセ
ット時の状態に戻るように成した補助レバーを静電チャ
ック体に設けたことを特徴としている。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。

【００３０】図４及び図５は本発明の基板保持持機構の
一例を示したもので、図４はステージ上に載った基板保
持機構を真横から見た図、図５は図４のＡ−Ａ断面図で
ある。図中前記図２，３にて使用した記号と同一記号の
付されたものは同一構成要素である。図中４０は静電チ
ャックプレートであるが、内部に位置決め用の補助レバ
ーを備えている点で従来のものと異なる。

【００３１】即ち、静電チャックプレート４０の肉厚部
に設けられているドーナツ状の電極１８と静電チャック
プレート４０のチャック面の間の肉厚部内に、例えば、
直方体状の穴４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃを開け、各穴に、
位置決め用の補助レバー４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃが軸４
３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを支点として、基準位置から位置
決め終了位置へのウエハの移動方向（図の左方向、即ち
Ｘ方向））及び位置決め終了位置から基準位置へのウエ
ハの移動方向（図の右方向、即ち−Ｘ方向）に傾斜する
様に、各軸付き位置決め補助レバー４２Ａ，４２Ｂ，４
２Ｃが取り付けられている。尚、前記穴４１Ａ，４１
Ｂ，４１Ｃは、静電チャックプレート上方から見た時
に、例えば、各穴を結ぶ軌跡が正三角形を描くような位
置に開けられている。

【００３２】この補助レバー４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃ
は、頂部が球状面を成した球状面体部と軸４３Ａ，４３
Ｂ，４３Ｃが貫通した棒状体部とで成されており、ウエ
ハが載せられていない時及びウエハ３が基準位置（テー
ブル１９から該各補助レバーを介して静電チャックプレ
ート４０のチャック面に載せられたときのウエハの位
置）にある時、少し左傾きになるように取り付けられて
いる。該補助レバーがこの状態にある時の位置を、補助
レバーの基準位置と称す。そして、該補助レバーの基準
位置、即ちウエハの基準位置においては、図４に示す様
に、補助レバーの球状面体部のウエハ接触部と静電チャ
ックプレート４０のチャック面との距離がＤａあり（こ
の時、ウエハ３のノッチ３７と固定ピン２４との距離が
Ｄｂある）、ウエハ３をＸ方向に押圧してウエハ３のノ
ッチ３７が固定ピン２４に完全に接触した時、即ち、ウ
エハが位置決め終了位置に来た時に、丁度、前記補助レ
バーの球状面体部のウエハ接触部と静電チャックプレー
ト４０のチャック面との距離がほぼ０となる様に、各補
助レバーが取り付けられている。尚、前記補助レバーの
球状面体部の少なくともウエハ接触部はゴムなどの摩擦
係数の大きな物質でコーティングされている。

【００３３】しかして、ゲートバルブ５を開け、予備チ
ャンバー４内においてアライメントされたウエハ３をウ
エハ搬送機構１０のアーム（図示せず）に載せ、該アー
ムがゲートバルブ５を通って試料室１内に入って来る。
この際、静電チャックプレート４０の空間部４０Ｋ内に
設けられた駆動機構２１により駆動された駆動軸２０に
よってテーブル１９が所定の位置まで上昇する。そし
て、前記ウエハ搬送機構１０はアーム（図示せず）に載
せたウエハ３を該テーブル１９上に載せると、ウエハ搬
送機構１０は予備チャンバー４内に戻り、ゲートバルブ
５が閉じられる。

【００３４】次に、駆動機構２１により駆動された駆動
軸２０によってウエハ３を載せたテーブル１９は下降
し、その結果、図４及び図６の（ａ）に示す様に、ウエ
ハ３が静電チャックプレート３０のチャック面に接触せ
ずに、補助レバー４２Ａ，４２Ｂ，４３Ｃの球状面体部
上に載置される。この状態、即ちウエハの基準位置状態
からウエハ３の位置決め操作が次の様に行われる。

【００３５】先ず、押し棒２９，３０により押し付け用
可動ピン２５，２６を図の左方向（Ｘ方向）に押すこと
により、該各可動ピンはウエハ３を左方向（Ｘ方向）に
押圧する。従って、各補助レバー４２Ａ，４２Ｂ，４２
Ｃはウエハ３を載せたままＸ方向に傾斜していくので、
ウエハ３は静電チャックプレート４０のチャック面に接
触することなく、Ｘ方向に移動する。その結果、ウエハ
３のノッチ３７と固定ピン２４を完全に接触する（図６
の（ｂ））。この時には、各補助レバーの球状面体部の
ウエハ接触部が静電チャックプレート４０のチャック面
と面一となって、ウエハ３は静電チャックプレート４０
のチャック面に完全接触する。この時点で位置決め操作
が終了する。

【００３６】この状態において、電源２３を作動させ、
静電力によりウエハ３を静電チャックプレート４０上に
吸着させる。そして、この状態で、走査電子顕微鏡によ
る像観察等が行なわれる。

【００３７】次に、試料室１からウエハを予備チャンバ
ー４に取り出す時は、次の操作が行われる。

【００３８】電源２３の作動を停止させ、静電力による
吸着を解いた状態において、押し棒２９，３０を図の左
方向（−Ｘ方向）に移動させて押し付け用可動ピン２
５，２６を元の位置に戻し、更に、押し棒３１，３２に
より押し戻し用可動ピン２７，２８を図の右方向（−Ｘ
方向）に押すことによって該各可動ピンによりウエハ３
を右方向（−Ｘ方向）に押圧する。従って、ウエハ３は
静電チャックプレート４０のチャック面から離れ、各補
助レバー４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃは該ウエハ３を載せた
まま右方向（−Ｘ方向）に傾斜していくので、ウエハ３
は静電チャックプレート４０のチャック面に接触するこ
となく、−Ｘ方向に移動する。この時、ノッチ３７と固
定ピン２４が所定の距離離れたところで（図３の
（ｃ））、押し棒３１，３２を図の左方向（Ｘ方向）に
移動させて押し戻し用可動ピン２７，２８をＸ方向に移
動させて元の位置に戻す。この時、ウエハ３は補助レバ
ー４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃの球状面体部の頂部に載った
ままである。この状態で、駆動機構２１により駆動され
た駆動軸２０によってウエハ３を載せたテーブル１９を
所定の位置まで上昇させる。

【００３９】この時、ゲートバルブ５を開け、ウエハ搬
送機構１０のアーム（図示せず）に前記テーブル１９に
載置されたウエハを載せ、予備チャンバー４内でホルダ
台６上面より上に来ているテーブル７に載せ、ゲードバ
ルブ５を閉じる。

【００４０】この様に、押し付け用可動ピン２５，２６
の押圧によるウエハ３の位置合わせ（ノッチ３７と固定
ピン２４の合わせ）時、押し戻し用可動ピン２７，２８
の押圧によるウエハ３の基準位置への移動時、更に、テ
ーブル１９によるウエハ３の持ち上げ時、全ての時に、
ウエハは静電チャックプレート４０のチャック面に支持
されることなく、複数の補助レバーにより支持されてい
るので、静電チャックプレート４０の残留吸着力及び、
ウエハと静電チヤックプレート４０のチャック面間の摩
擦力が全く影響しないので、前記各移動及び持ち上げが
極めてスムーズに行く。その結果、前記各操作時にウエ
ハの位置ずれが発生しない。

【００４１】又、前記残留吸着力及び摩擦力が全く影響
しないので静電チャックプレート４０のチャック面上を
ウエハ３がこすることがない。その為、ウエハ裏面での
パーティクルの殆ど発生しない。尚、前記例では、ウエ
ハ自体を可動ピンを介して押し棒で押圧し、該押圧に基
づいてに補助レバーを傾斜させるようにしたが、図７に
示す様に、補助レバー４２Ａ，４２Ｂの棒状体部の一部
にピストン棒４４Ａ，４４Ｂを接続し、駆動機構４５
Ａ，４５Ｂの駆動により該ピストン棒を往復運動させる
ことにより、各補助レバーを傾斜させるように成しても
良い。この際、例えば、図８に示す様に、補助レバー４
２の棒状体部に軸４６を固定し、先端部が２つに分岐さ
れ、各分岐部にこの固定軸４６の径より僅かに大きな径
の孔４７，４８開けられたピストン棒４４を用意し、該
孔４７，４８に前記固定軸４６が入る様に該ピストン棒
４４を補助レバー４２の棒状体部に接続する。この様に
成すことにより、固定軸４６とピストン棒４４の間はフ
リーの状態で該ピストン棒を直線運動させることが出
来、該直線運動により補助レバー４２が傾斜する。尚、
分岐部の孔４７，４８は、固定軸４６とピストン棒４４
の間にがたが発生しないで互いの間がフリーの状態にな
る大きさに開けられる。

【００４２】又、前記例では球状面体部と棒状体部から
成る補助レバーを設けたが、補助レバーの形状はこの様
なものに限定されないことは言うまでもない。

【００４３】又、前記例では補助レバーを３個受けた
が、この数に限定されない。但し、１個若しくは２個で
はウエハを静電チャックプレートのチャック面に接触さ
せずに支持することは難しいので、３個以上必要とな
る。

【００４４】又、前記例では、試料室内で予備チャンバ
ー内でアライメントされた基板の位置合わせのみ行うよ
うに成したが、静電チャックプレート内に設けられたテ
ーブルに回転機能も持たせて、ここで精密な回転方向の
アライメントも行うようにしても良い。

【００４５】又、前記例では、静電チャックプレートを
ステージと別に設けたが、静電チャックプレートの働き
を兼ねたステージを設けるようにしても良い。

【００４６】又、前記例では、静電チャックプレート内
にテーブル及びその駆動機構を設けるようにしたが、ス
テージ内にこれらを設けるように成しても良い。

【００４７】又、前記例では基板としてノッチ付きウエ
ハを例に上げたが、オリフラ付きウエハを等他の基板つ
いても本発明が応用可能であることは言うまでもない。
尚、ノッチ付きウエハの位置合わせの場合は、固定ピン
が１個でも良いが、オリフラ付きウエハの位置合わせの
場合には２個以上必要となる。

【００４８】又、可動ピンとして、押し付け用が２個、
押し戻し用が２個のものを例に上げたが、この様な数に
限定されないが、２個以上は必要である。又、この様な
可動ピンと同じ働きをするものなら、ピン状のものでな
くても良い。例えば、弓状の可動バーでも良い。

【００４９】又、前記例では、走査電子顕微鏡によるウ
エハの検査の場合の試料室内のウエハ保持機構について
説明したが、荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画
や、走査電子顕微鏡などの他の荷電粒子ビーム装置の試
料観察，試料分析，試料測定等を行う場合の露光室、試
料室などのチャンバー内のウエハ保持持機構についても
本発明が応用可能であることは言うまでもない。

【図面の簡単な説明】

【図１】走査電子顕微鏡による基板を検査する装置の
概略を示している。

【図２】試料室の一概略例を示したものである。

【図３】ウエハを静電チャックプレート上で位置決め
する動作を説明するために用いた図である。

【図４】本発明の基板保持機構の一例を示したもの
で、ステージ上に載った基板保持機構を真横から見た図
である。

【図５】図４のＡ−Ａ断面図である。

【図６】ウエハを静電チャックプレート上で位置決め
する動作を説明するために用いた図である。

【図７】補助レバーの傾斜機構の他の例を示したもの
である。

【図８】図６の一部拡大図である。

【符号の説明】

１…試料室２…ステージ３…ウエハ４…予備チャンバー５，１１…ゲートバルブ６…ホルダ台７，１３，１９…テーブル８，１４，２０…駆動軸９，１５，２１…駆動機構１０，１６…ウエハ搬送機構１７，４０…静電チャックプレート１８…ドーナッツ状電極２２…アースピン２３…電源２４…固定ピン２５，２６…押し付け用可動ピン２７，２８…押し戻し用可動ピン２９，３０，３１，３２…押し棒３３，３４，３５，３６…長穴３７…ノッチ４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃ…穴４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃ…位置決め用補助レバー４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ…軸４４，４４Ａ，４４Ｂ…ピストン棒４５Ａ，４５Ｂ…駆動機構４６…固定軸４７，４８…孔

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を静電吸着によりチャックする面を
有する静電チャック体のチャック面に１個以上の固定ピ
ンを設け、この固定ピンに基板のノッチ／オリフラを接
触させた状態で基板を前記チャック面に静電吸着させる
ように成した基板保持機構において、その取り付け軸を
支点として傾斜可能に成し、基板のセット時にその基板
接触部が前記チャック面から上方に出る様に傾斜され、
該基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保
って一定方向に傾斜角度を変えていき、基板のノッチ／
オリフラが前記固定ピンに接触した時に前記基板接触部
が前記チャック面とほぼ面一になるように成した補助レ
バーを静電チャック体に設けた基板保持機構。
【請求項２】基板を静電吸着によりチャックする面を
有する静電チャック体のチャック面に１個以上の固定ピ
ンを設け、この固定ピンに基板のノッチ／オリフラを接
触させた状態で基板を前記チャック面に静電吸着させる
ように成した基板保持機構において、その取り付け軸を
支点として傾斜可能に成し、基板のセット時にその基板
接触部が前記チャック面から上方に出る様に傾斜され、
該基板接触部が前記チャック面から上方に出た状態を保
って一定方向に傾斜角度を変えていき、基板のノッチ／
オリフラが前記固定ピンに接触した時に前記基板接触部
が前記チャック面とほぼ面一になるように成し、静電吸
着を解除し、前記基板接触部が前記チャック面から上方
に出た状態を保って前記傾斜方向と逆の方向に傾斜角度
を変えていき、基板のセット時の状態に戻るように成し
た補助レバーを静電チャック体に設けた基板保持支持機
構。
【請求項３】前記補助レバーの一部に軸を接続し、該軸
を直線運動させることにより、前記補助レバーを傾斜さ
せるように成した請求項１，２記載の基板保持支持機
構。
【請求項４】前記基板を押圧体により押圧する事によ
り、前記補助レバーを傾斜させるように成した請求項
１，２記載の基板保持支持機構。
【請求項５】前記補助レバーの前記基板接触部が摩擦係
数の大きな材料で成した請求項１，２記載の基板保持支
持機構。
【請求項６】静電チャック体のチャック面に穴を開
け、該穴内に補助レバーを取り付けた軸を取り付けた請
求項１〜２記載の基板保持機構。
【請求項７】静電吸着時以外においては前記チャック
面に基板が接触しないように前記補助レバーが基板を支
持できるように、各々間隔を開けて３個以上の補助レバ
ーを設けた請求項１〜２記載の基板保持機構。
【請求項８】前記静電チャック体の中央部にウエハを
載置して少なくとも上下動可能なテーブルが通過できる
穴が開けられている請求項１〜２記載の基板保持機構。
【請求項９】少なくとも前記テーブルと駆動軸が前記
静電チャック体に設けられた穴内に設けられている請求
項８記載の基板保持機構。