JP2000251818A - 被描画材料ホルダ - Google Patents

被描画材料ホルダ

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JP2000251818A
JP2000251818A JP11047698A JP4769899A JP2000251818A JP 2000251818 A JP2000251818 A JP 2000251818A JP 11047698 A JP11047698 A JP 11047698A JP 4769899 A JP4769899 A JP 4769899A JP 2000251818 A JP2000251818 A JP 2000251818A
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pin
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JP11047698A
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Sadao Matsumoto
本 貞 夫 松
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ゴミの発生のない被描画材料ホルダーを提
供する。 【解決手段】 押し棒49により軸43をラインMに沿
って図の左方向に押す。押圧球50がねじ48を支点と
して大略時計方向に回転して回転板40の突出部40T
を押圧する。回転板40は時計方向に回転し始め、それ
によりリンク41が上方に押され、それにより可動板2
5がラインLに沿って図の上方向に移動する。リンク4
1がラインL上に来た時、押し戻しピン29がウエハ3
の周辺部に接触する位置に来て、他の可動ピン30や固
定ピン31′,32′,33′はウエハ3の周辺部に接
触しない位置に来る。更に、可動板25がラインLに沿
って下方向に動き出し、リンク41が最終位置に来た
時、可動板25は、ウエハの周辺部が押し戻しピン29
と可動ピン30のほぼ中間に来る位置に移動する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する分野】本発明は、被描画材料が出し入れ
されるチャンバーの被描画材料ホルダに関する。
【0002】
【従来の技術】描画装置においては、例えば、ウエハの
如き被描画材料上にICパターンを描画している。又、
観察,検査,分析,測定装置等においては、ICパター
ンが描かれた被描画材料(この様な材料を通常、試料と
称している)について、それぞれパターンの観察,パタ
ーン欠陥等の検査,被描画材料上に付着しているごみ等
の分析,パターンの測長等を行っている。
【0003】通常、前記描画,観察,検査,分析,測定
等の処理を行う処理チャンバーの隣に、ゲートバルブを
介して予備チャンバーが設けられており、ウエハの如き
被描画材料は予備チャンバーを介して外部(大気側)か
ら処理チャンバーへ入れたり、処理チャンバーから外部
へ出したりしている。
【0004】尚、前記予備チャンバーにおいては被描画
材料の一次アライメントが行われており、該一次アライ
メントを行った被描画材料を処理チャンバーに送って、
そこで精密なアライメントを行った後、所定の処理を行
うようにしている。
【0005】図1はこの様な装置の一例を示したもの
で、1は処理チャンバーの一例で、走査電子顕微鏡の試
料室である。該試料室内部にはX方向及びY方向に移動
可能なステージ2が設けられており、該ステージ2上に
ウエハ3が載置される。
【0006】該試料室には隣接して予備チャンバー4が
設けられており、該試料室1と予備チャンバー4との間
にはゲートバルブ5が設けられており、両室は独立に真
空排気されるように構成されている。
【0007】該予備チャンバー4内には、ウエハ3をホ
ールドするためのホルダ6、ウエハ3を載せるテーブル
7、該テーブルを上下移動及び回転させるための駆動軸
8,アーム付きウエハ搬送機構9が備えられている。
又、該予備チャンバーと外部(大気側)との間にはゲー
トバルブ10が設けられている。
【0008】11は複数のウエハを貯蔵したキャリア
で、テーブル12の上に載置されいるる。13は該テー
ブルを上下移動させるための駆動軸である。14はアー
ム付きウエハ搬送機構である。
【0009】この様な装置において、ゲードバルブ5を
閉じ、ゲートバルブ10を開けた状態で、キャリア11
に貯蔵されたウエハを予備チャンバー内に運ぶ。その
時、予備チャンバー4内においてはテーブル7が駆動軸
8によりホルダ6の上面より所定の距離だけ上方に移動
されており、この状態でテーブル12の上下動により取
り出すべきウエハの棚をウエハ搬送位置に持って来て、
ウエハ搬送機構14のアーム(図示せず)にキャリア1
1内のウエハを載せ、予備チャンバー4内のテーブル7
上に載せる。そして、ウエハ搬送機構14を外部に移動
させた後にゲートバルブ10を閉じ、駆動軸8によりテ
ーブル7を適宜回転させ、ウエハ3をアライメントし
(この様なアライメントは従来から行われているので特
に説明しない)、該アライメント後に駆動軸8によりテ
ーブル7を下降させ、ウエハ3をホルダー6にホールド
させる。そして、ゲートバルブ5を開け、予備室4内に
おいて駆動軸8によりテーブル7をホルダ6の上面より
所定の距離だけ上方に移動させ、ウエハ搬送機構9のア
ーム(図示せず)にテーブル7上のウエハ3を載せ、試
料室1のステージ2上に載せる。そして、ウエハ搬送機
構9を予備チャンバー4内に戻してからゲートバルブ5
を閉じる。そして、試料室1内においてステージ2上の
ウエハの位置の微調整が行われた後、ステージ2の移動
によって観察すべきウエハ3内の領域が走査電子顕微鏡
の光軸位置に移動させられ、該領域の観察が実行され
る。
【0010】試料室1からウエハを予備チャンバー4に
取り出す時は、ゲートバルブ5を開け、ウエハ搬送機構
9のアーム(図示せず)に試料室1内のステージ2に載
置された検査済みウエハを載せ、予備チャンバー4内で
ホルダ6上面より上に来ているテーブル7に載せ、ゲー
ドバルブ5を閉じる。そして、該テーブルを下降させて
一旦ウエハ3をホルダ6に固定する。そして、ゲートバ
ルブ10を開けて、駆動軸8によりテーブル7をホルダ
6の上面より所定の距離だけ上昇させ、この状態でウエ
ハ搬送機構14のアーム(図示せず)にテーブル7上の
ウエハを載せ、外部に運び出し、テーブル12の上下動
によりウエハ搬送位置に来たキャリア11の所定の棚に
戻す。
【0011】次に上記ウエハホルダ6の動作について詳
説する。
【0012】図2はウエハ3を固定(ホールド)した状
態のホルダーを真上から見た図、図3は図2のA−A断
面図、図4はホルダーを真下から見た図である。図中前
記図1にて使用した符号と同一番号の付されたものは同
一構成要素である。
【0013】図中20は、中央部にテーブル7が通過可
能な孔21を有し、それぞれ外径の異なった2段の円筒
部20A,20Bから成る基台で、外径の大きい円筒部
20Aの周辺部で中心Oに対して対称な位置2カ所には
切り欠き部22,23が設けられている。
【0014】前記外径の小さい円筒部20Bの下面に
は、該円筒部20Bの外径より大きい径の孔24を有
し、前記2つの切り欠き部22と23を結ぶラインL上
に沿って移動可能な可動板25が取り付けられている。
該可動板25の前記ラインL上に沿った2カ所にそれぞ
れ長穴26,27が開けられており、各長穴を介して可
動板25が円筒部20Bの下面にねじで移動可能に止め
られており、更に、前記長穴27の近傍の前記ラインL
上に沿って、バネの如き弾性体28の一方が可動板25
に、他方が前記円筒部20Bの下面に取り付けられてい
る。従って、可動板25は常に、図の右側方向に引っ張
られていることになる。
【0015】該可動板25の一方の端部には前記切り欠
き部22の中で移動可能な押し戻しピン29が取り付け
られており、他方の端部には前記切り欠き部23の中で
移動可能な可動ピン30が取り付けられている。
【0016】前記基台20の上面周囲には、ウエハを固
定(ホールド)するための3個の固定ピン31,32,
33が取り付けられている。該固定ピンの内、ホールド
時、31,32はオリフラ部(オリエンテーションフラ
ット部)34に接触し、33はオリフラ部34以外の部
分に接触するように取り付けられている。
【0017】尚35は前記可動板25の突起部36を前
記ラインLに沿って押すための押し棒である。
【0018】この様な構造のウエハホルダーにおいて、
テーブル7に載せたウエハを固定(ホールド)する場合
には、押し棒35により可動板25の突起部36をライ
ンLに沿って図の左方向に押す。すると、可動板25が
ラインLに沿って図の左方向に移動し、図5に示す様
に、押し戻しピン29がウエハ3の周辺部に接触する位
置に来て、他の可動ピン27や固定ピン31,32,3
3はウエハ3の周辺部に接触しない位置に来る。この状
態で、テーブル7を下降させてウエハ3を基台20の円
筒部20Aの上面に載せる。そして、押し棒35をライ
ンLに沿って図の右方向に移動させると、可動板25が
ラインLに沿って図の右方向に移動し、図2,3,4に
示す様に、ウエハ3は押し戻しピン29から離れ、その
周辺部に他の可動ピン30や固定ピン31,32,33
に接触し、この結果、ウエハ3はホルダに固定されるこ
とになる。
【0019】又、ホルダに固定されているウエハをテー
ブル7上に載せる場合には、押し棒35により可動板2
5の突起部36をラインLに沿って図の左方向に押す。
すると、可動板25がラインLに沿って図の左方向に移
動し、図5に示す様に、押し戻しピン29がウエハ3の
周辺部に接触する位置に来て、他の可動ピン30や固定
ピン31,32,33はウエハ3の周辺部に接触しない
位置に来る。この状態で、テーブル7を上昇させて、ウ
エハ3をテーブル上面に載せる。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】さて、この様なウエハ
ホルダにおいて、テーブル7に載置されたウエハを基台
20の円筒部20A上に載せる場合、及びホルダに固定
されているウエハ3をテーブル7に載せる場合、何れの
場合も図5に示す状態(押し戻しピン29がウエハ3の
周辺部に接触する位置に来て、他の可動ピン30や固定
ピン31,32,33はウエハ3の周辺部に接触しない
位置に来る状態)にして行っている。しかし、テーブル
7の上昇及び下降時に極く僅かな揺れがある場合が多々
ある。その場合、ウエハが押し戻しピンに強く触れ、ゴ
ミが発生し、ウエハの上に載ってしまうことがある。そ
の為に、試料室1内でのウエハ上のパターン検査などに
支障を来すことになる。
【0021】又、前記押し出しピン29は図3に示す様
に、円錐台状の形状をしている為に、テーブルに極く僅
かな揺れが入っても、後者の場合には前者に比べて比較
的ウエハ3が押し戻しピン29からスムーズに離れる
が、前者の場合には、ウエハ3が押し戻しピン29に強
く触れるためにゴミが発生する。
【0022】そこで、テーブル7に載置されたウエハを
基台20の円筒部20A上に載せる場合、押し戻しピン
29と可動ピン30の間にウエハを下ろす様にする方法
があるが、その様にすると、キャリアからのウエハをテ
ーブル7に載せてホルダーにホールドさせる時と、ホル
ダに固定されているウエハ3をテーブル7に載せてキャ
リアに戻す時において、テーブル上のウエハの位置がず
れてしまい、この様なずれたテーブル上のウエハを搬送
機構のアーム(図示せず)に載せてキャリアに戻す時に
キャリアに接触する恐れがある。
【0023】本発明は、この様な問題を解決するもの
で、新規なウエハホルダを提供するものである。
【0024】
【課題を解決するための手段】 本発明のウエハホール
ダは、或る方向に移動可能に、且つその方向の両端部に
それぞれ押し戻しピンと可動ピンを有した可動板が取り
付けられており、前記可動ピンと共に接触することによ
り被描画材料をホールドするための1つ以上の固定ピン
が取り付けられている基台を有する被描画材料ホルダで
あって、基台上で前記何れのピンも被描画材料に接触し
ない状態を維持出来るように成したことを特徴としてい
る。
【0025】又、本発明のウエハホルダは、或る方向に
移動可能に、且つその方向の両端部にそれぞれ押し戻し
ピンと可動ピンを有した可動板が取り付けられており、
前記可動ピンと共に接触することにより被描画材料をホ
ールドするための1つ以上の固定ピンが取り付けられて
いる基台を有する被描画材料ホルダであって、前記可動
板との間にリンクが接続され且つ前記基台との間に弾性
体が接続された回転板を前記可動板上で回転可能に取り
付けることにより前記可動板が前記方向に移動出来るよ
うに成し、該方向に対し直交する方向に移動させること
により前記回転体を回転させるレバーを前記基台に取り
付け、該前記レバーの移動をコントロールする事により
前記回転板の回転をコントロールし、該コントロールに
より前記可動板の移動をコントロールするように成した
ことを特徴としている。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
【0027】図6及び図7は本発明の一例を示したもの
で、図6はウエハ3を固定(ホールド)した状態のホル
ダーを真上から見た図、図7はホルダーを真下から見た
図である。図中前記図2,3,4及び5にて使用した符
号と同一番号の付されたものは同一構成要素である。図
6,7と、図2,3,4及び5の構造の違いは次の通り
である。
【0028】図6及び図7においては、長穴27の近傍
の前記ラインL上に沿って弾性体が設けられていない。
その代わりに、円筒部20Bの外径より大きい孔を有す
る回転板40が可動板25の直ぐ下に重なるように、基
台の円筒部20Bにはめ込まれており、可動ピン30と
回転板40の間がリンク41で結ばれており、可動板2
5が常に2つの切り欠き部22と23を結ぶラインL上
に沿って図の下側方向に引っ張られる様に、基台の円筒
部20Bと回転板40の間にバネの如き弾性体42が接
続されている。
【0029】前記円筒部20Aの下面に、図8にも示す
様に、前記ラインLに直交するラインMに沿って移動可
能な軸43を通した軸受け44が取り付けられている。
この軸43の先端部には前記ラインMに直交する方向に
長穴45が開けられている。この長穴にはレバー46に
付けられたレバーピン47が移動可能に挿入されてい
る。前記レバー46は弓状に形成されており、一方の端
部が回転可能にねじ48で前記20Aの下面に止められ
ている。従って、前記ラインM上に設けられた押し棒4
9をラインMに沿って図の左側方向に移動させることに
より、前記軸43をラインMに沿って左側方向に押すこ
とになり、それにより、前記レバー46が前記ねじ48
を支点として前記回転板40の端部突出部40Tを押す
方向に移動する。尚、レバー46の他方の端部には押圧
球50が取り付けられている。 この様な構成のホルダ
の動作を次に説明する。
【0030】テーブル7に載せたウエハを固定(ホール
ド)する場合には、押し棒49により軸43をラインM
に沿って図の左方向に押す。すると、レバー46の先端
部に取り付けられた押圧球50がねじ48を支点として
大略時計方向に回転して回転板40の突出部40Tを押
圧する。すると、回転板40は時計方向に回転し始め、
それによりリンク41が上方に押され、それにより可動
板25がラインLに沿って図の上方向に移動する。そし
て、リンク41がラインL上に来た時、押し戻しピン2
9がウエハ3の周辺部に接触する位置に来て、他の可動
ピン30や固定ピン31′,32′,33′はウエハ3
の周辺部に接触しない位置に来る。更に、押し棒49に
より軸43をラインMに沿って図の左方向に押すと、可
動板25がラインLに沿って下方向に動き出し、リンク
41が最終位置(図7の位置にあるリンク41がライン
Lに対して線対称の位置に来た時の位置)に来た時、図
8に示す様に、可動板25は、ウエハの周辺部が押し戻
しピン29と可動ピン30のほぼ中間に来る位置に移動
する。
【0031】この状態で、テーブル7を下降させてウエ
ハ3を基台20の円筒部20Aの上面に載せる。そし
て、押し棒49をラインMに沿って図の右方向に移動さ
せると、レバー46,リンク41及び回転板40は前記
動きと逆の動きを行い、リンク41が初期位置(図6の
位置にあるリンクの位置で、押し棒49が軸43から離
れた時の位置)に来た時、図6,7に示す様に、ウエハ
3はその周辺部に可動ピン30や固定ピン31′,3
2′,33′接触し、この結果、ウエハ3はホルダに固
定されることになる。
【0032】又、ホルダに固定されているウエハをテー
ブル7上に載せる場合には、前記テーブル7に載せたウ
エハを固定(ホールド)する場合と同じ様に図8に示す
様に、ウエハの周辺部が押し戻しピン29と可動ピン3
0のほぼ中間に来る位置に来る様に可動板25を移動さ
せる。そして、この状態で、テーブル7を上昇させて、
ウエハ3をテーブル上面に載せる。
【0033】尚、回転板40に取り付ける弾性体として
は、バネに限定されず、弾性力の強い硬質のゴム部材で
も良い。
【0034】又、前記実施例では被描画材料としてオリ
フラ付きウエハを例に上げたが、ノッチ付きウエハ等他
の被描画材料ついても本発明が応用可能であることは言
うまでもない。
【0035】又、前記実施例では、走査電子顕微鏡によ
るウエハの検査の場合の予備室内のウエハホルダについ
て説明したが、荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画
や、走査電子顕微鏡などの他の荷電粒子ビーム装置の試
料観察,試料分析,試料測定等を行う場合の予備チャン
バー内の被描画材料ホルダについても本発明が応用可能
であることは言うまでもない。
【0036】以上説明した様に、本発明は、テーブルに
載置された被描画材料を前記基台上に載せたり、該基台
上に載置された被描画材料をテーブルに載せたりする時
に、基台上で前記何れのピンも被描画材料に接触せず、
しかも、基台上での被描画材料の位置が何れの場合にも
同一である様に成した。その為、テーブルに載置された
被描画材料を基台上に載せる場合、及びホルダに固定さ
れている被描画材料をテーブルに載せる場合、何れの場
合も押し戻しピンに触れることはない。又、キャリアか
らの被描画材料をテーブルに載せてホルダにホールドさ
せる時と、ホルダに固定されている被描画材料をテーブ
ルに載せてキャリアに戻す時において、テーブル上のウ
エハの位置が何れも同一なので、被描画材料をキャリア
に戻す時にキャリアに接触する恐れがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 走査電子顕微鏡による被描画材料を検査する
装置の概略を示している。
【図2】 従来の被描画材料ホルダーを真上から見た図
である。
【図3】 図2のA−A断面図を示している。
【図4】 図2の被描画材料ホルダーを真下から見た図
を示している。
【図5】 従来の被描画材料ホルダーを真上から見た図
である。
【図6】 本発明の一例を示しており、被描画材料を固
定したときの被描画材料ホルダーを真上から見た図であ
る。
【図7】 図6の被描画材料ホルダーを真下から見た図
を示している。
【図8】 本発明の一例を示しており、被描画材料の固
定を解いた時の被描画材料ホルダーを真上から見た図で
ある。ている
【図9】 図7の一部断面を表した図である。
【符号の説明】
1…試料室、2…ステージ、3…ウエハ、4…予備チャ
ンバー、5,10…ゲートバルブ、6…ホルダ、7,1
2…テーブル、8,13…駆動軸、9,14…ウエハ搬
送機構、11…キャリア、20…基台、20A,20B
…円筒体、21,24…孔、25…可動板、26,27
…長穴、28…弾性体、29…押し戻しピン、30…可
動ピン、31′,32′,33′…固定ピン、34…オ
リフラ、35…押し棒、40…回転板、41…リンク、
42…弾性体、43…軸、44…軸受け、45…長穴、
46…レバー、47…レバーピン、48…ねじ、49…
押し棒、50…押圧球

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 或る方向に移動可能に、且つその方向の
    両端部にそれぞれ押し戻しピンと可動ピンを有した可動
    板が取り付けられており、前記可動ピンと共に接触する
    ことにより被描画材料をホールドするための1つ以上の
    固定ピンが取り付けられている基台を有する被描画材料
    ホルダであって、基台上で前記何れのピンも被描画材料
    に接触しない状態を維持出来るように成した被描画材料
    ホルダ。
  2. 【請求項2】 或る方向に移動可能に、且つその方向の
    両端部にそれぞれ押し戻しピンと可動ピンを有した可動
    板が取り付けられており、前記可動ピンと共に接触する
    ことにより被描画材料をホールドするための1つ以上の
    固定ピンが取り付けられている基台を有する被描画材料
    ホルダであって、前記可動板との間にリンクが接続され
    且つ前記基台との間に弾性体が接続された回転板を前記
    可動板上で回転可能に取り付けることにより前記可動板
    が前記方向に移動出来るように成し、該方向に対し直交
    する方向に移動させることにより前記回転体を回転させ
    るレバーを前記基台に取り付け、該前記レバーの移動を
    コントロールする事により前記回転板の回転をコントロ
    ールし、該コントロールにより前記可動板の移動をコン
    トロールするように成した被描画材料ホルダ。
JP11047698A 1999-02-25 1999-02-25 被描画材料ホルダ Withdrawn JP2000251818A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002279924A (ja) * 2001-03-19 2002-09-27 Seiko Instruments Inc 大きな試料の観察・加工を可能とする集束イオンビーム装置
WO2003040708A1 (fr) * 2001-11-05 2003-05-15 Olympus Corporation Dispositif de retenue

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