JP2001074892A - コリメータ及びｘ線装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Ｘ線出射口からのＸ線の発散を大きく低減で
きるコリメータを提供する。 【解決手段】 Ｘ線の発散を抑えてＸ線を微小領域へ照
射するコリメータ３である。このコリメータ３は、発散
するＸ線を受け取るキャピラリチューブ２２と、キャピ
ラリチューブ２２のＸ線出射口２２ａに配設されたピン
ホール３３とを有する。キャピラリチューブ２２から出
るＸ線には平行Ｘ線ビーム成分以外に発散成分も含まれ
ている。平行Ｘ線ビーム成分はピンホール３３を通して
コリメータ３の外部へ微細径Ｄ４の平行Ｘ線ビームＲ２
として出射される。一方、発散成分はピンホール３３を
形成する枠部材、すなわちブロック部材３１によってそ
の進行が阻止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線の発散を抑え
てＸ線を微小領域へ照射するコリメータに関する。また
本発明は、そのコリメータを用いて構成されるＸ線装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、Ｘ線回折装置、蛍光Ｘ線装置、そ
の他各種のＸ線装置においてコリメータが必要に応じて
広く用いられている。このコリメータは、従来、例えば
図６に示すように、単にキャピラリチューブ５２だけに
よって構成されており、これにＸ線Ｒが入射する場合に
は、Ｘ線Ｒがキャピラリチューブ５２の内壁面で全反射
しながら進行してＸ線出射口５２ａから出射する。

【０００３】このキャピラリチューブすなわちコリメー
タ５２は、取り込んだＸ線Ｒを全反射してＸ線出射口５
２ａに取り出すことができるので強度の強いＸ線を取り
出すことができるものの、そのＸ線出射口５２ａからわ
ずかのＸ線の発散があり、そのため、コリメータ５２の
Ｘ線出射口５２ａからＸ線照射対象物までの距離が大き
い場合にはＸ線照射幅がコリメータ５２の径よりも大き
くなってしまうという問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑みて成されたものであって、Ｘ線出射口からのＸ
線の発散を大きく低減できるコリメータを提供すること
を目的とする。また、本発明は、試料の微小領域へ強度
の強いＸ線を照射できるＸ線装置を提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】（１） 上記の目的を達
成するため、本発明に係るコリメータは、Ｘ線の発散を
抑えてＸ線を微小領域へ照射するコリメータにおいて、
発散するＸ線を受け取るキャピラリチューブと、該キャ
ピラリチューブのＸ線出射口に配設されたピンホールと
を有することを特徴とする。

【０００６】この構成のコリメータによれば、例えば図
５に模式的に示すように、キャピラリチューブ２２から
出射するＸ線に発散がある場合には、その発散成分はピ
ンホール３３を形成する枠部分３５によって遮蔽されて
それ以降の進行が阻止され、コリメータ３から出射する
Ｘ線はピンホール３３の径に相当する平行ビームとな
る。従って、ピンホール３３の下流側（すなわち、図の
右側）には発散成分をほとんど含まない平行Ｘ線ビーム
を得ることができる。

【０００７】（２） 上記（１）項記載のコリメータに
おいて、前記ピンホールの径は前記キャピラリチューブ
の径に等しいかそれよりも小さいことが望ましい。こう
すれば、コリメータのＸ線出射口からのＸ線の発散をよ
り一層確実に防止できる。

【０００８】（３） 上記（１）項又は上記（２）項記
載のコリメータにおいて、前記ピンホールは前記キャピ
ラリチューブに対して着脱可能であることが望ましい。
こうすれば、ピンホールの交換だけでＸ線照射野の大き
さを調整することができる。

【０００９】（４） 上記（１）項から上記（３）項記
載のコリメータに関しては、前記キャピラリチューブを
支持するケーシングと、そのケーシングの先端に着脱可
能に取り付けられるチップ部材とを付加的に設けること
ができ、さらに、前記ピンホールを前記チップ部材に設
けることができる。この構成によれば、キャピラリチュ
ーブに対するピンホールの着脱構造を簡単且つ小型に形
成できる。

【００１０】（５） 上記（４）項記載のコリメータに
おいて、前記ケーシングには前記キャピラリチューブの
傾斜角度を調整するためのチューブ角度調整手段を追加
的に設けることが望ましい。こうすれば、キャピラリチ
ューブとピンホールとの間の相対的な角度を自由に調節
できる。

【００１１】（６） 次に、本発明に係るＸ線装置は、
Ｘ線を発生するＸ線源と、該Ｘ線から発生したＸ線を受
け取るコリメータとを有し、該コリメータから出射する
Ｘ線を試料へ照射するＸ線装置において、前記コリメー
タが上記（１）項から上記（５）項に記載のコリメータ
によって構成されることを特徴とする。このＸ線装置に
よれば、希望する試料の微小領域だけに正確にＸ線を照
射でき、そのため、微小領域だけからの回折Ｘ線情報等
を正確に取り出すことができる。

【００１２】（７） なお、上記各項記載のコリメータ
において、前記ピンホールは、複数のブロック部材のそ
れぞれに形成した短いピンホール部材をつなげることに
よって長い長さに形成することができる。ピンホールの
長さを長くすれば、その出射口に平行度の高いＸ線ビー
ムを得ることができる。

【００１３】しかしながら、ピンホールは、通常、非常
に細径、例えば直径０．０１ｍｍ程度の細径に形成され
るので、現在知られている加工方法では長さの長いピン
ホールを１つのブロック部材の内部に形成することは非
常に難しい。これに対し、ピンホールをこの（４）項に
記載のように形成すれば、特別な加工を施すことなく長
さの長いピンホールを形成できる。

【００１４】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係るコリメータ
の一実施形態を示し、同時に本発明に係るＸ線装置の一
例である微小部Ｘ線回折装置の一実施形態を示してい
る。なお、図１では微小部Ｘ線回折装置を模式的に示し
ており、これを構成する各要素の形状及び大きさは実際
のものとは異なっている。

【００１５】ここに示す微小部Ｘ線回折装置１は、Ｘ線
源Ｆを収納したＸ線管２と、Ｘ線源Ｆから発散するＸ線
の発散を制限して試料Ｓへ向けて平行Ｘ線ビームを出射
するコリメータ３と、試料Ｓからの回折Ｘ線を取り込む
一次元Ｘ線検出器としてのＰＳＰＣ（Position Sensiti
ve Proportional Counter：位置敏感型比例計数管）４
とを有する。

【００１６】試料Ｓはそれ自体が微小試料である場合も
あるし、あるいは、ある程度の大きさを有する試料の微
小領域である場合もある。Ｘ線源Ｆは、例えばポイント
フォーカスのＸ線焦点からＸ線を発生する。なお、Ｘ線
管２とコリメータ３の間のＸ線光軸上及びコリメータ３
と試料Ｓの間のＸ線光軸上には、必要に応じて、モノク
ロメータ、スリット等といったＸ線光学要素を配設する
ことができる。

【００１７】試料Ｓは、面内回転機構６によって支持さ
れ、その面内回転機構６はω回転機構７によって支持さ
れ、そしてそのω回転機構７はχ（カイ）回転機構８に
よって支持される。面内回転機構６は、試料ＳのＸ線照
射面を法線方向に横切る軸線、すなわちφ軸線を中心と
して試料Ｓを矢印Ａのように回転、いわゆる面内回転さ
せるための機構である。

【００１８】また、ω回転機構７は、φ軸線に直交して
試料ＳのＸ線照射面を通って図１の紙面垂直方向へ延び
る軸線、すなわちω軸線を中心として試料Ｓを矢印Ｂの
ように往復回転、すなわち揺動させるための機構であ
る。また、χ回転機構８は、ω軸線に直交する軸線であ
るχ軸線を中心として試料Ｓを矢印Ｃのように往復回
転、すなわち揺動させるための機構である。なお、図１
では、χ軸線をＸ線源Ｆから試料Ｓへ至るＸ線光軸の延
長線と一致するように設定しているが、χ軸線はＸ線光
軸に対して角度を持つように設定することもできる。

【００１９】ω軸線を中心とする矢印Ｂ方向への試料Ｓ
の回転は、試料Ｓに対するＸ線の入射角度θを調節する
ための回転である。また、χ軸線を中心とする矢印Ｃ方
向への揺動及びφ軸線を中心とする矢印Ａ方向への面内
回転は、試料Ｓ内の結晶粒の向きを入射Ｘ線に対して任
意化、すなわちランダマイズ化するための動きである。

【００２０】ＰＳＰＣ４は、周知の一次元Ｘ線検出器で
あり、例えば湾曲形状のケーシング９の内部に信号線１
１及びＸ線から電荷を誘導するための適宜の構造が格納
される。Ｘ線から電荷を誘導する構造としては、例え
ば、アノード線及びカソード線を信号線１１に平行に配
設する構造が考えられる。ケーシング９のうち試料Ｓに
対向する面には、Ｘ線の回折角度（２θ）方向の直線的
な広い範囲からＸ線を取り込むための細長い開口１２が
設けられる。

【００２１】ＰＳＰＣ４に取り込まれたＸ線の強度及び
回折角度を検知するためのＸ線演算回路１３は、信号線
１１の両端からの信号を入力する位置演算回路１４と、
その位置演算回路１４の出力信号をピーク波形の波高に
変換する位置／波高変換回路１６と、そして位置／波高
変換回路１６の出力信号に基づいて回折角度（２θ）に
関するＸ線強度分布を求めるＭＣＡ（Multi-Channel He
ight Analyzer：多重波高分析器）１７を含んで構成さ
れる。ＭＣＡ１７の出力端子には、必要に応じて、演算
結果を映像として表示するディスプレイ１８及び演算結
果を紙等といった印材上にプリントするプリンタ１９が
接続される。

【００２２】開口１２の適宜の位置を通してＰＳＰＣ４
の内部にＸ線が取り込まれると、そのＸ線によって電荷
が誘導され、その電荷に応じたパルス信号が信号線１１
の両端に現れる。これらのパルス信号は回折角度（２
θ）方向の距離に比例した時間差をもって出力されるよ
うになっており、位置演算回路１４はその時間差を測定
して、その時間差に応じた信号を出力する。この出力信
号は回折角度（２θ）方向におけるＸ線入射位置を示し
ている。

【００２３】位置／波高変換回路１６は、位置演算回路
１４によって演算された２θ角度位置情報に対応した波
高値のパルス信号を生成して出力する。ＭＣＡ１７は、
所定幅の測定ウィンドウを異なる波高値間で連続的に多
段階にわたってつなげることによって構成された多重波
高分析器であり、種々の波高値のパルス信号がそれに入
力されたときに、それらの波高値に対応するウィンドウ
を持ったチャンネル内でそのパルス信号をカウントする
ものである。ＰＳＰＣ４に取り込まれたＸ線の強度が強
ければ、ＭＣＡ１７内の同じチャンネルにカウントされ
る計数値が大きくなる。

【００２４】つまり、ＭＣＡ１７を構成する各チャンネ
ルの違いによって回折角度（２θ）を知ることができ、
さらに各チャンネルにカウントされたカウント値によっ
てＸ線の強度を知ることができる。その結果、ＭＣＡ１
７に接続されたディスプレイ１８又はプリンタ１９によ
って、回折角度（２θ）に関するＸ線強度分布を表示で
きる。

【００２５】図１において、コリメータ３は、筒状のケ
ーシング２１の内部に格納された細長い細管、すなわち
キャピラリチューブ２２と、ケーシング２１の先端、す
なわち図の左端に着脱可能に取り付けられたチップ部材
２３とを有する。チップ部材２３は、ケーシング２１の
先端に形成した開口２１ａに嵌合した状態で、適宜の固
定具（図示せず）によって固定されている。なお、特定
の固定具を使用しなくてもチップ部材２３の安定性が確
保できる場合には、固定具は不要である。

【００２６】ケーシング２１の適所には、図２に示すよ
うに、３個のネジ２４を３６０°の角度範囲で３等配の
角度位置に設けて形成されたチューブ支持機構２６が、
キャピラリチューブ２２の長手方向に関して適宜の距離
をおいて２個設けられている。この一対のチューブ支持
機構２６によって、キャピラリチューブ２２の長手方向
に関する傾斜角度を調整するためのチューブ角度調整装
置が構成されている。各チューブ支持機構２６内の希望
のネジ２４を締め又は緩めることにより、ケーシング２
１に対するキャピラリチューブ２２の全体的な位置及び
傾斜角度を希望通りに調整できる。

【００２７】なお、キャピラリチューブ２２を支持する
ためのチューブ支持機構及びキャピラリチューブ２２の
傾斜角度を調整するためのチューブ角度調整装置は、上
記のチューブ支持機構２６以外の他の任意の構造とする
こともできる。

【００２８】キャピラリチューブ２２は、例えば、ガラ
スによって形成されていて、その内径は、例えば直径
０．０１ｍｍ〜０．１ｍｍに形成されている。キャピラ
リチューブ２２のＸ線入射口、すなわち図１の右端口は
ケーシング２１に設けたＸ線取込み口２７に対応して配
置される。Ｘ線源Ｆから出て発散するＸ線Ｒ１は、ケー
シング２１のＸ線取込み口２７を通してキャピラリチュ
ーブ２２に取り込まれ、キャピラリチューブ２２の管壁
で全反射しながら図１の左方向へ進行する。

【００２９】ケーシング２１の先端に設けたチップ部材
２３には、図３に示すように、キャピラリチューブ２２
の内径Ｄ１よりも大きい径Ｄ２のＸ線通路２８が形成さ
れ、さらにそのＸ線通路の途中にピンホールブロック２
９が設けられている。ピンホールブロック２９は、図４
に示すように、２個のブロック部材３１を互いに背中合
わせに接合することによって形成されている。これらの
ブロック部材３１のほぼ中央には座ぐり凹部３２が形成
され、それらの座ぐり凹部３２の底面にピンホール３３
が形成されている。

【００３０】これらのピンホール３３の径Ｄ３は、要求
されるＸ線照射野に対応した細径に形成されるが、例え
ば直径０．０１ｍｍ又はそれ以下に形成される。通常の
場合、このピンホール径Ｄ３はキャピラリチューブ２２
の内径Ｄ１（図３参照）に等しいか又はそれよりも小さ
く形成される。なお、ブロック部材３１の材質は、特定
のものに限定されないが、例えば金（Ａｕ）等といった
Ｘ線を透過させない金属や、Ｘ線を透過させない樹脂等
によって形成される。特に、金によって形成すれば、加
工が非常に容易になる。

【００３１】２個のブロック部材３１を合わせることに
よって１個のピンホール３３を形成しているのは次の理
由による。すなわち、ピンホール３３の径は非常に小さ
いので、長さの長い１個のブロック部材３１に長さの長
いピンホールを加工することは非常に困難である。これ
に対し、長さの短い複数のブロック部材３１のそれぞれ
に長さの短いピンホール３３を形成した上で、それらの
ブロック部材３１を接合すれば、細径でありながら長さ
の長いピンホール３３を確実に形成できるからである。

【００３２】以下、上記構成より成る微小部Ｘ線回折装
置の動作について説明する。図１において、面内回転機
構６の試料支持部に測定対象となる試料Ｓを取り付け
る。次に、ω回転機構７を作動して試料Ｓに対するＸ線
の入射角度θを所定角度、例えば２０°〜３０°に設定
する。

【００３３】その後、面内回転機構６を作動して試料Ｓ
をφ軸線を中心として回転、すなわち面内回転させ、同
時にχ回転機構８を作動して試料Ｓをχ軸線を中心とし
て揺動回転させながら、Ｘ線源Ｆから放射されてコリメ
ータ３を通過して微小断面径の平行Ｘ線ビームに成形さ
れたＸ線を試料Ｓへ入射させる。このとき、入射したＸ
線と試料Ｓの結晶格子面との間でブラッグの回折条件が
満足されると、試料ＳでＸ線の回折が生じる。

【００３４】試料Ｓに入射するＸ線は微小領域に限られ
るので、その照射野に含まれる結晶粒は数が少ない。試
料Ｓが単結晶物質であれば、照射野に含まれる結晶粒は
１個である。それ故、その結晶粒から発生する回折Ｘ線
は特定の回折角度方向だけへ進むことになり、よって、
上記の面内回転及びχ回転を行わない場合には、試料Ｓ
からの回折Ｘ線をＰＳＰＣ４に取り込むことができない
ことが大きな頻度で発生する。

【００３５】上記のように、試料Ｓに関して面内回転及
びχ回転を行うのは、試料Ｓ内の結晶粒を入射Ｘ線に対
して任意化、すなわちランダマイズ化することにより、
Ｘ線照射野内に含まれる結晶粒の数が少ない場合でもそ
の結晶粒から発生する回折Ｘ線をＰＳＰＣ４によって確
実に検出できるようにするためである。

【００３６】試料Ｓからの回折Ｘ線がＰＳＰＣ４の開口
１２を通してその内部に取り込まれると、当該回折Ｘ線
の回折角度に対応する位置の信号線１１に電荷が誘導さ
れ、その位置からの距離に応じた時間差をもって信号線
１１の両端にパルス信号が出力され、それらの出力信号
に基づいて位置演算回路１４によって回折角度（２θ）
が演算される。

【００３７】そして、その演算された回折角度が位置／
波高変換回路１６によって特定の波高値を有するパルス
信号に変換され、さらに、ＭＣＡ１７においてその波高
値に対応したチャンネルにカウント値が加算される。こ
うしてＭＣＡ１７の各チャンネルに記憶されたカウント
合計値を調べることにより、試料Ｓからの回折Ｘ線の回
折角度及びＸ線強度を知ることができる。この測定結果
は、ディスプレイ１８によって映像として表示された
り、あるいはプリンタ１９によって印材上にプリントさ
れる。

【００３８】本実施形態で用いるコリメータ３において
は、図３に示したように、キャピラリチューブ２２のＸ
線出射口２２ａの下流側（すなわち、図の左側）位置に
ピンホール３３を配置したので、キャピラリチューブ２
２の管壁で全反射してＸ線出射口２２ａから出射するＸ
線に発散成分が含まれる場合には、その発散成分はピン
ホール３３を形成している枠部分、すなわちブロック部
材３１によってその進行を阻止され、よって、ピンホー
ル３３の外部へ出るＸ線Ｒ２は、断面径Ｄ４が非常に狭
い正確な平行Ｘ線ビームとして成形される。

【００３９】この場合、キャピラリチューブ２２から出
射するＸ線はほとんどが平行成分であって発散成分の量
は非常に少ない。よって、ピンホール３３の出射側に得
られる平行Ｘ線ビームの強度はキャピラリチューブ２２
からの出射Ｘ線の強度に比べて大きな減衰はない。従っ
て、本コリメータ３の出射側には、発散成分が少なくて
強度の強い微細径の平行Ｘ線ビームを得ることができ
る。

【００４０】こうしてコリメータ３の出射側に強度の強
い微細径の平行Ｘ線ビームが得られれば、このＸ線ビー
ムを図１において試料Ｓへ照射することにより、強度の
強いＸ線を該試料Ｓの微小領域だけに正確に照射するこ
とができ、その結果、該微小領域から正確なＸ線情報を
得ることができる。

【００４１】なお、図４におけるピンホール径Ｄ３を図
３におけるキャピラリチューブ２２の内径Ｄ１に等しい
か、又はそれよりも小さく形成しておけば、キャピラリ
チューブ２２から出射するＸ線のうちの発散成分を極め
て確実に除去して、より一層正確な微細径の平行Ｘ線ビ
ームをコリメータ３の出射口に得ることができる。

【００４２】また、本実施形態のコリメータ３では、図
３において、チップ部材２３をケーシング２１に対して
着脱することにより、ピンホール３３を極めて簡単に別
のものと交換できる。これにより、ピンホール３３に何
等かの不都合が生じた場合にはこれを正常なものへと簡
単に交換できる。また、試料Ｓに対するＸ線照射野の大
きさを変化させたい場合には、キャピラリチューブ２２
を交換することなくチップ部材２３の交換だけでその要
求に応えることができる。

【００４３】また、図１に示すように、本実施形態のコ
リメータ３には、等角度に分配して配置した３個のネジ
２４を用いた一対のチューブ支持機構２６をキャピラリ
チューブ２２の長手方向に互いに間隔をおいて配設する
ことにより、キャピラリチューブ２２の全体的な位置及
び傾斜角度を調節するためのチューブ角度調整装置を設
けてあるので、図１においてＸ線源Ｆから試料Ｓへ至る
Ｘ線光軸上にキャピラリチューブ２２を正確に位置合わ
せすることができる。これにより、キャピラリチューブ
２２とピンホール３３の相対的な位置関係を希望通りに
調整することができる。

【００４４】以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を
説明したが、本発明はその実施形態に限定されるもので
なく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変
できる。

【００４５】例えば、図１において、コリメータ３を構
成するケーシング２１の形状は図示のような筒形状に限
られず、必要に応じてその他の任意の形状とすることが
できる。また、本発明のコリメータは微小部Ｘ線回折装
置に用いることに限らず、その他任意のＸ線装置に用い
ることができる。

【００４６】

【発明の効果】本発明に係るコリメータによれば、キャ
ピラリチューブから出射するＸ線に発散がある場合に
は、その発散成分はピンホールを形成する枠部分によっ
て遮蔽されてそれ以降の進行が阻止され、コリメータか
ら出射するＸ線はピンホールを通過したＸ線ということ
になる。これにより、ほぼピンホールの内径に相当し、
発散成分をほとんど含まない微細径の平行Ｘ線ビームを
コリメータの出射口に得ることができる。

【００４７】また、本発明に係るＸ線装置によれば、上
記本発明に係るコリメータを用いることにより、発散成
分をほとんど含まない微細径の平行Ｘ線ビームを微小試
料又は試料の微小領域へ照射することができ、その結
果、該微小領域から正確なＸ線情報を得ることが可能に
なった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るコリメータの一実施形態の側面断
面構造を示すと共に本発明に係るＸ線装置の一実施形態
を模式的に示す図である。

【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に従ってコリメータの断面
構造を示す断面図である。

【図３】図１のコリメータの主要部を拡大して示す断面
図である。

【図４】図３に示す断面構造の主要部であるピンホール
ブロックの断面構造を示す断面図である。

【図５】本発明に係るコリメータの構造を模式的に示す
断面図である。

【図６】従来のコリメータの一例を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 微小部Ｘ線回折装置（Ｘ線装置） ２ Ｘ線管 ３ コリメータ ４ ＰＳＰＣ ６ 面内回転機構 ７ ω回転機構 ８ χ回転機構 ２１ ケーシング ２１ａ ケーシングの先端開口 ２２ キャピラリチューブ ２２ａ キャピラリチューブのＸ線出射口 ２３ チップ部材 ２４ ネジ ２６ チューブ支持機構（チューブ角度調整
手段） ２７ ケーシングのＸ線取込み口 ２８ チップ部材のＸ線通路 ２９ ピンホールブロック ３１ ブロック部材 ３２ 座ぐり凹部 ３３ ピンホール Ｄ１ キャピラリチューブ内径 Ｄ２ チップ部材のＸ線通路の内径 Ｄ３ ピンホール内径 Ｄ４ 出射Ｘ線ビームの断面径 Ｆ Ｘ線源 Ｒ１，Ｒ２ Ｘ線 Ｓ 試料

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩崎 吉男 東京都昭島市松原町３丁目９番12号 理学 電機株式会社拝島工場内 (72)発明者 藤田 真史 東京都昭島市松原町３丁目９番12号 理学 電機株式会社拝島工場内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ｘ線の発散を抑えてＸ線を微小領域へ照
   射するコリメータにおいて、発散するＸ線を受け取るキ
   ャピラリチューブと、該キャピラリチューブのＸ線出射
   口に配設されたピンホールとを有することを特徴とする
   コリメータ。
2. 【請求項２】 請求項１において、前記ピンホールの径
   は前記キャピラリチューブの径に等しいかそれよりも小
   さいことを特徴とするコリメータ。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、前記ピ
   ンホールは前記キャピラリチューブに対して着脱可能で
   あることを特徴とするコリメータ。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３の少なくともいず
   れか１つにおいて、前記キャピラリチューブを支持する
   ケーシングと、そのケーシングの先端に着脱可能に取り
   付けられるチップ部材とを有し、前記ピンホールは該チ
   ップ部材に設けられることを特徴とするコリメータ。
5. 【請求項５】 請求項４において、前記ケーシングには
   前記キャピラリチューブの傾斜角度を調整するためのチ
   ューブ角度調整手段が付設されることを特徴とするコリ
   メータ。
6. 【請求項６】 Ｘ線を発生するＸ線源と、該Ｘ線から発
   生したＸ線を受け取るコリメータとを有し、該コリメー
   タから出射するＸ線を試料へ照射するＸ線装置におい
   て、前記コリメータは請求項１から請求項５の少なくと
   もいずれか１つに記載のコリメータによって構成される
   ことを特徴とするＸ線装置。