JP2001074437A5

JP2001074437A5 -

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Publication number: JP2001074437A5
Application number: JP1999247250A
Authority: JP
Filing date: 1999-09-01
Publication date: 2005-01-06
Anticipated expiration: 2019-09-01

Description

【００１５】
即ち、本発明の請求項１に記載の第1の発明は、第１の動作モードと第２の動作モードで動作することが可能な回路パターン検査装置であって、電子ビームを放出する電子源と、被検査試料を載置する試料ステージと、前記電子ビームを前記被検査試料上で走査する電子光学系と、前記被検査試料から発生する二次電子を検出する検出器と、該検出器により検出された信号から前記被検査試料の画像を生成し、該画像を解析して欠陥の有無を判定する演算手段と、前記第１の動作モードと前記第２の動作モードにおける前記電子光学系の設定条件が格納される記憶手段とを有し、前記第１の動作モードにおいては、前記電子光学系の電子ビーム電流が第１の条件に設定され、前記電子ビームは試料上を第１の速度で走査され、前記第２の動作モードにおいては、前記電子光学系の電子ビーム電流が前記第１の条件よりも小さい第２の値に設定され、前記電子ビームは試料上を前記第１の速度よりも小さな第２の速度で走査されることを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００１６】
また、本発明の請求項２に記載の第２の発明は、請求項１に記載の回路パターン検査装置において、前記第２の動作モードにおいて電子ビームが走査される領域の大きさは、前記第２の動作モードにおいて電子ビームが走査される領域の大きさよりも小さいことを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００１７】
また、本発明の請求項３に記載の第３の発明は、請求項１に記載の回路パターン検査装置において、前記第２の動作モードで生成される画像を形成する最小画素のサイズは、前記第１の動作モードで生成される画像を構成する最小画素のサイズよりも小さいことを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００１８】
また、本発明の請求項４に記載の第４の発明は、請求項１に記載の回路パターン検査装置において、前記第２の動作モードにおける、電子ビームの試料上でのスポットサイズが、前記第２の動作モードにおける場合よりも小さいことを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００１９】
また、本発明の請求項５に記載の第５の発明は、請求項１に記載の回路パターン検査装置において、前記電子光学系は、対物レンズと、当該対物レンズに比べて前記電子源側に配置された第２のレンズとを備え、前記第２の動作モードにおいては、該第２のレンズが調整されて前記電子光学系の倍率が所定の値に設定されることを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００２０】
また、本発明の請求項６に記載の第６の発明は、請求項５に記載の回路パターン検査装置において、前記電子光学系は、直径の異なる開口を持った複数の絞りと、該複数の絞りの切換手段とを有し、前記第２の動作モードにおいては、前記第１の動作モードよりも、開口の直径が小さな絞りに切り替られることを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００２１】
また、本発明の請求項７に記載の第７の発明は、請求項５に記載の回路パターン検査装置において、前記第２のレンズとしてコンデンサレンズを備え、前記第２の動作モードにおいて前記電子ビームが形成するクロスオーバの位置は、前記第１の動作モードにおいて前記電子ビームが形成するクロスオーバの位置と異なることを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００２２】
また、本発明の請求項８に記載の第８の発明は、請求項１に記載の回路パターン検査装置において、前記被検査試料上の１の箇所から得られた画像と、前記１の箇所とは異なる他の箇所から得られた画像とを比較し、両画像信号間の差を検出する手段と、前記電子光学系の倍率、電子ビームの電流値、電子ビームの走査速度および演算部での画像の加算回数を切り替える手段とを備え、前記第１の動作モードで取得された該両画像信号間の差に応じて、前記第２の動作モードにおける前記電子光学系の倍率、電子ビームの電流値、電子ビームの走査速度および演算部での画像の加算回数を設定することを特徴とする回路パターン検査装置である。

【００２３】
また、本発明の請求項９に記載の第９の発明は、電子源から放出された電子ビームを、電子レンズにより収束し，かつ試料上に照射して走査する電子光学系と、該試料を載せ、該試料上の所望の位置に電子ビームが照射されるように移動可能なステージと、前記試料の照射された箇所より得られる後方散乱電子または二次電子を検出する検出器と、前記検出器からの出力を第１の増幅率で増幅する第１の回路と、前記検出器からの出力を前記第１の増幅率より大なる増幅率で増幅する増幅器と高周波成分カットフィルタとを備えた第２の回路と、該検出器からの検出信号を基に前記試料の画像を形成する画像形成装置と、該画像形成装置で得られた画像信号を、前記試料上の他の場所から同様にして得られた画像信号と比較し、両画像信号間の差を検出する手段と、前記電子ビームを前記試料上を比較的大面積，比較的大電流，比較的高速度で走査する第１の場合の前記検出器からの出力を前記第１の回路に入力し、前記電子ビームを前記試料上を前記比較的大面積より小さい小面積，前記比較的大電流より小さい小電流，前記比較的高速度より遅い低速度で走査する第２の場合の前記検出器からの出力を前記第２の回路に切替え入力する切替え手段とを備えた回路パターン検査装置である。

Claims

第１の動作モードと第２の動作モードで動作することが可能な回路パターン検査装置であって、
電子ビームを放出する電子源と、
被検査試料を載置する試料ステージと、
前記電子ビームを前記被検査試料上で走査する電子光学系と、
前記被検査試料から発生する二次電子を検出する検出器と、
該検出器により検出された信号から前記被検査試料の画像を生成し、該画像を解析して欠陥の有無を判定する演算手段と、
前記第１の動作モードと前記第２の動作モードにおける前記電子光学系の設定条件が格納される記憶手段とを有し、
前記第１の動作モードにおいては、前記電子光学系の電子ビーム電流が第１の条件に設定され、前記電子ビームは試料上を第１の速度で走査され、
前記第２の動作モードにおいては、前記電子光学系の電子ビーム電流が前記第１の条件よりも小さい第２の値に設定され、前記電子ビームは試料上を前記第１の速度よりも小さな第２の速度で走査されることを特徴とする回路パターン検査装置。
請求項１に記載の回路パターン検査装置において、
前記第２の動作モードにおいて電子ビームが走査される領域の大きさは、前記第２の動作モードにおいて電子ビームが走査される領域の大きさよりも小さいことを特徴とする回路パターン検査装置。
請求項１に記載の回路パターン検査装置において、
前記第２の動作モードで生成される画像を形成する最小画素のサイズは、前記第１の動作モードで生成される画像を構成する最小画素のサイズよりも小さいことを特徴とする回路パターン検査装置。
請求項１に記載の回路パターン検査装置において、
前記第２の動作モードにおける、電子ビームの試料上でのスポットサイズが、前記第２の動作モードにおける場合よりも小さいことを特徴とする回路パターン検査装置。
請求項１に記載の回路パターン検査装置において、
前記電子光学系は、対物レンズと、当該対物レンズに比べて前記電子源側に配置された第２のレンズとを備え、
前記第２の動作モードにおいては、該第２のレンズが調整されて前記電子光学系の倍率が所定の値に設定されることを特徴とする回路パターン検査装置。
請求項５に記載の回路パターン検査装置において、
前記電子光学系は、直径の異なる開口を持った複数の絞りと、該複数の絞りの切換手段とを有し、
前記第２の動作モードにおいては、前記第１の動作モードよりも、開口の直径が小さな絞りに切り替られることを特徴とする回路パターン検査装置。
請求項５に記載の回路パターン検査装置において、
前記第２のレンズとしてコンデンサレンズを備え、
前記第２の動作モードにおいて前記電子ビームが形成するクロスオーバの位置は、前記第１の動作モードにおいて前記電子ビームが形成するクロスオーバの位置と異なることを特徴とする回路パターン検査装置。
請求項１に記載の回路パターン検査装置において、
前記被検査試料上の１の箇所から得られた画像と、前記１の箇所とは異なる他の箇所から得られた画像とを比較し、両画像信号間の差を検出する手段と、
前記電子光学系の倍率、電子ビームの電流値、電子ビームの走査速度および演算部での画像の加算回数を切り替える手段とを備え、
前記第１の動作モードで取得された該両画像信号間の差に応じて、前記第２の動作モードにおける前記電子光学系の倍率、電子ビームの電流値、電子ビームの走査速度および演算部での画像の加算回数を設定することを特徴とする回路パターン検査装置。
電子源から放出された電子ビームを、電子レンズにより収束し，かつ試料上に照射して走査する電子光学系と、
該試料を載せ、該試料上の所望の位置に電子ビームが照射されるように移動可能なステージと、
前記試料の照射された箇所より得られる後方散乱電子または二次電子を検出する検出器と、
前記検出器からの出力を第１の増幅率で増幅する第１の回路と、
前記検出器からの出力を前記第１の増幅率より大なる増幅率で増幅する増幅器と高周波成分カットフィルタとを備えた第２の回路と、
該検出器からの検出信号を基に前記試料の画像を形成する画像形成装置と、
該画像形成装置で得られた画像信号を、前記試料上の他の場所から同様にして得られた画像信号と比較し、両画像信号間の差を検出する手段と、
前記電子ビームを前記試料上を比較的大面積，比較的大電流，比較的高速度で走査する第１の場合の前記検出器からの出力を前記第１の回路に入力し、前記電子ビームを前記試料上を前記比較的大面積より小さい小面積，前記比較的大電流より小さい小電流，前記比較的高速度より遅い低速度で走査する第２の場合の前記検出器からの出力を前記第２の回路に切替え入力する切替え手段とを備えた回路パターン検査装置。