JP2001068323A - 粉末成形軟磁性材料 - Google Patents

粉末成形軟磁性材料

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JP2001068323A
JP2001068323A JP24030999A JP24030999A JP2001068323A JP 2001068323 A JP2001068323 A JP 2001068323A JP 24030999 A JP24030999 A JP 24030999A JP 24030999 A JP24030999 A JP 24030999A JP 2001068323 A JP2001068323 A JP 2001068323A
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JP
Japan
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soft magnetic
area
less
magnetic material
powder
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JP24030999A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Omori
森 浩 志 大
Tatsuya Tomioka
岡 達 也 冨
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Daido Steel Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 打ち抜き加工性が改善された粉末成形軟磁性
材料を提供する。 【解決手段】 打ち抜き加工性改善のためにミクロポア
の含有率が0.01面積%超過1面積%未満であるもの
とし、さらには冷間圧延加工性をも改善するために結晶
粒径が100μm以下であるものとした粉末成形軟磁性
材料。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、粉末成形軟磁性材料に係わり、とくに、粉末
成形により成形加工されていると共に打ち抜き加工に際
して割れやかえり等の不具合の発生が少ない打ち抜き加
工性が改善された粉末成形軟磁性材料に関するものであ
る。
【0001】
【従来の技術】従来、軟磁性材料としては、パーマロ
イ,珪素鋼板,センダスト等の各種のものがある。
【0002】このうち、例えば、珪素鋼板は、Si含有
量6.5重量%近辺であるときがその磁歪が最小であっ
て好ましい組成のものであるといえるが、このFe−S
i系材料においてはSi含有量が多くなるにつれて加工
性が悪くなり、4.5重量%を超えると冷間圧延加工が
不可能になる。
【0003】そこで、例えば、加工性の良いFe−3重
量%Si合金を冷間圧延加工により成形して薄板とし、
SiCl4等の使用によるSi含有雰囲気中で加熱する
ことによって表面のSi含有量を高めたあと加熱してS
iを拡散することにより全体的にSi含有量を6.5重
量%とする方法も考えられたが、コスト高になるという
問題点があった。
【0004】また、粉末冶金の手法によりFe−6.5
重量%Siの薄板を製造することも種々試みられている
が、高Si含有量であるため冷間加工性が劣り、例えば
打ち抜き加工した場合には割れやかえりなどの不具合の
発生量が多くなるという問題点があった。
【0005】
【発明の目的】本発明は、このような従来の問題点を解
消するためになされたものであって、打ち抜き加工性が
より一層改善されたFe−6.5重量%Si等の粉末成
形軟磁性材料を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる打ち抜き
加工性が改善された粉末成形軟磁性材料は、請求項1に
記載しているように、ミクロポアの含有率が0.01面
積%超過1面積%未満であるものとしたことを特徴とし
ている。
【0007】そして、本発明に係わる打ち抜き加工性が
改善された粉末成形軟磁性材料においては、請求項2に
記載しているように、結晶粒径が100μm以下である
ものとして冷間圧延加工性をも改善されたものとするこ
とができる。
【0008】同じく、本発明に係わる打ち抜き加工性が
改善された粉末成形軟磁性材料は、請求項3に記載して
いるように、板厚が0.3mm以下であるものとするこ
とがより望ましい。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明に係わる粉末成形軟磁性材
料は、ミクロポアの含有率が0.01面積%超過1面積
%未満であるものとしているが、この場合、ミクロポア
の含有率が0.01面積%以下であると打ち抜き加工性
が改善されたものとはなりがたく、0.02面積%以上
ないしは0.03面積%以上とするのがより好ましい
が、反対に、1面積%以上であると軟磁性材料としての
磁気特性に悪影響を及ぼすこととなるので好ましくは、
0.3面積%以下ないは0.2面積%以下とするのがよ
り望ましい。
【0010】また、打ち抜き加工性を改善するほか冷間
圧延加工性をも改善したものとする場合には結晶粒径を
100μm以下とすることが望ましく、さらには80μ
m以下とすることが望ましい。
【0011】さらに、板厚が大きいと打ち抜き加工性が
低下すると共に、渦電流損失が大きなものとなるので板
厚は0.3mm以下であるものとすることがより望まし
い。
【0012】さらにまた、本発明が適用される軟磁性材
料としては、Fe−Si系,Fe−Cr系等従来既知の
ものがあるが、例えば、Fe−Si系の場合にはSi含
有量4.5重量%以上12重量%以下であるものとする
ことがより望ましく、Si含有量が4.5重量%よりも
少ないと磁歪が大きくなり電気抵抗も低くなるので交流
用の軟磁性材料として好ましくないものとなる。また、
Si含有量が4.5重量%のものは通常の溶解法により
製造した熱間圧延材を冷間圧延することによって製造可
能であり、本プロセスを適用する必要性はない。他方、
Si含有量が12重量%よりも多いと飽和磁速密度の低
下に加え電気抵抗が低下するので好ましくなく、8重量
%以下とするのがより好ましい。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこのような実施例のみに限定されないことはい
うまでもない。
【0014】(実施例1〜4)Fe粉末とFe−18重
量%Si粉末とをFe−6.5重量%Siの組成となる
ように配合して混合したのち粉末圧延し、Ar雰囲気中
1300℃×5分の焼結を行ったのち圧下率5%の冷間
圧延を行ってFe−6.5重量%組成の軟磁性珪素鋼板
を得た。
【0015】そして、得られた軟磁性珪素鋼板における
詳細成分組成,ミクロポアの含有率および結晶粒径を調
べたところ、表1の実施例1〜4の欄に示す結果であっ
た。
【0016】(比較例1)Fe粉末とFe−18重量%
Si粉末とをFe−6.5重量%Siの組成となるよう
に配合して混合したのち粉末圧延し、Ar雰囲気中10
50℃×5分の低温焼結を行ったのち圧下率15%の冷
間圧延を行い、さらに1300℃×5分の高温焼鈍を施
したのち圧下率5%の冷間圧延を行い、さらに750℃
で焼鈍を施したあと圧下率5%の冷間圧延を行ってFe
−6.5重量%組成の軟磁性珪素鋼板を得た。
【0017】そして、得られた軟磁性珪素鋼板における
詳細な成分組成,ミクロポアの含有率および結晶粒径を
調べたところ、表1の比較例1の欄に示す結果であっ
た。
【0018】(比較例2)Fe−3重量%Siよりなる
珪素鋼板について、SiCl4を使用したCVDA法に
より表面のSi含有量を高め、次いで、1200℃で2
0分の拡散処理を施して全体のSi含有量が6.5重量
%となるようにした。
【0019】そして、ここで得られた軟磁性珪素鋼板に
おける詳細な成分組成,ミクロポアの含有率および結晶
粒径を調べたところ、表1の比較例2の欄に示す結果で
あった。
【0020】(比較例3)実施例1で得た軟磁性珪素鋼
板に対し1300℃で2時間の高温焼鈍を施して結晶粒
を調整したのち冷間圧延を行おうとしたところ、帯状に
圧延することはできなかった。
【0021】(比較例4)実施例1で得た軟磁性珪素鋼
板に対し1300℃で4時間の高温焼鈍を施して結晶粒
を調整したのち冷間圧延を行おうとしたところ、帯状に
圧延することはできなかった。
【0022】
【表1】 (抗折試験結果)実施例1〜4および比較例1〜4で得
たFe−6.5重量%Si珪素鋼板について、抗折試験
を行うにあたり、試験片形状として、幅5mm,厚さ
0.2mm,長さ40mmのものを用い、標点間距離を
25mmにして抗折力およびたわみ量を測定したこと
ろ、表2に示すような結果であった。
【0023】
【表2】 表2に示すように、実施例1〜4および比較例1〜2で
は抗折力が大きなものであったが、比較例3〜4では抗
折力が低いものとなっていた。
【0024】また、実施例1〜4および比較例1のもの
ではたわみ量が多いものであったが、比較例2〜4では
たわみ量が少ないものとなっていた。
【0025】(直流磁気特性)実施例1〜4および比較
例1〜2で得たFe−6.5重量%Si珪素鋼板につい
て、直流磁気特性を調べたところ、表3に示すとおりで
あった。
【0026】
【表3】 表3に示すように、ミクロポア含有率による直流磁気特
性への若干の影響が認められた。
【0027】(交流磁気特性)実施例1〜4および比較
例1〜2で得たFe−6.5重量%Si珪素鋼板につい
て、交流磁気特性を調べたところ、表4に示すとおりで
あった。
【0028】
【表4】 表4に示すように、ミクロポア含有率による交流磁気特
性への影響は大きく認められなかった。
【0029】(打ち抜き性)実施例1〜4および比較例
1〜2で得たFe−6.5重量%Si珪素鋼板につい
て、JIS C 2550(電磁鋼板試験方法)で測定
する“切断かえり測定”により打ち抜き性を評価したと
ころ、表5に示す結果であった。
【0030】
【表5】 表5に示すように、実施例1〜4ではかえり高さが比較
的小さいのに対し、比較例1,2ではかえり高さが比較
的大きなものとなっていた。
【0031】
【発明の効果】本発明による粉末成形軟磁性材料では、
請求項1に記載しているように、ミクロポアの含有率が
0.01面積%超過1面積%未満であるものとしたこと
により、打ち抜き加工性が改善された粉末成形軟磁性材
料を提供することが可能であるという著しく優れた効果
がもたらされる。
【0032】そして、請求項2に記載しているように、
結晶粒径が100μm以下であるものとすることによっ
て、打ち抜き加工性のほか冷間圧延加工性をも改善され
た粉末成形軟磁性材料を提供することが可能であるとい
う著大なる効果がもたらされる。
【0033】そしてまた、請求項3に記載しているよう
に、板厚が0.3mm以下であるものとすることによっ
て、渦電流損失を大きくすることなく打ち抜き加工性が
改善された粉末成形軟磁性材料を提供することが可能で
あるという著大なる効果がもたらされる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ミクロポアの含有率が0.01面積%超
    過1面積%未満であることを特徴とする打ち抜き加工性
    が改善された粉末成形軟磁性材料。
  2. 【請求項2】 結晶粒径が100μm以下であることを
    特徴とする請求項1に記載の冷間圧延加工性および打ち
    抜き加工性が改善された粉末成形軟磁性材料。
  3. 【請求項3】 板厚が0.3mm以下であることを特徴
    とする請求項1または2に記載の打ち抜き加工性が改善
    された粉末成形軟磁性材料。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005038830A1 (ja) * 2003-10-15 2005-04-28 Sumitomo Electric Industries, Ltd. 軟磁性材料および圧粉磁心

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2005038830A1 (ja) * 2003-10-15 2005-04-28 Sumitomo Electric Industries, Ltd. 軟磁性材料および圧粉磁心
US7588648B2 (en) 2003-10-15 2009-09-15 Sumitomo Electric Industries, Inc. Soft magnetism material and powder magnetic core

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