JP2001066734A - 写真用支持体及びその製造方法並びに写真感光材料 - Google Patents

写真用支持体及びその製造方法並びに写真感光材料

Info

Publication number
JP2001066734A
JP2001066734A JP23924499A JP23924499A JP2001066734A JP 2001066734 A JP2001066734 A JP 2001066734A JP 23924499 A JP23924499 A JP 23924499A JP 23924499 A JP23924499 A JP 23924499A JP 2001066734 A JP2001066734 A JP 2001066734A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
heat treatment
photographic
film
difference
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23924499A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Onuma
憲司 大沼
Hidetoshi Ezure
秀敏 江連
Yuji Hosoi
勇治 細井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP23924499A priority Critical patent/JP2001066734A/ja
Publication of JP2001066734A publication Critical patent/JP2001066734A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】熱現像写真感光材料用として最適な熱寸法安定
性、熱処理寸法ズレ抑制性を有する写真用支持体及びそ
の製造方法並びに写真感光材料を提供する。 【解決手段】製膜後の幅方向における中央部と端部の配
向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステルフィ
ルムを、両端の配向角の差が25度以下となるように2
以上に切断した後、熱処理することを特徴とする写真用
支持体の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は写真用支持体及びそ
の製造方法並びに写真感光材料に関し、詳しくは写真感
光材料、特に熱現像写真感光材料用として最適な熱寸法
安定性、熱処理寸法ズレ抑制性を有する写真用支持体及
びその製造方法並びに写真感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、印刷製版や医療の分野では、画像
形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題と
なっており、近年では環境保全、省スペースの観点から
も処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザ
ー・イメージセッターやレーザーイメージャーにより効
率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形成
することができる写真技術用途の光熱写真材料に関する
技術が必要とされている。この技術として、例えば、米
国特許第3,152,904号、同3,487,075
号及びD.モーガン(Morgan)による「ドライシ
ルバー写真材料(Dry Silver Photog
raphic Materials)」(Handbo
ok of Imaging Materials,
Marcel Dekker,Inc.第48頁,19
91)等に記載の方法が良く知られている。これらの感
光材料は通常、80℃以上の温度で現像が行われるの
で、熱現像感光材料と呼ばれている。
【0003】80℃以上の高温で現像されると、熱現像
後の感光材料の寸法変化が、従来の湿式現像の感材に比
べて大きく、実用上問題となる。ここでいう高温下での
感光材料の寸法変化は、感光層が塗布されている支持体
の寸法変化の寄与が大きく、寸法変化の少ない熱現像感
光材料を得るには支持体の熱寸法安定化技術が不可欠と
なる。
【0004】通常、熱現像される温度よりも高いガラス
転移温度を持つポリエチレンアリレート、ポリカーボネ
ートなどの樹脂からなる支持体を用いれば、ここで懸念
される熱による寸法変化は少なくて済むことが知られて
いるが、これらの樹脂を用いた写真用支持体は印刷感
材、医用フィルムとしての実績が少なく、また市場の流
通量も少ないためコスト面で実用的でない。
【0005】フィルムの熱寸法安定性を改良する方法と
して、特開平3−275332号公報に記載されている
ような製膜中の熱固定後に弛緩処理する方法が知られて
いる。しかし、このようなフィルムを写真用支持体とし
て用いた場合、感光層をはじめとする各層の塗布乾燥処
理での熱処理を行うと、熱収縮率が大きく変わってしま
い、その結果として感光材料の画質が著しく低下する。
【0006】特に、Y版、M版、C版、B版のように多
版重ね合わせを必要とするカラー印刷用製版感材にとっ
ては、この熱による寸法変化がとくに大きな問題とな
る。元となる画像を色分解して版を作成し、多版重ね合
わせでカラー画像を形成する場合、各版ごとの寸法変化
が許容範囲を越えると、重ね合わせた場合に元の画像の
色が再現できない、すなわち寸法ズレが発生する。
【0007】この寸法ズレを改良する方法として、支持
体のアニーリング処理での物性変化において寸法変化の
絶対値を小さくする方法が特開昭63−305349号
に提案されているが、高温条件下でローラー搬送される
熱現像処理機での使用等の熱処理による場合には十分で
ない。
【0008】また、支持体の配向性に着目し、各版ごと
の熱による支持体寸法変化のズレの相対値を小さくする
ように配向角を規定する方法が、特開平5−27374
3号、特開平7−43898号に提案されている。これ
らの配向角を規定する方法は、懸念される寸法ズレを改
良することはできるが、二軸延伸フィルムを支持体とし
た場合、用いることができる部分が製膜幅方向で限られ
てしまい、生産性が非常に悪いというデメリットがあ
る。
【0009】また、特開平9−277394号では、用
いる支持体を裏返しにして配向方向が同じになるように
重ね合わせるため、生産上に巻き出しを変える工程、設
備が必要となる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの欠点を改良し、二軸延伸フィルムが持つ配向性を考
慮し、製膜幅全体を有効に利用することでコストダウン
がはかられた写真感光材料、並びに熱現像の高温に耐え
うる寸法安定性を有し、熱処理寸法ズレが軽減された写
真用支持体とその製造方法、及び熱現像写真感光材料を
提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記の構成によって達成される。 1.製膜後の幅方向における中央部と端部の配向角の差
が30度以上である二軸延伸ポリエステルフィルムを、
両端の配向角の差が25度以下となるように2以上に切
断した後、熱処理することを特徴とする写真用支持体の
製造方法。
【0012】2.前記熱処理が、2以上に切断した後、
感光層を含む写真構成層を塗布するよりも前に行われる
ことを特徴とする上記1に記載の写真用支持体の製造方
法。
【0013】3.前記熱処理が、下塗層(下引層)塗布
後に行われることを特徴とする上記1又は2に記載の写
真用支持体の製造方法。
【0014】4.前記熱処理が60℃以上200℃以下
の温度で、0.01kg/cm2〜60kg/cm2の搬
送張力下で行われることを特徴とする上記1〜3のいず
れかに記載の写真用支持体の製造方法。
【0015】5.前記熱処理前後におけるポリエステル
フィルムの密度変化が0.01g/cm3以下、複屈折
の変化が0.005以下、長さ方向の弾性率比(熱処理
前/熱処理後)の変化が0.75〜1.2であることを
特徴とする上記1〜4のいずれかに記載の写真用支持体
の製造方法。
【0016】6.製膜後の幅方向における中央部と端部
の配向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステル
フィルムであって、該ポリエステルフィルムは両端の配
向角の差が25度以下となるように2以上に切断されて
おり、且つ下記熱寸法安定性を有することを特徴とする
写真用支持体。 [熱寸法安定性]製膜幅方向で任意の部分において、1
20℃、30秒の加熱処理でも寸法変化率の絶対値がM
D方向0.001〜0.08%、TD方向0.001〜
0.04%の範囲であること。
【0017】7.製膜後の幅方向における中央部と端部
の配向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステル
フィルムであって、該ポリエステルフィルムは両端の配
向角の差が12度以下となるように2以上に切断されて
おり、且つ下記熱寸法安定性を有することを特徴とする
写真用支持体。 [熱寸法安定性]製膜幅方向で任意の部分において、1
20℃、30秒での両端の寸法変化率の絶対値の差がM
D方向、TD方向とも0.02%以下であること。
【0018】8.製膜後の幅方向における中央部と端部
の配向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステル
フィルムであって、該ポリエステルフィルムは両端の配
向角の差が12度以下となるように2以上に切断されて
おり、且つ下記熱処理寸法ズレ抑制性を有することを特
徴とする写真用支持体。 [熱処理寸法ズレ抑制性]590mm×590mm片と
されたフィルム小片が、製膜方向で任意の部分におい
て、120℃、30秒の加熱処理の前後における寸法ズ
レがMD方向、TD方向とも75μm以下であること。
【0019】9.上記6、7又は8に記載の写真用支持
体上に、少なくとも1層の写真構成層を有することを特
徴とする写真感光材料。
【0020】10.上記6、7又は8に記載の写真用支
持体の少なくとも一方の側に、感光性ハロゲン化銀、有
機銀塩及び還元剤を含有する写真構成層を有することを
特徴とする熱現像写真感光材料。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明を更に詳しく説明する。本
発明の支持体となる二軸延伸フィルムは、いかなる種類
のポリマーで構成されていてもよいが、写真感光材料と
して十分な透明性を有し、且つ水等の液体、温度、機械
的変形に対する寸法安定性を有しており、二軸延伸製膜
法により作成され、製膜幅中心にほぼ左右対称の分子配
向性(配向角)を持つフィルムである。
【0022】ここで示す、配向角とは製膜延伸及び結晶
化時に固定される主成分ポリマー分子鎖がどの方向に分
布しているかを見たものである。配向角は従来から知ら
れている、X線回折、熱膨張率、力学的縦横物性値、マ
イクロ波分子配向計などで測定することにより調べるこ
とができる。
【0023】本発明では、2枚の偏光板の間に試料を置
き、試料の向きを回転させながら試料を透過する光の強
度を測定し、配向角を調べる方法を用いる。延伸縦方向
(本明細書においてMD方向という。)および延伸幅方
向(本明細書においてTD方向という。)の中心では必
ず0度になるので、異なる試料間でもこの性質を利用し
て配向角を比較することができる。偏光板の間で試料を
回転させた際に試料を透過する光量が最も少なくなった
時のその角度がその試料の配向角である。配向角はTD
方向の中心で対称値(+−符号が逆)を示す。支持体の
幅手方向に行くほど配向角の絶対値は次第に大きくな
る。
【0024】本発明で好ましく用いられる、二軸延伸フ
ィルムはポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ
エチレンナフタレート(PEN)である。特にコストの
点から実質的にPETで構成されているものが好まし
い。ここでいう実質的に構成されているものとは、共重
合体およびポリマーブレンド物であっても良く、全体に
占める主たる構成要素の重量比率が50重量%以上のも
のを指す。
【0025】PETはテレフタル酸とエチレングリコー
ルから構成されるが、これを触媒の存在下で適当な反応
条件下で結合させることによって重合できる。このと
き、適当な1種または2種以上の第3成分を混合しても
良い。適当な第3成分としては、2価のエステル形成官
能基を有する化合物であればよく、例えば、ジカルボン
酸の例として次のようなものが挙げられる。
【0026】イソフタル酸、フタル酸、2−6ナフタレ
ンジカルボン酸、2−7ナフタレンジカルボン酸、ジフ
ェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキ
サンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニ
ルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカル
ボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げるこ
とができる。
【0027】また、グリコールの例としては、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、テトラメチレング
リコール、シクロヘキサンジメタノール、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビスフェノール
フルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、
シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。
【0028】本発明のPETは固有粘度が0.3〜1.
0であることが好ましく、さらに好ましくは0.4〜
0.8であり、特に好ましくは0.5〜0.7である。
また固有粘度の異なるものを混合して使用しても良い。
混合して使用する場合、用いる樹脂の固有粘度差が0.
1以上0.4以下であるものを混合したものがよく、好
ましくは固有粘度差が0.15以上0.3以下である。
【0029】本発明のPETの合成方法は、特に限定が
あるわけではなく、従来公知のPETの製造方法に従っ
て製造できる。例えば、ジカルボン酸成分をジオール成
分と直接エステル化反応させる直接エステル化法、初め
にジカルボン酸成分としてジアルキルエステルを用い
て、これとジオール成分とでエステル交換反応させ、こ
れを減圧下で加熱して余剰のジオール成分を除去するこ
とにより重合させるエステル交換法を用いることができ
る。
【0030】この際、必要に応じてエステル交換触媒あ
るいは重合反応触媒を用い、あるいは耐熱安定剤を添加
することができる。熱安定剤としては、例えば、リン
酸、亜リン酸及びそれらのエステル化合物が挙げられ
る。また、合成時の各過程で着色防止剤、結晶核剤、す
べり剤、安定剤、ブロッキング防止剤、紫外線吸収剤、
粘度調節剤、透明化剤、帯電防止剤、pH調整剤、染
料、顔料などを添加してもよい。
【0031】次に、本発明の写真用支持体の製造方法に
ついて説明する。未延伸シートないしフィルムを得る方
法および縦方向に一軸延伸する方法は、従来公知の技術
で行うことができる。例えば、原料のポリエステルをペ
レット状に成型し、熱風乾燥または真空乾燥した後、溶
融押出し、Tダイよりシート状に押出して、静電印加法
などにより冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延
伸シートを得る。次いで、得られた未延伸シートを複数
のロール群および/または赤外線ヒーターなどの加熱装
置を介してポリエステルのガラス転移温度(Tg)から
Tg+100℃の範囲内に加熱し、縦延伸する方法であ
る。延伸倍率は、通常2.5倍〜6倍の範囲である。
【0032】この際、延伸温度を支持体の表裏で温度差
を持たせることで巻きぐせを付き難くすることができ
る。具体的には、縦延伸の加熱時に、赤外線ヒーター等
の加熱手段を片面側に設けることで温度をコントロール
することができる。延伸時の温度差は、好ましく0℃〜
40℃、より好ましくは0℃〜20℃である。温度差が
40℃より大きくなると、均一に延伸できずにフィルム
の平面性が劣化しやすくなり好ましくない。
【0033】次に、上記の様にして得られた縦方向に一
軸延伸されたポリエステルフィルムを、Tg〜Tg+1
20℃の温度範囲内で、横延伸し、次いで熱固定する。
横延伸倍率は通常3〜6倍であり、また、縦、横延伸倍
率の比は、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、
好ましい特性を有するように適宜調整するが、本発明の
「中央部と端部の配向角の差が30度以上である」フィ
ルムを作成するためには、製膜幅は2m以上あるものが
好ましい。ついで熱固定は、その最終横延伸温度より高
温で、Tg+180℃以下の温度範囲内で通常0.5〜
300秒間熱固定する。このとき、2つ以上の相異なる
温度で熱固定されることが好ましい。このように2つ以
上の相異なる温度で熱固定したフィルムは寸法安定性が
向上し、熱現像写真感光材料用の支持体として有効であ
る。
【0034】また、本発明の写真用支持体は寸法安定性
の点で弛緩処理を行うことが好ましい。弛緩処理は前記
ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した
後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後に巻
き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理
は、処理温度が80℃〜200℃で行われることが好ま
しく、より好ましくは、処理温度が100℃〜180
℃、更に好ましくは、処理温度が120℃〜160℃の
範囲である。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が
0.1%〜10%の範囲で行われることが好ましく、よ
り好ましくは弛緩率が2〜6%で処理されることであ
る。弛緩処理された写真用支持体は、本発明の熱処理を
施すことにより、好ましい熱寸法変化率の写真用支持体
となる。
【0035】本発明の写真用支持体は、搬送し乍ら熱処
理することから、易滑性を付与することで平面性やキズ
等を防ぐこともできる。易滑性付与手段としては、特に
限定はないが、不活性無機粒子を添加する外部粒子添加
方法、ポリマー重合時に添加する触媒を析出させる内部
粒子析出方法、あるいは界面活性剤などをフィルム表面
に塗布する方法などが一般的である。これらの中でも、
析出する粒子を比較的小さくコントロールできる内部粒
子析出方法が、フィルムの透明性を損なうことなく易滑
性を付与できるので好ましい。
【0036】本発明の写真用支持体の厚みは特に限定が
ある訳ではないが、寸法変化率の点で厚い方が好まし
く、医用写真感光材料に用いられる場合は取り扱い性も
含めて90〜200μmが好ましく、特に150〜19
0μmであることが好ましい。一方、印刷用写真感光材
料に用いられる場合は、Y、M、C、Bの4版を同時に
焼き付ける関係で透明性が求められ、70〜180μ
m、特に100〜140μmであることが好ましい。
【0037】また、本発明の写真用支持体の透明性に関
しては、ヘーズが3%以下であることが好ましい。さら
に好ましくは1%以下である。ヘーズが3%より大きい
とフィルムを印刷用写真感光材料に用いられる場合、画
像が不鮮明になる。上記ヘーズは、ASTM−D100
3−52に従って測定したものである。
【0038】本発明の写真用支持体の熱処理方法は、支
持体のガラス転移点以上融点以下の温度で、搬送しなが
ら熱処理するものである。熱処理時の搬送張力は支持体
の熱処理による効果、すなわち熱収縮の進行を妨げず
に、その後の熱処理(熱現像)時の寸法変化を小さくす
る上で、できるだけ低張力であることが望ましい。しか
し搬送張力があまり小さいと、熱処理時に支持体の熱収
縮の部分的な差により支持体の平面性が劣化するととも
に、搬送ロールとの摩擦等により細かいキズ等が発生す
る。そのため搬送張力は0.01kg/cm2〜60k
g/cm2以下が好ましい。好ましくは6.0kg/c
2より大きく20kg/cm2以下であり、さらに好ま
しくは6.0kg/cm2より大きく10kg/cm2
下である。なお本発明の搬送張力は、支持体に加えた力
を支持体の断面積(幅×厚み)で割ったものである。
【0039】本発明者らは熱処理時に搬送張力を変化さ
せることで、低張力で搬送熱処理しても支持体の平面性
の劣化を防ぐことができることを見出した。これは熱処
理時に発生する支持体の熱収縮の部分的な差を緩和でき
るためと推定している。本発明の熱処理時の搬送張力の
変化は、張力の大小が交互に生じるような振動的に変化
させても、張力が徐々に大から小に若しくは小から大に
なるような段階的に変化させても、また張力が徐々に大
きく若しくは小さくなるような傾斜的に変化させても良
い。好ましくは段階的および傾斜的に変化させる方法で
あり、さらに好ましくは傾斜的に変化させる方法であ
る。
【0040】搬送張力を傾斜的に変化させて熱処理する
方法としては、熱処理開始時の張力が熱処理終了時の張
力より大きく、熱処理開始から熱処理終了するまでに徐
々に小さくする方法が好ましい。この方法で熱処理を行
うことにより、低張力での搬送熱処理効果により熱寸法
変化ないし変動抑制効果が良好になり、また支持体の平
面性等については、搬送張力を変化させる効果によって
良好になる。したがって、この方法を用いることによ
り、熱寸法安定性と平面性の2つの性能が優れ、両立し
た支持体が得られる。
【0041】搬送熱処理の張力の調整は、巻き取りロー
ル及び/または送り出しロールのトルクを調整すること
で容易に達成できる。また工程内にダンサーロールを設
置し、これに加える荷重を調整することでも達成でき
る。熱処理時及び/または熱処理後の冷却時に張力を変
化させる場合、これらの工程前後および/または工程内
にダンサーロールを設置し、それらの荷重を調整するこ
とで所望の張力状態を作製できる。また振動的に搬送張
力を変化させるには熱処理ロール間を小さくすることが
有効である。
【0042】熱処理温度は60℃以上200℃以下の温
度、すなわち熱処理する支持体のガラス転移点以上融点
以下の温度であることが好ましい。より好ましくは、1
00℃以上150℃以下である。ガラス転移点未満の温
度では、支持体中の分子運動が十分でなく、また、融点
を超える温度では樹脂全体の流動性が増すだけでなく、
結晶配向、再結晶が進行してしまい透明性が損なわれた
り、変形が発生したりして好ましくない。ガラス転移点
は示差走査熱量計で測定するところのベースラインが偏
奇し始める温度と、新たにベースラインに戻る温度との
平均値として求められ、融点は、その吸熱ピーク温度で
ある。
【0043】本発明の写真用支持体に対し上記のような
搬送熱処理を施すと、配向フィルム中のポリマー分子鎖
の配向最適化が起こり、それに相関して密度変化(ない
し変動)、縦横物性値変化(ないし変動)が見られる。
本発明の効果が最適となるような熱処理に伴った好まし
い密度変化は、熱処理前後での差が0.01g/cm 3
以下、より好ましくは0.005g/cm3以下であ
り、かつ複屈折の変化が0.005以下、より好ましく
は0.003以下、縦方向(MD方向)の機械的弾性率
の変化比が0.75〜1.2、より好ましくは0.8〜
1.0の範囲内である。
【0044】密度変化が0.01g/cm3より大き
い、若しくは複屈折が0.005より大きいと熱処理後
のフィルムの結晶化度が増加して白化、脆化したり、熱
処理後の支持体にツレ、皺が発生し平面性を損なうこと
がある。
【0045】また、弾性率の変化比が上記上限値を超え
ると機械的強度に問題があるし、下限値未満であると写
真用支持体としての強度には問題がないが、熱現像写真
感光材料として用いた場合、熱現像時の寸法安定性、即
ち、熱寸法安定性が悪くなる。
【0046】ここで言う熱現像時の寸法安定性、即ち、
熱寸法安定性とは、製膜幅方向で任意の部分において、
120℃、30秒の加熱処理での寸法変化率の絶対値が
MD方向0.001〜0.08%、TD方向0.001
〜0.04%の範囲であることを言う。また、本発明の
「両端の配向角の差が12度以下になるように2以上に
切断」をして、熱現像写真感光材料にした場合、製膜幅
方向で任意の部分において、120℃、30秒での両端
の寸法変化率の絶対値の差がMD方向、TD方向とも
0.02%以下、より好ましくは0.01%以下のこと
である。とくに印刷写真感光材料としての利用を目的と
した場合の好ましい寸法ズレの許容範囲は、590mm
×590mm小片においてMD方向、TD方向とも75
μm以下、より好ましくは50μm以下であり、特に好
ましくは30μm以下である。
【0047】次に本発明における写真感光層等の写真構
成層を塗設する塗布技術について説明する。本発明の写
真感光材料が熱現像写真感光材料である場合における塗
布方法は、有機銀塩、感光性ハロゲン化銀及び還元剤を
含有する写真構成層塗布液を塗布後、40℃以上120
℃以下の温度および0.01kg/cm2〜30kg/
cm2の張力で乾燥および/または熱処理を行えば、特
に限定するものではない。乾燥および/または熱処理温
度としては、40℃〜120℃の温度で行われることが
好ましく、さらに好ましくは50〜100℃、特に好ま
しくは60〜80℃である。上記より高い温度である
と、カブリを起こし好ましくない。また張力は支持体の
熱処理方法同様、低張力であることが好ましいが、搬送
性等の点から、好ましくは1.0kg/cm2以上20
kg/cm2以下であり、さらに好ましくは5kg/c
2以上10kg/cm2以下である。
【0048】塗布方式としては浸積コーティング、エア
ーナイフコーティング、フローコーティングまたは米国
特許第2681294号に記載のホッパーを用いる押し
出しコーティングを含む種々のコーティング方式により
塗布できる。またStephan F.Kister、
M.Schwezer著LIQUID FILMCO
ATING(CHAPMA&HALL社刊、1997
年)の399〜734頁記載のエクストルージョン塗
布、スライド塗布、カーテン塗布方式も採用することが
できる。さらに所望により、米国特許第2761791
号、3508947号、2941898号、35265
28号の明細書および/または原崎勇次著、『コーティ
ング工学』253頁(1973年、朝倉書店発行)等に
記載された方法により、2以上の層を同時に塗布するこ
とができる。
【0049】本発明における写真構成層塗布液に含有す
る有機銀塩は還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオ
ン源を含有する有機酸及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長
鎖(10〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)
の脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環が好ましい。配位
子が、4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数
を有する有機又は無機の銀塩錯体も有用である。
【0050】好適な銀塩の例は、RD17029及び2
9963に記載されており、次のものがある:有機酸の
塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、ベヘン酸、アラキジ
ン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等の
塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、1
−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−カ
ルボキシプロピル)−3、3−ジメチルチオ尿素等);
アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸とのポリ
マー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒド
等)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、安息
香酸、3、5−ジヒドロキシ安息香酸、5、5−チオジ
サリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例えば、3
−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメチル−
4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カルボキシ
メチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミダゾー
ル、ピラゾール、ウラゾール、1、2、4−チアゾール
及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベンジルチ
オ−1、2、4−トリアゾール及びベンゾトリアゾール
から選択される窒素酸と銀との錯体または塩;サッカリ
ン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及びメ
ルカプチド類の銀塩。好ましい銀源はベヘン酸銀、アラ
キジン酸銀および/またはステアリン酸銀である。
【0051】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正
混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−12764
3号に記載されている様なコントロールドダブルジェッ
ト法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアルカ
リ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
など)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ(例えば、
ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)を
作製した後に、コントロールドダブルジェットにより、
前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結晶を作
製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させてもよ
い。
【0052】本発明における塗布液に含有するハロゲン
化銀粒子は光センサーとして機能するものである。
【0053】ハロゲン化銀は上記有機銀塩分散液を調製
した後、これに、例えば臭化ナトリウムや臭化アンモニ
ウム等のハライド成分を加えコンバージョンにより有機
銀塩の一部をハロゲン化銀に代え調製してもよいが、好
ましいのは通常のハロゲン化銀乳剤調製技術を用いて別
途調製することがハロゲン化銀のサイズや形状等をコン
トロール出来るので好ましい。但し、これらの方法を組
み合わせる事もできる。
【0054】本発明において、調製したハロゲン化銀は
画像形成後の白濁を低く抑えるため、及び良好な画質を
得るために平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均
粒子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01
μm〜0.1μm、特に0.02μm〜0.08μmが
好ましい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒
子が立方体或いは八面体のいわゆる正常晶である場合に
は、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。又、正常晶で
ない場合、例えば球状、棒状、或いは平板状の粒子の場
合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えたと
きの直径をいう。
【0055】またハロゲン化銀は単分散であることが好
ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単
分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%以下
であり、特に好ましくは0.1%以上20%以下となる
粒子である。 単分散度=(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×1
00
【0056】本発明においては、ハロゲン化銀粒子が平
均粒径0.1μm以下でかつ単分散粒子であることがよ
り好ましく、この範囲にすることで画像の粒状性も向上
する。
【0057】ハロゲン化銀粒子の形状については、特に
制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が
高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には7
0%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラ
ー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における
〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した
T.Tani,J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。
【0058】またもう一つの好ましいハロゲン化銀の形
状は、平板粒子(平板状粒子ともいう。)である。ここ
でいう平板粒子とは、投影面積の平方根を粒径rμmと
して垂直方向の厚みをhμmとした場合のアスペクト比
=r/hが3以上のものをいう。その中でも好ましくは
アスペクト比が3以上50以下である。また粒径は0.
1μm以下であることが好ましく、さらに0.01μm
〜0.08μmが好ましい。これらは米国特許第5,2
64,337号、第5,314,798号、第5,32
0,958号等に記載されており、容易に目的の平板状
粒子を得ることができる。本発明においてこれらの平板
状粒子を用いた場合、さらに画像の鮮鋭性も向上する。
【0059】ハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化
銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる写真乳
剤は、P.Glafkides著Chimie et
Physique Photographique(P
aul Montel社刊、1967年)、G.F.D
uffin著 Photographic Emuls
ion Chemistry(The Focal P
ress刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(Th
e Focal Press刊、1964年)等に記載
された方法を用いて調製することができる。
【0060】本発明に用いられるハロゲン化銀には、照
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
【0061】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが、本発明においては脱
塩してもしなくてもよい。
【0062】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。
【0063】本発明においては感光材料の失透を防ぐた
めには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量は、銀量に換
算して1m2当たり0.5g以上2.2g以下であるこ
とが好ましい。この範囲にすることで硬調な画像が得ら
れる。また銀総量に対するハロゲン化銀の量は、重量比
で50%以下、好ましくは25%以下、更に好ましくは
0.1%〜15%の範囲である。
【0064】本発明における写真構成層塗布液に含有す
る還元剤としては、一般に知られているものが挙げら
れ、例えば、フェノール類、2個以上のフェノール基を
有するポリフェノール類、ナフトール類、ビスナフトー
ル類、2個以上の水酸基を有するポリヒドロキシベンゼ
ン類、2個以上の水酸基を有するポリヒドロキシナフタ
レン類、アスコルビン酸類、3−ピラゾリドン類、ピラ
ゾリン−5−オン類、ピラゾリン類、フェニレンジアミ
ン類、ヒドロキシルアミン類、ハイドロキノンモノエー
テル類、ヒドロオキサミン酸類、ヒドラジド類、アミド
オキシム類、N−ヒドロキシ尿素類等があり、さらに詳
しくは例えば、米国特許第3,615,533号、同第
3,679,426号、同第3,672,904号、同
第3,751,252号、同第3,782,949号、
同第3,801,321号、同第3,794,488
号、同第3,893,863号、同第3,887,37
6号、同第3,770,448号、同第3,819,3
82号、同第3,773,512号、同第3,839,
048号、同第3,887,378号、同第4,00
9,039号、同第4,021,240号、英国特許第
1,486,148号もしくはベルギー特許第786,
086号各明細書及び特開昭50−36143号、同5
0−36110号、同50−116023号、同50−
99719号、同50−140113号、同51−51
933号、同51−23721号、同52−84727
号もしくは特公昭51−35851号各公報に具体的に
例示された還元剤があり、本発明はこのような種々の還
元剤の中から適宜選択して使用することができる。
【0065】上記の還元剤の中で、有機銀塩として脂肪
族カルボン酸銀塩を使用する場合に好ましい還元剤とし
ては、2個以上のフェノール基がアルキレン基又は硫黄
によって連結されたポリフェノール類、特にフェノール
基のヒドロキシ置換位置に隣接した位置の少なくとも一
つにアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、t−ブチル基、シクロヘキシル基等)又はアシル基
(例えばアセチル基、プロピオニル基等)が置換したフ
ェノール基の2個以上がアルキレン基又は硫黄によって
連結されたポリフェノール類、例えば1、1−ビス(2
−ヒドロキシ−3、5−ジメチルフェニル)−3、5、
5−トリメチルヘキサン、1、1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、
1、1−ビス(2−ヒドロキシ−3、5−ジ−t−ブチ
ルフェニル)メタン、2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−(2−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)メタン、6、6’−ベンジリデン−ビス
(2、4−ジ−t−ブチルフェノール)、6、6’−ベ
ンジリデン−ビス(2−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール)、6、6’−ベンジリデン−ビス(2、4−ジメ
チルフェノール)、1、1−ビス(2−ヒドロキシ−
3、5−ジメチルフェニル)−2−メチルプロパン、
1、1、5、5−テトラキス(2−ヒドロキシ−3、5
−ジメチルフェニル)−2、4−エチルペンタン、2、
2−ビス(4−ヒドロキシ−3、5−ジメチルフェニ
ル)プロパン、2、2−ビス(4−ヒドロキシ−3、5
−ジ−t−ブチルフェニル)プロパン等の米国特許第
3,589,903号、同第4,021,249号もし
くは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開
昭51−51933号、同50−36110号、同50
−116023号、同52−84727号もしくは特公
昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール
化合物)、米国特許第3,672,904号明細書に記
載されたビスナフトール類、例えば、2、2’−ジヒド
ロキシ−1、1’−ビナフチル、6、6’−ジブロモ−
2、2’−ジヒドロキシ−1、1’−ビナフチル、6、
6’−ジニトロ−2、2’−ジヒドロキシ−1、1’−
ビナフチル、ビス(2−ヒドロキシ−1−ナフチル)メ
タン、4、4’−ジメトキシ−1、1’−ジヒドロキシ
−2、2’−ビナフチル等、更に米国特許第3,80
1,321号明細書に記載されているようなスルホンア
ミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類、例え
ば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベン
ゼンスルホンアミドフェノール、2、6−ジクロロ−4
−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンス
ルホンアミドナフトール等を挙げることができる。
【0066】本発明における写真構成層塗布液に含有す
る還元剤の量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添
加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当
たり0.05モル乃至10モル、好ましくは0.1モル
乃至3モルが適当である。又この量の範囲内において、
上述した還元剤は2種以上併用されてもよい。本発明に
おいては、前記還元剤を塗布直前に感光溶液に添加混合
して塗布した方が、感光溶液の停滞時間による写真性能
変動が小さく好ましい場合がある。
【0067】本発明の写真構成層塗布液にはヒドラジン
誘導体を含有することが好ましい。ヒドラジン誘導体と
しては、下記一般式〔H〕で表される化合物が好まし
い。
【0068】
【化1】
【0069】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−G0−D0基を、
0はブロッキング基を表し、A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、G0は−CO−
基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG11
−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)(G1
1)−基を表し、G1は単なる結合手、−O−基、−S−
基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のD1
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。
【0070】一般式〔H〕において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が好
ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、オ
クチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げられ、
これらは更に適当な置換基(例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換されて
いてもよい。
【0071】一般式〔H〕において、A0で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、A0で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えばピロリジン環、イミダ
ゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピリ
ジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、ベ
ンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れ、A0で表される−G0−D0基において、G0は−CO
−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。G1は単なる結合手、−O−
基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1は脂肪族
基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に
複数のD1が存在する場合、それらは同じであっても異
なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香族基、
複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ましい
0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ア
ミノ基等が挙げられる。A0の芳香族基、複素環基及び
−G0−D0基は置換基を有していてもよい。
【0072】A0として特に好ましいものはアリール基
及び−G0−D0基である。又、一般式〔H〕において、
0は耐拡散基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一
つ含むことが好ましい。耐拡散基としてはカプラー等の
不動性写真用添加剤にて常用されるバラスト基が好まし
く、バラスト基としては写真的に不活性であるアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェ
ニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げ
られ、置換基部分の炭素数の合計は8以上であることが
好ましい。
【0073】一般式〔H〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としてはチオ尿素、チオウレタン基、メルカプト
基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミド
複素環基、メルカプト複素環基、或いは特開昭64−9
0439号に記載の吸着基等が挙げられる。
【0074】一般式〔H〕において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
11)−基、−SO−基、−SO2−基又は−P(O)
(G11)−基を表す。好ましいG0としては−CO−
基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結合手、
−O−基、−S−基又は−N(D1)−基を表し、D1
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表し、好ま
しいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等)、スル
ホニル基(メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等)、又はオキザリル基(エトキザリル基等)を表す。
【0075】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0076】
【化2】
【0077】
【化3】
【0078】
【化4】
【0079】
【化5】
【0080】
【化6】
【0081】
【化7】
【0082】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号カラ
ム11〜カラム20に記載の化合物H−1〜H−29、
米国特許第5,464,738号カラム9〜カラム11
に記載の化合物1〜12である。これらのヒドラジン誘
導体は公知の方法で合成することができる。
【0083】ヒドラジン誘導体の添加層は、ハロゲン化
銀乳剤を含む感光層及び/又は感光層に隣接した層であ
る。また添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組
成、化学増感の程度、抑制剤の種類等により最適量は一
様ではないが、ハロゲン化銀1モル当たり10-6モル〜
10-1モル程度、特に10-5モル〜10-2モルの範囲が
好ましい。
【0084】本発明の熱現像写真感光材料は、例えば米
国特許第3,152,904号、同第3,457,07
5号、及びD。モーガン(Morgan)による「ドラ
イシルバー写真材料(Dry Silver Phot
ographic Material)」やD。モーガ
ン(Morgan)とB。シェリー(Shely)によ
る「熱によって処理される銀システム(Thermal
ly Processed SilverSystem
s)」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテ
リアルズ(Imaging Processes an
d Materials)Neblette 第8版、
スタージ(Sturge)、V。ウォールワース(Wa
lworth)、A。シェップ(Shepp)編集、第
2頁、1969年)等に開示されている技術を使用でき
る。その中でも本発明においては、感光材料を80〜1
40℃で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わ
ないものが好ましい。
【0085】また本発明の熱現像写真感光材料には、米
国特許第5,545,505号に記載のヒドロキシルア
ミン化合物、アルカノールアミン化合物やフタル酸アン
モニウム化合物、米国特許第5,545,507号に記
載のヒドロキサム酸化合物、米国特許第5,558,9
83号に記載のN−アシル−ヒドラジン化合物、米国特
許第5,545,515号に記載のアクリロニトリロ化
合物、米国特許第5,937,449号に記載のベンズ
ヒドロールやジフェニルフォスフィンやジアルキルピペ
リジンやアルキル−β−ケトエステルなどの水素原子ド
ナー化合物、などの硬調化促進剤を添加することが好ま
しい。その中でも下記一般式(P)で表される4級オニ
ウム化合物及び一般式〔Na〕で表されるアミノ化合物
が好ましく用いられる。
【0086】
【化8】
【0087】式中、Qは窒素原子又は燐原子を表し、R
1、R2、R3及びR4は各々、水素原子又は置換基を表
し、X−はアニオンを表す。尚、R1〜R4は互いに連結
して環を形成してもよい。
【0088】
【化9】
【0089】一般式〔Na〕において、R11、R12及び
13は各々水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
ルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、置換アリール基、又は飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環を表す。R11、R12及びR13で環を形成してもよ
い。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化合物である。
これらの化合物は分子中に耐拡散性基又はハロゲン化銀
吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性を有するため
には分子量100以上の化合物が好ましく、さらに好ま
しくは分子量300以上であり、前記一般式〔H〕にお
けるA0における耐拡散基と同義のものが挙げられる。
また、好ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、
チオエーテル基、チオン基、チオウレア基等が挙げられ
る。
【0090】一般式〔Na〕で表される造核促進剤より
更に好ましい造核促進剤として下記一般式〔Na2〕で
表される化合物が挙げられる。
【0091】
【化10】
【0092】一般式〔Na2〕において、R1、R2、R
3及びR4は、各々水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、
置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基又は飽
和もしくは不飽和のヘテロ環を表す。これらは互いに連
結して環を形成することができる。又、R1とR2、R 3
とR4が同時に水素原子であることはない。XはS、S
e又はTe原子を表す。L1及びL2は各々2価の連結基
を表す。具体的には以下に示す基又はその組み合わせ及
びそれらに適当な置換基(例えばアルキレン基、アルケ
ニレン基、アリーレン基、アシルアミノ基、スルホンア
ミド基等)を有する基が挙げられる。
【0093】−CH2−、−CH=CH−、−C2
4−、ピリジンジイル、−N(Z1)−(Z1は水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す)、−O−、−S
−、−(CO)−、−(SO2)−、−CH2N−。又、
1又はL2で表される連結基は、該連結基中に少なくと
も1つ以上の以下の構造を含むことが好ましい。 −〔CH2CH2O〕−、−〔C(CH3)HCH2O〕
−、−〔OC(CH3)HCH2O〕−、−〔OCH2
(OH)HCH2〕−。
【0094】以下に一般式〔Na〕又は〔Na2〕で表
される造核促進剤の具体例を挙げる。
【0095】
【化11】
【0096】
【化12】
【0097】
【化13】
【0098】
【化14】
【0099】一般式(P)において、R1〜R4で表され
る置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基
等)、アルケニル基(アリル基、ブテニル基等)、アル
キニル基(プロパルギル基、ブチニル基等)、アリール
基(フェニル基、ナフチル基等)、複素環基(ピペリジ
ニル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピリジル
基、フリル基、チエニル基、テトラヒドロフリル基、テ
トラヒドロチエニル基、スルホラニル基等)、アミノ基
等が挙げられる。
【0100】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。R1〜R4で表される基はヒドロキシル基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、カルボキシル基、スルホ基、
アルキル基、アリール基等の置換基を有してもよい。R
1、R2、R3及びR4としては、水素原子及びアルキル基
が好ましい。X−が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。
【0101】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)又は(Pc)で表される化合物、及び下記一般式
〔T〕で表される化合物である。
【0102】
【化15】
【0103】式中、A1、A2、A3、A4及びA5は、含
窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表し、酸
素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベンゼン
環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4及びA5
で構成される複素環は置換基を有してもよく、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カル
ボキシ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル
基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホ
ニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基を表す。A1、A2、A3、A4
びA5の好ましい例としては、5〜6員環(ピリジン、
イミダゾール、チオゾール、オキサゾール、ピラジン、
ピリミジン等の各環)を挙げることができ、更に好まし
い例としてピリジン環が挙げられる。
【0104】Bpは2価の連結基を表し、mは0又は1
を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−O
−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す)を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Bpとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。
【0105】R1、R2及びR5は各々、炭素数1〜20
のアルキル基を表す。又、R1及びR 2は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、A1、A2、A3、A4
びA5の置換基として挙げた置換基と同様である。
【0106】R1、R2及びR5の好ましい例としては、
それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に好ま
しい例としては、置換或いは無置換のアリール置換アル
キル基が挙げられる。
【0107】Xp−は分子全体の電荷を均衡さすに必要
な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、沃
素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンスル
ホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の電
荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩の
場合にはnpは0である。
【0108】
【化16】
【0109】上記一般式〔T〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6
7は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメットの
シグマ値(σP)が負のものが好ましい。
【0110】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年記載
のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見る
ことが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基とし
ては、例えばメチル基(σP=−0.17以下何れもσP
値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基(−
0.21)、n−プロピル基(−0.13)、iso−
プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−0.1
5)、n−ブチル基(−0.16)、iso−ブチル基
(−0.20)、n−ペンチル基(−0.15)、シク
ロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.6
6)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシル
基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エトキ
シ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.25)、ブ
トキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−0.34)
等が挙げられ、これらは何れも一般式〔T〕の化合物の
置換基として有用である。
【0111】nは1或いは2を表し、XTn−で表され
るアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。
【0112】以下、4級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。
【0113】
【化17】
【0114】
【化18】
【0115】
【化19】
【0116】
【化20】
【0117】
【化21】
【0118】
【化22】
【0119】
【化23】
【0120】
【化24】
【0121】
【化25】
【0122】
【化26】
【0123】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
は Chemical Reviews 55 p.3
35〜483に記載の方法を参考にできる。
【0124】これら4級オニウム化合物の添加量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10-8〜1モル程度、好ま
しくは1×10-7〜1×10-1モルである。これらはハ
ロゲン化銀粒子形成時から塗布までの任意の時期に感光
材料の写真構成層中に添加できる。
【0125】4級オニウム化合物及びアミノ化合物は、
単独で用いても2種以上を適宜併用して用いてもよい。
また感光材料の写真構成層中のいかなる層に添加しても
よいが、好ましくは感光層を有する側の構成層の少なく
とも1層、更には感光層及び/又はその隣接層に添加す
る。
【0126】本発明の熱現像写真感光材料に好適なバイ
ンダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポ
リマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィ
ルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセル
ロース、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デ
ンプン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール))、ポ
リ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。
【0127】親水性でも疎水性でもよいが、本発明にお
いては、熱現像後のカブリを低減させるために、疎水性
透明バインダーを使用することが好ましい。好ましいバ
インダーとしては、ポリビニルブチラール、セルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアクリル酸、ポリウレ
タンなどがあげられる。その中でもポリビニルブチラー
ル、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レートは特に好ましく用いられる。
【0128】感光材料の表面を保護したり擦り傷を防止
するために、感光層の外側に非感光層を有することがで
きる。これらの非感光層に用いられるバインダーは感光
層に用いられるバインダーと同じ種類でも異なった種類
でもよい。通常は擦り傷や相の変形等を防止するために
熱現像感光層を構成するバインダーポリマーよりも軟化
点の高いポリマーが用いられ、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート等がこの目的にかなっ
ている。
【0129】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために感光層のバインダー量が1.5〜10g/m2
あることが好ましい。さらに好ましくは1.7〜8g/
2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大
幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
【0130】本発明においては、感光層側にマット剤を
含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき防止
のためには、感光材料の表面にマット剤を配することが
好ましく、そのマット剤を感光層側の全バインダーに対
し、重量比で0.5〜30%含有することが好ましい。
また、支持体をはさみ感光層の反対側に非感光層を設け
る場合は、非感光層側の少なくとも1層中にマット剤を
含有することが好ましく、感光材料のすべり性や指紋付
着防止のためにも感光材料の表面にマット剤を配するこ
とが好ましく、そのマット剤を感光層側の反対側の層の
全バインダーに対し、重量比で0.5〜40%含有する
ことが好ましい。マット剤の形状は、定形、不定形どち
らでも良いが、好ましくは定形で、球形が好ましく用い
られる。
【0131】本発明の熱現像写真感光材料は支持体上に
少なくとも一層の感光層を有している。支持体の上に感
光層のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも
1層の非感光層を形成することが好ましい。感光層を通
過する光の量又は波長分布を制御するために感光層と同
じ側にフィルター染料層および/又は反対側にアンチハ
レーション染料層、いわゆるバッキング層を形成しても
良いし、感光層に染料又は顔料を含ませても良い。
【0132】これらの非感光性層には前記のバインダー
やマット剤を含有することが好ましく、さらにポリシロ
キサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなスベ
リ剤を含有してもよい。
【0133】また、本発明の熱現像写真感光材料には、
塗布助剤として各種の界面活性剤が用いられる。その中
でもフッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良したり、斑
点状の塗布故障を防ぐために好ましく用いられる。
【0134】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感度層/低感度層の上下2層構成又
は低感度層/高感度層の上下2層構成にしても良い。本
発明に用いられる好適な色調剤の例はRD17029号
に開示されている。本発明の熱現像写真感光材料には現
像を抑制あるいは促進させ現像を制御するため、分光増
感効率を向上させるため、現像前後の保存性を向上させ
るためなど種々の目的で、メルカプト化合物、ジスルフ
ィド化合物、チオン化合物等を含有させることができ
る。本発明の熱現像感光材料中にはかぶり防止剤が含ま
れて良い。
【0135】各種の添加剤は感光層、非感光層、又はそ
の他の構成層のいずれに添加しても良い。本発明の熱現
像感光材料には例えば、種々の界面活性剤、酸化防止
剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用
いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の添加
剤はRD17029(1978年6月p.9〜15)に
記載されている化合物を好ましく用いることができる。
【0136】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【0137】なお、実施例の表に記載されている弾性
率、複屈折、密度、熱寸法安定性、寸法ズレ(熱処理寸
法ズレ)等の評価方法は以下の通りである。
【0138】[ガラス転移温度]フィルム10mgを、
示差走査型熱量計(セイコー電子社製,DSC120)
にセットし、毎分100cm3の窒素気流中、毎分20
℃の昇温速度で昇温し、ガラス転移点(Tg)を検出し
た。Tgはベースラインが偏奇し始める温度と,新たに
べースラインに戻る温度との平均値とした。
【0139】[熱処理前後の弾性率比]支持体を幅方向
中央部より、幅10mm、長さ200mmの大きさに切
出し、23℃,55%RHの条件下で12時間調湿した
後、オリエンテック社製テンシロン(RTA−100)
を用い、チャック間を100mmにし、引張り速度10
mm/分で引張試験をし、弾性率を求めた。試験は10
回行い、最大値と最小値を除いた8回分の試験で求めら
れた値の算術平均値を弾性率として採用した。熱処理前
後の弾性率比は、 (熱処理前後の弾性率比)=(熱処理前)/(熱処理
後) で求めた。
【0140】[複屈折]支持体を幅方向中央部よりサン
プリングし、アッベ屈折率計(アタゴ社製)を用いて、
25℃で測定されるNa−D線に対する厚み方向、面方
向の屈折率から以下の式を用いて求めた。厚み方向、面
方向とも支持体の表裏両面の値を測定し、その平均値を
採用した。
【0141】(複屈折)=(x+y)/2−z xおよびyは、面内x方向およびy方向の屈折率表裏の
値の平均値、zは厚み方向屈折率表裏の値の平均値であ
る。
【0142】[密度]支持体を幅方向中央部よりサンプ
リングし、溶媒に水−臭化ナトリウム混合溶媒を用い
て、JIS K7112の密度勾配管による測定で求め
た。サンプル5点の平均値を採用した。
【0143】[支持体の熱寸法安定性]熱処理を施した
支持体の幅方向中央部を、150mm(長手方向)×15
0mm(幅手方向)に切出し、23℃、55%RHの条件
下で1日調湿した後、長手方向に100mm間隔の罫書
き線を入れる。そして120℃に加熱したホットプレー
ト(井内盛栄堂(株)製EC−1200)に30秒間押
しつけ、さらに23℃、55%RHの条件下で1日調湿
した後の罫書き線の間隔を測定する。熱処理前後の罫書
き線の間隔の差を求め、熱処理前の間隔に対する100
分率で表し、下記に示したランクで評価した。なお測定
は5枚行ったものの平均とした。
【0144】ランク:熱寸法変化率 ◎:0.03%以下 ○:0.03%〜0.08%以下 △:0.08%〜0.012%以下
【0145】[寸法ズレ:熱現像感材の熱現像時寸法ズ
レ]実施例2に記載する方法で作成した熱現像写真感光
材料を、590mm×590mmに切り出し、四隅(右
上、左上、右下、左下)から30mmの位置に十字に罫
書き線をつけておき、コニカ社製熱現像自動現像機によ
って120℃、30秒熱現像処理をした。同様の処理を
2枚のフィルムについて行い、2枚のフィルムの四隅の
十字罫書き線の位置のズレを測定した。その結果は表2
に示されている。
【0146】実施例1 [写真用支持体の作製]以下のようにしてPET樹脂を
得た。 (PET樹脂)テレフタル酸ジメチル100重量部、エ
チレングリコール65重量部にエステル交換触媒として
酢酸マグネシウム水和物0.05重量部を添加し、常法
に従ってエステル交換を行った。得られた生成物に、三
酸化アンチモン0.05重量部、リン酸トリメチルエス
テル0.03重量部を添加した。次いで、徐々に昇温、
減圧にし、280℃、0.5mmHgで重合を行い、固
有粘度0.65のポリエチレンテレフタレート(PE
T)樹脂を得た。
【0147】以上のようにして得られたPET樹脂を用
いて、以下のようにして二軸延伸PETフィルムを作成
した。 (二軸延伸PETフィルム)PET樹脂をペレット化し
たものを150℃で8時間真空乾燥した後、285℃で
Tダイから層状に溶融押しだし、30℃の冷却ドラム上
で静電印加しながら密着させ、冷却固化させ、未延伸フ
ィルムを得た。この未延伸シートをロール式縦延伸機を
用いて、80℃で縦方向に3.3倍延伸した。得られた
一軸延伸フィルムをテンター式横延伸機を用いて、第一
延伸ゾーン90℃で総横延伸倍率の50%延伸し、さら
に第二延伸ゾーン100℃で総横延伸倍率3.3倍にな
るように延伸した。次いで、70℃2秒間、前熱処理
し、さらに第一固定ゾーン150℃で5秒間熱固定し、
第二固定ゾーン220℃で15秒間熱固定した。
【0148】次いで160℃で横(幅手)方向に5%弛緩
処理し、テンターを出た後に、駆動ロールの周速差を利
用して、140℃で縦(長手)方向に弛緩処理を行い、室
温まで60秒かけて冷却し、フィルムをクリップから解
放し、製膜巾手方向中心で2本にスリットし、それぞれ
巻き取り、厚さ125μmの二軸延伸PETフィルムを
得た。
【0149】この二軸延伸PETフィルムのTgおよび
Tmは、それぞれ79℃,267℃であった。スリット
した2本の各ロールについて、両端から2cmの部分を
切り出し、配向角を測定したところ+41度、+2度、
−2度、−43度であった。
【0150】[下引済み写真用支持体の作製]上記のよ
うにして作製した、スリット済み二軸延伸PETフィル
ムの両面にそれぞれ8w/m2・分のコロナ放電処理を
施し、一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.
8μmになるように塗設し乾燥させて下引層(下塗り
層)A−1とし、また反対側の面に下記帯電防止加工し
た下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように
塗設し乾燥させて帯電防止加工下引層B−1とした。
【0151】 《下引塗布液a−1》 n−ブチルアクリレート(40重量%)、スチレン(20重量%)、グリシジ ルメタクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 40g n−ブチルアクリレート(2重量%)、スチレン(59重量%)、グリシジル メタクリレート(39重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 150g シリカ粒子(平均粒径3μm)(以下、C−6という。) 0.6g 水で1リットルに仕上げる。
【0152】 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 n−ブチルアクリレート(30重量%)、スチレン(20重量%)、グリシジ ルアクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g (C−6) 0.6g 水で1リットルに仕上げる。
【0153】引き続き、下引層B−1の上表面に、8w
/m2・分のコロナ放電を施し、下引層B−1の上には
下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.4μmになる
様に下引上層B−2として塗設した。
【0154】 《下引上層塗布液b−2》 n−ブチルアクリレート(10重量%)、t−ブチルアクリレート(35重量 %)、スチレン(25重量%)、ヒドロキシメチルメタクリレート(30重量% )の共重合体ラテックス液(固形分30%) 140g (C−6) 0.6g 水で1リットルに仕上げる。
【0155】
【化27】
【0156】
【化28】
【0157】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
(下塗層ないし下引層を有する支持体)を両端の配向
角、幅が表1に示すような値になるような位置でスリッ
トし、表1に記載の温度、張力に設定した全長200m
の熱処理ゾーンを表1に示す搬送速度で搬送し乍ら熱処
理を施した。さらに室温まで10℃/minで冷却し、
巻き取り張力30kg/mm2で巻き取った。熱処理前
後でのフィルムの密度変化、複屈折の変化、MD方向の
弾性率比(熱処理前/熱処理後)の変化の値は表1に示
した。
【0158】
【表1】
【0159】表1から、支持体の両端の配向角が25度
以下となるように2以上にスリットした支持体を、本発
明の範囲内の条件で熱処理した場合、熱寸法安定性が良
好なことが分かる。
【0160】実施例2 [熱現像写真感光材料の作製] (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900ml中にイナー
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(60/38/2)のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウム及び
〔Ir(NO)Cl5〕塩を銀1モル当たり1×10-6
モル及び塩化ロジウム塩を銀1モル当たり1×10-6
ル含む水溶液370mlを、pAg7.7に保ちながら
コントロールドダブルジェット法で添加した。その後4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデンを添加しNaOHでpHを8、pAg6.5
に調整することで還元増感を行い平均粒子サイズ0.0
6μm、単分散度10%の投影直径面積の変動係数8
%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得
た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱
塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加え、pH
5.9、pAg7.5に調整して、ハロゲン化銀乳剤A
を得た。
【0161】(ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの
純水にベヘン酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ス
テアリン酸5.6gを90℃で溶解した。次に高速で攪
拌しながら1.5Mの水酸化ナトリウム水溶液98ml
を添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、55
℃に冷却して30分攪拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。
【0162】(ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレ
フォーム乳剤の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハ
ロゲン化銀乳剤Aを15.1g添加し水酸化ナトリウム
溶液でpH8.1に調整した後に1Mの硝酸銀溶液14
7mlを7分間かけて加え、さらに20分攪拌し限外濾
過により水溶性塩類を除去した。できたベヘン酸銀は平
均粒子サイズ0.8μm、単分散度8%の粒子であっ
た。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に6
回の水洗と水の除去を行った後乾燥させた。
【0163】(感光性乳剤の調製)できあがったプレフ
ォーム乳剤を1/2に分割し、それにポリビニルブチラ
ール(平均分子量3000)のメチルエチルケトン溶液
(17wt%)544gとトルエン107gを徐々に添
加して混合した後に、0.5mmサイズZrO2のビー
ズミルを用いたメディア分散機で4000psiで30
℃、10分間の分散を行った。
【0164】実施例1に記載の下引層塗布後に熱処理を
施した支持体5および6に、以下の各層を乾燥温度80
℃の条件で両面同時塗布し、熱現像写真感光材料を作製
した。尚、乾燥は10分間行った。それぞれの熱現像写
真感光材料を590mm×61m巻きのロール形状に
し、明室装填用の包装形態とした。寸法ズレの結果を表
2に示す。
【0165】(バック面側塗布)支持体のB−1層の上
に以下の組成の液を塗布した。 セルロースアセテートブチレート 15ml/m2
【0166】 (10%メチルエチルケトン溶液) 染料−A 7mg/m2 染料−B 7mg/m2 マット剤:単分散度15%平均粒子サイズ8μm単分散シリカ 90mg/m2817(CH2CH2O)12817 50mg/m2917−C64−SO3Na 10mg/m2
【0167】
【化29】
【0168】(感光層面側塗布) 感光層1:支持体のA−1層の上に以下の組成の液を塗
布銀量が2.4g/m 2になる様に塗布した。
【0169】 前記感光性乳剤 240g 増感色素(0.1%メタノール溶液) 1.7ml ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤(10%メタノール溶液) 1.2ml 2,4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液) 9.2ml 2−メルカプトベンズイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml ヒドラジン誘導体H−26 0.4g 硬調化促進剤P−51 0.3g フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g 平均粒径3μmの炭酸カルシウム 0.1g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−2−メチルプ ロパン(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物(モーベイ社製、DesmodurN3300) 0.5g
【0170】
【化30】
【0171】表面保護層:以下の組成の液を感光層の上
になるよう同時塗布した。 アセトン 5ml/m2 メチルエチルケトン 21ml/m2 セルロースアセテートブチレート 2.3g/m2 メタノール 7ml/m2 フタラジン 250mg/m2 マット剤:単分散度10%平均粒子サイズ4μm単分散シリカ 5mg/m2 CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 35mg/m2 フッ素系界面活性剤C1225(CH2CH2O)101225 10mg/m2817−C64−SO3Na 10mg/m2
【0172】
【表2】
【0173】表2から、支持体の配向角が12度以下に
なるように2以上にスリットした支持体を用いた場合、
熱現像処理の寸法ズレが小さいことが分かる。
【0174】以上の結果から、本発明によれば、製膜幅
全体を有効に利用することができ、熱現像の高温に耐え
うる寸法安定性を有し、寸法ズレが軽減された写真用支
持体および熱現像写真感光材料等の写真感光材料を提供
できる。
【0175】
【発明の効果】本発明によれば、二軸延伸フィルムが持
つ配向性を考慮し、製膜幅全体を有効に利用することで
コストダウンがはかられた写真感光材料、並びに熱現像
の高温に耐えうる寸法安定性を有し、寸法ズレが軽減さ
れた写真用支持体とその製造方法、及び熱現像写真感光
材料を提供することができる。
フロントページの続き (72)発明者 細井 勇治 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 Fターム(参考) 2H023 AA00 BA00 FA12 FA13 FB00 2H123 AB00 AB03 AB23 AB28 BA00 BA38 CB00 CB03 4F210 AA24 AH79 QA02 QA03 QC05 QC14 QD04 QD16 QG01 QG18 QW07

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】製膜後の幅方向における中央部と端部の配
    向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステルフィ
    ルムを、両端の配向角の差が25度以下となるように2
    以上に切断した後、熱処理することを特徴とする写真用
    支持体の製造方法。
  2. 【請求項2】前記熱処理が、2以上に切断した後、感光
    層を含む写真構成層を塗布するよりも前に行われること
    を特徴とする請求項1に記載の写真用支持体の製造方
    法。
  3. 【請求項3】前記熱処理が、下塗層(下引層)塗布後に
    行われることを特徴とする請求項1又は2に記載の写真
    用支持体の製造方法。
  4. 【請求項4】前記熱処理が60℃以上200℃以下の温
    度で、0.01kg/cm2〜60kg/cm2の搬送張
    力下で行われることを特徴とする請求項1〜3のいずれ
    かに記載の写真用支持体の製造方法。
  5. 【請求項5】前記熱処理前後におけるポリエステルフィ
    ルムの密度変化が0.01g/cm3以下、複屈折の変
    化が0.005以下、長さ方向の弾性率比(熱処理前/
    熱処理後)の変化が0.75〜1.2であることを特徴
    とする請求項1〜4のいずれかに記載の写真用支持体の
    製造方法。
  6. 【請求項6】製膜後の幅方向における中央部と端部の配
    向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステルフィ
    ルムであって、該ポリエステルフィルムは両端の配向角
    の差が25度以下となるように2以上に切断されてお
    り、且つ下記熱寸法安定性を有することを特徴とする写
    真用支持体。 [熱寸法安定性]製膜幅方向で任意の部分において、1
    20℃、30秒の加熱処理でも寸法変化率の絶対値がM
    D方向0.001〜0.08%、TD方向0.001〜
    0.04%の範囲であること。
  7. 【請求項7】製膜後の幅方向における中央部と端部の配
    向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステルフィ
    ルムであって、該ポリエステルフィルムは両端の配向角
    の差が12度以下となるように2以上に切断されてお
    り、且つ下記熱寸法安定性を有することを特徴とする写
    真用支持体。 [熱寸法安定性]製膜幅方向で任意の部分において、1
    20℃、30秒での両端の寸法変化率の絶対値の差がM
    D方向、TD方向とも0.02%以下であること。
  8. 【請求項8】製膜後の幅方向における中央部と端部の配
    向角の差が30度以上である二軸延伸ポリエステルフィ
    ルムであって、該ポリエステルフィルムは両端の配向角
    の差が12度以下となるように2以上に切断されてお
    り、且つ下記熱処理寸法ズレ抑制性を有することを特徴
    とする写真用支持体。 [熱処理寸法ズレ抑制性]590mm×590mm片と
    されたフィルム小片が、製膜方向で任意の部分におい
    て、120℃、30秒の加熱処理の前後における寸法ズ
    レがMD方向、TD方向とも75μm以下であること。
  9. 【請求項9】請求項6、7又は8に記載の写真用支持体
    上に、少なくとも1層の写真構成層を有することを特徴
    とする写真感光材料。
  10. 【請求項10】請求項6、7又は8に記載の写真用支持
    体の少なくとも一方の側に、感光性ハロゲン化銀、有機
    銀塩及び還元剤を含有する写真構成層を有することを特
    徴とする熱現像写真感光材料。
JP23924499A 1999-08-26 1999-08-26 写真用支持体及びその製造方法並びに写真感光材料 Pending JP2001066734A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23924499A JP2001066734A (ja) 1999-08-26 1999-08-26 写真用支持体及びその製造方法並びに写真感光材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23924499A JP2001066734A (ja) 1999-08-26 1999-08-26 写真用支持体及びその製造方法並びに写真感光材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001066734A true JP2001066734A (ja) 2001-03-16

Family

ID=17041891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23924499A Pending JP2001066734A (ja) 1999-08-26 1999-08-26 写真用支持体及びその製造方法並びに写真感光材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001066734A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007030278A (ja) * 2005-07-26 2007-02-08 Mitsubishi Polyester Film Copp 光学用二軸配向ポリエステルフィルム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007030278A (ja) * 2005-07-26 2007-02-08 Mitsubishi Polyester Film Copp 光学用二軸配向ポリエステルフィルム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6383729B1 (en) Photographic support and photothermographic material by use thereof
JP2000206653A (ja) 熱現像感光材料
JP2001066734A (ja) 写真用支持体及びその製造方法並びに写真感光材料
JP2001117198A (ja) 写真用支持体及びその製造方法並びに熱現像写真感光材料
JP2000267245A (ja) 熱現像感光材料の画像形成方法
JP2001201815A (ja) 熱現像感光材料
JP2001092078A (ja) 写真用支持体及びその調整方法、塗布方法、熱現像感光材料、熱現像画像形成方法
JP2001154308A (ja) 写真用支持体及びその製造方法、熱現像感光材料
JP2001188317A (ja) 写真用支持体及びその調整方法並びに熱現像写真感光材料及びその処理方法
JP2001215655A (ja) 熱現像感光材料用支持体及びその製造方法並びに熱現像感光材料
JP2001194750A (ja) 写真用支持体及び熱現像感光材料
US20050118543A1 (en) Photothermographic recording material
JP2001201818A (ja) 熱現像感光材料用支持体、その製造方法及び熱現像感光材料
JP2000284398A (ja) 熱現像感光材料の処理方法
JP2001075232A (ja) 熱現像写真感光材料及びロール状熱現像写真感光材料
JP2001013660A (ja) 熱現像感光材料の処理方法と熱現像機
JP4035936B2 (ja) 熱現像材料、熱現像材料の製造方法
JP2002250990A (ja) 写真用ポリエステル支持体、その製造方法及び銀塩光熱写真ドライイメージング材料
JP2005148107A (ja) 熱現像写真感光材料及び熱現像画像形成方法
JP2006047820A (ja) 熱現像写真感光材料及びその製造方法
JP2004286795A (ja) 熱現像写真感光材料
JP2006047459A (ja) 熱現像写真感光材料
JP2005338660A (ja) 熱現像写真感光材料
JP2005300574A (ja) 熱現像写真感光材料及びその製造方法
JP2005181497A (ja) 熱現像写真感光材料