JP2001064434A - スポンジ及びそのスポンジを備えたスポンジロール - Google Patents
スポンジ及びそのスポンジを備えたスポンジロールInfo
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Abstract
できるスポンジ及びこれを備えたスポンジロールの提供
にある。 【解決手段】 スポンジ成形時に、平均粒径が0.1〜
100μmの球状粒子を含有させる。
Description
る産業分野において利用されるものであり、OA機器の
分野ではレーザービームプリンタや複写機器等の現像部
分に使用されるロール類、例えば現像ロール、帯電ロー
ル、トナー搬送用ロール、転写ロール、感光ドラムクリ
ーニングロール(以下、クリーニングロールという。)
に使用され、特にクリーニングロールとして好適であ
り、また一般産業用のスポンジの分野では、化粧品用の
パフなどとしても好適なスポンジに関するものである。
緯は、レーザービームプリンタや複写機器等において、
画像形成装置部分のトナーの転写工程では、トナーが全
て紙上に転写されるわけではなく、必ず感光体に残留し
てしまい、残留トナーの回収装置を配置することが必要
である。この残留トナーの回収が不完全であると、次の
工程で得られる印刷物は、前回印字されずに残ったトナ
ーによる印字も行われてしまい画像がぼやけた状態の画
像不良となり、好適な画像を得ることができない。
去や新規トナーの感光体への現像及びそのトナーの紙へ
の転写を円滑に機能させるために、クリーニングロー
ル、現像ロール、転写ロール等にスポンジロールが使用
されている。なお、スポンジロールとは、鉄、アルミニ
ウム、銅、ステンレス、亜鉛、真鍮、各種合金などの導
電性金属又はこれら導電性金属にメッキ加工を施した金
属製軸体の表面にスポンジ層を設けたものである。
せるには、製造時に、配合物にカーボンブラックを添加
するため、加硫阻害を受けない付加架橋系の配合が用い
られている。また、発泡剤としては、アゾビスイソブチ
ロニトリル(AIBN)が一般に用いられている。この発泡、
架橋による方法は、熱風加硫炉、赤外線加硫炉、UHF
加硫炉等の加熱装置を用い、常圧で行われてきた。
面質を向上させるため、重合トナーなどのように粒子の
粒径の小さいものを使用する機器が主流になりつつある
ため、従来の方法で製造された平均セル径(スポンジロ
ール表面の孔のことであり、ランダムに選んだ10個の
孔の、最大外接円の平均直径のことであり、以下セル径
と記す。)が200μm以上のクリーニングロールで
は、トナーの大きさに対してセル径が大きすぎるため、
トナーが漏れて感光ドラム上に残留してしまい、次の印
刷物の画像に悪影響を与えるという問題が起こってい
る。また、同様に転写ロールにおいても、電界の強さが
セル径の影響を受けて、セルが画像に写るという問題も
発生している。
光ドラムへ均一にトナーを押し付ける機能上からスポン
ジロールは使用できず、硬ゴムロール(発泡していない
ゴム層を金属製軸体に有するもののことである。)でな
ければならなかったが、これもまた画質の向上、印刷速
度の高速化に伴いゴム硬度の低硬度化が要求されてい
る。この問題は硬ゴムロールの硬度を単に軟化させるこ
とで解決できるが、この方法では硬ゴムの歪みが悪くな
り、硬ゴムロールとしての耐久性に問題が生じ良好な画
像が得られなかった。
法においても加硫発泡速度を制御することにより、セル
径については、150μm前後のものを得ることができ
るが、ゴム硬度の低硬度化の流れで、製品硬度として要
求されている40°Hs以下にすることができなく、ま
た製造工程上、配合のライフサイクルが短くなり生産性
が極端に悪くなるという問題があった。
いては、特に化粧品分野において従来から化粧用パフ
(化粧品を皮膚に塗布するためのスポンジのことであ
り、以下パフと記す。)として様々な素材によるスポン
ジが使用されているが、塗布すべき化粧品の粘度や成分
等の種類により、要求される特性が異なるため、化粧品
に応じて各種のパフが開発され使用されている。このよ
うなパフを製造する時も上記したスポンジロールの製造
とほぼ同様の方法で行うが、どのようなパフにおいても
共通する問題点があり、例えばパウダリーファンデーシ
ョンを塗布する時、パフのセル径が大きい場合、パウダ
リーファンデーションの粉体が一つのセルに多量に入っ
てしまい、それを皮膚に塗布した時、皮膚の凹凸にも影
響を受けて均一に塗布することが出来なく、均一に塗布
するためにはどうしてもパウダリーファンデーションを
厚く塗布してしまい、皮膚への負担を多くかけてしまう
という問題や、またセル径が大きい場合皮膚と接触した
ときの感触が悪く、消費者から受け入れられないという
問題もあった。
ル径を200μm以下にし、ゴム硬度を10〜40°H
sにすることが必要とされており、さらに言えば100
μm以下にすることが最も望ましく、特に現像ロールに
使用する場合には50μm以下にすることが最も望まし
い。
どのスポンジロール等に好適に使用できるスポンジ及び
これを備えたスポンジロールの提供にある。
を形成するためには、ゴム配合物に球状粒子を含有する
ことが有効であるということを見出して、本発明は、次
のような手段を採用した。請求項1に記載のスポンジ
は、平均粒径が0.1〜100μmの球状粒子を含有す
ることを特徴としている。
発明において、球状粒子が中空構造であることを特徴と
している。
は2の発明において、平均セル径が10〜200μm、
ゴム硬度が10〜40°Hsであることを特徴としてい
る。
軸体の外周面に、請求項1から3に記載のいずれかのス
ポンジを備えたことを特徴としている。
説明する。なお、実施の形態に係るスポンジについてス
ポンジロールとして使用されたときについて詳細に説明
するが、パフにおいては導電性カーボンブラック系を添
加しない絶縁性のシリコーンゴムコンパウンドに変わる
が、他はほぼ同様のものとする。
NBR、EPDM、ウレタンゴム、シリコーンゴム等が
あるが、得られるスポンジのセル径が200μm以下で
有ると共に、OA機器で使用するクリーニングロールに
おいては帯電量を0nC〜20nC以上にすることが必
要であることから、特に望ましいものとして、シリコー
ンゴムによるスポンジがある。そのシリコーンゴム配合
物としては、主成分として主にビニル基含有オルガノポ
リシロキサン、架橋剤として主にハイドロジエンポリシ
ロキサンを用い、さらに白金化合物系触媒、反応抑制
剤、加硫補助剤、物性補助剤等を用い、さらに発泡剤を
含有してなるものを用いる。
シリコーンゴムとは、ビニル基含有ジメチルシリコーン
生ゴム、ビニル基含有フェニルシリコーン生ゴム、ビニ
ル基含有フルオロシリコーン生ゴム等、またはこれらの
変性物に必要に応じて煙霧質シリカ、沈降性シリカ等の
補強性シリカ充填剤を添加してなるものである。加硫剤
としては、1分子中に珪素原子と結合する水素原子を2
個以上有するオルガノハイドロジエンポリシロキサン等
がある。さらに、加硫補助剤として過酸化物を併用すれ
ば、ゴムの強度や歪み等の物性向上に効果が有り、これ
にはベンゾイルパーオキサイド、ビース2,4ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ
−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ビ
ス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン等が例示される。
に非補強性シリカを添加してもよい。さらに、これらを
導電化する際には、上記したシリコーンゴム配合物に、
導電性カーボンブラック等を添加する。またスポンジに
するため発泡させるには、化学発泡剤が好適に使用で
き、これには重炭酸ナトリウム等の無機発泡剤と、ADC
A、AIBN、1,1'−アゾ−ビス(1−アセトキシ−1フェニル
−エタン)等の有機発泡剤が例示される。これらの分解
温度は通常100〜200℃であり、加熱加硫と同時に
発泡させるにあたり、本実施形態による加硫方法とのバ
ランスがとりやすい。その含有量は加硫前のシリコーン
ゴムコンパウンドに対し、0.5〜20重量%の範囲に
するのが好ましい。この値が0.5重量%未満では充分
に発泡しにくく、30重量%を超えるとスポンジとして
の形態を保持できにくくなり、機械強度が低下してしま
う場合もある。
クロテトラシロキサン、アセチレンアルコール類、シロ
キサン変性アセチレンアルコール、ハイドロパーオキサ
イト等が挙げられ、加硫補助剤には主に、有機過酸化物
を用い、物性補助剤には、硬度調整や耐熱性向上のため
に非補強性シリカを用いる。また、白金化合物系触媒
は、付加反応用硬化促進剤として作用する。かかるもの
としては、これに限定されるものではないが、例えば塩
化白金酸、アルコール変性塩化白金酸などや、白金を白
金黒、アルミナ、シリカ、カーボンなどの固体触媒に担
時させたものや、白金とオレフィン、エチレン、アルコ
ール、ビニルシロキサンとの各錯体、塩化白金酸とオレ
フィン、エチレン、アルコ-ル、ビニルシロキサンとの
各錯体等が挙げられる。さらに本発明に必要なセル径、
硬度に影響が出ない程度のクリスタライト等の無機充填
材を帯電量調整の目的でシリコーンゴム配合物に添加し
ても良い。
配合物は、上記シリコーンゴム配合物に球状粒子を添加
したものであるが、この球状粒子を添加する目的として
はスポンジロールやパフを製造する際の発泡剤の分散性
や、スポンジロールでは必要に応じて添加するカーボン
ブラックなどの分散性を高めることにより、体積抵抗値
の部分的な誤差を緩和すると共に、発泡剤の分解に伴う
セルの形成を均一かつ微細にするためである。さらに得
られたスポンジロールに対しては、スポンジの一般物性
の補強材としての効果もある。
面に滑らかな曲面を持つ粒子であり、鋭角的な角部を持
たない限りどのような形状でも良く、またこのように定
義した「球状」を満たす球状粒子であればなんでも良く、
必ずしも真球状に限った訳ではない。このような球状粒
子としては球状シリカ、球状シリコーンゴムボール、球
状カーボンまたはこれらで中空構造を持つものが例示さ
れるが、本発明のスポンジロールが感光ドラム(OPC)に
接触する用途に使用される、クリーニングロール、現像
ロールである時は、真球状や楕円球状のような角がない
ものが良く、星状や四角錐、三角錐のようなものは不適
当である。しかし、これらの物を上記ロールに加工した
時、角部が感光ドラムに影蟹を及ぼさない程度な角部を
持つものはこの限りではない。さらに中空構造を有する
粒子を使用した時は、より感光ドラムを傷つけにくい。
これは直接皮膚に接触させるパフにおいても同様の効果
を持つ。
加反応硬化性のシリコーンゴム配合物100重量部にた
いして、5重量部未満の添加では球状粒子の分散密度が
低すぎて上記した効果が得られず、200重量部より多
くすると加工性が悪くなり、製造の面からも一般物性の
面からも5〜200重量部の範囲が好ましい。さらに球
状粒子の大きさについては、平均粒径(添加する粒子構
成において、その割合が50%以上占めている粒子の外
接円の直径を言う。)が0.1μmより小さいものでは
球状粒子が凝集してしまい、また50μmを越えるもの
では製品形状にした際に表面にでている球状粒子が欠落
しやすく、一般物性も低下するので粒径が0.1μm〜
50μmの球状粒子が良い。
バウンド「TCM5406U」(商品名、東芝シリコーン株式会社
製)100重量部に対して、平均粒径5μmの中空構造
シリコーンゴムボール20重量部、オルガノハイドロジ
エンポリシロキサン2重量部、発泡剤1,1−アゾ−ビス
(1-アセトキシ−1フェニル−エタン)15重量部、触媒
としての塩化白金酸を加えてシリコーンゴム配合物を調
製した。また、金属製軸体(φ6×250mm、SUS22に
無電解ニッケルメッキを施したもの)をトルエン洗浄し
プライマー処理する。さらに、プライマー処理した金属
製軸体を、ギアーオーブンにて180℃の温度にて30
分焼成処理し、常温にて30分以上冷却し、プライマー
処理した金属製軸体とシリコーンゴム配合物とを、押出
成形機にて一体分出しし、それをIR炉にて200℃で
10分間焼成処理し、マイクロセルスボンジロール原形
を成形する。それをさらにギアーオーブンにて225℃
の温度で7時間焼成処理し、常温にて1時間放置した
後、円筒研削盤にてφ12mmに研削する。得られたマ
イクロセルスポンジロールについてセル径(ロール表
面)、比重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値
誤差を測定した値を表1に記す。なお、ここでマイクロ
セルスポンジとは、セル径が200μm以下のスポンジ
をいう。
クセルスポンジロールを示し、(a)は斜視図、(b)
は縦断面図である。図において、1は金属製軸体、2は
マイクロセルスポンジである。図2は、マイクロセルス
ポンジロール10の体積抵抗値を測定する方法を示す、
図中の符号3は金属板、4は荷重用分銅、5は抵抗測定
器である。図3はマイクロセルスポンジロール10の歪
みを測定する方法を示し、図中の符号6は荷重用分銅、
7は台座、8は環境試験器を示す。歪みの測定方法は、
環境試験器(ETAT社製 HIFLEX FH200
0)で、図3に示すように、ロールに対して1000g
(500g×2)の荷重をかけて、40℃、90%RH
の条件下で、2週間の環境試験の後、常温(20℃)に
て24時間放置後、荷重がかかっていなかった部分の直
径と、荷重をかけ凹んだ部分の直径との差を歪みとし
た。
ールの平均粒径を50μmとする以外は、実施例・A1
と同様にしてマイクロセルスポンジロールを成形した。
得られたマイクロセルスポンジロールついて、実施例・
A1と同様の方法により、セル径(ロール表面)、比重、
製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を測定し
た結果を表1に記す。
ールの平均粒径が0.2μmのものを使用する以外は、
実施例・A1と同様にしてマイクロセルスボンジロール
を成形した。得られたマイクロセルスポンジロールつい
て、実施例・A1と同様の方法により、セル径(ロール
表面)、比重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗
値誤差を測定した結果を表1に記す。
が5μmで中空構造のシリカを使用する以外は、実施例
・A1と同様にしてマイクロセルスポンジロールを成形
した。得られたマイクロセルスポンジロールついて、実
施例・A1と同様の方法により、セル径(ロール表面)、
比重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を
測定した結果を表1に記す。
が5μmで中実構造のシリコーンゴムボールを使用する
以外は、実施例・A1と同様にしてマイクロセルスポン
ジロールを成形した。得られたマイクロセルスボンジロ
-ルついて、実施例・A1と同様の方法により、セル径
(ロール表面)、比重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体
積抵抗値誤差を測定した結果を表1に記す。
が5μmで充実構造のシリカを使用する以外は、実施例
・A1と同様にしてマイクロセルスポンジロールを成形
した。得られたマイクロセルスポンジロールついて、実
施例・A1と同様の方法により、セル径(ロール表面)、
比重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を
測定した結果を表1に記す。
径が5μmの球状カーボンブラックを使用する以外は、
実施例・A1と同様にしてマイクロセルスポンジロール
を成形した。得られたマイクロポーラスロールついて、
実施例・A1と同様の方法により、セル径(ロール表
面)、比重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値
誤差を測定した結果を表1に記す。
ドを絶縁性の「TSU 2575U」(商品名、東芝シリコーン株
式会社製)を使用する以外実施例・A1と同様にしてマ
イクロセルスポンジロールを成形した。得られたマイク
ロセルスポンジロールついて、実施例・A1と同様の方
法により、セル径(ロール表面)、比重、製品硬度、歪
み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を測定した結果を表1
に記す。
ールの平均粒径を0.05μmとする以外は、実施例・
A1と同様にしてマイクロセルスポンジロールを成形し
た。得られたマイクロセルスポンジロールついて、実施
例・A1と同様の方法により、セル径(ロール表面)、比
重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を測
定した結果を表2に記す。
ールの平均粒径を150μmとする以外は、実施例・A
1と同様にしてマイクロセルスポンジロールを成形し
た。得られたマイクロセルスポンジロールついて、実施
例・A1と同様の方法により、セル径(ロール表面)、比
重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を測
定した結果を表2に記す。
ールの平均粒径を0.05μmとする以外は、実施例・
A1と同様にしてマイクロセルスポンジロールを成形し
た。得られたマイクロセルスポンジロールついて、実施
例・A1と同様の方法により、セル径(ロール表面)、比
重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を測
定した結果を表2に記す。
ールの平均粒径を150μmとする以外は、実施例・A
1と同様にしてマイクロセルスポンジロールを成形し
た。得られたマイクロセルスポンジロールついて、実施
例・A1と同様の方法により、セル径(ロール表面)、比
重、製品硬度、歪み、体積抵抗値、体積抵抗値誤差を測
定した結果を表2に記す。
値は、ADVANTEST社製「R8340A ULTRA HIGH RESISTANCE
METER」にて、100Vで10秒印可した時の4点測定
時の平均値である。また、体積抵抗値誤差は、上記測定
方法にて測定した時の最大値を最小値で割った値であ
る。表面のスポンジセル径の測定方法は、光学顕微鏡で
100倍に拡大した時、ランダムに選んだセル10個の
平均値である。比重は、MFD BY A&D社製 ED-120T比重計
にて測定した値である。また、硬度はアスカーCにて測
定した値である。実施例8は絶縁性のシリコーンゴムコ
ンパウンドを使用しているため、抵抗値データはない。
比較例1,3はロール形状にできなかったためデータは
ない。「←」はその←が示す方向と同様のものを表す。
状フィラーの粒径が0.05μmではロール形状に加工
することができず、また150μmではスポンジのセル
径が200μm以上となり、目的を達成することができ
ない。
ンパウンド「TSE 2575U」(商品名、東芝シリコーン株式会
社製)100重量部に対して、平均粒径5μmの中空構
造シリコーンゴムボール20重量部、オルガノハイドロ
ジエンポリシロキサン2重量部、発泡剤1,1'−アゾ−
ビス(1-アセトキシ-1フェニル−エタン)15重量部、触
媒としての塩化白金酸を加え、シリコーンゴム配合物を
調製した。調整したシリコーンゴム配合物を、押出成形
機にて厚さ15mm×長さ150mm×幅50mmの板
状に分出しし、それをIR炉にて200℃で10分間焼
成処理し、マイクロセルパフ原形を成形する。それをさ
らにギアーオーブンにて225℃の温度にて7時間焼成
処理し、常温にて1時間放置した後、スライサーにて厚
さを10mmにカットしてセル構造部分を表面に露出さ
せる。それを45mm×70mmの長方形にカットし、
さらにその角をR形状にカットする。得られたマイクロ
セルパフについてセル径(パフ表面)、比重、製品硬度、
表面の皮膚への感触、パウダリーファンデーションの塗
布ムラを測定した値及び結果を表3に記す。
ールの平均粒径を50μmとする以外は、実施例・B1
と同様にしてマイクロセルパフを成形した。得られたマ
イクロセルパフついて実施例・B1と同様の方法によ
り、セル径(パフ表面)、比重、製品硬度、表面の皮膚へ
の感触、パウダリーファンデーションの塗布ムラを測定
した結果を表3に記す。
ールの平均粒径が0.2μmのものを使用する以外は、
実施例・B1と同様にしてマイクロセルパフを成形し
た。得られたマイクロセルパフついて実施例・B1と同
様の方法により、セル径(パフ表面)、比重、製品硬度、
表面の皮膚への感触、パウダリーファンデーションの塗
布ムラを測定した結果を表3に記す。
が5μmで中空構造のシリカを使用する以外は、実施例
・B1と同様にしてマイクロセルパフを成形した。得ら
れたマイクロセルパフついて、実施例・B1と同様の方
法により、セル径(パフ表面)、比重、製品硬度、表面の
皮膚への感触、パウダリーファンデーションの塗布ムラ
を測定した結果を表3に記す。
が5μmで中実構造のシリコーンゴムボールを使用する
以外は、実施例・B1と同様にしてマイクロセルパフを
成形した。得られたマイクロセルパフついて、実施例・
B1と同様の方法により、セル径(パフ表面)、比重、製
品硬度、表面の皮膚への感触、パウダリーファンデーシ
ョンの塗布ムラを測定した結果を表3に記す。
が5μmで中実構造のシリカを使用する以外は、実施例
・B1と同様にしてマイクロセルパフを成形した。得ら
れたマイクロセルパフついて、実施例・B1と同様の方
法により、セル径(バフ表面)、比重、製品硬度、表面の
皮膚への感触、パウダリーファンデーションの塗布ムラ
を測定した結果を表3に記す。
ールの平均粒径を0.05μmとする以外は、実施例・
B1と同様にしてマイクロセルパフを成形した。得られ
たマイクロセルパフついて、実施例・B1と同様の方法
により、セル径(パフ表面)、比重、製品硬度、表面の皮
膚への感触、パウダリーファンデーションの塗布ムラを
測定した結果を表4に記す。
ールの平均粒径を150μmとする以外は、実施例・B
1と同様にしてマイクロセルパフを成形した。得られた
マイクロセルパフついて、実施例・B1と同様の方法に
より、セル径(パフ表面)、比重、製品硬度、表面の皮膚
への感触、パウダリーファンデーションの塗布ムラを測
定した結果を表4に記す。
ールの平均粒径を0.05μmとする以外は、実施例・
B1と同様にしてマイクロセルパフを成形した。得られ
たマイクロセルパフついて、実施例・B1と同様の方法
により、セル径(パフ表面)、比重、製品硬度、表面の皮
膚への感触、パウダリーファンデーションの塗布ムラを
測定した結果を表4に記す。
ールの平均粒径を150μmとする以外は、実施例・B
1と同様にしてマイクロセルパフを成形した。得られた
マイクロセルパフついて、実施例・B1と同様の方法に
より、セル径(パフ表面)、比重、製品硬度、表面の皮膚
への感触、パウダリーファンデーションの塗布ムラを測
定した結果を表4に記す。
の場合と同様な方法で計測したものである。なお、表
中、表面の皮膚への感触及び塗布ムラについては、パウ
ダリーファンデーションを手の甲に塗布した時の評価
で、「◎:優れる、:普通、△:やや劣る、×:劣る」
を示す。
状フィラーの粒径が0.05μmでは製品硬度値が高く
なり、皮膚への感触が悪く、また150μmではスポン
ジのセル径が200μm以上となり、塗布ムラが生ずる
ことがわかる。
ンジを使用したスポンジロールは、従来硬ゴムでしか利
用できなかった現像ロールにおいても、硬ゴムより低硬
度で、摩耗においても、スポンジであることから、たえ
ず同じ表面状態を保持でき、安定した画像がえられる。
さらにクリーニングロールにおいては、感光体表面に残
留するトナーの除去能力に優れ、また転写ロールおいて
も、転写精度の向上にもなり、産業上の利用価値のきわ
めて高いものといえる。
ポンジを使用した場合、皮膚の凹凸の影響を受けにく
く、パウダリーファンデーションなどを均一、かつ薄く
塗布することができ、皮膚への負担を軽減することがで
きる。
し、(a)は斜視図、(b)は縦断面図である。
図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 平均粒径が0.1〜100μmの球状粒
子を含有することを特徴とするスポンジ。 - 【請求項2】 前記球状粒子が、中空構造であることを
特徴とする請求項1に記載のスポンジ。 - 【請求項3】 平均セル径が10〜200μm、ゴム硬
度が10〜40°Hsであることを特徴とする請求項1
又は2記載のスポンジ。 - 【請求項4】 金属製軸体の外周面に、請求項1から3
に記載のいずれかのスポンジを備えたことを特徴とする
スポンジロール。
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