JP2001063067A - インクジェットヘッドのノズルプレート製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インクジェットヘッドのノズルプレートを効
率的に、かつ歩留良く製造する方法を提供する。 【解決手段】 導電性基板４０１の表面のうちアライメ
ント領域以外の部分に凹凸４１１を形成する工程、基板
上に第１の感光性有機膜４０２を形成する工程、第１の
マスク部材４０３を用いて行う感光性有機膜４０２の露
光工程（第１の露光工程）、感光性有機膜４０２上に第
２の感光性有機膜４０５を形成する工程、第２のマスク
部材４０６のアライメントマークと、第１の露光工程で
形成された感光性有機膜４０２上のアライメントマーク
４０４ａとを位置合わせした後、マスク部材４０６を用
いて行う第２の露光工程、感光性有機膜４０２，４０５
を現像して積層有機膜パターン４０８を形成する工程、
有機膜パターン４０８に沿って基板４０１表面に金属膜
４０９を堆積する工程、金属膜４０９上に撥水性膜４１
０を形成する工程ならびに、有機膜パターン４０８およ
び基板４０１を除去する工程を、この順に行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェットヘ
ッドに関し、特に、ノズル孔を形成するノズルプレート
の吐出表面に撥水性を有する表面層を設けたインクジェ
ットヘッドのノズルプレートの製造方法に関する。本発
明に係るノズルプレートはプリンタ、ファクシミリ、複
写機等用のドロップオンディマンド（ＤＯＤ）型のイン
クジェット記録装置に有用である。

【０００２】

【従来の技術】プリンタ、ファクシミリ、複写機等に用
いられるドロップオンディマンド（ＤＯＤ）型のインク
ジェット記録装置は、例えばインク滴を吐出する複数の
ノズルと、これらのノズルに連通する液室と、この液室
内のインクを加圧するための、圧電素子等の電気機械変
換素子或いは熱抵抗体（ヒータ）等の熱機械変換素子か
らなるエネルギー発生手段とを備えたインクジェットヘ
ッドを用いて、記録信号が入力された時にのみノズルか
らインク滴を吐出飛翔させて、高速高解像度の記録を行
うものである。

【０００３】このようにインクジェットヘッドは、ヒー
タや圧電素子のエネルギー発生手段を駆動することによ
ってノズルから液滴化したインク滴を吐出飛翔させて記
録を行うため、ノズル形状及び吐出口径の精度等がイン
ク滴の噴射性能に影響を与えるとともに、ノズル部材の
表面の特性がインク滴の噴射性能に影響を与える。例え
ば、ノズル周辺部にインクが付着して不均一なインク溜
りが発生すると、インク滴の吐出方向が曲げられたり、
インク滴の大きさにばらつきが生じたり、インク滴の飛
翔速度が不安定になったりする不都合が生じることが知
られている。

【０００４】そこで従来、ノズルプレートの表面（ノズ
ル孔の吐出面）に撥水性（撥インク性）を有する表面層
を形成することでインク滴吐出の均一性を高めることが
知られている。この撥水性膜の形成方法としては、フッ
素系撥水剤等の撥水剤を塗布するもの（特開昭５５−６
５５６４号公報参照）、フッ素系高分子共析メッキで撥
水層を形成するもの（特開昭６３−３９６３号公報、特
開平４−２９４１４５号公報参照）等がある。上記方法
により形成された撥水性膜の、インク吐出口近傍での形
成のばらつきの抑制が、上述の不都合を解消するために
必要となる。

【０００５】以下に従来技術１として、実開平１−７４
１４２号公報に開示されている技術を示す。この従来技
術１に係るノズルプレートでは、図８に示すように段部
１０２を有するノズル孔１０４が形成されている。すな
わち、このノズルプレートはノズル孔１０４の内周面
に、吐出口（表面）１０１側の開口径が流入口（裏面）
１０３側の開口径よりも小さくなる段部１０２が一箇所
以上形成されていることを特徴としている。しかしなが
ら、上記公報にはノズル孔１０４の形成方法は明記され
ていない。

【０００６】次に、従来技術２として、電鋳法を用いた
場合の一般的なノズルプレート及び撥水性表面層の作製
方法を示す。図９は、従来技術２に係るノズルプレート
作製方法の工程説明図であって、ノズル孔近傍の概略断
面図で示したものである。ノズルプレートは金属膜の電
鋳法により形成され、撥水性膜は金属とＰＴＦＥの共析
メッキ法により形成されている。

【０００７】図９（ａ）において、導電性を有する基板
２０１上のノズル孔に相当する箇所に有機レジスト２０
２がパターニングされている。さらに電鋳法によりノズ
ルプレートの金属膜２０３ａが等方的に形成されてい
る。図９（ｂ）において、基板２０１及び有機レジスト
２０２を除去することにより、ノズルプレート基体２０
３ｂが用意される。この時、基板２０１側と接していた
開口部がインク吐出口２０７となり、それに相対する開
口部がインク流入口２０８〔図９（ｅ）〕となるのが一
般的である。

【０００８】図９（ｃ）において、シール部材２０４に
より金属膜２０３ａ表面をシールした後、図９（ｄ）に
おいて、インク流入口２０８側より有機膜２０５等を詰
めた後シール部材２０４を除去し、金属膜２０３ａ表面
に電解共析メッキ法等により金属とＰＴＦＥの共析メッ
キ膜２０６を形成する。図９（ｅ）において、有機膜２
０５を除去し、撥水性表面層を有するノズルプレート２
０３が完成する。

【０００９】図９（ｂ）では基板２０１及び有機レジス
ト２０２を剥離するのであるが、金属膜２０３ａを電鋳
する過程では、基板２０１・金属膜２０３ａ間での剥離
が生じないように、これらの密着性を向上させなければ
ならない。そのため電鋳前の基板２０１表面に、研磨布
等を用いた研磨により凹凸を形成することが必要とな
る。この場合、凹凸は基板２０１上面全面に形成される
のが一般的である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術１では段部１０２を有するノズル孔１０４が形成され
ているものの、上記公報には吐出口（表面）１０１側と
流入口（裏面）１０３側とを、どのようにして位置合わ
せするかについては明記されていないし、ノズルプレー
ト自体の製造方法についても記載されていない。

【００１１】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、その目的は、インク吐出側の径がインク流入側の径
よりも小さいノズル孔を有するノズルプレートを効率的
に、かつ歩留良く製造する方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
（図２を参照）は、表面が導電性材料からなる基板４０
１の前記表面の適宜箇所を露光マスクに対するアライメ
ント領域となし、それ以外の表面部分に凹凸４１１を形
成し、基板４０１の表面に第１の感光性有機膜４０２を
形成した後、第１の露光工程において第１のマスク部材
４０３のアライメントマークを第１の感光性有機膜４０
２に転写し、該感光性有機膜４０２上に第２の感光性有
機膜４０５を積層形成した後、第１の感光性有機膜４０
２に転写されたアライメントマークと第２のマスク部材
４０６とのアライメントと、その後の第２の露光工程
と、さらにその後の現像工程とによりノズル孔４１２形
成用の積層有機膜パターン４０８を形成し、基板４０１
の表面に金属膜４０９を形成するとともに、積層有機膜
パターン４０８のうちその頂部を除く部分を金属膜４０
９で被覆した後、基板４０１および積層有機膜パターン
４０８を除去することにより、金属膜４０９からなるノ
ズルプレート本体４１３を貫通するノズル孔４１２を形
成することを特徴とするインクジェットヘッドのノズル
プレート製造方法である。

【００１３】請求項２に記載の発明は、金属膜からなる
ノズルプレート本体の表面に撥水性の膜が形成され、こ
れらノズルプレート本体および撥水性膜を貫通するノズ
ル孔が形成され、かつ該ノズル孔のインク吐出口が前記
撥水性膜に形成されたノズルプレートの製造方法であっ
て、表面が導電性材料からなる基板における前記表面の
適宜箇所を露光マスクに対するアライメント領域とな
し、それ以外の表面部分に凹凸を形成した基板の表面上
に第１の感光性有機膜を形成する工程と、アライメント
マークが形成された第１のマスク部材を介して第１の感
光性有機膜を露光させるとともに該感光性有機膜に第１
のマスク部材のアライメントマークを転写する第１の露
光工程と、その後に第１の感光性有機膜上に第２の感光
性有機膜を形成する工程と、第２のマスク部材のアライ
メントマークと第１の感光性有機膜に転写された前記ア
ライメントマークとの位置合わせを行って第２の感光性
有機膜を露光させる第２の露光工程と、その後に第１の
感光性有機膜と第２の感光性有機膜を現像することによ
りノズル孔部位に相当する箇所に積層有機膜パターンを
形成する工程と、該有機膜パターンに沿って前記基板表
面に金属膜を電鋳法により堆積する工程と、該金属膜上
に撥水性の膜を形成する工程と、その後に前記積層有機
膜パターンおよび前記基板を除去することにより前記金
属膜及び撥水性膜を貫通するノズル孔を形成する工程と
を有することを特徴とするものである。

【００１４】上記のように、請求項１，２に係るノズル
プレート製造方法では、アライメント領域を除く基板表
面部分にあらかじめ凹凸を形成するとともに、基板表面
のアライメント領域の適宜箇所に、第１のマスク部材と
第２のマスク部材とを間接的に重ね合わせてアライメン
トを行い、それによってノズル孔を高精度に形成するた
めのアライメントマークを配置することになる。

【００１５】請求項２のノズルプレート製造方法は、更
に具体的には（図２を参照）、片面に撥水性の膜が形成
されたノズルプレート本体に、インク流入口側の径がイ
ンク吐出口側の径より大きいノズル孔が貫通形成され、
かつ上記インク吐出口が上記撥水性膜に形成されてい
る、インクジェットヘッドのノズルプレートを製造する
方法であって、表面が導電性の基板４０１（導電性を有
する材料からなる基板又は、表面に導電性の膜が設けら
れている基板）の表面の適宜箇所を、ノズル孔形成用の
露光マスクを位置合わせするためのアライメント領域と
するとともに、該アライメント領域以外の基板４０１表
面部分に凹凸を形成する工程と、基板４０１上に第１の
感光性有機膜４０２を形成する工程と、アライメントマ
ークが形成された第１のマスク部材４０３を介して第１
の感光性有機膜４０２を露光させることにより、上記イ
ンク流入口側のノズル孔部分を形成するべき感光領域４
０４および所定のアライメントマーク４０４ａを転写形
成する第１の露光工程と、該第１の露光工程の後に第１
の感光性有機膜４０２上に第２の感光性有機膜４０５を
形成する工程と、アライメントマークが形成された第２
のマスク部材４０６と上記アライメントマーク４０４ａ
を位置合わせした後、第２のマスク部材４０６を介して
第２の感光性有機膜４０５を露光させることにより、上
記インク吐出口側のノズル孔部分を形成するべき感光領
域４０７を形成する第２の露光工程と、その後に第１の
感光性有機膜４０２と第２の感光性有機膜４０５を現像
することにより、ノズル孔４１２部位に相当する箇所に
積層有機膜パターン４０８を形成する工程と、該有機膜
パターン４０８に沿って基板４０１表面に金属膜４０９
を電鋳法により堆積する工程と、該金属膜４０９上に撥
水性を有する膜４１０を形成する工程と、上記有機膜パ
ターン４０８及び基板４０１を除去することにより上記
撥水性膜４１０を貫通するノズル孔４１２を形成する工
程とを備えてなり、上記金属膜４０９からなるノズルプ
レート本体４１３の片面に上記撥水性膜４１０が形成さ
れ、かつノズルプレート本体４１３及び撥水性膜４１０
を貫通し、該撥水性膜４１０の表面がインク吐出面とな
っているノズル孔４１２が形成されたノズルプレート４
１５を得ることを特徴とするものである。

【００１６】請求項３に記載のインクジェットヘッドの
ノズルプレート製造方法は、請求項２において、前記基
板表面の適宜箇所にシール材を配置し、この状態で研磨
法、ブラスト法又はエッチング法により基板表面を荒ら
すことにより、基板表面のうちシール材配置部分を除く
部分に凹凸を形成することを特徴とする。

【００１７】請求項４に記載のインクジェットヘッドの
ノズルプレート製造方法は、請求項２又は３において、
第１のマスク部材及び第２のマスク部材として、円形又
は楕円形のアライメントマークが形成されたものを用い
ることを特徴とする。

【００１８】請求項５に記載のインクジェットヘッドの
ノズルプレート製造方法は、請求項４において、第１の
マスク部材及び第２のマスク部材として、円形又は楕円
形のアライメントマークを複数、少なくとも一方向の直
線状に配置したものを用いることを特徴とする。

【００１９】本発明者は、上記実開平１−７４１４２号
公報にノズル孔１０４の形成方法が明記されていない点
に鑑み、インク流出口側の径がインク流入口側の径より
小さいノズル孔を形成したノズルプレートを歩留良く製
造する方法について検討した。そこで次に、このノズル
プレートの製造方法を図１をもとに説明する。図１は工
程説明図であって、基板の断面図で示したものである。

【００２０】図１（ａ）において、ステンレス製などの
導電性基板３０１上に、ネガレジスト又はドライフィル
ムレジスト等の第１の感光性有機膜３０２を形成する。
次に図１（ｂ）において、第１のマスク部材３０３を介
して、密着型露光機又は縮小露光機を用いて第１の感光
性有機膜３０２を露光させ、ノズル孔形成箇所に流入口
径に近い任意の径で感光領域３０４を形成する（第１の
露光工程）。

【００２１】次に、図１（ｃ）において、第１の露光工
程に引き続き、第１の感光性有機膜３０２上に、ネガレ
ジスト又はドライフィノレムレジスト等の第２の感光性
有機膜３０５を形成する。次に、図１（ｄ）において、
第２のマスク部材３０６を介して、密着型露光機又は縮
小露光機を用いて第２の感光性有機膜３０５を露光さ
せ、ノズル孔形成箇所に吐出口径に近い任意の径で感光
領域３０７を形成する（第２の露光工程）。

【００２２】次に、図１（ｅ）において、第１の感光性
有機膜３０２と第２の感光性有機膜３０５を現像し、ノ
ズル孔部位に相当する箇所に積層の有機膜パターン３０
８を形成する。次に、図１（ｆ）において基板３０１上
に、前記ノズル孔に相当する箇所に積層された有機膜パ
ターン３０８に沿って、Ｎｉ又はＮｉ−Ｃｏ合金等の金
属膜３０９を電鋳法等により形成し、図１（ｇ）に示す
ように、基板３０１及び積層有機膜パターン３０８を除
去し、インクジェットヘッドのノズルプレート３１０の
作製を終了する。符号３１１はノズル孔である。

【００２３】すなわち、図１（ｂ）において、第１のマ
スク部材３０３を用いて第１の感光性有機膜３０２を露
光し、図１（ｄ）において、第２のマスク部材３０６を
用いて第２の感光性有機膜３０５を露光している。この
時、図１（ｄ）における露光では、図１（ｂ）の露光時
のパターン位置を認識することが必要となり、そのた
め、第１のマスク部材３０３と第２のマスク部材３０６
それぞれの任意の箇所にアライメントマークを設置し、
パターン位置ずれを抑制する。

【００２４】しかし、図１の製造方法では、上記した従
来技術２のように基板３０１全面に、電鋳時の密着性を
向上させる為の凹凸を形成すると、上記アライメント
は、凹凸を有する箇所で実施しなければならず、アライ
メント時のパターンの認識が困難となり、そのためパタ
ーン位置ずれが発生し、インクジェットヘッドのノズル
プレートの製造歩留が低下してしまうことがわかった。
そこで本発明者は、上記パターン位置ずれを回避するた
め種々検討した結果、本発明に係るノズルプレートの製
造方法を完成したものである。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明する。 第１の実施の形態（請求項１〜請求項４に対応） 図２はノズルプレートの製造工程を、その概略断面図で
示したものである。図２（ａ）において、ステンレスな
どの導電性を有する基板４０１上の、アライメントマー
クを形成する任意の箇所を除いた場所に、電鋳時の密着
性を向上させるための凹凸４１１を形成する。該凹凸４
１１の形成手段としては、研摩布による研摩が一般的
で、サンドブラスト法、ウェットエッチング法又はドラ
イエッチング法が適用される。図２（ｂ）において、ア
ライメントマークを形成する任意の箇所を除いた場所に
凹凸４１１が形成されている基板４０１上に、ネガレジ
スト又はドライフィルムレジスト等の第１の感光性有機
膜４０２を形成する。

【００２６】次に、図２（ｃ）において、多数のアライ
メントマーク（露光用の開口部）が形成された第１のマ
スク部材４０３を介して、密着型露光機又は縮小露光機
を用いて、第１の感光性有機膜４０２を露光させ、ノズ
ル孔形成箇所には流入口径に近い任意の径で感光領域４
０４（後の工程で大径側のノズル孔部分を形成するべき
領域）を形成し、アライメント領域には、第２の露光工
程におけるアライメント用のアライメントマークとして
の感光領域４０４ａを任意の形で転写形成する（第１の
露光工程）。すなわち、第１のマスク部材４０３に形成
された多数のアライメントマークは、その幾つかがアラ
イメントマーク４０４ａ形成用とノズル孔形成用とを兼
ねたものであり、残りがノズル孔形成用となっている。

【００２７】次に、図２（ｄ）において、第１の露光工
程に引き続き、第１の感光性有機膜４０２上に、ネガレ
ジスト又はドライフィルムレジスト等の第２の感光性有
機膜４０５を形成する。次に、図２（ｅ）において、多
数のアライメントマーク（露光用の開口部）が形成され
た第２のマスク部材４０６を介して、密着型露光機又は
縮小露光機を用いて、第２の感光性有機膜４０５を露光
させ、ノズル孔形成箇所には吐出口径に近い任意の径
で、感光領域４０７を形成する（第２の露光工程）。こ
の感光領域４０７は、後の工程で小径側のノズル孔部分
を形成するべき領域である。

【００２８】この時、第２のマスク部材４０６の多数の
アライメントマークのうち、アライメント領域に相当す
る任意の箇所のアライメントマークと、第１の露光工程
で形成されたアライメントマーク４０４ａとをアライメ
ントすることにより、ノズル孔形成箇所に形成された感
光領域４０４と感光領域４０７とを位置合わせすること
ができる。すなわち、第２のマスク部材４０６に形成さ
れた多数のアライメントマークは、その幾つかがアライ
メント用とノズル孔形成用とを兼ねたものであり、残り
がノズル孔形成用となっている。

【００２９】次に、図２（ｆ）において、第１の感光性
有機膜４０２と第２の感光性有機膜４０５を現像するこ
とにより、ノズル孔部位に相当する箇所に積層有機膜パ
ターン４０８を形成する。次に、図２（ｇ）において基
板４０１上に、前記ノズル孔に相当する箇所に積層され
た有機膜パターン４０８に沿って、Ｎｉ又はＮｉ−Ｃｏ
合金等の金属膜４０９を電鋳法により形成する。この金
属膜４０９は、後の工程でノズルプレート本体４１３と
なるべきものである。次に、図２（ｈ）において、積層
有機膜パターン４０８を有するまま、金属とポリテトラ
フルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を共析メッキ法により連
続した形態で形成し、撥水性を有する膜４１０とする。
その後、図２（ｉ）に示すように、積層有機膜パターン
４０８及び基板４０１を除去することによりノズル孔４
１２を形成し、ノズルプレート４１５の作製が終了す
る。

【００３０】請求項１，２に係る発明の特徴は、アライ
メント領域の任意の箇所を除いた箇所の基板４０１表面
部分に凹凸を形成することであり、請求項３に係る発明
の特徴は、アライメント領域の任意の箇所にシール材を
配置した状態で上記凹凸を形成することにある。また、
請求項４，５に係る発明の特徴は、（凹凸を形成しな
い）アライメント領域の任意の箇所に、図２（ｃ）
（ｅ）に示される露光時のアライメントマークを形成す
る点にある。

【００３１】第２の実施の形態（請求項４に対応） 図３は、図２（ｃ）及び図２（ｅ）に示される露光時
に、第１のマスク部材４０３及び第２のマスク部材４０
６上に形成されているアライメントマークを模式的に示
した図である。図３（ａ）は、密着型露光法により露光
した場合に用いられる第１のマスク部材４０３及び第２
のマスク部材４０６のパターン配置を示している。また
図３（ｂ）は、これらマスク内でのアライメントマーク
を示している。

【００３２】図３（ａ）では、例えば一辺が８インチの
有効露光面積を有するマスク５０１の表面の大部分に、
ノズルプレートを形成するための露光パターン５０２が
配置されており、マスク周辺部の両端に、アライメント
マーク用の露光パターン５０３が配置されている。図３
（ｂ）は、アライメントマーク用の露光パターン５０３
を模式的に拡大して示した図であり、中心にアライメン
トマーク５０４が同心円形状で配置されている。このア
ライメントマーク５０４は、楕円形であっても良い。請
求項４に係る発明の特徴は、第１のマスク部材４０３と
第２のマスク部材４０６のアライメントマーク５０４と
して、円形又は楕円形のパターンを用いることにある。

【００３３】第３の実施の形態（請求項５に対応） 図４は、図２（ｃ）（ｅ）に示される露光時に、第１の
マスク部材４０３及び第２のマスク部材４０６上に形成
されているアライメントマークを模式的に示した図であ
る。図４（ａ）では、径が同一の円形アライメントマー
ク６０１が１本の直線状に配置されている。図４（ｂ）
では、径が同一の円形アライメントマーク６０２が、縦
横２本の直線状に配置されている。請求項５に係る発明
の特徴は、図４（ａ）（ｂ）に示すように、第１のマス
ク部材と第２のマスク部材のアライメントパターンとし
て、複数個の円形又は楕円形のマークを直線状に配列し
たものを少なくとも一方向に配置したことにある。

【００３４】

【実施例】実施例１ この実施例は、講求項１〜３に記載のノズルプレートの
製造方法に係るものである。図５は、導電性を有する基
板の任意の箇所を除いて凹凸を形成する製造工程を、基
板の斜視図で示したものである。

【００３５】図５（ａ）において、ステンレス製であ
り、直径がおよそ２００ｍｍで厚さが０．６ｍｍの導電
性基板７０１上の任意の箇所に、面積が１ｃｍ² で厚さ
が１ｍｍの、ＰＴＦＥを主材料とする粘着テープ７０２
を貼り付けた。その後、図５（ｂ）において、支持体７
０３の底面に保持された研磨布７０４により、粘着テー
プ７０２貼付部分を除く基板７０１の上面全面を研磨
し、図５（ｃ）に示すように、基板７０１表面に凹凸７
０５を形成した。この時、研磨布７０４の粗さは、図２
（ｇ）に示す電鋳時の密着性を考慮して適当な粗さとし
た。

【００３６】その後、図５（ｄ）において、粘着テープ
７０２を除去した。上記製造フローにより、任意の箇所
以外の表面に凹凸が形成されている導電性基板が用意さ
れた。この基板７０１（図２では符号４０１で示す。）
を用い、図２に示す製造フローに従い、ノズルプレート
を作製した。この時、基板７０１上の任意の箇所（粘着
テープ７０２を貼り付けた箇所）を除く全ての領域は凹
凸が形成されているので、図２（ｇ）の電鋳時及び図２
（ｈ）の共析メッキ時の密着性が向上した結果、堆積膜
の応力により基板と堆積膜が剥がれる不具合が回避さ
れ、歩留を向上させることができた。

【００３７】また、基板７０１（図２の符号４０１）上
の任意の箇所７０２は、図２（ｃ）及び図２（ｅ）の露
光時にアライメントマークが形成される箇所であり、該
任意の箇所７０２には凹凸が形成されていないので、図
２（ｅ）において、第２のマスク部材４０６上に形成さ
れているアライメントマークと、第１の露光工程におい
て基板上に形成されたアライメントマークとを、高精度
に位置合わせすることが可能となった。

【００３８】実施例２ この実施例は、請求項４，５に記載のノズルプレートの
製造方法に係るものである。請求項４，５の発明では、
図２（ｅ）における積層有機膜パターンを形成するため
のアライメントを高精度に、すなわちパターン位置ずれ
無しに行うためのアライメントマークの形状に特徴があ
る。図６は、実施例２の特徴を模式的に示したもので、
図６（ａ）は、図２（ｅ）の工程におけるアライメント
領域７０６を上方より外観した模式図（平面図）で、図
６（ｂ）は、図６（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。な
お、この実施例において作製するべきノズルプレートの
ノズル吐出孔径は、３０μｍとした。

【００３９】図６に示すように、導電性基板４０１上の
凹凸を有する領域４１１に囲まれたアライメント領域７
０６の中に、図２（ｃ）の工程で形成された、第１の感
光性有機膜４０２による第２のマスク部材４０６とのア
ライメントマークである非感光領域８０２を多数形成し
た。これらのアライメントマーク８０２は、いずれも５
０μｍ径の円形マークであり、縦横の２方向に直線状に
配置されている。なお、アライメントマーク８０２以外
の領域では、感光されて有機膜４０２の架橋反応が進む
ので、非感光領域８０２との境界が明確となり、これが
アライメントマークの役割を果たす。

【００４０】また、この実施例２においては第１の感光
性有機膜４０２、第２の感光性有機膜４０５ともに、ネ
ガ型の感光性有機膜とした。図６において、第１の感光
性有機膜４０２上のアライメントマーク８０２と第２の
マスク部材４０６上のアライメントマーク８０１を用い
て、積層される２層の有機膜４０２及び４０５のパター
ン位置合わせを、図２（ｅ）の工程で実施した。なお、
符号８０３は、図２（ｅ）において第２感光性有機膜４
０５上に形成されたアライメントマークである。第２の
マスク部材４０６上のアライメントマーク８０１は、い
ずれも３０μｍ径の円形マークであり、縦横の２方向に
直線状に配置されている。

【００４１】上記アライメントマーク８０１及び８０２
が、それぞれノズル吐出口径に比較的近い寸法であり、
かつ同心円形状をしていて（アライメントマーク８０１
の外側にアライメントマーク８０２が同心状に配置され
ている。）、しかも縦横の２方向に直線状に配置されて
いることにより、位置合わせを高精度に実施することが
できた。

【００４２】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、以下の効果が得られる。 （１）請求項１〜３に対応する作用効果 請求項１〜３に記載のインクジェットヘッドのノズノレ
プレート製造方法によれば、導電性を有する任意の基板
又は表面に導電性を有する膜が設けられている基板上
の、アライメントマークが形成される任意の箇所以外の
表面に凹凸が形成されるので、ノズルプレートを形成す
る金属膜の電鋳時に密着性が向上し、該金属膜の応力に
よる該金属膜の剥がれが抑制されて製造歩留が向上す
る。

【００４３】また、基板上の、アライメントマークが形
成される任意の箇所においては、第２のマスク部材を介
して該第２の感光性有機膜を露光させる第２の露光工程
時に、該基板上に凹凸が形成されていないので、第１の
感光性有機膜上に形成されたアライメントマークと第２
のマスク部材上のアライメントマークのパターン認識時
に、凹凸に起因するパターン認識不良を抑制でき、高精
度な位置合わせが可能になり、ノズルプレートの製造歩
留が向上する。特に請求項３に記載のノズルプレート製
造方法においては、基板上のアライメントマークが形成
される任意の箇所に、凹凸を形成する前にシール材を設
置することにより、該任意の領域にのみ凹凸が形成され
ないようにすることが可能となる。

【００４４】（２）請求項４，５に対応する作用効果 請求項４，５に記載のインクジェットヘッドのノズルプ
レート製造方法においては、第１のマスク部材と第２の
マスク部材のアライメントマークとして、円形又は楕円
形のマークを用い、特に請求項５のノズルプレート製造
方法においては、円形又は楕円形のマークを複数個、少
なくとも一方向の直線状に配置しているので、以下の作
用効果が得られる。

【００４５】例えば導電性を有する基板として、ステン
レス製等の基板を用いた場合には、一般的に該基板は冷
間圧延技術等により作製されるため、図７（ａ）に示す
ように、一般的に圧延方向に沿った筋状の凹凸４２０を
有している。また、圧延・焼きなまし処理後の鏡面処理
のための研磨により、やはり図７（ａ）に示すように、
微小ではあるが凹凸４２０が形成されている。そのた
め、図２（ｃ）又は（ｅ）におけるアライメントマーク
８０２を、図７（ｂ）に示すような直線で形成すると、
上記筋状の凹凸４２０を直線状のアライメントマークと
して認識してしまう場合が発生する。これに対し、図７
（ｃ）に示すような本発明のアライメントマークによる
と、同一基板に筋状の凹凸と円形のアライメントマーク
が形成されていても、これらは互いに全く異なる形態を
しているため、筋状の凹凸を円形アライメントマークと
認識する認識間違いが確実に防止されるので、一層高精
度の位置合わせが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明者が検討・開発したノズルプレートの製
造工程を基板の断面図で示したものである。

【図２】第１の実施の形態に係るノズルプレート製造方
法の工程説明図であって、基板の断面図で示したもので
ある。

【図３】第２の実施の形態に係るもので、露光工程用の
マスクを示す平面図である。

【図４】第３の実施の形態に係るもので、露光工程用の
マスクに形成されたアライメントマークを示す平面図で
ある。

【図５】実施例１に係る凹凸形成工程の説明図であっ
て、基板の斜視図で示したものである。

【図６】実施例２に係る積層有機膜パターン形成工程の
説明図である。

【図７】請求項４，５に記載の発明による作用効果の説
明図である。

【図８】従来のノズルプレートのノズル孔形状を示す概
略断面図である。

【図９】従来のノズルプレート製造方法を示す工程説明
図であって、基板の断面図で示したものである。

【符号の説明】

１０１ 吐出口（表面） １０２ 段部 １０３ 流入口（裏面） １０４ ノズル孔 ２０１ 基板 ２０２ 有機レジスト ２０３ ノズルプレート ２０３ａ 金属膜 ２０３ｂ ノズルプレート基体 ２０４ シール部材 ２０５ 有機膜 ２０６ 共析メッキ膜 ２０７ インク吐出口 ２０８ インク流入口 ３０１ 基板 ３０２ 第１の感光性有機膜 ３０３ 第１のマスク部材 ３０４ 感光領域 ３０５ 第２の感光性有機膜 ３０６ 第２のマスク部材 ３０７ 感光領域 ３０８ 有機膜パターン ３０９ 金属膜 ３１０ ノズルプレート ３１１ ノズル孔 ４０１ 導電性基板 ４０２ 第１の感光性有機膜 ４０３ 第１のマスク部材 ４０４ 感光領域（ノズル孔形成用） ４０４ａ 感光領域（アライメントマーク） ４０５ 第２の感光性有機膜 ４０６ 第２のマスク部材 ４０７ 感光領域 ４０８ 積層有機膜パターン ４０９ 金属膜 ４１０ 撥水性を有する膜 ４１１ 凹凸 ４１２ ノズル孔 ４１３ ノズルプレート本体 ４１５ ノズルプレート ４２０ 筋状の凹凸 ５０１ マスク ５０２ 露光パターン ５０３ 露光パターン ５０４ アライメントマーク ６０１ アライメントマーク ６０２ アライメントマーク ７０１ 導電性基板 ７０２ 粘着テープ ７０３ 支持体 ７０４ 研磨布 ７０５ 凹凸 ７０６ アライメント領域 ８０１ アライメントマーク ８０２ アライメントマーク（非感光領域） ８０３ アライメントマーク

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面が導電性材料からなる基板の前記表
   面の適宜箇所を露光マスクに対するアライメント領域と
   なし、それ以外の表面部分に凹凸を形成し、前記基板表
   面に第１の感光性有機膜を形成した後、第１の露光工程
   において第１のマスク部材のアライメントマークを前記
   第１の感光性有機膜に転写し、該感光性有機膜上に第２
   の感光性有機膜を積層形成した後、前記第１の感光性有
   機膜に転写されたアライメントマークと第２のマスク部
   材とのアライメントと、その後の第２の露光工程と、さ
   らにその後の現像工程とによりノズル孔形成用の積層有
   機膜パターンを形成し、前記基板の表面に金属膜を形成
   するとともに、前記積層有機膜パターンのうちその頂部
   を除く部分を前記金属膜で被覆した後、前記基板および
   前記積層有機膜パターンを除去することにより、前記金
   属膜からなるノズルプレート本体を貫通するノズル孔を
   形成することを特徴とするインクジェットヘッドのノズ
   ルプレート製造方法。
2. 【請求項２】 金属膜からなるノズルプレート本体の表
   面に撥水性の膜が形成され、これらノズルプレート本体
   および撥水性膜を貫通するノズル孔が形成され、かつ該
   ノズル孔のインク吐出口が前記撥水性膜に形成されたノ
   ズルプレートの製造方法であって、表面が導電性材料か
   らなる基板における前記表面の適宜箇所を露光マスクに
   対するアライメント領域となし、それ以外の表面部分に
   凹凸を形成した基板の表面上に第１の感光性有機膜を形
   成する工程と、アライメントマークが形成された第１の
   マスク部材を介して第１の感光性有機膜を露光させると
   ともに該感光性有機膜に第１のマスク部材のアライメン
   トマークを転写する第１の露光工程と、その後に第１の
   感光性有機膜上に第２の感光性有機膜を形成する工程
   と、第２のマスク部材のアライメントマークと第１の感
   光性有機膜に転写された前記アライメントマークとの位
   置合わせを行って第２の感光性有機膜を露光させる第２
   の露光工程と、その後に第１の感光性有機膜と第２の感
   光性有機膜を現像することによりノズル孔部位に相当す
   る箇所に積層有機膜パターンを形成する工程と、該有機
   膜パターンに沿って前記基板表面に金属膜を電鋳法によ
   り堆積する工程と、該金属膜上に撥水性の膜を形成する
   工程と、その後に前記積層有機膜パターンおよび前記基
   板を除去することにより前記金属膜及び撥水性膜を貫通
   するノズル孔を形成する工程とを有することを特徴とす
   るインクジェットヘッドのノズルプレート製造方法。
3. 【請求項３】 前記基板表面の適宜箇所にシール材を配
   置し、この状態で研磨法、ブラスト法又はエッチング法
   により基板表面を荒らすことにより、前記基板表面のう
   ち前記シール材配置部分を除く部分に前記凹凸を形成す
   ることを特徴とする請求項２に記載のインクジェットヘ
   ッドのノズルプレート製造方法。
4. 【請求項４】 前記第１のマスク部材及び第２のマスク
   部材として、円形又は楕円形のアライメントマークが形
   成されたものを用いることを特徴とする請求項２又は３
   に記載のインクジェットヘッドのノズルプレート製造方
   法。
5. 【請求項５】 前記第１のマスク部材及び第２のマスク
   部材として、円形又は楕円形のアライメントマークを複
   数、少なくとも一方向の直線状に配置したものを用いる
   ことを特徴とする請求項４に記載のインクジェットヘッ
   ドのノズルプレート製造方法。