JP2001060212A - パターンデータ密度検査装置及び密度検査方法並びにパターンデータ密度検査プログラムが記憶された記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パターンデータ密度エラー領域の検出精度を
向上させ、修正する必要のないパターンデータ密度エラ
ー領域の検出を行わず、設計者の修正作業が能率よく行
える検出結果を出力するパターンデータ密度検査装置を
提供する。 【解決手段】 制御部1は、レイアウト記憶部2からレイ
アウトデータを読み出し、入力処理部3及び出力処理部7
へ記憶させる。データ密度計算処理部4は、入力処理部3
のレイアウトデータを直前にパターンデータを演算した
位置から、X軸方向又はY軸方向の何れかに検出範囲をず
らし、移動後の検出範囲のパターン密度の計算を行い、
パターンデータ密度が50％以上か否かの判定を行い、50
％以上を仮エラー領域とする。エラー重なり除去処理部
5は、仮エラー領域の論理和を取り、集合仮エラー領域
を生成し、エラー領域幅計算処理部6は集合仮エラー領
域が、400μm□のエラー判定基準形状を含むエラー形状
か否かの判定を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置のパタ
ーンレイアウトにおいて、マスクレイアウトデータの密
度を検査するパターンデータ密度検査装置に係わるもの
である。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体装置の微細化が進み、レイ
アウトデザインの寸法精度における余裕、すなわち、配
線パターンの幅及びピッチ，コンタクト，高さ方向の寸
法などの製造上の誤差余裕がが小さくなり、多層配線間
の層間絶縁膜の平坦化なくして、半導体装置の製造は不
可能になりつつある。すなわち、図６に示す様に、基板
Ｓ表面に形成された配線パターンＰ１の上部の層間絶縁
膜Ｉ１の表面は、他の領域よりも当然に高く形成され
る。この層間絶縁膜Ｉ１表面に次層の配線パターンを形
成した場合、次層の配線パターンが層間絶縁膜Ｐ１の段
差部分Ｅ１において断線したり、また、パターン配線の
幅が狭く形成され、時間経過により、この狭い部分がエ
レクトロマイグレーションで断線する等により信頼性が
低下する。

【０００３】また、配線幅の値によってパターン配線の
上部に形成される層間絶縁膜の表面形状が変化する。図
７に示すように、基板Ｓ表面に形成された配線パターン
Ｐ２の上部の層間絶縁膜Ｉ２の段差Ｅ２は、図６に示す
段差Ｅ１に比較して、次層の配線パターンの形成に対し
厳しい形状となる。このため、次層及び上部層の配線パ
ターンの上述したような断線の発生を防止するため、Ｃ
ＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）等による層間
絶縁膜の平坦化技術が用いられている。ここで、図６
（または図７）は、パターンＰ１（パターンＰ２）が下
層にあるときに形成される層間絶縁膜Ｉ１（層間絶縁膜
Ｉ２）の形状例を示す半導体装置の断面図である。

【０００４】しかしながら、上記平坦化技術では完全に
層間絶縁膜を平坦化することはできない、すなわち、図
８に示す様に、配線パターンＰ１の幅が狭い場合には段
差が取りきれるが、配線パターンＰ２の幅が広い場合は
段差がある程度残ってしまう。この段差をグローバル段
差と呼ぶ。このため、残ったグローバル段差に対して、
従来の半導体装置のレイアウトデザインにおける寸法精
度には対応できたが、微細化が進むにつれて、この残っ
た段差は、無視できない高さを有する形状となる。ここ
で、配線パターンＰ２の上部の層間絶縁膜Ｉ３の表面
と、基板Ｓ上部の層間絶縁膜Ｉ３の表面との距離，すな
わちグローバル段差の高さをｄgとする。ここで、図８
は、パターンＰ１，パターンＰ２及びパターンＰ３が下
層にあるときに形成される層間絶縁膜Ｉ３の形状例を示
す半導体装置の断面図である。

【０００５】例えば、図８に示すように、幅の広い配線
パターンＰ２及び配線パターンＰ３が接近して形成され
ている場合、層間絶縁膜Ｉ３は、配線パターンＰ２と配
線パターンＰ３との上部で段差の裾を有して形成される
ため、配線パターンＰ２と配線パターンＰ３との間の基
板Ｓの表面にもグローバル段差の高さを含んだ厚さで形
成される。従って、基板面における層間絶縁膜の厚さ
は、ばらついてしまう。

【０００６】このため、基板Ｓ表面に形成された拡散層
Ｄ１に対するコンタクトホールＣＴ１と、基板Ｓ表面に
形成された拡散層Ｄ２に対するコンタクトホールＣＴ２
との、層間絶縁膜Ｉ３におけるエッチング深さが異な
る。すなわち、コンタクトホールＣＴ２が拡散層Ｄ２の
表面に到達したとき、コンタクトホールＣＴ１は、拡散
層Ｄ１表面に到達していない。

【０００７】従って、層間絶縁膜Ｉ３へのエッチングを
継続して、コンタクトホールＣＴ１を拡散層Ｄ１へ到達
させる場合、コンタクトホールＣＴ２に対してはオーバ
ーエッチングとなる。これにより、コンタクトホールＣ
Ｔ２が拡散層Ｄ２表面に到達し、拡散層Ｄ２表面がエッ
チングされることにより、格子欠陥が発生して拡散層Ｄ
２の耐圧の低下等の電気特性の劣化が起こってしまう。

【０００８】上述したように、平坦化技術に限界がある
ため、半導体記憶装置のレイアウト設計の段階におい
て、このグローバル段差を発生させる幅の広い配線パタ
ーンの密集領域（パターンデータ密度エラー領域）を検
出して、グローバル段差の発生を防止することが考えら
れる。例えば、図９に示すグラフが実験的に求めた配線
パターンとしての孤立アルミ配線幅（横軸）と、グロー
バル段差の高さｄg（縦軸）との関係を示している。図
に示すアルミ（アルミニウム）配線幅が４００μｍ近辺
のグローバル段差の変化が大きく、またこの程度の高さ
ｄgであれば許容できる。このとき、図９のグラフの作
成に用いたデザインルールにおいて、アルミ配線の厚さ
は６００ｎｍであり、層間絶縁膜の厚さは８００ｎｍで
ある。

【０００９】また、４００μｍ□（４００μｍ×４００
μｍ）の領域において、アルミ配線の面積の密度（領域
の面積でアルミ配線のパターンの表面の面積の合計値を
除算した値，パターンデータ密度）が５０％以上となる
と、アルミ配線幅が４００μｍ近辺のグローバル段差の
変化と等しい状態となることが実験により確認されてお
り、また、この面積密度を求めるとき、配線幅が１.２
μｍ以下のアルミ配線は無視出来ることが、同様に実験
により求められている。この結果に基づき、半導体装置
のチップを格子状の検出範囲に分割して、各々の検出範
囲におけるパターンデータ密度を求め、このパターンデ
ータ密度が５０％以上となる検出範囲をパターンデータ
密度エラー領域として、レイアウトパターンの設計者
に、配線パターンを修正してもらいグローバル段差の発
生を防止する処理が考えられる。以下、パターンデータ
密度エラー領域の検出過程を説明する。

【００１０】図を用いて従来のパターンデータ密度検査
装置の説明を行う。図１０は、従来のパターンデータ密
度検査装置の構成を示すブロック図である。制御部１０
０は、複数のレイアウトデータが記憶されているレイア
ウト記憶部１０１から、検査を行うレイアウトデータを
読み出し、入力処理部１０２及び出力処理部１０４へ読
み出したレイアウトデータを書き込み、記憶させる。こ
のレイアウトデータは、配線パターンのデータ、すなわ
ち、配線層のデータファイルである。

【００１１】密度計算処理部１０３は、制御部１００の
命令により、入力処理部１０２に記憶されているレイア
ウトデータを格子状の検出範囲に分割し、この検出範囲
毎のパターンデータ密度の演算を行う。また、密度計算
処理部１０３は、検出範囲毎にパターンデータ密度が５
０％以上か否かの判定を行う。このとき、密度計算処理
部１０３は、出力処理部１０４に記憶されているレイア
ウトデータにおいて、パターンデータ密度が５０％以上
の検出範囲、すなわちパターンデータ密度エラー領域に
対応する領域の色を、他の正常な領域と異ならせ、レイ
アウトの修正を行う設計者に対してレイアウトデータの
パターンデータ密度エラー領域を明確にする。出力処理
部１０４は、制御部１００の命令により、パターンデー
タ密度エラー領域の示された画像を、パターンデータ密
度検査装置に設けられた図示しないプリンタから出力、
または図示しないＣＲＴ（Cathode-Ray Tube）に画像表
示する。

【００１２】次に、図１０及び図１１を用いて、従来の
パターンデータ密度検査装置の動作を説明する。図１１
は、従来のパターンデータ密度検査装置の動作を示すフ
ローチャートである。ステップＳ１００において、制御
部１００は、ＣＰＵ及びメモリ等から構成され、メモリ
に記憶されているプログラムに従い、パターンデータ密
度検査装置の動作の制御を行う。また、制御部１００
は、レイアウト記憶部１０１から、パターンデータ密度
の検査を行うレイアウトデータを読み出し、入力処理部
１０２及び出力処理部１０４へ、読み出したレイアウト
データを書き込む。そして、制御部１００は、パターン
データ密度の計算を行わせる命令を、密度計算処理部１
０３へ出力する。これにより、密度計算処理部１０３
は、入力処理部１０２に記憶されているレイアウトデー
タを格子状の検出範囲に分割する。

【００１３】次に、ステップＳ１０１において、密度計
算処理部１０３は、分割された検出範囲毎のパターンデ
ータ密度の演算を行う。

【００１４】次に、ステップＳ１０２において、密度計
算処理部１０３は、検出範囲毎にパターンデータ密度が
５０％以上か否かの判定、すなわち、検出範囲がパター
ンデータ密度エラー領域であるか否かの判定を行う。こ
のとき、密度計算処理部１０３は、検出範囲がパターン
データ密度エラー領域である場合、処理をステップＳ１
０３へ進める。

【００１５】次に、ステップＳ１０３において、密度計
算処理部１０３は、出力処理部１０４に記憶されている
レイアウトデータにおいて、パターンデータ密度エラー
領域に対応する領域の色を、他の正常な領域と異ならせ
る。そして、出力処理部１０４は、レイアウトデータ上
に、パターンデータ密度エラー領域が、パターンデータ
密度の正常な領域に比較して、明確に異なった色で示さ
れた画像をＣＲＴにより画像表示する。

【００１６】また、ステップＳ１０２において、密度計
算処理部１０３は、検出範囲がパターンデータ密度エラ
ー領域でない場合、処理をステップＳ１０４へ進める。

【００１７】次に、ステップＳ１０４において、制御部
１００は、密度計算処理部１０３が入力処理部１０２に
記憶されているレイアウトデータの検出範囲の全て格子
のパターンデータ密度を演算したか否か、すなわち、密
度計算処理部１０３がレイアウトデータの全ての検出範
囲のパターンデータ密度の演算を行い、全ての検出範囲
のパターンデータ密度エラー領域としての判定を行った
か否かを確認する。

【００１８】このとき、制御部１００は、全ての検出範
囲のパターンデータ密度エラー領域としての判定が行わ
れた場合、パターンデータ密度検出の処理を終了し、全
ての検出範囲のパターンデータ密度エラー領域としての
判定を行われていない場合、処理をステップＳ１０１へ
戻し、パターンデータ密度検出の処理を継続する。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たパターンデータ密度検査装置は、図９に示す実験結果
に基づき、図１２に示す４００μｍ□の検出範囲の格子
（エラー判定基準形状）として、レイアウトデータを分
割して上述したパターンデータ密度の演算及びパターン
データ密度エラー領域の判定を行っていたため、パター
ンデータ密度エラー領域の検出精度が低いという欠点が
ある。

【００２０】すなわち、図１３に示すように、パターン
データ密度検査装置が４００μｍ□の検出範囲の格子と
して、パターンデータ密度エラー領域の検出を行うと、
パターンデータ密度エラー領域Ｒ１の場合、分割された
検出範囲の格子にパターンデータ密度エラー領域Ｒ１が
重なっているため、パターンデータ密度検査装置は４０
０μｍ□の検出範囲により、パターンデータ密度エラー
領域Ｒ１を検出することができる。

【００２１】一方、パターンデータ密度エラー領域Ｒ２
の場合、パターンデータ密度エラー領域Ｒ２は、４つの
分割された検出範囲の格子にまたがって存在するため、
パターンデータ密度エラー領域Ｒ２のパターンデータ密
度が、４つの検出範囲において平均化される。これによ
り、パターンデータ密度検査装置は、４つの検出範囲各
々がパターンデータ密度エラー領域としてのパターンデ
ータ密度の値とならないため、正常な範囲として検出さ
れ、パターンデータ密度エラー領域Ｒ２を検出すること
ができない。

【００２２】この対策として、４００μｍ□の検出範囲
に代えて、パターンデータ密度エラー領域の丸め込み誤
差が生じないように、１００μｍ□の検出範囲を用いる
ことが考えられる。この１００μｍ□という検出範囲
は、信頼性に影響を与えるグローバル段差を生成する４
００μｍ□以上の領域を検出するために、図９のグラフ
を求めるときのデザインルール及び図９の実験結果に基
づいて、パターンデータ密度を演算する意味のある最小
の面積として求められた値であり、デザインルールが異
なる場合には当然に変更される。

【００２３】これにより、図１４に示すように、１００
μｍ□の検出範囲による検出により、図１２の検出範囲
の場合に比較して、パターンデータ密度エラー領域Ｒ５
には、４００μｍ□の領域に、１００μｍ□のパターン
データ密度エラー領域Ｒ５Ａが検出されており、パター
ンデータ密度エラー領域の検出精度が、４００μｍ□の
検出範囲による場合に比較して向上していることが判
る。

【００２４】しかしながら、精度を向上させるため、検
出範囲を１００μｍ□としたため、１００μｍ□の独立
したパターンデータ密度エラー領域Ｒ３，及び１００μ
ｍ×２００μｍの独立したパターンデータ密度エラー領
域Ｒ４が検出されている。ところが、独立したパターン
データ密度エラー領域Ｒ３及びパターンデータ密度エラ
ー領域Ｒ４は、図９に示す実験結果から求めた、信頼性
低下の原因となる高さを有するグローバル段差が発生す
る４００μｍ□以上の面積の領域を、パターンデータ密
度エラー領域とする検出基準からはずれている。このた
め、本来パターンデータ密度エラー領域Ｒ３及びパター
ンデータ密度エラー領域Ｒ４は、パターンデータ密度の
検出結果のパターンデータ密度エラー領域の画像とし
て、検出されてはいけない領域である。

【００２５】また、上述した１００μｍ□の検出範囲で
も、実際には、パターンデータ密度エラー領域Ｒ５の検
出精度が十分とは言えない。なぜならば、パターンデー
タ密度エラー領域Ｒ５に、接続された１００μｍ□未満
のパターンデータ密度の高い部分Ｒ５Ａについては、１
００μｍ□の検出範囲により行う限り、これ以上の高い
精度の検出が期待出来ない。このため、検出範囲を１０
０μｍ□以下にして、パターンデータ密度の高い領域を
検出すればよいが、本来パターンデータ密度エラー領域
と判定されないパターンデータ密度エラー領域Ｒ３及び
パターンデータ密度エラー領域Ｒ４が、さらに多く検出
されてしまい、修正する場所と、修正しない場所とを設
計者が確認しながら修正作業を行わなければならないた
め、レイアウトパターンの修正作業の能率が低下すると
いう問題が生じる。

【００２６】本発明はこのような背景の下になされたも
ので、パターンデータ密度エラー領域の検出精度を向上
させ、修正する必要のないパターンデータ密度エラー領
域の検出を行わず、設計者の修正作業が能率よく行える
検出結果を出力するパターンデータ密度検査装置を提供
する事にある。

【００２７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
パターンデータ密度検査装置において、所定の面積の検
出範囲をオーバーラップするように所定の距離ずらす毎
に、この検出範囲内の配線のパターンデータの合計面積
の、前記面積における比を示すパターンデータ密度を求
めるパターンデータ密度演算手段（例えば、実施形態の
データ密度計算処理部）と、前記パターンデータ密度が
予め設定されたしきい値以上となる前記検出範囲の論理
和をとり、仮パターンデータ密度エラー領域（例えば、
実施形態の仮エラー領域）を求める仮エラー領域検出手
段（例えば、実施形態のエラー重なり除去処理部）と、
平面視において、予め設定されたパターンデータ密度エ
ラー図形が完全に含まれる形状の前記仮パターンデータ
密度エラー領域（例えば、実施形態の集合仮エラー領
域）を、パターンデータ密度エラー領域とするエラー領
域検出手段（例えば、実施形態のエラー領域幅計算処理
部）とを具備することを特徴とする。

【００２８】請求項２記載の発明は、請求項１記載のパ
ターンデータ密度検査装置において、所定のパターン幅
以下の前記配線のパターンデータの面積を、パターンデ
ータ密度を求める前記合計面積から除くことを特徴とす
る。

【００２９】請求項３記載の発明は、請求項１または請
求項２に記載のパターンデータ密度検査装置において、
前記パターンデータ密度演算手段が、Ｘ方向またはＹ方
向のいずれかに、前記検出範囲を所定の距離ずらす毎
に、前記パターンデータ密度を演算することを特徴とす
る。

【００３０】請求項４記載の発明は、請求項１ないし請
求項３のいずれかに記載のパターンデータ密度検査装置
において、前記パターンデータ密度エラー領域と、他の
正常なパターンデータの領域とを異なった色で出力する
出力手段を具備することを特徴とする。

【００３１】請求項５記載の発明は、パターンデータ密
度検査方法において、パターンデータ密度演算手段が、
所定の面積の検出範囲をオーバーラップするように所定
の距離ずらす毎に、この検出範囲内の配線のパターンデ
ータの合計面積の、前記面積における比を示すパターン
データ密度を求める第１の工程と、仮エラー領域検出手
段が、前記パターンデータ密度が予め設定されたしきい
値以上となる前記検出範囲の論理和をとり、仮パターン
データ密度エラー領域を求める第２の工程と、エラー領
域検出手段が、平面視において、予め設定されたパター
ンデータ密度エラー図形が完全に含まれる形状の前記仮
パターンデータ密度エラー領域を、パターンデータ密度
エラー領域とする第２の工程とを有することを特徴とす
る。

【００３２】請求項６記載の発明は、請求項５記載のパ
ターンデータ密度検査方法において、所定のパターン幅
以下の前記配線のパターンデータの面積を、パターンデ
ータ密度を求める前記合計面積から除くことを特徴とす
る。

【００３３】請求項７記載の発明は、請求項５または請
求項６に記載のパターンデータ密度検査方法において、
前記パターンデータ密度演算手段が、Ｘ方向またはＹ方
向のいずれかに、前記検出範囲を所定の距離ずらす毎
に、前記パターンデータ密度を演算することを特徴とす
る。

【００３４】請求項８記載の発明は、請求項５ないし請
求項７のいずれかに記載のパターンデータ密度検査方法
において、前記パターンデータ密度エラー領域と、他の
正常なパターンデータの領域とを異なった色で出力する
出力手段を具備することを特徴とする。

【００３５】請求項９記載の発明は、請求項１ないし請
求項２に記載のパターンデータ密度検査装置を用いて、
パターンデータ密度検査を行うパターンデータ密度検査
プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録
媒体であって、前記パターンデータ密度検査プログラム
は、パターンデータ密度演算手段が、所定の面積の検出
範囲をオーバーラップするようにずらしながら、この検
出範囲内の配線のパターンデータの合計面積と、前記面
積との比を示すパターンデータ密度を求める処理と、仮
エラー領域検出手段が、前記パターンデータ密度が予め
設定されたしきい値以上となる前記検出範囲の論理和を
とり、仮パターンデータ密度エラー領域を求める処理
と、エラー領域検出手段が、平面視において、予め設定
されたパターンデータ密度エラー図形が完全に含まれる
形状の前記仮パターンデータ密度エラー領域を、パター
ンデータ密度エラー領域とする処理とをコンピュータに
行わせることを特徴とする。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。図１は本発明の一実施形態に
よるパターンデータ密度検査装置の構成を示すブロック
図である。この図において、制御部１は、例えばＣＰ
Ｕ，メモリ（記憶部），入出力装置などから構成され、
メモリに記憶されているプログラムに従い動作を行う。
また、制御部１は、複数のパターンレイアウトデータが
記憶されているレイアウト記憶部２から、検査を行うパ
ターンレイアウトデータを読み出し、入力処理部３及び
出力処理部７へ読み出したパターンレイアウトデータを
書き込み、記憶させる。このパターンレイアウトデータ
は、ゲート電極線及び配線パターン等のデータ、すなわ
ち、配線層のデータファイルである。

【００３７】データ密度計算処理部４は、制御部１の命
令により、入力処理部３に記憶されているパターンレイ
アウトデータを所定の形状の検出範囲により、例えば１
００μｍ□の検出範囲毎にパターンデータ密度の演算を
行う。この１００μｍ□の検出範囲は、従来例において
示したように、図９のグラフを作成したデザインルール
の場合に、現在のデザインルール及び図９の実験結果に
より、パターンデータ密度を演算する意味のある面積と
して求められた最小の値であり、デザインルールが異な
る場合には当然に変更される。

【００３８】また、データ密度計算処理部４は、直前に
パターンレイアウトデータを演算した位置から、図２に
示すようにＸ軸方向またはＹ軸方向のいずれか一方に所
定の距離、例えば１０μｍずつ検出範囲をずらしなが
ら、順次、移動後の検出範囲におけるパターン密度の計
算を行う。

【００３９】また、データ密度計算処理部４は、上述の
ように、ずらして求めた検出範囲（１００μｍ□）のパ
ターンデータ密度が５０％以上か否かの判定を行い、パ
ターンデータ密度が５０％以上の検出範囲を仮エラー領
域とする。エラー重なり除去処理部５は、データ密度計
算処理部４の求めた仮エラー領域を重ね合わせて、オー
バーラップした仮エラー領域の論理和を取り、例えば、
図４に示す形状の集合仮エラー領域を生成する。

【００４０】図４は、半導体集積回路のパターンレイア
ウト画像面において、１００μｍ□の検出範囲を１０μ
ｍずつずらし、パターンデータ密度を求め、求められた
パターンデータ密度が５０％以上の検出範囲の論理和を
取ることにより得られた集合仮エラー領域を示す平面図
である。ここで、図４における集合仮エラー領域ＲＥ
は、Ｘ軸方向またはＹ軸方向に１０μｍずつ検出範囲を
ずらし、各々の検出範囲のパターンデータ密度を求める
ことにより、検出された領域Ｒ８及び領域Ｒ９を有して
いる。

【００４１】エラー領域幅計算処理部６は、エラー重な
り除去処理部５により求められた図４に示す集合仮エラ
ー領域が、周囲に対して影響のある面積及び形状を有す
る領域であるか否かの判定の演算を行う。すなわち、エ
ラー領域計算処理部４は、図４に示す集合仮エラー領域
が、パターンデータ密度エラー領域を検出する前提とな
る、４００μｍ□の方形形状のエラー判定基準形状を含
むエラー形状であるか否かの判定を行う。

【００４２】このとき、エラー領域幅計算処理部６は、
図４に示す集合仮エラー領域において、集合仮エラー領
域ＲＤ及び集合仮エラー領域ＲＦがエラー判定基準形状
を含まない形状のため、この集合仮エラー領域ＲＤ及び
集合仮エラー領域ＲＦをパターンデータ密度エラー領域
に該当しないとして棄却する。また、エラー領域幅計算
処理部６は、図４に示す集合仮エラー領域において、集
合仮エラー領域ＲＥがパターンデータ密度エラー領域に
該当するとして、図５に示すパターンデータ密度エラー
領域ＲＥとして検出する。ここで、図５は、半導体集積
回路のパターンレイアウト画像面において、集合仮エラ
ー領域のうち、パターンデータ密度が５０％以上の検出
範囲の集合であり、かつ図１２に示すエラー判定基準形
状以上の大きさの集合エラー領域、すなわち、パターン
データ密度エラー領域ＲＥを示す平面図である。

【００４３】さらに、エラー領域幅計算処理部６は、出
力処理部７に記憶されているパターンレイアウトデータ
において、パターンデータ密度が５０％以上の検出範
囲、かつ図１２に示すエラー判定基準形状以上の大きさ
の集合エラー領域、すなわち図５に示すパターンデータ
密度エラー領域ＲＥに対応する領域の色を、他の正常な
領域と異ならせ、レイアウトの修正を行う設計者に対し
てパターンレイアウトデータのパターンデータ密度エラ
ー領域を明確にする。出力処理部７は、制御部１の命令
により、パターンデータ密度エラー領域の示された画像
を、パターンデータ密度検査装置に設けられた図示しな
いプリンタから出力、または図示しないＣＲＴに画像表
示する。

【００４４】次に、図１及び図３を用いて、本願発明の
パターンデータ密度検査装置の動作を説明する。図３
は、本願発明のパターンデータ密度検査装置の動作例を
示すフローチャートである。初期状態として、制御部１
は、メモリに記憶されているプログラムに従い、レイア
ウト記憶部２から、パターンデータ密度の検査を行うパ
ターンレイアウトデータを読み出し、入力処理部３及び
出力処理部７へ、読み出したレイアウトデータを書き込
む。

【００４５】次に、ステップＳ１において、制御部１
は、例えば、パターンレイアウトデータの左上をパター
ンデータ密度の計算開始地点とし、パターンデータ密度
の計算を行わせる命令を、データ密度計算処理部４へ出
力する。また、データ密度計算処理部４は、後述するス
テップＳ５から処理が戻って来た場合、すなわち、計算
開始地点における１００μｍ□の検出範囲に対する演算
処理が終了した後、検出範囲をＸ方向へ１０μｍずらし
（移動させる）、処理をステップＳ２へ進める。

【００４６】さらに、データ密度計算処理部４は、順
次、ステップＳ５から処理が戻されてきた場合、Ｘ方向
へ１０μｍづつ移動させ、パターンレイアウトデータの
Ｘ方向の終点へ来ると、Ｙ方向へ１０μｍ移動させ、次
にステップＳ５から戻されてきたとき、新たにＸ方向へ
１０μｍづつ移動させる。この操作を繰り返して、パタ
ーンレイアウトデータ全体において、ずらされた後の１
００μｍ□の検出範囲毎のパターンデータ密度をステッ
プＳ２で順次演算する。このとき、データ密度計算処理
部４は、Ｘ方向及びＹ方向共に、残った移動距離が１０
μｍ以下の場合、この残った移動距離分の移動を行い、
データ密度計算処理部４にパターンデータ密度の演算を
行わせる。

【００４７】次に、ステップＳ２において、データ密度
計算処理部４は、制御部１から入力されるパターンデー
タ密度の計算を行わせる命令に基づき、入力処理部３に
記憶されているパターンレイアウトデータ上で、制御部
１により移動された１００μｍ□の検出範囲のパターン
データ密度の演算を行う。

【００４８】次に、ステップＳ３において、データ密度
計算処理部４は、制御部１の設定する検出範囲毎に、求
められたパターンデータ密度が、例えば、あらかじめし
きい値として設定された５０％以上か否かの判定、すな
わち、検出範囲がパターンデータ密度エラー領域である
か否かの判定を行う。そして、制御部１は、検出範囲が
パターンデータ密度エラー領域であると判定した場合、
処理をステップＳ４へ進める。一方、このとき、データ
密度計算処理部４は、検出範囲がパターンデータ密度エ
ラー領域でないと判定した場合、処理をステップＳ５へ
進める。

【００４９】次に、ステップＳ４において、データ密度
計算処理部４は、検出範囲がパターンデータ密度エラー
領域と判定された場合に、この検出範囲を仮エラー領域
として、処理をステップＳ５へ進める。

【００５０】次に、ステップＳ５において、制御部１
は、１００μｍ□の検出範囲が１０μｍづつ移動させら
れ、仮エラー領域の判定処理が、パターンレイアウトデ
ータの全ての領域において行われたか否かの判定を行
う。そして、制御部１は、パターンレイアウトデータの
全ての領域において、仮エラー領域の判定処理が行われ
たと判定した場合、処理をステップＳ６へ進める。一
方、制御部１は、パターンレイアウトデータの全ての領
域において、仮エラー領域の判定処理が行われていない
と判定した場合、処理をステップＳ５へ戻し、パターン
データ密度算出の処理を継続させる。

【００５１】次に、ステップＳ６において、エラー重な
り除去処理部５は、制御部１からの命令に基づき、ステ
ップＳ４において出力される仮エラー領域を重ね合わ
せ、オーバーラップされる仮エラー領域のオア処理、す
なわち論理和を取り、図４に示す形状の集合仮エラー領
域を生成する。そして、制御部１は、処理をステップＳ
７へ進める。

【００５２】次に、ステップＳ７において、エラー領域
幅計算処理部６は、制御部１からの命令に基づき、ステ
ップＳ６において求められた集合仮エラー領域ＲＥ，集
合仮エラー領域ＲＤ及び集合仮エラー領域ＲＦ各々のＸ
方向（図の横方向）及びＹ方向（図の縦方向）の幅を順
次演算し、処理をステップＳ８へ進める。たとえば、エ
ラー領域幅計算処理部６は、集合仮エラー領域ＲＥのＸ
方向及びＹ方向の幅を演算し、ステップＳ８へ処理を進
める。

【００５３】次に、ステップＳ８において、制御部１
は、エラー領域幅計算処理部６の求めた、集合仮エラー
領域ＲＥのＸ方向及びＹ方向の幅に基づき、この集合仮
エラー領域ＲＥが、あらかじめ設定され、パターンデー
タ密度エラー領域とする、４００μｍ□（エラー判定基
準形状）以上の大きさを有するか否かの判定を順次行
う。すなわち、制御部１は、集合仮エラー領域ＲＥのＸ
方向及びＹ方向の幅が、共に４００μｍ（真のエラー
幅）以上あるか否かの判定を行う。

【００５４】このとき、制御部１は、集合仮エラー領域
ＲＥのＸ方向及びＹ方向の幅が共に４００μｍ以上、す
なわち、パターンデータ密度エラー領域とする、４００
μｍ□以上の大きさを有するため、処理をステップＳ９
へ進める。

【００５５】次に、ステップＳ９において、制御部１
は、集合仮エラー領域ＲＥを真のエラー領域のパターン
データ密度エラー領域ＲＥとして、出力処理部７に記憶
されているパターンレイアウトデータにおいて、パター
ンデータ密度エラー領域ＲＥに対応する領域の色を、他
の正常な領域と異ならせる。そして、出力処理部７は、
パターンレイアウトデータ上に、パターンデータ密度エ
ラー領域ＲＥが、パターンデータ密度の正常な領域に比
較して、明確に異なった色で示された画像をＣＲＴによ
り画像表示し、処理をステップＳ１０へ進める。ここ
で、パターンデータ密度エラー領域ＲＥに対応する領域
を他の正常な領域と判別し易いように、色を変える代わ
りに、ハッチングを異ならせても良い。

【００５６】次に、ステップＳ１０において、制御部１
は、ステップＳ６で求められる仮エラー領域全てについ
て、４００μｍ□以上の大きさを有するか否かの判定が
行われたか否かの判定が行われる。このとき、制御部１
は、仮エラー領域ＲＤ及びエラー領域ＲＦに対して、４
００μｍ□以上の大きさを有するか否かの判定が行われ
ていないことを検出し、処理をステップＳ７へ戻す。

【００５７】次に、ステップＳ７において、エラー領域
幅計算処理部６は、制御部１からの命令に基づき、集合
仮エラー領域ＲＤのＸ方向及びＹ方向の幅を演算し、ス
テップＳ８へ処理を進める。

【００５８】次に、ステップＳ８において、制御部１
は、エラー領域幅計算処理部６の求めた、集合仮エラー
領域ＲＤのＸ方向及びＹ方向の幅に基づき、この集合仮
エラー領域ＲＥが、あらかじめ設定され、パターンデー
タ密度エラー領域とする、４００μｍ□以上の大きさを
有するか否かの判定を順次行う。

【００５９】このとき、制御部１は、集合仮エラー領域
ＲＤのＸ方向及びＹ方向の幅が共に４００μｍ以上、す
なわち、集合仮エラー領域ＲＤがパターンデータ密度エ
ラー領域とする、４００μｍ□以上の大きさを有さない
ので、集合仮エラー領域ＲＤを棄却し、処理をステップ
Ｓ１０へ進める。

【００６０】次に、ステップＳ１０において、制御部１
は、ステップＳ６で求められる集合仮エラー領域全てに
ついて、集合仮エラー領域が４００μｍ□以上の大きさ
を有するかの判定が行われたか否かの判定が行われる。
以上のステップＳ７〜ステップＳ１０の処理を繰り返
し、制御部１は、ステップＳ６で求められる仮エラー領
域の全てに対して、４００μｍ□以上の大きさを有する
か否かの判定が行われると、図５に示す最終的なパター
ンデータ密度エラー領域が得られ、図３のフローチャー
トの処理を終了し、パターンデータ密度エラー領域の検
出を完了する。

【００６１】この後、操作者は、ＣＲＴにおいて、パタ
ーンデータ密度エラー領域が、パターンデータ密度の正
常な領域に比較して、明確に異なった色で示された画像
に基づき、対応する部分のパターンレイアウトデータの
修正を行い、後にフォトリソ工程で使用されるマスクを
生成するパターンレイアウトデータの密度の高い領域を
無くし、半導体装置におけるグローバル段差の発生を防
止させる。

【００６２】上述したように、一実施形態のパターンデ
ータ密度検査装置によれば、１００μｍ□の検出範囲を
Ｘ方向及びＹ方向に１０μｍづつ移動させながら、パタ
ーンデータ密度の計算を行うため、従来例の様に、パタ
ーンデータ密度がエラーとなる領域が、検出範囲の格子
にまたがることにより、平均化されて検出されなくなる
事を防止でき、かつ実質的に所定のしきい値（例えば５
０％）以上のパターンデータ密度を有するパターンデー
タ密度エラー領域が１０μｍ×１００μｍ刻みの検出精
度により得られるので、精度の高い集合仮エラー領域Ｒ
Ｅ、すなわち、パターンデータ密度エラー領域ＲＥが得
られる。

【００６３】また、一実施形態のパターンデータ密度検
査装置によれば、予め設定されたエラー判定基準形状
（例えば、４００μｍ□）以上の大きさを有するパター
ンデータ密度エラー領域を検出するため、図４における
集合仮エラー領域ＲＤ及び集合エラー領域ＲＦのよう
な、半導体装置の信頼性低下の原因となる高さｄgを有
するグローバル段差を発生させるエラー判定基準形状に
達しない不必要なエラー領域を除去できるため、実際に
信頼性を低下させる高さを有するグローバル段差に関係
する集合仮エラー領域のみをパターンデータ密度エラー
領域と判定することが出来、修正が必要なパターンデー
タ密度エラー領域の精度の高い検出結果を得ることが可
能となり、操作者のパターンレイアウトデータの修正処
理の能率を向上させることができる。

【００６４】エラー検出のパターンデータ密度は、上述
の実施形態では５０％として説明したが、数値として５
０％に限定されず、必要に応じて変更可能である。上述
の実施形態の説明においては、比較するパターンレイア
ウト、すなわちエラー判定基準形状を正方形で説明した
が、エラー判定基準形状は正方形に限らず、長方形，円
形状等の任意の形状を用いる事が可能である。また、上
述の実施形態の説明においては、パターンデータ密度エ
ラー領域の検出に用いるパターンデータ密度の検出範囲
を１００μｍ□で、また、エラー判定基準形状を４００
μｍ□で説明したが、デザインルールあるいは平坦化装
置の条件が変更されれば、適時必要な寸法及び形状のパ
ターンデータ密度の検出範囲，エラー判定基準形状へ変
更される。

【００６５】また、図３に示すフローチャートの各ステ
ップを実現するためのプログラムをコンピュータ読み取
り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録され
たプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実
行することにより図形表示処理を行ってもよい。なお、
ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳ（オペ
レーションシステム）や周辺機器等のハードウェアを含
むものとする。また、「コンピュータ読み取り可能な記
録媒体」とは、フロッピー（登録商標）ディスク、光磁
気ディスク、ＲＯＭ（読み出し専用メモリ）、ＣＤ（コ
ンパクトディスク）−ＲＯＭ等の可般媒体、コンピュー
タシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置の
ことをいう。

【００６６】さらに「コンピュータ読み取り可能な記録
媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回
線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通
信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持す
るもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピ
ュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間
プログラムを保持しているものも含むものとする。また
上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するため
のものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュ
ータシステムにすでに記録されているプログラムとの組
み合わせで実現できるものであっても良い。

【００６７】以上、本発明の一実施形態を図面を参照し
て詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限ら
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設
計変更等があっても本発明に含まれる。

【００６８】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、所定の面
積の検出範囲をオーバーラップするように所定の距離ず
らす毎に、この検出範囲内の配線のパターンデータの合
計面積の、前記面積における比を示すパターンデータ密
度を求めるパターンデータ密度演算手段と、前記パター
ンデータ密度が予め設定されたしきい値以上となる前記
検出範囲の論理和をとり、仮パターンデータ密度エラー
領域を求める仮エラー領域検出手段と、平面視におい
て、予め設定されたパターンデータ密度エラー図形が完
全に含まれる形状の前記仮パターンデータ密度エラー領
域を、パターンデータ密度エラー領域とするエラー領域
検出手段とを具備するため、従来例の様に、パターンデ
ータ密度のエラーとなる領域が、検出範囲の格子にまた
がることにより平均化されて検出されなくなる事を防止
でき、かつ実質的に所定のしきい値以上のパターンデー
タ密度を有する仮パターンデータ密度エラー領域が高い
検出精度により得られるので、精度の高い仮パターンデ
ータ密度エラー領域、すなわち、パターンデータ密度エ
ラー領域が得られ、また、予め設定されたエラー判定基
準形状以上の大きさを有するパターンデータ密度エラー
領域を検出するため、信頼性を低下させる高さを有する
グローバル段差の発生に関与する、エラー判定基準形状
に達しない不必要なエラー領域を除去できるため、実際
に信頼性を低下させるグローバル段差に関係する仮パタ
ーンエラー密度エラー領域のみをパターンデータ密度エ
ラー領域と判定することが出来、パターンデータ密度エ
ラー領域の精度の高い検出結果を得ることが可能とな
り、操作者のパターンレイアウトの修正の能率を向上さ
せることができる。

【００６９】請求項２記載の発明によれば、所定のパタ
ーン幅以下の前記配線のパターンデータの面積を、パタ
ーンデータ密度を求める前記合計面積から除くため、パ
ターンデータ密度を計算する面積から不必要な面積を除
くので、グローバル段差が実際に生成されるパターンデ
ータ密度エラー領域を正確に求めることができるので、
パターンデータ密度エラー領域の検出の精度を向上させ
ることができる。

【００７０】請求項３記載の発明によれば、前記パター
ンデータ密度演算手段が、Ｘ方向またはＹ方向のいずれ
かに、前記検出範囲を所定の距離ずらす毎に、前記パタ
ーンデータ密度を演算するため、従来例の様に、パター
ンデータ密度がエラーとなる領域が、格子によりまたが
ることにより平均化されて検出されなくなる事を防止で
き、かつ実質的に所定のしきい値以上のパターンデータ
密度を有する仮パターンデータ密度エラー領域が得られ
るので、精度の高い仮パターンデータ密度エラー領域、
すなわち、パターンデータ密度エラー領域が得られる効
果がある。

【００７１】請求項４記載の発明によれば、前記パター
ンデータ密度エラー領域と、他の正常なパターンデータ
の領域とを異なった色で出力する出力手段を具備するた
め、前記出力手段において、パターンデータ密度エラー
領域と、パターンデータ密度の正常な領域との比較が、
明確に異なった色で示された画像に基づいて行われるた
めに容易となり、修正が必要な部分のレイアウトパター
ンの修正処理の作業効率を向上させる効果がある。

【００７２】請求項５記載の発明によれば、パターンデ
ータ密度演算手段が、所定の面積の検出範囲をオーバー
ラップするように所定の距離ずらす毎に、この検出範囲
内の配線のパターンデータの合計面積の、前記面積にお
ける比を示すパターンデータ密度を求める第１の工程
と、仮エラー領域検出手段が、前記パターンデータ密度
が予め設定されたしきい値以上となる前記検出範囲の論
理和をとり、仮パターンデータ密度エラー領域を求める
第２の工程と、エラー領域検出手段が、平面視におい
て、予め設定されたパターンデータ密度エラー図形が完
全に含まれる形状の前記仮パターンデータ密度エラー領
域を、パターンデータ密度エラー領域とする第２の工程
とを有するため、従来例の様に、パターンデータ密度の
エラーとなる領域が、検出範囲の格子にまたがることに
より平均化されて検出されなくなる事を防止でき、かつ
実質的に所定のしきい値以上のパターンデータ密度を有
する仮パターンデータ密度エラー領域が高い検出精度に
より得られるので、精度の高い仮パターンデータ密度エ
ラー領域、すなわち、パターンデータ密度エラー領域が
得られ、また、予め設定されたエラー判定基準形状以上
の大きさを有するパターンデータ密度エラー領域を検出
するため、信頼性を低下させる高さを有するグローバル
段差の発生に関与する、エラー判定基準形状に達しない
不必要なエラー領域を除去できるため、実際に信頼性を
低下させるグローバル段差に関係する仮パターンエラー
密度エラー領域のみをパターンデータ密度エラー領域と
判定することが出来、パターンデータ密度エラー領域の
精度の高い検出結果を得ることが可能となり、操作者の
パターンレイアウトの修正の能率を向上させることがで
きる。

【００７３】請求項６記載の発明によれば、所定のパタ
ーン幅以下の前記配線のパターンデータの面積を、パタ
ーンデータ密度を求める前記合計面積から除くため、パ
ターンデータ密度を計算する面積から不必要な面積を除
くので、グローバル段差が実際に生成されるパターンデ
ータ密度エラー領域を正確に求めることができるので、
パターンデータ密度エラー領域の検出の精度を向上させ
ることができる。

【００７４】請求項７記載の発明によれば、前記パター
ンデータ密度演算手段が、Ｘ方向またはＹ方向のいずれ
かに、前記検出範囲を所定の距離ずらす毎に、前記パタ
ーンデータ密度を演算するため、従来例の様に、パター
ンデータ密度がエラーとなる領域が、格子によりまたが
ることにより平均化されて検出されなくなる事を防止で
き、かつ実質的に所定のしきい値以上のパターンデータ
密度を有する仮パターンデータ密度エラー領域が得られ
るので、精度の高い仮パターンデータ密度エラー領域、
すなわち、パターンデータ密度エラー領域が得られる効
果がある。

【００７５】請求項８記載の発明によれば、前記パター
ンデータ密度エラー領域と、他の正常なパターンデータ
の領域とを異なった色で出力する出力手段を具備するた
め、前記出力手段において、パターンデータ密度エラー
領域と、パターンデータ密度の正常な領域との比較が、
明確に異なった色で示された画像に基づいて行われるた
めに容易となり、修正が必要な部分のレイアウトパター
ンの修正処理の作業効率を向上させる効果がある。

【００７６】請求項９記載の発明によれば、パターンデ
ータ密度検査を行うパターンデータ密度検査プログラム
を記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体であっ
て、前記パターンデータ密度検査プログラムは、パター
ンデータ密度演算手段が、所定の面積の検出範囲をオー
バーラップするようにずらしながら、この検出範囲内の
配線のパターンデータの合計面積と、前記面積との比を
示すパターンデータ密度を求める処理と、仮エラー領域
検出手段が、前記パターンデータ密度が予め設定された
しきい値以上となる前記検出範囲の論理和をとり、仮パ
ターンデータ密度エラー領域を求める処理と、エラー領
域検出手段が、平面視において、予め設定されたパター
ンデータ密度エラー図形が完全に含まれる形状の前記仮
パターンデータ密度エラー領域を、パターンデータ密度
エラー領域とする処理とをコンピュータに行わせるた
め、従来例の様に、パターンデータ密度のエラーとなる
領域が、検出範囲の格子にまたがることにより平均化さ
れ、検出されなくなる事を防止でき、かつ実質的に所定
のしきい値以上のパターンデータ密度を有する仮パター
ンデータ密度エラー領域が高い検出精度により得られる
ので、精度の高い仮パターンデータ密度エラー領域、す
なわち、パターンデータ密度エラー領域が得られ、ま
た、予め設定されたエラー判定基準形状以上の大きさを
有するパターンデータ密度エラー領域を検出するため、
信頼性を低下させる高さを有するグローバル段差の発生
に関与する、エラー判定基準形状に達しない不必要なエ
ラー領域を除去できるため、実際に信頼性を低下させる
グローバル段差に関係する仮パターンエラー密度エラー
領域のみをパターンデータ密度エラー領域と判定するこ
とが出来、パターンデータ密度エラー領域の精度の高い
検出結果を得ることが可能となり、操作者のパターンレ
イアウトの修正の能率を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施形態によるパターンデータ密
度検査装置の構成を示すブロック図である。

【図２】 パターンデータ密度を計算する単位の検出範
囲の移動方法を示す概念図である。

【図３】 図１に示すパターンデータ密度検査装置の動
作例を説明するタイミングチャートである。

【図４】 図１におけるエラー重なり除去処理部５が出
力する集合仮エラー領域の形状例を示す概念図である。

【図５】 図１におけるエラー領域幅計算処理部６が出
力するパターンデータ密度エラー領域の形条例を示す概
念図である。

【図６】 パターンが下層にあるときに形成される層間
絶縁膜の形状例を示す半導体装置の断面図である。

【図７】 パターンが下層にあるときに形成される層間
絶縁膜の形状例を示す半導体装置の断面図である。

【図８】 パターンが下層にあるときに形成される層間
絶縁膜におけるグローバル段差の形状例を示す半導体装
置の断面図である。

【図９】 パターン幅の数値とグローバル段差の数値と
の関係を示すグラフの図である。

【図１０】 従来例によるパターンデータ密度検査装置
の構成を示すブロック図である。

【図１１】 図１０に示すパターンデータ密度検査装置
の動作を説明するフローチャートである。

【図１２】 エラー判定基準形状を示す概念図である。

【図１３】 従来のパターンデータ密度検査装置が出力
するパターンデータ密度エラー領域の形状を示す概念図
である。

【図１４】 従来のパターンデータ密度検査装置が出力
するパターンデータ密度エラー領域の形状を示す概念図
である。

【符号の説明】

１ 制御部 ２ レイアウト記憶部 ３ 入力処理部 ４ データ密度計算処理部 ５ エラー重なり除去処理部 ６ エラー領域幅計算処理部 ７ 出力処理部 ＲＤ パターンデータ密度エラー領域（集合仮エラー領
域） ＲＥ，ＲＦ 集合仮エラー領域

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の面積の検出範囲をオーバーラップ
   するように所定の距離ずらす毎に、この検出範囲内の配
   線のパターンデータの合計面積の、前記面積における比
   を示すパターンデータ密度を求めるパターンデータ密度
   演算手段と、 前記パターンデータ密度が予め設定されたしきい値以上
   となる前記検出範囲の論理和をとり、仮パターンデータ
   密度エラー領域を求める仮エラー領域検出手段と、 平面視において、予め設定されたパターンデータ密度エ
   ラー図形が完全に含まれる形状の前記仮パターンデータ
   密度エラー領域を、パターンデータ密度エラー領域とす
   るエラー領域検出手段とを具備することを特徴とするパ
   ターンデータ密度検査装置。
2. 【請求項２】 所定のパターン幅以下の前記配線のパタ
   ーンデータの面積を、パターンデータ密度を求める前記
   合計面積から除くことを特徴とする請求項１記載のパタ
   ーンデータ密度検査装置。
3. 【請求項３】 前記パターンデータ密度演算手段が、Ｘ
   方向またはＹ方向のいずれかに、前記検出範囲を所定の
   距離ずらす毎に、前記パターンデータ密度を演算するこ
   とを特徴とする請求項１または請求項２に記載のパター
   ンデータ密度検査装置。
4. 【請求項４】 前記パターンデータ密度エラー領域と、
   他の正常なパターンデータの領域とを異なった色で出力
   する出力手段を具備することを特徴とする請求項１ない
   し請求項３のいずれかに記載のパターンデータ密度検査
   装置。
5. 【請求項５】 パターンデータ密度演算手段が、所定の
   面積の検出範囲をオーバーラップするように所定の距離
   ずらす毎に、この検出範囲内の配線のパターンデータの
   合計面積の、前記面積における比を示すパターンデータ
   密度を求める第１の工程と、 仮エラー領域検出手段が、前記パターンデータ密度が予
   め設定されたしきい値以上となる前記検出範囲の論理和
   をとり、仮パターンデータ密度エラー領域を求める第２
   の工程と、 エラー領域検出手段が、平面視において、予め設定され
   たパターンデータ密度エラー図形が完全に含まれる形状
   の前記仮パターンデータ密度エラー領域を、パターンデ
   ータ密度エラー領域とする第２の工程とを有することを
   特徴とするパターンデータ密度検査方法。
6. 【請求項６】 所定のパターン幅以下の前記配線のパタ
   ーンデータの面積を、パターンデータ密度を求める前記
   合計面積から除くことを特徴とする請求項５記載のパタ
   ーンデータ密度検査方法。
7. 【請求項７】 前記パターンデータ密度演算手段が、Ｘ
   方向またはＹ方向のいずれかに、前記検出範囲を所定の
   距離ずらす毎に、前記パターンデータ密度を演算するこ
   とを特徴とする請求項５または請求項６に記載のパター
   ンデータ密度検査方法。
8. 【請求項８】 前記パターンデータ密度エラー領域と、
   他の正常なパターンデータの領域とを異なった色で出力
   する出力手段を具備することを特徴とする請求項５ない
   し請求項７のいずれかに記載のパターンデータ密度検査
   方法。
9. 【請求項９】 請求項１ないし請求項２に記載のパター
   ンデータ密度検査装置を用いて、パターンデータ密度検
   査を行うパターンデータ密度検査プログラムを記録した
   コンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、 前記パターンデータ密度検査プログラムは、 パターンデータ密度演算手段が、所定の面積の検出範囲
   をオーバーラップするようにずらしながら、この検出範
   囲内の配線のパターンデータの合計面積と、前記面積と
   の比を示すパターンデータ密度を求める処理と、 仮エラー領域検出手段が、前記パターンデータ密度が予
   め設定されたしきい値以上となる前記検出範囲の論理和
   をとり、仮パターンデータ密度エラー領域を求める処理
   と、 エラー領域検出手段が、平面視において、予め設定され
   たパターンデータ密度エラー図形が完全に含まれる形状
   の前記仮パターンデータ密度エラー領域を、パターンデ
   ータ密度エラー領域とする処理とをコンピュータに行わ
   せることを特徴とするパターンデータ密度検査プログラ
   ムを記録した記録媒体。