JP2001048637A - アルミナ基焼結体及びその製造方法 - Google Patents

アルミナ基焼結体及びその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 絶縁碍子を薄肉化しても、700℃付近の高
温下で使用において優れた耐電圧特性を有するアルミナ
基焼結体及びその製造方法を提供すること。 【構成】 Na成分、K成分、Fe成分、Ti成分のう
ち少なくともいずれか1種を副成分として含むアルミナ
基焼結体の副成分の組成比及び組織状態を規定する。ア
ルミナ基焼結体100重量%に含まれる副成分の酸化物
換算による含有量が0.3重量%以下、且つ、該Na成
分の酸化物換算による含有量が0.05重量%以下とす
るとともに、アルミナ基焼結体の任意の断面に長さ10
0μmの仮想直線を引いた場合において、該仮想直線が
横切る粒界及び気孔の合計数が50個以下とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高絶縁性及び高耐電圧
性を有するアルミナ基焼結体及びその製造方法に関す
る。特には、700℃付近の高温下での耐電圧性を要求
されるアルミナ基焼結体及びその製造方法として好適な
ものである。スパークプラグ等に用いる絶縁碍子に適用
可能である。
【0002】
【従来の技術】アルミナ基焼結体は、耐電圧性、耐熱
性、機械的強度等の各種特性に優れ、しかも安価である
ため、スパークプラグ用等の絶縁碍子やICパッケージ
等の多層配線基板などの用途に用いられている。特に、
スパークプラグ等の絶縁碍子用途においては、室温から
700℃付近の高温の広い温度域にわたって高絶縁性及
び高耐電圧性が要求される。
【0003】従来より、スパークプラグ等の絶縁碍子用
途に用いる材料としては、SiO2−CaO−MgOか
らなる三成分系を焼結助剤として用いたアルミナ基焼結
体が用いられてきた。しかし、この三成分系焼結助剤が
焼成後のアルミナ基焼結体の粒界に低融点ガラスとして
存在すると、700℃付近の高温下で高電圧を印加した
際に、低融点ガラスが存在する粒界を通じて絶縁破壊を
起こしやすくなる。
【0004】そこで、アルミナ基焼結体の粒界のガラス
相の耐熱性を向上させて耐電圧性を向上させるために、
種々の方法が検討されている。例えば、Y23、La2
及びZrO2等を焼結助剤に用いる方法が特公平7
−17436号公報に開示されている。また、有機化合
物原料を用いて粒界にY4Al29結晶相を生成させる
方法が特許第2564842号公報に開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年のエンジンの小型
化やバルブの大型化に伴い、スパークプラグは小径化さ
れ、それに伴い、絶縁碍子の薄肉化を進める必要があ
る。このため、従来技術を用いたアルミナ基焼結体で
は、700℃付近の高温下で使用した場合に十分な耐電
圧性が得られない問題がある。本発明は、700℃付近
の高温下で使用した場合でも優れた耐電圧特性を有する
アルミナ基焼結体及びその製造方法を提供することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、Na
成分、K成分、Fe成分、Ti成分のうち少なくともい
ずれか1種を副成分として含むアルミナ基焼結体の副成
分の組成比及び組織状態(構成要件(a)及び(b))
を規定することを要旨とする。以下に、各構成要件につ
いて説明する。
【0007】(a)該アルミナ基焼結体100重量%に
含まれる該副成分の酸化物換算による含有量が0.3重
量%以下、且つ、該Na成分の酸化物換算による含有量
が0.05重量%以下であること。不純物であるNa成
分、K成分、Fe成分、Ti成分が多く存在すると、イ
オン伝導性若しくは粒界に局所的な低融点部が存在して
耐電圧性を低下させる要因となる。絶縁破壊が発生しや
すい箇所を形成する不純物であるNa成分、K成分、F
e成分、Ti成分の含有量を規定することで、アルミナ
基焼結体の耐電圧性を低下させる潜在的要素を低減する
ことができる。
【0008】これら不純物はトータルとして0.3重量
%以下であるのみならず、そのうちNa成分が0.05
重量%以下であることが重要である。Na成分は市販の
アルミナ原料に比較的多く含まれている(例;0.04
〜0.31重量%)。Na成分が多いと、イオン伝導性
が発生し、耐電圧性を著しく低下させる。Na成分がア
ルミナ基焼結体に0.05重量%以上含まれると、不純
物のトータル量が0.3重量%以下であっても耐電圧性
を向上させることが困難になる。
【0009】アルミナ基焼結体の耐電圧性を劣化させる
他の不純物としては、前記のNa、K以外のアルカリ金
属(特にはLi)や希土類を除く遷移金属(特にはV、
Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu)が挙げられる。
したがって、アルミナ基焼結体100重量%に含まれる
これらの他の不純物の酸化物換算による含有量も、それ
ぞれ0.1重量%以下であることが好ましい。前記の不
純物と併せてこれらの他の不純物の含有量をコントロー
ルすることで、700℃付近の高温下における耐電圧性
をより効果的に向上できる。
【0010】(b)アルミナ基焼結体の任意の断面に長
さ100μmの仮想直線を引いた場合において、該仮想
直線が横切る粒界及び気孔の合計数が50個以下である
こと。不純物の含有量を規定するだけでは、アルミナ基
焼結体の耐電圧性を十分に向上させることは困難であ
る。さらに、特定範囲に存在する粒界の数や気孔の数と
いった顕在的要素をも規定することが重要である。なぜ
なら、上記の不純物はこれら粒界や気孔に偏析して、7
00℃付近の高温下でガラス相の耐熱性を低下させ、ア
ルミナ基焼結体の耐電圧性を相乗的に低下させるからで
ある。
【0011】ここにいう「長さ100μmの仮想直線」
は、例えば、アルミナ基焼結体の任意の切断面を鏡面研
磨したものを撮影したSEM写真上に引くことができ
る。画像解析装置があれば、画面上で仮想直線を引いて
自動的に粒界の数や気孔の数を算出することもできる。
【0012】仮想直線が横切る粒界及び気孔の合計数が
50個以下であれば、高電圧が印加されても、アルミナ
基焼結体に絶縁破壊を生じさせる導電経路が生じにくく
なるため、耐電圧性の低下を抑えることができる。粒界
及び気孔に不純物が偏析した場合において、絶縁破壊を
効果的に回避できる。
【0013】すなわち、上記(a)及び(b)の構成要
素を兼備することで、従来達成が困難であった700℃
付近の高温下における耐電圧性を効果的に向上すること
ができる。尚、本発明のアルミナ基焼結体をスパークプ
ラグ用絶縁碍子に用いる場合は、高温下での耐電圧性を
要求される箇所にのみ本アルミナ基焼結体を用いてもよ
い。
【0014】請求項2の発明は、20±5℃における熱
伝導率が20W/m・K以上である高耐電圧性アルミナ
基焼結体を要旨とし、請求項1に記載の高耐電圧性アル
ミナ基焼結体の好ましい構成を例示したものである。
【0015】アルミナ基焼結体には電圧印加によりジュ
ール熱が発生し、局在的な温度上昇によって絶縁破壊が
発生する。このとき20±5℃における熱伝導率が20
W/m・K以上であればアルミナ基焼結体の温度上昇速
度を低く抑えることができるため、結果として700℃
付近の高温下における耐電圧性を高めることができる。
【0016】請求項3の発明は、アルミナ基焼結体10
0重量%に希土類元素を酸化物換算で10重量%以下含
む高耐電圧性アルミナ基焼結体を要旨とし、請求項1又
は請求項2に記載の高耐電圧性アルミナ基焼結体のより
好ましい構成を例示したものである。
【0017】希土類元素が粒界のガラス相に存在するこ
とで、粒界の耐熱性が向上するため、700℃付近の高
温下における耐電圧性を向上することができる。希土類
元素としては、Nd、Pr、Dy、La等を用いること
ができる。安定した耐電圧性を得るには、Ndを用いる
のが特に好ましい。
【0018】希土類元素の添加量としては、RE23
算(REは希土類元素)にてアルミナ基焼結体100重
量%に対して1〜10重量%、特には1〜5重量%であ
る。かかる範囲であれば、希土類元素添加による製造コ
ストの上昇を抑えつつ、効果的に700℃付近の高温下
における耐電圧性をより効果的に向上できる。特には、
希土類元素としてNdを添加し、且つ、仮想直線が横切
る粒界及び気孔の合計数が25個以下であることが好ま
しい。700℃付近の高温下においても、極めて良好な
耐電圧値が得られるからである。
【0019】請求項4の発明は、アルミナ基焼結体をそ
の焼成保持温度に対して−100〜+150℃の温度で
熱処理することを要旨とする高耐電圧性アルミナ基焼結
体の製造方法であり、請求項1乃至請求項3のいずれか
に記載の高耐電圧性アルミナ基焼結体の好ましい製造方
法を例示したものである。尚、本発明のアルミナ基焼結
体の熱処理は、高温下での耐電圧性を要求される箇所に
のみ部分的に熱処理するようにしてもよい。
【0020】アルミナ基焼結体をその焼成保持温度に対
して−100〜+150℃の温度で熱処理することで、
焼結体中の粒界や気孔の大きさを耐電圧性が良好な状態
に制御できる。下限値を焼成保持温度に対して−100
℃に限定したのは、これより低い温度では効果が低い若
しくは粒界に偏析が発生して耐電圧性が低下するからで
ある。上限値を焼成保持温度に対して+150℃に限定
したのは、これより高い温度では組織の異常粒成長によ
る焼結体密度の低下や気孔の増大を招き絶縁性が低下す
るからである。
【0021】請求項5の発明は、請求項1乃至請求項3
のいずれかに記載の高耐電圧性アルミナ基焼結体を用い
たスパークプラグ用絶縁碍子を要旨とする。かかる絶縁
碍子は、室温から700℃付近の高温下での幅広い温度
域において優れた耐電圧性を有するスパークプラグを得
るのに好適である。特には小径タイプのスパークプラグ
用途に好適である。尚、高温下での耐電圧性を要求され
る箇所にのみ本アルミナ基焼結体を用いたスパークプラ
グ用絶縁碍子であってもよい。
【0022】請求項6の発明は、スパークプラグ用絶縁
碍子をその焼成保持温度に対して−100〜+150℃
の温度で熱処理することを要旨とするスパークプラグ用
絶縁碍子の製造方法であり、請求項5に記載のスパーク
プラグ用絶縁碍子の好ましい製造方法を例示したもので
ある。
【0023】スパークプラグ用絶縁碍子をその焼成保持
温度に対して−100〜+150℃の温度で熱処理する
ことで、焼結体中の粒界や気孔の大きさを耐電圧性が良
好な状態に制御できる。下限値を焼成保持温度に対して
−100℃に限定したのは、これより低い温度では効果
が低い若しくは粒界に偏析が発生して耐電圧性が低下す
るからである。上限値を焼成保持温度に対して+150
℃に限定したのは、これより高い温度では組織の異常粒
成長による焼結体密度の低下や気孔の増大を招き絶縁性
が低下するからである。尚、本発明の熱処理をスパーク
プラグ用絶縁碍子に用いる場合は、高温下での耐電圧性
を要求される箇所にのみ部分的に熱処理するようにして
もよい。
【0024】
【実施例】以下に本発明を実施例を用いて説明する。表
2に記載の平均粒径及びNa含有量のAl原料粉
末に焼結助剤として平均粒径0.6μmのSiO粉末
又は表1に記載の組成の粘土、平均粒径0.8μmのC
aCO粉末、平均粒径0.3μmのMgO粉末及び平
均粒径1〜3μmのRE23粉末を、表2に示す量比と
なるように秤量し配合した粉末を製造する。
【0025】これらの配合粉末にバインダーを添加し、
それぞれボールミルにて、20mmφのアルミナボール
を使用し水中16時間混合した後、スプレードライによ
り乾燥、造粒し混合粉末を得る。これらの混合粉末をそ
れぞれ150MPaの静水圧プレスで50×50×20
mmの成形体に成形し、次に大気雰囲気下において表2
示す焼成温度(1550℃から1675℃)で2時間保
持して焼成する。また、必要に応じて、表2に示す熱処
置温度で熱処理を行う。
【0026】700℃における耐電圧値は、焼結体を1
5×15×0.65mmに加工して、図1に示す装置に
より測定する。熱伝導率は、φ10mm×t2mmの形
状に加工した後、JIS R−1611に準ずるレーザ
ーフラッシュ法により測定する。不純物含有量は、焼結
体を化学分析してNa2O、K2O、Fe23、TiO 2
換算にて定量する。
【0027】仮想直線が横切る粒界及び気孔の合計数
は、焼結体の任意の平面を鏡面研磨後、SEM観察にて
1000〜2000倍の倍率で写真を撮り、写真上に数
本の直線を引き、直線100μmあたりを横切る粒界及
び気孔の数を算出する。これらの結果を表3に示す。
【0028】
【表1】
【0029】
【表2】
【0030】
【表3】
【0031】表3の結果より、本発明の範囲である試料
番号4〜試料番号15では、700℃の高温下において
も、50〜75kV/mmの良好な耐電圧値が得られる
ことがわかる。特には、仮想直線が横切る粒界及び気孔
の合計数が25個以下で、且つ、希土類元素としてNd
を酸化物換算にて4.5重量%添加した実施例である試
料番号8では、耐電圧値がそれぞれ71kV/mmと、
極めて良好な耐電圧値が得られることがわかる。
【0032】希土類元素を含まない実施例である試料番
号4〜試料番号6でも、耐電圧値は50〜53kV/m
mと良好だが、焼結体をその焼成温度より100℃低い
温度で熱処理した実施例である試料番号13では、同じ
く希土類元素を含まないにもかかわらず、耐電圧値が6
3kV/mmと更に良好にすることができる。更に、試
料番号15のように、希土類元素添加系で更に熱処理す
ることで、より効果的に耐電圧値を向上(75kV/m
m)することができる。
【0033】一方、比較例である試料番号1〜試料番号
3では、33〜42kV/mmの低い耐電圧値しか得ら
れないことがわかる。試料番号1では、仮想直線が横切
る粒界及び気孔の合計数が50個を越えるため、耐電圧
値が42kV/mmと低い。試料番号2では、Na成分
の含有量が0.06重量%と多いため、耐電圧値が33
kV/mmとかなり低い。試料番号3では、不純物の総
合計量が0.3重量%を越えるため、耐電圧値が41k
V/mmと低い。
【0034】以上の結果より、希土類元素を添加した
り、仮想直線が横切る粒界及び気孔の合計数或いはNa
成分や不純物の含有量をそれぞれ独立して調整するのみ
では、700℃付近の高温下における耐電圧性を向上で
きないことがわかる。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、700℃付近の高温下
において高絶縁性及び高耐電圧性を有するアルミナ基焼
結体及びその製造方法を提供することができる。これら
を用いたスパークプラグ用絶縁体及びその製造方法によ
れば、小径プラグのように肉薄の製品でも優れた絶縁性
及び耐電圧性を発揮可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に使用した耐電圧性の評価方法の模式図
である。
【符号の説明】
1 アルミナ基焼結体からなる試験片 2a アルミナ製碍筒 2b アルミナ製碍筒 3 封着ガラス 4a 電極 4b 電極 5 加熱用ヒータ 6 高電圧発生装置 7 ガラス接合体 8 加熱用ボックス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 正也 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 Fターム(参考) 4G030 AA03 AA04 AA07 AA08 AA11 AA16 AA27 AA36 AA37 BA12 GA04 GA05 GA22 GA25 GA27 HA05 PA21 5G059 AA03 AA05 FF01 FF02 FF14

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 Na成分、K成分、Fe成分、Ti成分
    のうち少なくともいずれか1種を副成分として含むアル
    ミナ基焼結体であって、さらに以下の構成要件(a)及
    び(b)を具備することを特徴とする高耐電圧性アルミ
    ナ基焼結体。 (a)該アルミナ基焼結体100重量%に含まれる該副
    成分の酸化物換算による含有量が0.3重量%以下、且
    つ、該Na成分の酸化物換算による含有量が0.05重
    量%以下。 (b)該アルミナ基焼結体の任意の断面に長さ100μ
    mの仮想直線を引いた場合において、該仮想直線が横切
    る粒界及び気孔の合計数が50個以下。
  2. 【請求項2】 20±5℃における熱伝導率が20W/
    m・K以上であることを特徴とする請求項1に記載の高
    耐電圧性アルミナ基焼結体。
  3. 【請求項3】 前記アルミナ基焼結体100重量%に希
    土類元素を酸化物換算で10重量%以下含むことを特徴
    とする請求項1又は請求項2に記載の高耐電圧性アルミ
    ナ基焼結体。
  4. 【請求項4】 前記アルミナ基焼結体をその焼成保持温
    度に対して−100〜+150℃の温度で熱処理するこ
    とを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
    の高耐電圧性アルミナ基焼結体の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
    の高耐電圧性アルミナ基焼結体を用いたことを特徴とす
    るスパークプラグ用絶縁碍子。
  6. 【請求項6】 前記スパークプラグ用絶縁碍子をその焼
    成保持温度に対して−100〜+150℃の温度で熱処
    理することを特徴とする請求項5に記載のスパークプラ
    グ用絶縁碍子の製造方法。
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