JP2001047356A - 研磨装置 - Google Patents
研磨装置Info
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- JP2001047356A JP2001047356A JP22686199A JP22686199A JP2001047356A JP 2001047356 A JP2001047356 A JP 2001047356A JP 22686199 A JP22686199 A JP 22686199A JP 22686199 A JP22686199 A JP 22686199A JP 2001047356 A JP2001047356 A JP 2001047356A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】被研磨物であるウェハ２６を研磨装置におい
て、研磨レ−トが高くウェハ２６の面を均一に研磨す
る。 【解決手段】半径方向における研磨パッド１の中央部の
摩耗度の大きさを予め推測し、研磨パッド１の中央部を
円弧状に膨らみを予め持たせることによって、研磨が進
むにつれて研磨パッドが平坦化し、ウェハ２６を研磨す
る。
て、研磨レ−トが高くウェハ２６の面を均一に研磨す
る。 【解決手段】半径方向における研磨パッド１の中央部の
摩耗度の大きさを予め推測し、研磨パッド１の中央部を
円弧状に膨らみを予め持たせることによって、研磨が進
むにつれて研磨パッドが平坦化し、ウェハ２６を研磨す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板など円
板状の被研磨物の表面を平坦化処理するための化学機械
研磨を行う研磨装置及び研磨方法に関する。
板状の被研磨物の表面を平坦化処理するための化学機械
研磨を行う研磨装置及び研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の研磨装置は、平坦な表面
に研磨パッドが貼り付けられ回転する剛性の高い研磨テ
−ブルと、被研磨物である半導体基板（以下ウェハと記
す）を保持し回転する研磨ヘッドとを備えている。そし
て、回転しながら研磨テ−ブルの研磨パッドにウェハを
押し付け研磨ヘッドも回転させ、研磨パッドに研磨剤を
供給しウェハを研磨していた。
に研磨パッドが貼り付けられ回転する剛性の高い研磨テ
−ブルと、被研磨物である半導体基板（以下ウェハと記
す）を保持し回転する研磨ヘッドとを備えている。そし
て、回転しながら研磨テ−ブルの研磨パッドにウェハを
押し付け研磨ヘッドも回転させ、研磨パッドに研磨剤を
供給しウェハを研磨していた。
【０００３】また、研磨パッドは、通常、発泡ポリウレ
タン材等の弾性材料を使用している。しかし、この発泡
ポリウレタン材は弾性変形速度は研磨テ−ブルの回転速
度に比べ非常に遅い。このため、研磨パッドの弾性変形
量は、研磨パッドが押されている時間の長さによって異
なる。すなわち、ウェハの中心部と接触する研磨パッド
の中央部は接触時間が長く、弾性材が回復する時間が短
い。一方、ウェハの周辺部と接触する研磨パッドの内側
部及び外側部は接触時間が短く回復時間が長い。
タン材等の弾性材料を使用している。しかし、この発泡
ポリウレタン材は弾性変形速度は研磨テ−ブルの回転速
度に比べ非常に遅い。このため、研磨パッドの弾性変形
量は、研磨パッドが押されている時間の長さによって異
なる。すなわち、ウェハの中心部と接触する研磨パッド
の中央部は接触時間が長く、弾性材が回復する時間が短
い。一方、ウェハの周辺部と接触する研磨パッドの内側
部及び外側部は接触時間が短く回復時間が長い。
【０００４】その結果、図５に示すように、研磨時間の
経過に伴って研磨パッド１９の摩耗が進み、研磨テ−ブ
ル１８の半径方向における研磨パッド１９の断面形状が
研磨パッド１９の中央部２０が薄くなり内側部１７と外
側部１６が厚くなる。このような状態で研磨を行うと、
ウェハ面に凹凸が生じウェハ面を均一に研磨できない。
経過に伴って研磨パッド１９の摩耗が進み、研磨テ−ブ
ル１８の半径方向における研磨パッド１９の断面形状が
研磨パッド１９の中央部２０が薄くなり内側部１７と外
側部１６が厚くなる。このような状態で研磨を行うと、
ウェハ面に凹凸が生じウェハ面を均一に研磨できない。
【０００５】この問題を解消する研磨装置が、例えば、
特開平１０−５８３１６号公報に開示されている。この
研磨装置は、図６に示すように、定盤を構成するパッド
載置部２１ａに貼り付けられた研磨パッド２２と、開口
部２５にウェハ２６を入れウェハ２６を保持するガイド
部材２３と、支持軸２４ｂに取り付けられガイド部材２
３のウェハ２６を研磨パッド２２に押し付ける基板保持
部２４ａとを備えている。
特開平１０−５８３１６号公報に開示されている。この
研磨装置は、図６に示すように、定盤を構成するパッド
載置部２１ａに貼り付けられた研磨パッド２２と、開口
部２５にウェハ２６を入れウェハ２６を保持するガイド
部材２３と、支持軸２４ｂに取り付けられガイド部材２
３のウェハ２６を研磨パッド２２に押し付ける基板保持
部２４ａとを備えている。
【０００６】また、ガイド部材２３は、厚みがウェハ２
６とほぼ同じの樹脂板から製作している。そして、この
研磨装置は、回転軸２１ｂにより研磨パッド２２を回転
させるとき、ガイド部材２３及びウェハ２６とは定盤の
回転に連動して回転することがないので、ガイド部材２
３及びウェハ２６と研磨パッド２２とは相対回転する。
言い換えれば、ウェハ２６とガイド部材２３は共に研磨
される。
６とほぼ同じの樹脂板から製作している。そして、この
研磨装置は、回転軸２１ｂにより研磨パッド２２を回転
させるとき、ガイド部材２３及びウェハ２６とは定盤の
回転に連動して回転することがないので、ガイド部材２
３及びウェハ２６と研磨パッド２２とは相対回転する。
言い換えれば、ウェハ２６とガイド部材２３は共に研磨
される。
【０００７】このように、ウェハ２６及びガイド部材２
３は、常に等しい圧力で押圧されるとともに圧力に応じ
た量だけ常に等しく研磨パッド２２の研磨布を弾性変形
させている。このことにより、研磨パッド２２における
ウェハ２６と接する全領域が均一に弾性変形した状態に
なるため、研磨パッドにおけるウェハ２６と接する面が
平坦になると同時にウェハ２６の面は均一に研磨され
る。
３は、常に等しい圧力で押圧されるとともに圧力に応じ
た量だけ常に等しく研磨パッド２２の研磨布を弾性変形
させている。このことにより、研磨パッド２２における
ウェハ２６と接する全領域が均一に弾性変形した状態に
なるため、研磨パッドにおけるウェハ２６と接する面が
平坦になると同時にウェハ２６の面は均一に研磨され
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述した研磨装置で
は、ウェハを回転させないで回転テ−ブルの回転でウェ
ハを研磨するので、研磨レ−トが低いという欠点があ
る。また、ガイド部材も研磨されるので、樹脂製のガイ
ド部材の研磨屑が研磨布である発泡ポリウレタン材の小
穴に入り込み、再びウェハに付着し、軟質の樹脂屑は除
去されずウェハを汚染する恐れがある。
は、ウェハを回転させないで回転テ−ブルの回転でウェ
ハを研磨するので、研磨レ−トが低いという欠点があ
る。また、ガイド部材も研磨されるので、樹脂製のガイ
ド部材の研磨屑が研磨布である発泡ポリウレタン材の小
穴に入り込み、再びウェハに付着し、軟質の樹脂屑は除
去されずウェハを汚染する恐れがある。
【０００９】また、ウェハの周囲はガイド部材の開口部
の壁に囲まれているので、ウェハに研磨剤が供給され難
く、研磨能力が劣化するという問題も含んでいる。
の壁に囲まれているので、ウェハに研磨剤が供給され難
く、研磨能力が劣化するという問題も含んでいる。
【００１０】従って、本発明の目的は、研磨レ−トが高
く被研磨物の表面を均一に研磨できる研磨装置を提供す
ることにある。
く被研磨物の表面を均一に研磨できる研磨装置を提供す
ることにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の特徴は、
研磨すべき面を下にして一枚の円板状の被研磨物を保持
し回転する研磨ヘッドと、所定の幅をもつリング状の研
磨パッドが貼付けられ回転する円盤状の研磨テ−ブル
と、前記研磨パッドに研磨剤を供給するノズルとを備え
る研磨装置において、前記研磨パッドの幅がほぼ前記被
研磨物の直径に等しいとともに該幅の中央部が円弧状に
膨らんでいる研磨装置である。 また、前記研磨パッド
の幅方向の両側に配置されるとともに前記研磨パッドに
押し付けられた前記被研磨物が前記研磨ヘッドから抜け
出すのを阻止する側壁を有することが望ましい。さら
に、好ましくは、前記研磨パッドが前記側壁と前記中央
部の膨らみとを一体化されていることである。そして、
必要ならば、前記研磨テ−ブルを回転させながら前記研
磨パッドの幅方向にツ−ルを走行させ前記中央部の膨ら
みを修正するドレッシング装置を備えることである。
研磨すべき面を下にして一枚の円板状の被研磨物を保持
し回転する研磨ヘッドと、所定の幅をもつリング状の研
磨パッドが貼付けられ回転する円盤状の研磨テ−ブル
と、前記研磨パッドに研磨剤を供給するノズルとを備え
る研磨装置において、前記研磨パッドの幅がほぼ前記被
研磨物の直径に等しいとともに該幅の中央部が円弧状に
膨らんでいる研磨装置である。 また、前記研磨パッド
の幅方向の両側に配置されるとともに前記研磨パッドに
押し付けられた前記被研磨物が前記研磨ヘッドから抜け
出すのを阻止する側壁を有することが望ましい。さら
に、好ましくは、前記研磨パッドが前記側壁と前記中央
部の膨らみとを一体化されていることである。そして、
必要ならば、前記研磨テ−ブルを回転させながら前記研
磨パッドの幅方向にツ−ルを走行させ前記中央部の膨ら
みを修正するドレッシング装置を備えることである。
【００１２】本発明の第２の特徴は、前記中央部の膨ら
みを油圧力で形成することである。また、第３の特徴
は、前記被研磨物とほぼ等しい直径を有するとともに外
周囲に複数の方形状のチップが入る複数の切欠きが形成
され前記研磨ヘッドに取付けられる保持板を備えること
である。前記保持板の材料が前記チップの材料と同じで
あることが望ましい。
みを油圧力で形成することである。また、第３の特徴
は、前記被研磨物とほぼ等しい直径を有するとともに外
周囲に複数の方形状のチップが入る複数の切欠きが形成
され前記研磨ヘッドに取付けられる保持板を備えること
である。前記保持板の材料が前記チップの材料と同じで
あることが望ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１４】図１は本発明の一実施の形態における研磨
装置を説明するための図である。この研磨装置における
研磨パッド１は、図１に示すように、リング状であっ
て、研磨ヘッド３が入れる幅をもつ溝１ａを有するとと
もに溝１ａの幅方向の中央部の底部が円弧状に膨らんで
いる。この円弧状に膨らみをもたせたことは、従来の技
術の項で説明したように、図５の研磨パッドの摩耗状態
を予測し、予め研磨パッド１に膨らみをもたせ研磨経過
に伴って平坦化することを図ったことである。
装置を説明するための図である。この研磨装置における
研磨パッド１は、図１に示すように、リング状であっ
て、研磨ヘッド３が入れる幅をもつ溝１ａを有するとと
もに溝１ａの幅方向の中央部の底部が円弧状に膨らんで
いる。この円弧状に膨らみをもたせたことは、従来の技
術の項で説明したように、図５の研磨パッドの摩耗状態
を予測し、予め研磨パッド１に膨らみをもたせ研磨経過
に伴って平坦化することを図ったことである。
【００１５】また、ウェハ２６を真空吸着する研磨ヘッ
ド３の回転方向は研磨テ−ブル２の回転方向と同じであ
る。そして、ノズル４から研磨パッド１に滴下される研
磨剤は、ウェハ２６と研磨パッド１に入り込み研磨パッ
ド１の外縁の側壁１ｂにある排出口（図示せず）から排
出される。このことにより研磨剤の供給排出を極めて円
滑に行うことができた。
ド３の回転方向は研磨テ−ブル２の回転方向と同じであ
る。そして、ノズル４から研磨パッド１に滴下される研
磨剤は、ウェハ２６と研磨パッド１に入り込み研磨パッ
ド１の外縁の側壁１ｂにある排出口（図示せず）から排
出される。このことにより研磨剤の供給排出を極めて円
滑に行うことができた。
【００１６】研磨パッド１の側壁１ｂは、研磨中にウェ
ハ２６が飛び出さないように設けられた障壁である。従
来は、この種の障壁は研磨ヘッドの外形の一部を垂下さ
せていたが研磨剤のウェハ２６と研磨パッド１の隙間へ
の進入の障害となり円滑な供給ができなかった。そこ
で、この研磨装置では、研磨パッド１側に側壁１ｂを設
けることによりウェハ２６と研磨パッド１との間に障壁
が無くなり容易に研磨剤が進入することができた。ま
た、側壁１ｂと膨らみとが一体化された研磨パッド１
は、発泡ポリウレタン材を金型で成形したものである。
ハ２６が飛び出さないように設けられた障壁である。従
来は、この種の障壁は研磨ヘッドの外形の一部を垂下さ
せていたが研磨剤のウェハ２６と研磨パッド１の隙間へ
の進入の障害となり円滑な供給ができなかった。そこ
で、この研磨装置では、研磨パッド１側に側壁１ｂを設
けることによりウェハ２６と研磨パッド１との間に障壁
が無くなり容易に研磨剤が進入することができた。ま
た、側壁１ｂと膨らみとが一体化された研磨パッド１
は、発泡ポリウレタン材を金型で成形したものである。
【００１７】図２は図１の研磨パッドをドレッシングす
るドレッシング装置を示す図である。通常、この種の研
磨装置では、研磨の準備作業の一つとして研磨パッドの
ドレッシング作業がある。しかし、膨らみをもつ研磨パ
ッド１は、従来からあるドレッシング装置ではドレッシ
ングすることはできない。
るドレッシング装置を示す図である。通常、この種の研
磨装置では、研磨の準備作業の一つとして研磨パッドの
ドレッシング作業がある。しかし、膨らみをもつ研磨パ
ッド１は、従来からあるドレッシング装置ではドレッシ
ングすることはできない。
【００１８】そこで、本発明では、図２に示すドレッシ
ング装置を準備した。このドレッシング装置は、図２に
示すように、研磨パッド１を跨るように設置されたフレ
−ムに取付けられるとともに円弧状の膨らみ形状の輪郭
をもつ倣い面をもつテンプレ−ト６と、このテンプレ−
ト６と接触するカムフォロア７と、カムフォロア７と一
体となるばね内蔵のドレッサ−５と、ドレッサ−を研磨
パッド１上を走行させる送りねじ８及びモ−タ１０とを
備えている。
ング装置を準備した。このドレッシング装置は、図２に
示すように、研磨パッド１を跨るように設置されたフレ
−ムに取付けられるとともに円弧状の膨らみ形状の輪郭
をもつ倣い面をもつテンプレ−ト６と、このテンプレ−
ト６と接触するカムフォロア７と、カムフォロア７と一
体となるばね内蔵のドレッサ−５と、ドレッサ−を研磨
パッド１上を走行させる送りねじ８及びモ−タ１０とを
備えている。
【００１９】このドレッシング装置を使用して研磨パッ
ド１をドレッシングするには、まず、ドレッサ−５の先
端のツ−ルを研磨パッド１の表面に接触するようにフレ
−ムを下降させる。次に、図示してないところの微動送
りでツ−ルに切り込み与える。そして、研磨テ−ブル２
を回転するとともにモ−タ１０を回転させる。このこと
によりカムフォロア７はテンプレ−ト６の倣い面を走行
しドレッサ−５は研磨パッド１の幅方向に揺動しながら
走行する。そして、研磨パッドの表面は削られテンプレ
−ト６のプロファイルに修正される。
ド１をドレッシングするには、まず、ドレッサ−５の先
端のツ−ルを研磨パッド１の表面に接触するようにフレ
−ムを下降させる。次に、図示してないところの微動送
りでツ−ルに切り込み与える。そして、研磨テ−ブル２
を回転するとともにモ−タ１０を回転させる。このこと
によりカムフォロア７はテンプレ−ト６の倣い面を走行
しドレッサ−５は研磨パッド１の幅方向に揺動しながら
走行する。そして、研磨パッドの表面は削られテンプレ
−ト６のプロファイルに修正される。
【００２０】また、正転反転が可能なモ−タ１０である
から、ドレッサ−５を複数回往復させ研磨パッド１の表
面を精密に修正することが望ましい。なお、研磨テ−ブ
ル２の回転速度などの研磨条件を変えるときは、研磨パ
ッド１の摩耗状態が変わるので、それに適用する膨らみ
をもつテンプレ−ト６に交換しドレッシングすることが
望ましい。
から、ドレッサ−５を複数回往復させ研磨パッド１の表
面を精密に修正することが望ましい。なお、研磨テ−ブ
ル２の回転速度などの研磨条件を変えるときは、研磨パ
ッド１の摩耗状態が変わるので、それに適用する膨らみ
をもつテンプレ−ト６に交換しドレッシングすることが
望ましい。
【００２１】図３は本発明の他の実施の形態における研
磨装置を示す断面図である。この研磨装置は、図３に示
すように、研磨テ−ブル２ａに水密に取付けれたパッド
載置部１２の載置面１３を円弧状に盛り上げる手段とし
て、研磨テ−ブル２ａの上面とパッド載置部１２の載置
面１３の裏面とでなす室１２ａに油を圧送する油圧装置
１４を設けている。そして、この円弧状に盛り上がった
載置面１３に平板状の研磨パッド１１を貼り付けてい
る。
磨装置を示す断面図である。この研磨装置は、図３に示
すように、研磨テ−ブル２ａに水密に取付けれたパッド
載置部１２の載置面１３を円弧状に盛り上げる手段とし
て、研磨テ−ブル２ａの上面とパッド載置部１２の載置
面１３の裏面とでなす室１２ａに油を圧送する油圧装置
１４を設けている。そして、この円弧状に盛り上がった
載置面１３に平板状の研磨パッド１１を貼り付けてい
る。
【００２２】このパッド載置部は、例えば、ステンレス
鋼から製作され、載置面１３をもつ壁の厚みは他の部分
より薄くしている。そして、その壁部は、油圧装置１４
の油圧により弾性変形限界内で撓むように厚さが設計さ
れている。従って、前述の実施の形態における研磨パッ
ドの盛り上がり度の設定とは異なり、油圧装置１４の圧
力設定を任意に変えることにより所望の盛り上がり度に
することができる。
鋼から製作され、載置面１３をもつ壁の厚みは他の部分
より薄くしている。そして、その壁部は、油圧装置１４
の油圧により弾性変形限界内で撓むように厚さが設計さ
れている。従って、前述の実施の形態における研磨パッ
ドの盛り上がり度の設定とは異なり、油圧装置１４の圧
力設定を任意に変えることにより所望の盛り上がり度に
することができる。
【００２３】次に、この研磨装置の動作を説明する。ま
ず、室１２ａの油を排出し、載置面１３を平坦の状態に
する。次に、従来から備えているドレッシング装置によ
り研磨パッド１１をドレッシングする。次に、油圧装置
１４を動作させ油圧を調節し載置面１３の研磨パッド１
１の盛り上がりを所望の円弧度に設定する。設定が完了
したら、研磨ヘッド３を下降させウェハ２６を研磨パッ
ド１１に押し付け、研磨ヘッド３が回転すると同時に研
磨テ−ブルが回転する。
ず、室１２ａの油を排出し、載置面１３を平坦の状態に
する。次に、従来から備えているドレッシング装置によ
り研磨パッド１１をドレッシングする。次に、油圧装置
１４を動作させ油圧を調節し載置面１３の研磨パッド１
１の盛り上がりを所望の円弧度に設定する。設定が完了
したら、研磨ヘッド３を下降させウェハ２６を研磨パッ
ド１１に押し付け、研磨ヘッド３が回転すると同時に研
磨テ−ブルが回転する。
【００２４】一方、ノズル４より滴下された研磨材はウ
ェハ２６と研磨パッド１１との隙間から入り化学研磨作
用しウェハ２６を研磨する。研磨屑は研磨剤とともに排
出口１３ａからドレ−ンに排出される。また、ウェハ２
６の研磨中にウェハ２６が飛び出すことがないようにパ
ッド載置部１２に側壁１３ｂが設けられている。
ェハ２６と研磨パッド１１との隙間から入り化学研磨作
用しウェハ２６を研磨する。研磨屑は研磨剤とともに排
出口１３ａからドレ−ンに排出される。また、ウェハ２
６の研磨中にウェハ２６が飛び出すことがないようにパ
ッド載置部１２に側壁１３ｂが設けられている。
【００２５】図４は方形状のチップを保持する保持板を
示す平面図である。これまで説明したのはウェハのよう
な円板状の被研磨物であったが、ウェハから方形状のチ
ップを研磨する場合がある。このような場合に上述した
研磨装置を使用するための治具として、図４の保持板１
５を用いることが望ましい。
示す平面図である。これまで説明したのはウェハのよう
な円板状の被研磨物であったが、ウェハから方形状のチ
ップを研磨する場合がある。このような場合に上述した
研磨装置を使用するための治具として、図４の保持板１
５を用いることが望ましい。
【００２６】この保持板１５は、図４に示すように、前
述したウェハ２６とほぼ外形が同じの円盤の外周囲にチ
ップ２６ａが入り得る複数の切欠き１５ａを設けてい
る。そして、この切欠き１５ａにチップ２６ａを入れ、
その隙間に接着剤を付け仮止めし、従来のウェハ２６と
同様に研磨ヘッドに取付ければ良い。
述したウェハ２６とほぼ外形が同じの円盤の外周囲にチ
ップ２６ａが入り得る複数の切欠き１５ａを設けてい
る。そして、この切欠き１５ａにチップ２６ａを入れ、
その隙間に接着剤を付け仮止めし、従来のウェハ２６と
同様に研磨ヘッドに取付ければ良い。
【００２７】また、保持板１５は、チップと同じ材料で
あるシリコン基板が望ましい。同じ材料であれば、保持
板１５とチップ２６ａと研磨レ−トが一様になるので、
研磨されたチップの面も均一に研磨される。
あるシリコン基板が望ましい。同じ材料であれば、保持
板１５とチップ２６ａと研磨レ−トが一様になるので、
研磨されたチップの面も均一に研磨される。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半径方向
における研磨パッドの中央部の摩耗度の大きさを予め推
測し研磨パッドの中央部を円弧状に膨らみを予め持たせ
ることによって、研磨が進むにつれて研磨パッドが平坦
化し、ウェハの面を均一に研磨することができる。ま
た、研磨テ−ブルの回転に加え研磨ヘッドも回転させる
ので、特開平１０−５８３１６号公報に開示された従来
の研磨装置より高い研磨レ−トが得られ、生産性を高め
るという効果が得られる。
における研磨パッドの中央部の摩耗度の大きさを予め推
測し研磨パッドの中央部を円弧状に膨らみを予め持たせ
ることによって、研磨が進むにつれて研磨パッドが平坦
化し、ウェハの面を均一に研磨することができる。ま
た、研磨テ−ブルの回転に加え研磨ヘッドも回転させる
ので、特開平１０−５８３１６号公報に開示された従来
の研磨装置より高い研磨レ−トが得られ、生産性を高め
るという効果が得られる。
【図１】本発明の一実施の形態における研磨装置を説明
するための図である。
するための図である。
【図２】図１の研磨パッドをドレッシングするドレッシ
ング装置を示す図である。
ング装置を示す図である。
【図３】本発明の他の実施の形態における研磨装置を示
す断面図である。
す断面図である。
【図４】方形状のチップを保持する保持板を示す平面図
である。
である。
【図５】研磨パッドの摩耗状態を示す断面図である。
【図６】特開平１０−５８３１６号公報に開示された研
磨装置を示す図である。
磨装置を示す図である。
１，１１ 研磨パッド ２，２ａ 研磨テ−ブル ３ 研磨ヘッド ４ ノズル ５ ドレッサ− ６ テンプレ−ト ７ カムフォロア ８ 送りねじ １０ モ−タ １２ パッド載置部 １３ 載置面 １４ 油圧装置 １５ 保持板
Claims (7)
- 【請求項１】 研磨すべき面を下にして一枚の円板状の
被研磨物を保持し回転する研磨ヘッドと、所定の幅をも
つリング状の研磨パッドが貼付けられ回転する円盤状の
研磨テ−ブルと、前記研磨パッドに研磨剤を供給するノ
ズルとを備える研磨装置において、前記研磨パッドの幅
がほぼ前記被研磨物の直径に等しいとともに該幅の中央
部が円弧状に膨らんでいることを特徴とする研磨装置。 - 【請求項２】 前記研磨パッドの幅方向の両側に配置さ
れるとともに前記研磨パッドに押し付けられた前記被研
磨物が前記研磨ヘッドから抜け出すのを阻止する側壁を
有することを特徴とする請求項１記載の研磨装置。 - 【請求項３】 前記研磨パッドが、前記側壁と前記中央
部の膨らみとを一体化されていることを特徴とする請求
項２記載の研磨装置。 - 【請求項４】 前記研磨テ−ブルを回転させながら前記
研磨パッドの幅方向にツ−ルを走行させ前記中央部の膨
らみを修正するドレッシング装置を備えることを特徴と
する請求項３記載の研磨装置。 - 【請求項５】 前記中央部の膨らみを油圧力で形成する
ことを特徴とする請求項１または２記載の研磨装置。 - 【請求項６】 前記被研磨物とほぼ等しい直径を有する
とともに外周囲に複数の方形状のチップが入る複数の切
欠きが形成され前記研磨ヘッドに取付けられる保持板を
備えることを特徴とする請求項１、２または５記載の研
磨装置。 - 【請求項７】 前記保持板の材料が前記チップの材料と
同じであることを特徴とする請求項６記載の研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22686199A JP2001047356A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22686199A JP2001047356A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001047356A true JP2001047356A (ja) | 2001-02-20 |
Family
ID=16851729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22686199A Pending JP2001047356A (ja) | 1999-08-10 | 1999-08-10 | 研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001047356A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160115378A (ko) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 주식회사 케이씨텍 | 화학 기계적 연마 장치 |
| CN107803745A (zh) * | 2017-11-09 | 2018-03-16 | 深圳市汉匠自动化科技有限公司 | 一种气液压辅助3d仿形研磨机 |
| CN112497089A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-03-16 | 蚌埠中光电科技有限公司 | 一种研磨垫加工面边缘的处理方法 |
-
1999
- 1999-08-10 JP JP22686199A patent/JP2001047356A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160115378A (ko) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | 주식회사 케이씨텍 | 화학 기계적 연마 장치 |
| KR101913702B1 (ko) | 2015-03-27 | 2018-11-01 | 주식회사 케이씨텍 | 화학 기계적 연마 장치 |
| CN107803745A (zh) * | 2017-11-09 | 2018-03-16 | 深圳市汉匠自动化科技有限公司 | 一种气液压辅助3d仿形研磨机 |
| CN112497089A (zh) * | 2020-12-15 | 2021-03-16 | 蚌埠中光电科技有限公司 | 一种研磨垫加工面边缘的处理方法 |
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