JP4058904B2 - 研磨布のドレッシング方法、半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置 - Google Patents
研磨布のドレッシング方法、半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、研磨布により半導体ウェーハの少なくとも表面を研磨する半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
シリコンウェーハ等の半導体ウェーハを平坦化する技術として、表面又は裏面の被加工面を研磨する技術が用いられている。この研磨を行う装置の基本構造は、例えば両面研磨の場合、キャリアプレートに装着されたウェーハの被加工面と、定盤の研磨面に敷設された研磨布とを平行に配置し、これらの面同士を接触させて互いに摺動させる機構を備えたものが一般的である。
【0003】
ウェーハの被加工面の研磨は、上記摺動中において、被加工面と研磨布との間に微粒子シリカ等の砥粒を含む研磨液を添加し、研磨液及び研磨布とウェーハの被加工面との機械的化学的研磨(メカノケミカルポリッシング)の作用により、ウェーハの被加工面が高平坦化される。
このような研磨装置としては、複数のウェーハの表面だけを研磨する片面研磨装置、ウェーハの表裏面を同時に研磨する両面研磨装置及び大径なウェーハを一枚ずつ研磨する枚葉式研磨装置等が通常用いられている。
【0004】
ところで、上記のようなウェーハの研磨では、被加工面と研磨布との間に機械的化学的な作用によって生じる加工屑と反応生成物とが形成され、これらが研磨の進行と共に増加して次第に研磨布表層及び内層に滞留していくようになる。また、研磨液中の砥粒も、研磨が進むにつれて細粒化していき、研磨布表面の微視的凹凸に付着するようになる。一般に、これらの現象は研磨布の目詰まりと称されるが、これをそのまま放置すると、研磨性能の低下をはじめとして、ウェーハがテーパ状に研磨されるなど、所望の平坦度を得ることができなくなったり等の不都合がある。
【0005】
そこで、従来、上記の研磨布面に付着した反応生成物等を削除する作業、すなわちドレッシング作業を行っている。例えば、特開平11−114805号公報には、研磨装置に研磨布に向けて高圧水を噴射する高圧水供給機構を設けて研磨布のドレッシングを行う技術が提案されている。また、特許第2622069号公報には、上記と同様に純水等の高圧流体によって研磨布から反応生成物を除去する手段と共に、使用済み上記流体及び反応生成物を排出するためのブラシ手段を併用したドレッシング装置が提案されている。
【0006】
さらに、特開平7−299731号公報には、ウェーハの交換作業時に、ダイヤモンド砥石を電着したドレッシングパッドを研磨布面に圧接し、研磨布面を回転させることにより、研磨布全体を研磨するドレッシング装置が提案されている。また、このドレッシングパッドを備えたドレッシング装置にさらに加えて、ウェーハを保持するヘッド周囲から研磨剤を高圧に噴射するノズルを設け、研磨作業時においてもドレッシング作業を行う装置が、特開平7−299738号公報に記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の研磨技術及びドレッシング技術には、以下のような課題が残されている。すなわち、ウェーハの研磨時において、定盤に取り付けられた研磨布は、ウェーハに圧接されて塑性変形を起こすが、研磨を繰り返すうちに研磨布の形状が経時的変化を起こし、その表面形状のプロファイルが変化する。例えば、揺動式研磨装置、すなわち回転する上下の上定盤と下定盤との間に配置したウェーハキャリアを、自転しない円運動をさせ、ウェーハキャリアに保持されたシリコンウェーハを旋回移動させる研磨装置では、常にウェーハが圧接する領域が凹む傾向があり、その領域ではウェーハに対する面圧が低くなって研磨レートがその領域の周辺よりも低下する。このため、研磨されたウェーハの形状が中央部が周辺部より厚い中凸形状となってしまい、高精度な平坦度を得ることができない場合があった。
このように、上記従来のドレッシング技術では、単に研磨布の目詰まり防止や全体の目立てを行うことができるが、上記のような研磨布形状の経時的変化に対応することができず、研磨に伴う研磨布の品質ばらつきが大きくなり、経時的な安定性を維持することができなかった。
なお、この対策として、製作プロセス起因の品質ばらつきが小さく、経時的な形状変化の小さな「硬質」の研磨布(例えば、発泡ウレタンパッド)等が検討されているが、一般的に研磨レートが小さくなる等の不都合があった。
【0008】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、研磨布のコンディションを長期にわたって最適に維持し、安定した高平坦度研磨プロセスを得ることができる半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。
すなわち、本発明の研磨布のドレッシング方法は、半導体ウェーハの表裏面に接触する研磨面に研磨布を有した上下定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給し、旋回移動する平板状のウェーハキャリアで保持した複数の半導体ウェーハの表裏面を同時に研磨する半導体ウェーハ揺動キャリア型両面研磨装置の研磨布をドレッシングする方法であって、
この揺動キャリア型両面研磨装置は、研磨時におけるウェーハ揺動範囲のうち最も内周側及び外周側にそれぞれ移動した揺動状態で、このウェーハが上下定盤から所定の量だけ外方にオーバーハングするように前記ウェーハキャリアを揺動運動するものとされ、
前記研磨布の表面形状を求める研磨布形状推定工程と、
前記研磨布の表面形状を修正するドレッシング工程とを備え、
前記研磨布形状推定工程は、前記ドレッシング工程前に前記研磨布により研磨された半導体ウェーハの形状を測定し、該形状に基づいて研磨布の表面形状を求め、この研磨布の前記表面形状の経時変化を研磨の回数に対応させて予め実測して記録しておき、該記録に基づいて前記ドレッシング工程前にそれまでの研磨の回数に応じて中凸形状になった半導体ウェーハに対応する研磨布の表面形状の経時変形を求め、
前記ドレッシング工程は、先端部の上下にダイヤモンド砥粒が電着された円板状のドレッサーがそれぞれ取り付けられたアーム部を前記上下定盤の間に入れて前記ドレッサーを前記上下定盤で挟んだ状態とし、前記上下定盤を定盤駆動機構により回転させるとともに、
前記ドレッシング工程は、前記研磨布の経時変形のうち沈み込みが小さい領域及びその内側近傍について、削ると共に押しつぶす修正量が他の領域よりも大きくなるように、前記ドレッサーが前記研磨布の沈み込みが小さい領域及びその内側近傍を他の領域に比べて長い時間ドレッシングするよう前記アーム部の進退を制御することにより、前記研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて修正する量を変えることを特徴とする。
本発明の半導体ウェーハの研磨方法は、半導体ウェーハの表裏面に接触する研磨面に研磨布を有した上下定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給し、旋回移動する平板状のウェーハキャリアで保持した複数の半導体ウェーハを研磨する半導体ウェーハ揺動キャリア型両面装置による研磨方法であって、
前記研磨を、前記研磨布の表面形状を上記に記載の研磨布のドレッシング方法により修正した状態で行うことを特徴とする。
本発明の半導体ウェーハの研磨装置は、半導体ウェーハの表裏面に接触する研磨面に研磨布を有した上下定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給し、旋回移動する平板状のウェーハキャリアで保持した複数の半導体ウェーハを研磨する半導体ウェーハ揺動キャリア型両面研磨装置であって、
前記上下定盤の間に配置され複数のシリコンウェーハを保持する平板状のウェーハキャリアと、前記上定盤及び前記下定盤を回転させる定盤駆動機構と、前記ウェーハキャリアを旋回移動させるキャリア駆動機構とを具備し、
前記研磨布の表面形状を修正するドレッシング機構を備え、
該ドレッシング機構は、前記上下定盤の中心に向かって半径方向に前後進可能なアーム部と、該アーム部を前後進させるアーム駆動機構とを備え、前記アーム部先端部の上下にダイヤモンド砥粒が電着されたドレッサーがそれぞれ取り付けられ、
ドレッシング時には前記アーム部を前記上下定盤の間に入れて前記ドレッサーを前記上下定盤で挟んだ状態が可能とされ、
前記ドレッシング機構は、予め求めた前記研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて前記修正する量を変える制御部を備え、
前記制御部は、予め前記研磨布により研磨された半導体ウェーハの形状に基づいて研磨布の表面形状を求め、
前記制御部は、研磨布の表面形状の経時変化を前記研磨の回数に対応させて予め実測して記録しておき、該記録に基づいて前記修正を行う前にそれまでの研磨の回数に応じて研磨布の表面形状を求めて上記に記載のドレッシング方法が可能とされていることを特徴とする。
本発明の研磨布のドレッシング方法は、半導体ウェーハの少なくとも表面側に接触する研磨面に研磨布を有した定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給して半導体ウェーハを研磨する半導体ウェーハ研磨装置の研磨布をドレッシングする方法であって、前記研磨布の表面形状を求める工程と、前記研磨布の表面形状を修正するドレッシング工程とを備え、該ドレッシング工程は、前記研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて前記修正する量を変えることを特徴とする。
【0010】
また、本発明の半導体ウェーハの研磨装置は、半導体ウェーハの少なくとも表面側に接触する研磨面に研磨布を有した定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給して半導体ウェーハを研磨する半導体ウェーハの研磨装置であって、前記研磨布の表面形状を修正するドレッシング機構を備え、該ドレッシング機構は、予め求めた前記研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて前記修正する量を変える制御部を備えていることを特徴とする。
【0011】
これらの研磨布のドレッシング方法及び半導体ウェーハの研磨装置では、予め求めた研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて修正する量(すなわちドレッサー等により削る量又は押しつぶす量の少なくとも一方)を変えるので、研磨布表面の凹凸に基づいてウェーハに係る圧力の偏りを是正するように研磨布の形状を整えることができる。これにより、研磨布の表面形状のプロファイルを適切に修正できると共に、目詰まりを防止し、さらに目立てを行うことができ、研磨布の最適なコンディションを長期にわたり維持することができる。
【0012】
また、本発明の研磨布のドレッシング方法は、前記研磨布の表面形状を求める工程において、前記ドレッシング工程前に前記研磨布により研磨された半導体ウェーハの形状を測定し、該形状に基づいて研磨布の表面形状を求める技術が採用される。
そして、本発明の半導体ウェーハの研磨装置は、前記制御部において、予め前記研磨布により研磨された半導体ウェーハの形状に基づいて研磨布の表面形状を求める技術が採用される。
【0013】
すなわち、これらの研磨布のドレッシング方法及び半導体ウェーハの研磨装置では、ドレッシング前に研磨布により研磨された半導体ウェーハの形状を実測することにより、半導体ウェーハの形状変化に対応した研磨布の表面形状の変化を推定し、この結果に基づいて各位置の修正する量を決定する。これにより、実際に研磨された半導体ウェーハの形状変化に応じた研磨布の適切な部分を修正することができると共に、研磨布の表面形状を直接測定する必要がなくなる。また、研磨装置として、研磨布の表面形状を測定する装置等の設備が不要になる。
【0014】
また、本発明の研磨布のドレッシング方法は、前記研磨布の表面形状を求める工程において、研磨布の表面形状の経時変化を前記研磨の回数に対応させて予め実測して記録しておき、該記録に基づいて前記ドレッシング工程前にそれまでの研磨の回数に応じて研磨布の表面形状を求める技術が採用される。
そして、本発明の半導体ウェーハの研磨装置は、前記制御部が、研磨布の表面形状の経時変化を前記研磨の回数に対応させて予め実測して記録しておき、該記録に基づいて前記修正を行う前にそれまでの研磨の回数に応じて研磨布の表面形状を求める技術が採用される。
【0015】
すなわち、これらの研磨布のドレッシング方法及び半導体ウェーハの研磨装置では、研磨布の表面形状の経時変化を研磨の回数に対応させて予め実測して記録しておき、該記録に基づいて修正前にそれまでの研磨の回数に応じて研磨布の表面形状を求めることにより、研磨履歴から容易に研磨布の表面形状が推定でき、ドレッシング直前に実際に表面形状の計測を行う必要が無く、定期的又は不定期的に適切なドレッシングが可能になる。
【0016】
また、本発明の半導体ウェーハの研磨装置は、前記ドレッシング機構が、ダイヤモンド砥粒が電着されたドレッサーを備えていることが好ましい。すなわち、この半導体ウェーハの研磨装置では、ダイヤモンド砥粒が電着されたドレッサーを備えているので、研磨布表面を正確に所定量だけ部分的に削ると共に押しつぶし、目詰まりを防ぎ、目立てを確実に行うことができる。
【0017】
また、本発明の半導体ウェーハの研磨装置は、前記半導体ウェーハを表裏面側から挟む前記研磨面を有した一対の前記定盤が配設されている技術が採用される。すなわち、この半導体ウェーハの研磨装置では、半導体ウェーハを表裏面側から挟む研磨面を有した一対の定盤が配設されているので、ウェーハが表裏面両方から研磨布で挟まれる研磨方式であり、片面のみに研磨面を有する片面研磨方式に比べて研磨布の形状変化が大きく、より顕著に本発明の研磨布ドレッシング効果を発揮することができる。
【0018】
本発明の半導体ウェーハの研磨方法は、半導体ウェーハの少なくとも表面側に接触する研磨面に研磨布を有した定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給して半導体ウェーハを研磨する半導体ウェーハの研磨方法であって、前記研磨を、前記研磨布の表面形状を上記本発明の研磨布のドレッシング方法により修正した状態で行うことを特徴とする。
この半導体ウェーハの研磨方法では、前記研磨を、前記研磨布の表面形状を上記本発明の研磨布のドレッシング方法により修正した状態で行うので、コンディションが最適に維持された研磨布で研磨でき、ウェーハを安定して高平坦度に研磨することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る研磨布のドレッシング方法、半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置の一実施形態を、図1から図12を参照しながら説明する。
【0020】
図1から図3は、本実施形態のシリコンウェーハの研磨装置であって、回転する上下の上定盤1と下定盤2との間に配置したウェーハキャリア3を、自転しない円運動をさせ、保持されたシリコンウェーハWを旋回移動させるものであり、シリコンウェーハWの表裏面を同時に研磨する揺動キャリア型両面研磨装置である。
【0021】
すなわち、この研磨装置は、同じ軸心で逆方向に回転する上下に配された上定盤1及び下定盤2と、上定盤1と下定盤2の間に配置され複数のシリコンウェーハWを保持する平板状のウェーハキャリア3と、上定盤1及び下定盤2を回転させる定盤駆動機構4と、ウェーハキャリア3を旋回移動させるキャリア駆動機構5とを備えている。
【0022】
上定盤1及び下定盤2は、それぞれの表面に研磨布6が接着され、これらの研磨布6が研磨面を構成する。なお、研磨布6としては、表面が平坦である不織布又はウレタン等が用いられる。
上定盤1には、複数の供給孔1aが設けられ(図3中には代表的に供給孔1aひとつを記載している)、各供給孔1aは研磨面へ研磨液を供給する研磨液供給機構7に接続されている。
【0023】
ウェーハキャリア3は、上定盤1及び下定盤2よりも径が大きく、例えばガラスエポキシ板で形成され、シリコンウェーハWを遊嵌状態に保持するための保持孔3aが複数形成されている。また、ウェーハキャリア3は、シリコンウェーハWの厚さよりも所定量だけ若干薄く設定されている。なお、保持孔3a内に保持されたシリコンウェーハWは、保持孔3a内で自転可能である。
【0024】
定盤駆動機構4は、上定盤1及び下定盤2に接続されこれらを回転させるモータ等の駆動源10、11を備えている。
キャリア駆動機構5は、ウェーハキャリア3をその表裏面と平行な面内で自転しない円運動をさせ、保持孔3a内で保持されて上定盤1と下定盤2とによって挟持されたシリコンウェーハWを旋回移動させるものである。すなわち、キャリア駆動機構5は、ウェーハキャリア3の外周部に取り付けられた円環状のキャリアホルダ12と、キャリアホルダ12に回転可能に連結された4つの偏心部材13と、これらの偏心部材13に接続されこれらを同期して円運動させる偏心部材同期機構14とを備えている。
【0025】
偏心部材13は、円柱形状であり、下面には回転軸部13aが突出して設けられ、上面には偏心軸部13bが回転軸部13aの回転軸から偏心した位置に突出して設けられている。また、偏心部材13は、回転軸部13aを装置の基体14に設けられた支持孔14aに回転可能に貫通させて支持されている。
キャリアホルダ12には、互いに等間隔に円周上に離間した4つの貫通孔12aが設けられ、これらの貫通孔12aにそれぞれ偏心軸部13bが回転可能に挿入されている。
【0026】
偏心部材同期機構14は、各偏心部材13の回転軸部13aに巻回されたタイミングチェーン15と、一つの偏心部材13の回転軸部13aにモータ側ギア16で接続された駆動用モータ17とを備えている。すなわち、駆動用モータ17の出力軸に設けられたモータ側ギア16が、回転軸部13a下端に設けられた軸部側ギア18に噛み合っており、駆動用モータ17を駆動すると、モータ側ギア16及び軸部側ギア18を介して一つの偏心部材13が回転すると共に、タイミングチェーン15を介して他の偏心部材13が同時に同期して回転するようになっている。
【0027】
この際、各偏心部材13は、回転軸部13aを中心に回転するが、偏心軸部13bは回転軸部13aの回転軸を中心に旋回する。すなわち、偏心軸部13bで支持されているキャリアホルダ12及びウェーハキャリア3は、偏心軸部13bの旋回により自転しない円運動を行うことになる。したがって、ウェーハキャリア3に保持されたシリコンウェーハWも旋回移動することになる。また、上記ウェーハキャリア3は、シリコンウェーハW周辺が上定盤1及び下定盤2から外方に一時的に出る動き、いわゆるオーバーハングするようになっている。
【0028】
また、この研磨装置は、予め求めた研磨布6の表面形状に基づいて研磨布6表面を部分的に削ると共に押しつぶして表面形状を修正するドレッシング機構20を備えている。
該ドレッシング機構20は、図1、図4及び図5に示すように、上定盤1及び下定盤2の中心に向かって半径方向に前後進可能なアーム部21と、該アーム部21を基端部で支持する支持部22と、制御部Cの制御によりアーム部21を前後進させるアーム駆動機構24とを備えている。上記アーム部21には、その先端部の上下にダイヤモンド砥粒が電着された円板状のドレッサー23がそれぞれ取り付けられている。
なお、実際にシリコンウェーハWを研磨する際には、このアーム部21は研磨布6上から待避できるようになっている。
【0029】
上記ドレッシング機構20の制御部Cは、図6及び図7に示すように、予め研磨布6により研磨されたシリコンウェーハWの形状を測定したデータを入力かつ記憶可能になっている。そして、制御部Cは、上記シリコンウェーハWの形状データに基づいて研磨布6の表面形状を推定して算出すると共に、この研磨布6の表面形状に基づいて研磨布6表面の位置に応じて修正する量(すなわち、削ると共に押しつぶす量)を決定する機能を有している。
【0030】
次に、本実施形態による研磨布のドレッシング方法及びシリコンウェーハの研磨方法について、説明する。
【0031】
〔研磨布形状推定工程〕
まず、研磨布6のドレッシングを行う前に、上記研磨布6により研磨されたシリコンウェーハWの形状を測定し、該形状のデータをドレッシング機構20の制御部Cに入力して記憶させる。
この際、制御部CによりウェーハWの形状データに基づいて研磨布6の表面形状を求める。すなわち、制御部Cに予めウェーハの形状変化と研磨布6表面の各位置における形状変化との相関データを予め記憶させておき、この相関データから研磨布6表面のプロファイルを自動的に推定する。
【0032】
例えば、直径200mmのウェーハWを研磨する際、図8に示すように、半径方向100mm(片側50mm)の揺動運動を行うとすると、その揺動範囲により、研磨布6とウェーハWとが接触する範囲が決定される。なお、図中において、符号W0は、ウェーハWが揺動範囲の中心位置に配された状態であり、W1及びW2は、ウェーハWが揺動範囲のうち最も内周側及び外周側にそれぞれ移動した状態を示している。また、ウェーハWは、揺動時に定盤から所定の量OHだけ外方にオーバーハングするようになっている。
そして、研磨布6により研磨したウェーハWについて、その形状を測定した結果、図6及び図7に示すように、中凸形状になったとき、研磨布6の表面形状(断面形状)が経時的に変形し、図9に示すようなプロファイルになっていることが推定される。
【0033】
すなわち、研磨後のウェーハWの形状が中凸形状になるのは、ウェーハWの周辺部と中央部との研磨レートの差によるものであり、図9において、研磨布6の沈み込みが小さい領域Aでは、ウェーハW周辺部への面圧が大きくなって周辺部での研磨レートが大きくなるの対し、常にウェーハWが存在して研磨布6の沈み込みが大きい領域Bでは、ウェーハW中央部への仕事量が少なく、中央部での研磨レートが少ないためである。
このような相関関係から得られたデータにより、ウェーハWの形状に基づいて研磨布6の表面形状のプロファイルが推定される。
【0034】
〔ドレッシング工程〕
さらに、制御部Cにより、求めた研磨布6の表面形状に基づいて、高平坦度な研磨特性が得られるように研磨布6表面の位置に応じてドレッサー23で削る量を設定する。例えば、上記の場合では、図10に示すような研磨布6の表面形状プロファイルになるように、主に領域A及びその内側近傍について他の領域よりも削る量を大きく設定する。
そして、制御部Cにより、図5に示すように、上定盤1及び下定盤2との間にアーム部21を入れてドレッサー23を上定盤1及び下定盤2で挟んだ状態とし、さらに上定盤1及び下定盤2を定盤駆動機構4により回転させる。
【0035】
このとき、制御部Cは、上記設定した研磨布6の表面位置に応じた修正量(削ると共に押しつぶす量)となるように、アーム駆動機構24を制御してアーム部21を進退させ、研磨布6をドレッシングして形状を整える。例えば、上記の場合、領域A及びその内側近傍において他の領域に比べて長い時間ドレッサー23が研磨布6をドレッシングするように制御する。
【0036】
次に、上記ドレッシングによって、図10に示すように、表面形状が最適に修正された研磨布6により、シリコンウェーハWの研磨を行う。なお、この際、ドレッシングにおいて上定盤1と下定盤2との間に配されていたアーム部21を、後進させてこれらから待避させておく。
【0037】
〔研磨工程〕
シリコンウェーハWをウェーハキャリア3の保持孔3aにセットし、このウェーハキャリア3を研磨装置に取り付け、表裏面の研磨を行う。すなわち、定盤駆動機構4により上定盤1及び下定盤2を回転させると共に、キャリア駆動機構5によりウェーハキャリア3を自転しない円運動させる。そして、同時に研磨液供給機構7により、研磨液を研磨面に供給する。
【0038】
この際、揺動範囲及び揺動範囲近傍の研磨布6が、上記ドレッシング工程において、最適な状態にドレッシングされているので、ウェーハW全体にわたって面圧が均一になると共に研磨レートの維持と均一化ができ、図11及び図12に示すように、高平坦度な加工形状を得ることができる。
【0039】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【0040】
例えば、上記実施形態では、研磨布の形状プロファイルを実際に研磨したシリコンウェーハWの形状から推定して求めたが、他の方法、例えば実際に研磨布6の形状プロファイルを測定して求めても構わない。すなわち、パッドプロファイラー等の表面形状測定器を用いて研磨布の凹凸形状を実測してもよく、この場合、より正確に研磨布の位置に応じた修正量を設定することができる。
【0041】
また、研磨布の表面形状を求めるために、研磨布の表面形状の経時変化を研磨の回数に対応させて予め実測して制御部に記録しておき、該記録に基づいてドレッシングによる修正前にそれまでの研磨の回数に応じて研磨布の表面形状を制御部において求めても構わない。この場合、研磨履歴から容易に研磨布の表面形状が推定でき、ドレッシング直前に実際に表面形状の計測を行う必要が無く、定期的又は不定期的に適切なドレッシングが可能になる。
【0042】
また、上記実施形態では、両面研磨技術に本発明を適用したが、他の例として、ウェーハWの表面側のみを研磨する片面研磨に適用しても構わない。また、上記実施形態では、定盤の半径方向に進退可能なアーム部を制御して任意の位置でドレッシングしているが、他の手段によりドレッシング位置を制御しても構わない。
【0043】
例えば、上記実施形態の他の例として、図13及び図14に示すように、下定盤31のみを用いてウェーハの表面を研磨する片面研磨装置を用いてもよく、この場合、この研磨装置のドレッシング機構30は、アーム部21の先端部下部のみに研磨布6に当接するドレッサー23が取り付けられる。また、ドレッシング機構30は、アーム部21を基端部を回転中心にして水平方向に回転及び揺動可能にする機能を採用し、アーム部21を揺動させて研磨布6上の任意な位置でドレッシングを可能にしてもよい。
【0044】
他の片面研磨技術として、上記両面研磨装置と同様の装置を用いて、研磨工程前の自然放置中又は洗浄中に生じたウェーハの表裏面の薄膜のうち表面側の薄膜のみを除去し、この後に、ウェーハの材料に対する研磨速度が前記薄膜に対する研磨速度よりも高い研磨液(例えば、砥粒濃度が0重量%以上1重量%以下のアルカリ性溶液)を供給してウェーハの表面側を選択的に化学的研磨する研磨方法に適用しても構わない。
【0045】
また、研磨布構成以外が上記実施形態の両面研磨装置と同様の装置を用いると共に、ウェーハの材料に対する研磨速度が研磨前の自然放置中又は洗浄中に生じた半導体ウェーハ表面の薄膜に対する研磨速度よりも高い研磨液を供給し、ウェーハの表面に接する研磨面を、ウェーハの裏面に接する研磨面よりも研磨速度が高い構造又は材質の研磨布(例えば、砥粒を含む固定砥粒研磨布)で構成した装置、すなわち表面側を選択的に研磨する片面研磨装置に適用しても構わない。
なお、上記2つの片面研磨技術は、特に研磨布の経時的形状変化が大きく、本発明によるドレッシング効果を顕著に奏することができる。
【0046】
また、上記実施形態では、揺動キャリアタイプの研磨装置に適用したが、他の方式の研磨装置に適用しても構わない。例えば、研磨面を有する上下の定盤間に複数のウェーハを保持したウェーハキャリアを複数配置し、これらウェーハキャリアの中央にサンギアを配して各ウェーハキャリアを自転させる、いわゆるサンギア型両面研磨装置に適用してもよい。
【0047】
また、上記実施形態のドレッシング機構に、研磨布6に向けて高圧水を吹き付けて洗浄を行う噴射ノズルや研磨布に当接させるブラシ部材等を設けても構わない。
さらに、上記実施形態では、半導体ウェーハとしてシリコンウェーハに適用したが、他の半導体ウェーハ、例えば、化合物半導体のウェーハ(ガリウム・ヒ素のウェーハ等)の研磨技術に適用してもよい。
【0048】
【発明の効果】
本発明によれば、以下の効果を奏する。
本発明の研磨布のドレッシング方法及び半導体ウェーハの研磨装置によれば、予め求めた研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて修正する量を変えるので、研磨布の表面形状のプロファイルを適切に修正して形状を整えることができると共に、目詰まりを防止し、さらに目立てを行うことができ、研磨布の最適なコンディションを長期にわたり維持することができる。また、シンプルな装置構成で実現できると共に、自動化が容易で処理時間も短縮することができる。さらに、研磨装置の定盤形状は装置毎に種々あるが、各装置に対応した条件で研磨布のコンディショニングが可能になる。
また、本発明の半導体ウェーハの研磨方法によれば、研磨布の表面形状を上記本発明の研磨布のドレッシング方法により修正した状態で行うので、コンディションが最適に維持された研磨布で研磨でき、ウェーハを安定して高平坦度に研磨することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る一実施形態における研磨装置を示す要部の断面図である。
【図2】 本発明に係る一実施形態における研磨装置の定盤とウェーハキャリアとの位置関係を示す平面図である。
【図3】 本発明に係る一実施形態における研磨装置を示す模式的な拡大断面図である。
【図4】 本発明に係る一実施形態における下定盤上のドレッシング機構及びその動きを模式的に示す平面図である。
【図5】 本発明に係る一実施形態における下定盤上のドレッシング機構及びその動きを模式的に示す正面図である。
【図6】 本発明に係る一実施形態において、ドレッシング前に研磨されたウェーハの加工形状を3次元的に示す図である。
【図7】 本発明に係る一実施形態において、ドレッシング前に研磨されたウェーハの加工形状を直径方向の断面で示すグラフである。
【図8】 本発明に係る一実施形態において、ウェーハの揺動範囲を模式的に示す断面図である。
【図9】 本発明に係る一実施形態において、ドレッシング前の研磨布の形状プロファイルを示す拡大断面図である。
【図10】 本発明に係る一実施形態において、ドレッシング後の研磨布の形状プロファイルを示す拡大断面図である。
【図11】 本発明に係る一実施形態において、ドレッシング後に研磨されたウェーハの加工形状を3次元的に示す図である。
【図12】 本発明に係る一実施形態において、ドレッシング後に研磨されたウェーハの加工形状を直径方向の断面で示すグラフである。
【図13】 本発明に係る一実施形態の他の例における下定盤上のドレッシング機構及びその動きを模式的に示す平面図である。
【図14】 本発明に係る一実施形態の他の例における下定盤上のドレッシング機構及びその動きを模式的に示す正面図である。
【符号の説明】
1 上定盤
2、31 下定盤
3 ウェーハキャリア
5 キャリア駆動機構
6 研磨布
7 研磨液供給機構
20、30 ドレッシング機構
23 ドレッサー
C 制御部
W シリコンウェーハ(半導体ウェーハ)
Claims (3)
- 半導体ウェーハの表裏面に接触する研磨面に研磨布を有した上下定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給し、旋回移動する平板状のウェーハキャリアで保持した複数の半導体ウェーハの表裏面を同時に研磨する半導体ウェーハ揺動キャリア型両面研磨装置の研磨布をドレッシングする方法であって、
この揺動キャリア型両面研磨装置は、研磨時におけるウェーハ揺動範囲のうち最も内周側及び外周側にそれぞれ移動した揺動状態で、このウェーハが上下定盤から所定の量だけ外方にオーバーハングするように前記ウェーハキャリアを揺動運動するものとされ、
前記研磨布の表面形状を求める研磨布形状推定工程と、
前記研磨布の表面形状を修正するドレッシング工程とを備え、
前記研磨布形状推定工程は、前記ドレッシング工程前に前記研磨布により研磨された半導体ウェーハの形状を測定し、該形状に基づいて研磨布の表面形状を求め、この研磨布の前記表面形状の経時変化を研磨の回数に対応させて予め実測して記録しておき、該記録に基づいて前記ドレッシング工程前にそれまでの研磨の回数に応じて中凸形状になった半導体ウェーハに対応する研磨布の表面形状の経時変形を求め、
前記ドレッシング工程は、先端部の上下にダイヤモンド砥粒が電着された円板状のドレッサーがそれぞれ取り付けられたアーム部を前記上下定盤の間に入れて前記ドレッサーを前記上下定盤で挟んだ状態とし、前記上下定盤を定盤駆動機構により回転させるとともに、
前記ドレッシング工程は、前記研磨布の経時変形のうち沈み込みが小さい領域及びその内側近傍について、削ると共に押しつぶす修正量が他の領域よりも大きくなるように、前記ドレッサーが前記研磨布の沈み込みが小さい領域及びその内側近傍を他の領域に比べて長い時間ドレッシングするよう前記アーム部の進退を制御することにより、前記研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて修正する量を変えることを特徴とする研磨布のドレッシング方法。 - 半導体ウェーハの表裏面に接触する研磨面に研磨布を有した上下定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給し、旋回移動する平板状のウェーハキャリアで保持した複数の半導体ウェーハを研磨する半導体ウェーハ揺動キャリア型両面装置による研磨方法であって、
前記研磨を、前記研磨布の表面形状を請求項1に記載の研磨布のドレッシング方法により修正した状態で行うことを特徴とする半導体ウェーハの研磨方法。 - 半導体ウェーハの表裏面に接触する研磨面に研磨布を有した上下定盤と半導体ウェーハとを相対的に移動させると共に研磨布に研磨液を供給し、旋回移動する平板状のウェーハキャリアで保持した複数の半導体ウェーハを研磨する半導体ウェーハ揺動キャリア型両面研磨装置であって、
前記上下定盤の間に配置され複数のシリコンウェーハを保持する平板状のウェーハキャリアと、前記上定盤及び前記下定盤を回転させる定盤駆動機構と、前記ウェーハキャリアを旋回移動させるキャリア駆動機構とを具備し、
前記研磨布の表面形状を修正するドレッシング機構を備え、
該ドレッシング機構は、前記上下定盤の中心に向かって半径方向に前後進可能なアーム部と、該アーム部を前後進させるアーム駆動機構とを備え、前記アーム部先端部の上下にダイヤモンド砥粒が電着されたドレッサーがそれぞれ取り付けられ、
ドレッシング時には前記アーム部を前記上下定盤の間に入れて前記ドレッサーを前記上下定盤で挟んだ状態が可能とされ、
前記ドレッシング機構は、予め求めた前記研磨布の表面形状に基づいて研磨布表面の位置に応じて前記修正する量を変える制御部を備え、
前記制御部は、予め前記研磨布により研磨された半導体ウェーハの形状に基づいて研磨布の表面形状を求め、
前記制御部は、研磨布の表面形状の経時変化を前記研磨の回数に対応させて予め実測して記録しておき、該記録に基づいて前記修正を行う前にそれまでの研磨の回数に応じて研 磨布の表面形状を求めて請求項1記載のドレッシング方法が可能とされていることを特徴とする半導体ウェーハの研磨装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000385693A JP4058904B2 (ja) | 2000-12-19 | 2000-12-19 | 研磨布のドレッシング方法、半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000385693A JP4058904B2 (ja) | 2000-12-19 | 2000-12-19 | 研磨布のドレッシング方法、半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002187059A JP2002187059A (ja) | 2002-07-02 |
JP4058904B2 true JP4058904B2 (ja) | 2008-03-12 |
Family
ID=18852912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000385693A Expired - Fee Related JP4058904B2 (ja) | 2000-12-19 | 2000-12-19 | 研磨布のドレッシング方法、半導体ウェーハの研磨方法及び研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4058904B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5194516B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2013-05-08 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 化学機械研磨装置の管理方法 |
JP2009255188A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Nikon Corp | 研磨装置 |
US8221193B2 (en) * | 2008-08-07 | 2012-07-17 | Applied Materials, Inc. | Closed loop control of pad profile based on metrology feedback |
JP5170716B2 (ja) * | 2009-05-08 | 2013-03-27 | 株式会社Sumco | 半導体ウェーハの研磨方法及び研磨パッド整形治具 |
JP2022018685A (ja) | 2020-07-16 | 2022-01-27 | 株式会社岡本工作機械製作所 | ドレッシング装置及び研磨装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH079325A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-13 | Speedfam Co Ltd | 定盤面の形成装置 |
US5840202A (en) * | 1996-04-26 | 1998-11-24 | Memc Electronic Materials, Inc. | Apparatus and method for shaping polishing pads |
JP3640504B2 (ja) * | 1996-06-25 | 2005-04-20 | 株式会社荏原製作所 | ドレッシング方法及び装置 |
JPH1086056A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Speedfam Co Ltd | 研磨パッドの管理方法及び装置 |
JP3660448B2 (ja) * | 1996-11-13 | 2005-06-15 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置の製造方法及び製造装置 |
JPH10315118A (ja) * | 1997-05-19 | 1998-12-02 | Toshiba Corp | 研磨布ドレッシング装置 |
JP4037532B2 (ja) * | 1998-07-22 | 2008-01-23 | 不二越機械工業株式会社 | 両面研磨装置 |
JP2000271854A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-03 | Hitachi Ltd | 加工方法及びその装置並びに半導体基板の加工方法 |
-
2000
- 2000-12-19 JP JP2000385693A patent/JP4058904B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002187059A (ja) | 2002-07-02 |
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Date | Code | Title | Description |
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A625 | Written request for application examination (by other person) |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071210 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4058904 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111228 Year of fee payment: 4 |
|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121228 Year of fee payment: 5 |
|
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